JP4539911B2 - 電極コンデンサ陽極用アルミニウム箔およびその製造方法 - Google Patents
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さらに、電解エッチング処理における拡面効果を最大限に得るためには、最表面の全面溶解などの無効溶解を抑制しながら、形成されるエッチングピットの数(密度)および形態(径・長さ)を適正にする必要がある。
したがってアルミニウム原箔としては、表層の全面溶解が起きにくく、内部でのエッチングピット径拡大およびピット長伸長が促進される材料が好ましいといえる。
例えば、特許文献1では、Si、Fe、Cu、REM等を微量含有することで、ピット密度を増加させて粗面化率を向上させる提案がなされている。
Si:5ppm以上100ppm以下、
Siは、Al−Fe−SiまたはAl−Fe−Si−REM化合物として存在し、表面においてはピットの発生基点として寄与し、内部においてはピットの径拡大・伸長に寄与して粗面化率を向上させる。ただし、下限未満では上記作用が十分に得られず、一方、上限を超えると過溶解、ピットの合体が生じて却って粗面化率を低下させる。なお、同様の理由で下限を10ppm、上限を60ppmとするのが望ましい。
Feは、Al−Fe、Al−Fe−Si、Al−Fe−REM、またはAl−Fe−REM−Si化合物として存在し、表面においてはピットの発生基点として寄与し、内部においてはピットの径拡大・伸長に寄与する。ただし、下限未満では上記作用が十分に得られず、一方、上限を超えると過溶解、ピットの合体が生じて却って粗面化率を低下させる。なお、同様の理由で下限を10ppm、上限を50ppmとするのが望ましい。
Cuは、アノード皮膜の形成とその上へのカソード皮膜の形成を促進して粗面化率を向上させる。ただし、下限未満ではアノード皮膜およびカソード皮膜が十分形成されず、拡面にほとんど寄与しない全面溶解が進む。一方、上限を超えると、アノード皮膜およびカソード皮膜が厚くなりすぎるので、皮膜欠陥が形成されにくくなり、ピットの形成が阻害される。なお、同様の理由で下限を20ppm、上限を70ppmとするのが望ましい。
Pbは、最表層近傍に濃縮し、エッチング初期のピット形成を促進する。ただし、下限未満では、上記作用が十分に得られず、一方、上限を超えると、ピットが過密に生成されて合体し、無効溶解となる。なお、同様の理由で下限を0.2ppm、上限を2ppmとするのが望ましい。
希土類元素は、Al−FeまたはAl−Fe−Si化合物と結びつき、ピットの合体を招く表層へのこれら化合物の拡散・濃縮を抑制し、箔内部にとどめることで粗面化率を向上させる。ただし、下限未満では、上記作用が十分に得られず、一方、上限を越えると過溶解を招く。なお、同様の理由で下限を3ppm、上限を30ppmとするのが望ましい。
アルミニウム箔の内部(表面から0.5μm以上の深さ)でのピットの拡大、伸長を促進する。ただし、Al−Fe−REM析出物またはAl−Fe−Si−REM析出物として存在する合計のFe量がFe平均含有量の20%未満であると上記作用が十分に得られない。一方、60%を越えるとアルミニウム箔内部で過溶解、ピットの合体、貫通を招く。なお、同様の理由で上記Fe量は、下限が30%、上限が50%であるのが望ましい。
冷間圧延時の中間焼鈍後(複数回の中間焼鈍では最後の中間焼鈍後)における最終冷間圧延率を適正に行うことで歪み導入を多くして上記析出に寄与するFe、Si、REM各元素の拡散の駆動力を高めてAl−Fe−REM析出物およびAl−Fe−Si−REM析出物による上記作用を向上させる。ただし、最終冷間圧延率が下限未満であると、上記作用が十分に得られず、また、上限を超えると駆動力が大きくなりすぎて表層と内部でAl−Fe−REM析出物およびAl−Fe−Si−REM析出物の析出量バランスが好適ではなくなり、上記作用が十分に得られない。
1段目300〜450℃、2〜6時間、後段530〜600℃、4〜10時間
1段目の最終焼鈍によって、アルミニウム箔内部での前記析出物の好適な析出物量を確保する。上記温度、時間が下限未満であると、析出の駆動力が十分ではなく好適な析出物量を得ることができない。一方、上記加熱温度が上限を超えると表面への拡散駆動が優位となり内部での好適な析出物量の減少を招く。また、時間が上限を超えると、不必要な長時間保持は経済的ではなく、効果も飽和する。
なお、後段の最終焼鈍では、立方晶を十分に成長させるために、530℃で4時間以上の加熱が必要になる。ただし、600℃を越えると箔の溶着などの問題が生じるため600℃以下とする。なお、10時間を超えて加熱しても効果は飽和するため加熱時間は10時間以下が望ましい。
好適には純度99.9%以上で、本発明の成分となるように調製されたアルミニウム材は、常法により得ることができ、本発明としては特にその製造方法が限定されるものではない。例えば、半連続鋳造によって得たスラブを熱間圧延したものを用いることができる。その他に連続鋳造により得られるアルミニウム材を対象とするものであってもよい。なお、REMの含有に際してはミッシュメタルを用いることもできる。上記熱間圧延または連続鋳造圧延によって例えば数mm厚程度のシート材とする。このシート材に対し冷間圧延を行い、数十μmから100μm程度のアルミニウム合金箔を得る。なお、冷間圧延の途中で1回以上の中間焼鈍を行う。本発明としては、該中間焼鈍の条件が特に限定されるものではないが、例えば、200〜270℃、1〜6時間のバッチ炉での処理や、250〜300℃、30秒〜10分の連続炉での処理を示すことができる。
エッチング処理においては、前記成分の設定によって箔にピットが高密度で形成され、高い粗面化率が得られるとともに、無効溶解が抑制される。この箔を常法により電解コンデンサに電極として組み込むことにより静電容量の高いコンデンサが得られる。
表1に示す組成を有するアルミニウム材料を溶製し、熱間圧延、冷間圧延を経てアルミニウム箔を製造した。なお、冷間圧延の途中では、250℃×4時間の中間焼鈍を行い、中間焼鈍後の最終冷間圧延率を変えて同一厚さの最終厚(110μm厚)とした。
これらのアルミニウム箔に表1に示す条件で最終焼鈍を施した。さらに全ての高純度アルミニウム箔に対し、以下の条件でエッチングを行いアルミニウム箔を粗面化した。
75℃HCl 1M、H2SO4 3M溶液中で200mA/cm2の直流電流を120秒印加後、80℃HCl 2M溶液中で50mA/cm2の直流電流を600秒印加した。
上記エッチング箔を1×5cmのサイズに切り出し、80℃ホウ酸80g/l溶液にて300Vの化成を行い、150g/lアジピン酸溶液中にて容量を測定した。
上記で測定した静電容量は、比較例19(現行標準材)を基準にして百分率で相対評価した。これらの評価結果を表2に示した。
上記静電容量およびFeの質量比の結果を表2に示した。
これに対し、本発明の成分範囲を外れた比較例では良好な静電容量が得られなかった。
また、比較例のうち、比較法で製造したものは、析出物に関する本発明の要件を満たすことができず、いずれも静電容量は本発明に比べて劣っていた。
Claims (2)
- 質量比で、
Si:5ppm以上100ppm以下、
Fe:5ppm以上100ppm以下、
Cu:10ppm以上100ppm以下、
Pb:0.1ppm以上5ppm以下、
希土類元素:1ppm以上50ppm以下を含有し、残部がAlと不可避不純物とからなり、表面から0.5μm以上の深さの内部においてAl−Fe−REM析出物およびAl−Fe−Si−REM析出物として存在するFe量が、質量比でFe平均含有量に対して20%以上60%以下の範囲であることを特徴とする電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔。 - 質量比で、
Si:5ppm以上100ppm以下、
Fe:5ppm以上100ppm以下、
Cu:10ppm以上100ppm以下、
Pb:0.1ppm以上5ppm以下、
希土類元素:1ppm以上50ppm以下を含有し、残部がAlと不可避不純物とからなる組成の電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔を製造する方法であって、冷間圧延時の最終冷間圧延率が15%以上25%以下であり、かつ最終焼鈍として、300℃〜450℃で2〜6時間保持した後、さらに530℃〜600℃で4〜10時間保持することを特徴とする電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔の製造方法。
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