JP4595111B2 - α‐グリコール内包型デンドリマー、その製造方法、α‐グリコール型二座配位子及びその配位構造を有するルイス酸触媒 - Google Patents
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- VQMPTVQCADWACQ-UHFFFAOYSA-N CCC(C)(CC)N Chemical compound CCC(C)(CC)N VQMPTVQCADWACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 CCC1(*)Oc2c3OC1(*)C(*)(CC)Oc3cc(*)c2 Chemical compound CCC1(*)Oc2c3OC1(*)C(*)(CC)Oc3cc(*)c2 0.000 description 2
- BYSVEAAIINIWPL-UHFFFAOYSA-N CCO[Al]1OC(CSCc2cc(Oc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)cc(Oc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)c2)C(CSCc2cc(OCc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)cc(Oc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)c2)O1 Chemical compound CCO[Al]1OC(CSCc2cc(Oc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)cc(Oc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)c2)C(CSCc2cc(OCc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)cc(Oc3cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)cc(OCc4cc(OC)cc(OC)c4)c3)c2)O1 BYSVEAAIINIWPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
(1) 一般式(I)
で表される基である〕
で表される基である]
で表されるデンドリマーであることを特徴とするα‐グリコール内包型デンドリマー。
(2) 一般式(III)
で表されるデンドロンと、一般式(IV)
で表されるメルカプタンとを塩基存在下溶媒中で反応させることを特徴とする一般式(I)
で表される基である〕
で表される基である]
で表されるα‐グリコール内包型デンドリマーの製造方法。
(3) 下記一般式(V)
で表される基である〕、Jはアルキル基、gは0、hは1を示す]
で表される含アルミニウムルイス酸触媒。
で表される基である〕
で表される基である]
(1)R1、R2及びR3は2価炭化水素基を示すが、この基には、2価脂肪族基や2価芳香族基が包含される。2価脂肪族基には鎖状及び環状のものが包含される。2価芳香族基にはアリーレン基及びアラルキレン基が包含される。
2価脂肪族基としては、炭素数1〜10、好ましくは1〜4のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基、イソブチレン基等)や、炭素数3〜8、好ましくは5〜6のシクロアルキレン基(例えばシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等)が挙げられる。
2価芳香族基としては、炭素数6〜14、好ましくは6〜10のアリーレン基(例えば、フェニレン基、ナフチレン基等)や、炭素数7〜20、好ましくは7〜13のアラルキレン基、例えば一般式(VI)で表される基等が挙げられる。
−(R4)u−Ar−(R5)v− (VI)
(式中、Arはアリーレン基を示し、R4及びR5は炭素数1〜6、好ましくは1〜3の低級アルキレン基を示し、u及びvは1又は0で、これらのいずれか一方は1である。)
(2)Xは水素原子または置換されていてもよい炭化水素基であって、炭化水素基には、脂肪族基や芳香族基が包含される。脂肪族基には鎖状及び環状のものが包含される。芳香族基にはアリール基及びアラルキル基が包含される。
脂肪族基としては、炭素数1〜10、好ましくは1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等)や、炭素数3〜8、好ましくは5〜6のシクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)が挙げられる。
芳香族基としては、炭素数6〜14、好ましくは6〜10のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)や、炭素数7〜20、好ましくは7〜13のアラルキル基、例えば一般式(VII)で表される基等が挙げられる。
−(R6)w−Ar’−(R7)x−H (VII)
(式中、Ar’はアリーレン基を示し、R6は炭素数1〜6、好ましくは1〜3の低級アルキレン基、R7は炭素数1〜6、好ましくは1〜3の低級アルキレン基を示し、w及びxは1又は0で、かつこれらのいずれか一方は1を示す。)
また、炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては、α−グリコール内包型デンドリマーの製造における反応に不活性な置換基、例えばアルコキシ基、アルコキシカルボニル基等や、このような置換基から容易に変換される官能基、例えばヒドロキシル基、カルボキシル基、ナトリウムカルボキシレート、カリウムカルボキシレート等が挙げられる。
(3)Y及びZはO、S、NQ(Qは水素原子又はアルキル基)、スルフィニル基(−SO−)、スルホニル基(−SO2−)、エステル基(−OCO−、−CO2−)、アミド基[−NRCO−、−CONR−(Rは水素原子又はアルキル基)]又はカルボニル基(−CO−)を示すが、好ましくはO、S又はスルホニル基(−SO2−)である。
(4)p、q、r、s及びtはそれぞれ0又は1を示すが、好ましくはp、q及びrが1でs及びtは0、あるいはpが1でq、r、s及びtは0である。
(5)繰り返し構造の世代数nは1以上の整数を示すが、好ましくは2〜9である。
(6)d、e及びfのうち、少なくとも2つが1、残りは0を示す。
符号Gで表わされる基の一例として、d、e及びfのうち、いずれか2つが1でn=3の場合について示すと次のとおりである。
−(R1)p−(Y)q−(R2)r−(Z)s−(R3)t−C6H3−[O−(R1)p−(Y)q−(R2)r−(Z)s−(R3)t−C6H3−[O−(R1)p−(Y)q−(R2)r−(Z)s−(R3)t−C6H3−(O−X)2]2]2
この繰り返し構造として好ましくは、化11中の各符号について、d、f及びpが1、e、q、r、s及びtが0、R1がアルキレン基であるものが挙げられる。
一般式(III)
で表されるデンドロンと、一般式(IV)
で表されるメルカプタンとを塩基存在下溶媒中で反応させることにより製造することができる。
この製法では、塩基とメルカプタンとの反応により生成したチオレートアニオンの、ハロゲン原子に隣接する炭素原子上での求核置換反応が進行するため、α−グリコール内包型デンドリマーが製造される。
反応溶媒としてはデンドロン、メルカプタン及び塩基を溶解できるものであり、かつ反応に関与しないものが用いられる。具体的にはエタノール、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、炭化水素、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素等が好ましく、これらの溶媒は単独または複合溶媒の形で使用される。その中でも好ましい反応溶媒としては、エタノールとテトラヒドロフランの複合溶媒が挙げられる。
この溶媒を用いてデンドロンとメルカプタンとの反応を行うに際しては、好ましくは、窒素雰囲気下、塩基を溶媒に溶解させた溶液にまずメルカプタンを溶解させ、次にこの溶液にデンドロンを加えた後、十分に攪拌しながら反応させる。
また、デンドロンとメルカプタンとの使用割合については、必ずしも限定する必要はないが、一般的には、メルカプタン中に含まれるメルカプト基1モルあたり1〜3モル、好ましくは1〜1.3モルの範囲のデンドロンが用いられる。
本反応により、一段階で目的とするα−グリコール内包型デンドリマーを製造することができる。
窒素雰囲気下、前記二座配位子としてのα−グリコール内包型デンドリマーと一般式(IX)
で表されるアルミニウム化合物を、溶媒の存在下に反応させ、一般式(V)
で表される基である〕、Jは炭化水素基、Lはハロゲン原子、g及びhはいずれか一方が1で他方は0を示す]
で表される、デンドリマーコア部のα−グリコールを二座配位子とするアルミニウム化合物を製造することができる。
上記Lで示されるハロゲン原子は特に限定されず、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、また、上記Jで示される炭化水素基は特に限定されず、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
また、反応は、格別加熱することなく、室温程度で進行させることができるが、加熱により促進させるようにしてもよい。また反応中、反応液は攪拌するのがよい。
反応終了後、溶媒の減圧留去により反応生成物が得られ、その1H−NMR測定より目的物の生成が確認され、この結果は、前記α−グリコール内包型デンドリマーは、新規な二座配位子であることを示す。
前記触媒としてのデンドリマー固定化アルミニウム化合物の存在下に、一般式(X)
で表されるラクトンを、溶媒の存在下に反応させ、一般式(XI)
で表されるポリエステルを製造することができる。
また、反応は通常室温程度で進行させることができるが、加熱により促進させるようにしてもよい。また反応中、反応液は攪拌するのがよい。
反応終了後、反応液を濃縮しクロロホルムに溶解させ、メタノールに滴下することにより目的物を沈降させ、塩酸−メタノール液を添加した後、濾別することにより目的物質を得ることができる。
次いで、反応液を減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=3:1)で精製した(白色粉末、収量175.4mg、収率99.4%)。
このものの核磁気共鳴スペクトル分析結果は次の通りである。
1H−NMR(500MHz,CDCl3)δ/ppm 7.42−7.28(m,20H),6.68−6.47(m,9H),5.01(s,8H),4.94(s,4H),3.71−3.65(m,1H),3.63(s,2H),3.63−3.58(m,1H),3.46−3.40(m,1H),2.67(d,1H,J=3.7Hz),2.56−2.44(m,2H),2.05(t,1H,J=6.1Hz)
これらの分析結果より、この生成物は以下の構造式で表される化合物と同定された。
次いで、反応液を減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=10:1)で精製した(白色粉末、収量600.8mg、収率76.5%)。
このものの核磁気共鳴スペクトル分析結果は次の通りである。
1H−NMR(500MHz,CDCl3)δ/ppm 7.40−7.24(m,20H),6.57−6.50(m,6H),4.99(s,8H),4.94(s,4H),3.63(s,4H),3.63−3.57(m,2H),2.62−2.52(m,6H)
これらの分析結果より、この生成物は以下の構造式で表される化合物と同定された。
次いで、反応液を減圧下で溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=4:1)で精製した(白色粉末、収量661.6mg、収率96.1%)。
このものの核磁気共鳴スペクトル分析結果は次の通りである。
1H−NMR(500MHz,CDCl3)δ/ppm 6.65−6.38(m,42H),4.92(s,16H),4.90(s,8H),3.76(s,48H),3.61(brs,6H),2.61−2.52(m,4H)
これらの分析結果より、この生成物は以下の構造式で表される化合物であると同定された。
このものの核磁気共鳴スペクトル分析結果は次の通りである。
1H−NMR(500MHz,C6D5CD3)δ/ppm 6.74−6.35(m,42H),4.73(brs,24H),3.39(brs,48H),0.97(brs,3H)
これらの分析結果より、この生成物は式(XII)
この含アルミニウムルイス酸触媒の無水トルエン溶液(3ml)をε−カプロラクトン1.678gの無水トルエン溶液(10ml)に窒素雰囲気下0℃でゆっくりと滴下し、室温で1時間攪拌した。
反応終了後、反応液を濃縮し少量のクロロホルムに溶解させ、メタノール(500ml)に滴下することにより目的物を沈降させ、このものに10%塩酸−メタノール液(10ml)を加え、一晩室温で放置した後、ろ過、洗浄し、40℃で12時間真空乾燥したところ、下記構造式のポリ(ε−カプロラクトン)が得られた(収率94%)。
Claims (3)
- 一般式(I)
[式中、Aは水素原子又は−CH2−S−G〔ここでGは一般式(II)
(式中、R 1 は炭素数1〜10のアルキレン基、Xは水素原子、または、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ナトリウムカルボキシレートまたはカリウムカルボキシレートで置換されていてもよい、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基、pは1、q、r、s及びtはそれぞれ0、 nは1以上の整数、d、e及びfのうち少なくとも2つが1、残りは0を示す)
で表される基である〕
で表される基である]
で表されるデンドリマーであることを特徴とするα‐グリコール内包型デンドリマー。 - 一般式(III)
(式中、R 1 は炭素数1〜10のアルキレン基、Xは水素原子、または、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ナトリウムカルボキシレートまたはカリウムカルボキシレートで置換されていてもよい、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基、Tはハロゲン原子、pは1、q、r、s及びtはそれぞれ0、nは1以上の整数、d、e及びfのうち少なくとも2つが1、残りは0を示す)
で表されるデンドロンと、一般式(IV)
(式中、Dは水素原子又は−CH2SHを示す)
で表されるメルカプタンとを塩基存在下溶媒中で反応させることを特徴とする一般式(I)
[式中、Aは水素原子又は−CH2−S−G〔ここでGは一般式(II)
(式中、R 1 は炭素数1〜10のアルキレン基、Xは水素原子、または、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ナトリウムカルボキシレートまたはカリウムカルボキシレートで置換されていてもよい、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基、pは1、q、r、s及びtはそれぞれ0、nは1以上の整数、d、e及びfのうち少なくとも2つが1、残りは0を示す)
で表される基である〕
で表される基である]
で表されるα‐グリコール内包型デンドリマーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005003226A JP4595111B2 (ja) | 2005-01-07 | 2005-01-07 | α‐グリコール内包型デンドリマー、その製造方法、α‐グリコール型二座配位子及びその配位構造を有するルイス酸触媒 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006188479A JP2006188479A (ja) | 2006-07-20 |
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ID=36796017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4595111B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997020814A1 (en) * | 1995-12-01 | 1997-06-12 | Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. | Propenone derivatives |
| IL132830A0 (en) * | 1998-11-16 | 2001-03-19 | American Cyanamid Co | Pesticidal and parasiticidal use of 1-aryl-1-(substituted thio sulfinyl and sulfonyl)-2-nitroethane compounds |
| CA2276282A1 (en) * | 1999-06-23 | 2000-12-23 | Bayer Inc. | Olefin polymerization process and catalyst system therefor |
| JP2005254048A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Japan Science & Technology Agency | デンドリマー型ホスフィン−ロジウム錯体からなるヒドロホルミル化用触媒、それを用いたヒドロホルミル化法 |
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