JP4766679B2 - 加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
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室温硬化型シリコーンゴムの基本組成は、加水分解性基を有するベースポリマー、加水分解性基を有するシラン化合物、及び必要に応じて硬化触媒である有機錫や有機チタン化合物を含有する。室温硬化型シリコーンゴムは空気中の水分と反応して硬化するため、特別な装置を必要とせず、建築用シーリング材や電気電子用接着シール材等に幅広く使用されている。しかしながら、このタイプのゴムは、硬化時間が長く、大量生産に用いるには不適である。
従って、本発明の目的は、硫黄やアミンの存在下であっても硬化性に優れ、安価な加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を提供することにある。
すなわち、上記の目的を達成するために、本発明の熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物は、(A)水酸基及び/又は加水分解性基が結合した珪素原子を1分子中に少なくとも2個有し、25℃における粘度が20〜1000000mPa・sであるジオルガノポリシロキサンと、(B)(A)成分100質量部に対して0.01〜20質量部配合され、亜鉛,銅,及び鉄の群から選ばれる金属のアセチルアセトナート錯体とを含むものである。
加熱硬化温度が60℃以上であることが好ましい。
(A)成分は、本発明のオルガノポリシロキサン組成物の主剤(ベースポリマー)となり、縮合硬化型の室温硬化タイプのものであり、水酸基及び/又は加水分解性基が結合した珪素原子を1分子中に少なくとも2個有するジオルガノポリシロキサンである。
(A)成分において、珪素原子に結合した水酸基及び/又は加水分解性基は、反応時に架橋して硬化する。又、(A)成分において、珪素原子を1分子中に2個以上とする理由は、珪素原子が2個未満であると、組成物として良好なゴム弾性体が得られないからである。
なお、従来用いられている白金触媒は、アルケニル基含有シロキサンとヒドロシリル基含有シロキサンとの付加反応の触媒となるが、上記(A)成分の場合は付加反応が生じないため、本発明では白金触媒を用いない。
なお、式(1)中の各Rはそれぞれ同一の基であってもよく、それぞれ異なる種類の基であってもよい。このことを「それぞれ独立の」と表記することとする。
(A)成分の25℃粘度が20mPa・s未満であると、物理的・機械的強度に優れたコーティング塗膜を得ることが困難となる場合があり、1,000,000mPa・s(25℃)を超えると組成物の粘度が高くなりすぎて使用時における作業性が悪くなる場合がある。
なお、本発明において、粘度は回転粘度計により測定した25℃における値である。
式(3)〜(6)は1種単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。
(B)成分である金属錯体は、(A)成分を硬化させるために必須の成分であって、亜鉛,銅,鉄,及びジルコニウムの群から選ばれる金属の錯体からなる。
(B)成分の具体例としては、例えば、アセチルアセトナート銅(II)、トリフルオロアセチルアセトナート銅(II)、アセチルアセトナート鉄(III)、トリフルオロアセチルアセトナート鉄(III)、アセチルアセトナート亜鉛(II)水和物、ヘキサフルオロアセチルアセトナート亜鉛(II)二水和物、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛(II)、アセチルアセトナートジルコニウム(IV)、ヘキサフルオロアセチルアセトナートジルコニウム等が挙げられ、これらは単独又は2種以上を組合わせて使用することができる。
(B)成分の配合量は特に制限されず、触媒として有効に作用する量でよいが、通常、(A)成分100質量部に対して0.01〜20質量部であることが好ましく、特に0.1〜10質量部であることが好ましい。(B)成分の配合割合が0.01質量部未満であると、得られる組成物の硬化性が不充分となるおそれがあり、20質量部を超えると、得られる組成物の貯蔵安定性が低下するおそれがある。
[(C)成分]
また、本発明の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物には、補強又は増量の目的で充填剤を(C)成分として用いてもよい。このような充填剤としては、例えば、煙霧質シリカ、沈殿シリカ等の親水性シリカ、これらのシリカ表面をヘキサメチルジシラザン、環状ジメチルシロキサン、又はジメチルジクロロシラン等で疎水化処理したシリカ、石英、けいそう土、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化鉛、酸化鉄、カーボンブラック、ベントナイト、グラファイト、炭酸カルシウム、マイカ、クレイ、ガラスビーズ、ガラスマイクロバルーン、シラスバルーン、ガラス繊維、ポリ塩化ビニルビーズ、ポリスチレンビーズ、アクリルビーズ等を挙げることができる。これらの中でも、BET比表面積が10m2/g以上、特に50〜500m2/gである親水性シリカ及び/又は疎水性シリカを用いることが好ましい。
BET比表面積が10m2/g未満であると、充分なゴム強度が得られない場合がある。
本発明の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物に、架橋密度をより向上させるため、加水分解性シラン及び/又はその部分加水分解縮合物を(D)成分として添加してもよい。(D)成分は、加水分解性基が少なくとも2個結合した珪素原子を1分子中に有することが必要である。(D)成分は下記一般式(2)
R1 aSiX4-a (2)
(式中、R1はそれぞれ独立の非置換又は置換の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基、Xはそれぞれ独立の加水分解性基であり、aは0〜2の整数である)で表わされるシラン及び/又はその部分加水分解縮合物であることが好ましい。
aは0又は1であること(つまり、Xが珪素原子に3個以上結合していること)が好ましい。(D)成分の分子構造はシラン又はシロキサン構造の何れであってもよく、シロキサン構造の場合、直鎖状、分岐鎖状又は環状の何れであってもよい。
R1としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;ベンジル基、2−フェニルエチル基等のアラルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;3,3,3−トリフルオロプロピル基、3−クロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、フェニル基、ビニル基が好ましい。
そして、本発明の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物は、上記(A)、(B)成分、及び必要に応じて(C)、(D)成分を常法に準じて混合することにより硬化し、使用に供される。また、得られた組成物の硬化条件は加熱硬化すればよく特に限定されないが、加熱硬化温度が60℃以上であることが好ましい。加熱硬化温度が60℃未満であると、上記(B)成分による架橋反応が充分でない場合がある。加熱時間は、工程により調整が可能である。
以下に本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。又、実施例において示す「部」及び「%」は特に明示しない限り、質量部及び質量%を示す。
得られた組成物をガラスシャーレに充填し、(1)60℃の乾燥機で24時間加熱した後、(2)150℃の乾燥機で3時間加熱した後、(3)23℃,50%RHで5日放置した後、の3つの条件についてそれぞれ硬化の有無を目視確認した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、アセチルアセトナートマンガン(III)1部を配合したこと以外は、実施例1と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、アセチルアセトナートコバルト(III)1部を配合したこと以外は、実施例1と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、アセチルアセトナートニッケル(II)1部を配合したこと以外は、実施例1と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、アセチルアセトナートマンガン(III)1部を配合したこと以外は、実施例5と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、アセチルアセトナートマンガン(III)1部を配合したこと以外は、実施例9と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、銅粉末1部を配合したこと以外は、実施例1と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、亜鉛粉末1部を配合したこと以外は、実施例1と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
アセチルアセトナート銅(II)1部の代わりに、鉄粉末1部を配合したこと以外は、実施例1と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
A成分の末端基として水酸基の代わりに、ジメチルビニルシロキシ基を用いたこと以外は、実施例2と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
A成分の末端基として水酸基の代わりに、トリメチルシロキシ基を用いたこと以外は、実施例2と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
ビニル基末端封鎖オルガノポリシロキサン(V−Sx;Vi-Me2-Si-O-(-Si- Me2-O-)400- Si- Me2-Vi;粘度4990mPa・S)100部と、ハイドロジェンポリシロキサン(H−Sx;Me3-Si-O-(-Si- Me2-O-)15-(-Si- MeH-O-)20 Si-Me3;粘度50 mPa・S)2.5部と、白金触媒(白金と1,2-ジビニル-1,1,2,2-テトラメチル-ジシロキサンの錯体/トルエン溶液;Pt=0.5wt%)0.1部と、制御剤(エチニル-シクロヘキサノール/トルエン溶液;50wt%)0.2部とを均一になるまで混合し、加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
さらに、アミン成分として、3−アミノプロピルトリエトキシシラン1部を加えたことこと以外は、比較例11と全く同様にして加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を調製し、硬化状態を評価した。
A成分の末端基として水酸基の代わりに、加水分解しない基を用いた比較例9,10の場合も組成物が加熱硬化しなかった。
比較例11は、SiH基を有するシロキサンと白金触媒とを用いた従来の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物の参考例であり、高価な白金触媒が必要であった。
従来の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物(比較例11)にアミンを含有した比較例12の場合、アミンが存在するため加熱硬化しなかった。
Claims (4)
- (A)水酸基及び/又は加水分解性基が結合した珪素原子を1分子中に少なくとも2個有し、25℃における粘度が20〜1000000mPa・sであるジオルガノポリシロキサンと、
(B)(A)成分100質量部に対して0.01〜20質量部配合され、亜鉛,銅,及び鉄の群から選ばれる金属のアセチルアセトナート錯体と
を含む加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物。 - 前記(A)ジオルガノポリシロキサンが、下記一般式(1)
(式中、Rはそれぞれ独立の非置換又はハロゲン原子及び/又はシアノ基で置換の1価炭化水素基、Uはそれぞれ独立の酸素原子又は炭素原子数1〜8の2価炭化水素基、Yはそれぞれ独立の水酸基又は加水分解性基であり、mは0〜2の整数、nは得られたジオルガノポリシロキサンの25℃における粘度が20〜1000000mPa・sとなるような自然数である)で表されることを特徴とする請求項1に記載の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物。 - (C)充填剤としてBET比表面積が10m2/g以上の親水性シリカ及び/又は疎水性シリカを更に(A)成分100質量部に対して1〜50質量部含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物。
- 加熱硬化温度が60℃以上である請求項1乃至3のいずれかに記載の加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物。
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