JP4496165B2 - フラットパネルディスプレイ基板用の複数基板担持体を用いたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本出願は、２００４年１２月２３日出願の米国仮特許出願第６０／６３８１７１号（その全記載内容を引用によって本明細書の記載として援用する）に基づく優先権を主張する。

本発明は、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関するものである。

リソグラフィ装置は、所望パターンを基板に、通常は基板の目標部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、フラットパネルディスプレイ、集積回路（ＩＣ）および微細構造を含むその他のデバイスの製造で使用できる。従来の装置では、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターン付与手段は、フラットパネルディスプレイ（またはデバイス）の個々の層に対応する回路パターンの作成に使用できる。このパターンを、基板（例えばガラスプレート）上の目標部分（例えば１つあるいはそれ以上のダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射線感光材料層（レジスト）への画像形成による。

回路パターンの代わりに、パターン付与手段を用いて、例えばカラーフィルタ・パターン、またはドット・マトリックス等のその他のパターンを作成できる。マスクの代わりに、パターン付与手段は、個々に制御可能な素子のアレイを含むパターン付与アレイを含む。マスクを用いた装置と比較した斯かる装置の利点は、より迅速かつ低廉な費用で、パターンを変更できることである。

一般に、フラットパネルディスプレイ用基板は長方形である。この種の基板を露光するように設計された既知のリソグラフィ装置は、通常、長方形基板の全幅をカバーするか、または、幅の一部（例えば、幅の半分）をカバーする露光領域を提供する。露光領域の下で基板を走査しながら、同期して投影ビームでマスクまたはレチクルを走査する。この方法で、パターンが基板に転写される。露光領域が基板の全幅をカバーする場合は、１回の走査で露光が完了する。露光領域が、例えば基板の幅の半分をカバーする場合は、最初の走査の後に基板を横断方向に移動させ、第二走査を実行して、基板の残りを露光する。

別の画像形成方法は、ピクセル格子画像形成を含み、ここではスポットの連続的露光によってパターンを実現する。

通常、パターン投与中に基板を支持する基板支持手段は、１つの基板を保持するようにサイズ設定される。これが真であるのは、例えばフラットパネルディスプレイ作成において、基板がますます大きくなっているからである。しかし、このような大きな支持デバイス上で比較的小さい基板を用いることがあり、その場合、１回に１つのみを露光する。これは処理能力を低下させ、装置効率を悪くする。

したがって、リソグラフィ装置の処理能力を増大させることのできる装置と方法が求められている。

本発明の一例として、照明系、パターン付与手段、基板テーブル、投影系、および基板操作装置を含むリソグラフィ装置が提供される。照明系は放射線投影ビームを供給する。パターン付与手段は放射線ビームにパターンを付与する。基板テーブルは、１つ以上の基板を同時に支持する。投影系は、パターン付与されたビームを１つ以上の基板の目標部分に投影する。基板操作装置は、１つ以上の基板を、それぞれ、基板テーブルに対して相対的に動かす。基板操作装置は、１つ以上の基板のうちの１つ以上を同時に担持する。

本発明の一実施形態によると、以下の各段階を含む方法が提供される。放射線ビームにパターンを付与する段階。パターン付与された放射線ビームを、同じ基板テーブル上に同時に支持された１つ以上の基板の各々の目標部分に投影する段階。操作装置と支持テーブルの間で、１つ以上の基板の各々を、単独で、または、同時に動かす段階。

以下、本発明のその他の具体例、特徴、および利点、および本発明の各種具体例の構造および動作について、添付図面を見ながら詳細に説明する。

添付図面は、本発明を示し、明細書の説明と共に本発明の原理を説明し、当業者が本発明を利用できるようにする。

次に、本発明の実施例を添付図面に即して説明する。図面では類似符号は同一または機能的に類似する部材を示す。

本発明の１つの実施例では、複数の基板を支持テーブル上で同時に動かし、および／または、位置決めする方式が用いられる。一例では、これは、基板テーブル上で搬送または位置決めするために、１つ以上の基板を支持または分離する枠体を用いることによって実行される。別例では、１つ以上の基板を適切に位置決めするために用いられる基板テーブル上のスペーサ（間隔保持手段）を用いて実行される。さらに別の例では、これは、１つ以上の基板を支持テーブル上に設置するロボットを用いて実行される。

［概要と用語］
本明細書で用いる用語「コントラストデバイス」、「パターン付与手段」、「パターン付与アレイ」、または「個々に制御可能な素子から成るアレイ」という用語は、基板の目標部分にパターン形成するように、放射線ビームの断面を調整するために使用可能な任意の手段を指すものとして、広義に解釈すべきである。放射線ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが移相シフト・フィーチャー、または、所謂アシスト・フィーチャーを含む場合、基板の目標部分における所望のパターンに正確に対応しないことがあることに留意すべきである。同様に、最終的に基板上に形成されるパターンは、任意の瞬間に個々に制御可能な素子のアレイに形成されるパターンに対応しないことがある。これは、基板の各部分に形成される最終的パターンが、個々に制御可能な素子のアレイのパターンおよび／または基板の相対的位置が変化する任意の期間中、または任意の露光数にわたって構築される配置構成の場合に当てはまる。一般に、基板の目標部分に形成されたパターンは、集積回路のような目標部分に形成されるデバイスの特定の機能層に対応する。「ライトバルブ」および「空間光変調器」（ＳＬＭ）という用語も、この文脈で使用可能である。このようなパターン付与手段の例は、以下を含む。

プログラム可能なミラーアレイ。これは、粘弾性（例えば弾性特性ばかりでなく粘性特性も有する）制御層および反射面を有するマトリクスアドレス指定可能面を有することができる。こうした装置の基本原理は、例えば反射面のアドレス指定された領域は入射光を回折光として反射するが、アドレス指定されていない領域は入射光を非回折光として反射するといったことである。適切なフィルタを使用することにより、反射ビームから非回折光を除去して、回折光のみを基板に到達させることができる。この方法において、ビームはマトリクスアドレス指定可能面のアドレスパターンに従ってパターン形成される。

代替方法として、フィルタが回折光を除去して、非回折光のみを基板に到達させることができる。

回折性光学ＭＥＭＳデバイス（超小型電気機械システム）のアレイも、同様の方法で使用することができる。各回折性光学ＭＥＭＳデバイスは、入射光を回折光として反射する格子を形成するために、相互に対して変形可能な複数の反射性リボンで構成される。

プログラム可能なミラーアレイの別の代替例では、複数の微小ミラーから成るマトリクス配列を用い、そのミラーの各々は、適した局部電界を適用することによって、または圧電作動手段を用いることによって、軸を中心に個々に傾けられている。もう一度言うと、ミラーはマトリクスアドレス指定可能であり、それによりアドレス指定されたミラーはアドレス指定されていないミラーとは異なる方向に入射放射線ビームを反射する。このようにして、反射されたビームはマトリクスアドレス指定可能なミラーのアドレスパターンに従ってパターン付与される。必要とされるマトリクスアドレス指定は適切な電子手段を用いて実行される。ミラーアレイは、例えば、米国特許第５２９６８９１号および第５５２３１９３号、並びに、国際ＰＣＴ特許種出願第ＷＯ９８／３８５９７および第９８／３３０９６号に記載され、これは参照により全体が本明細書に組み込まれる。

プログラム可能なＬＣＤアレイが、もう一つの例である。プログラム可能なＬＣＤアレイは、例えば米国特許第５２２９８６２号に記載され、これは参照により全体が本明細書に組み込まれる。

リソグラフィ装置は、１つ以上のパターン形成アレイを含むことができる。例えば、個々に制御可能な素子の複数のアレイを有することができ、これは相互から独立してそれぞれ制御される。このような配置構成では、個々に制御可能な素子のアレイの一部または全部が、共通の照明系（または照明系の一部）、個々に制御可能な素子のアレイの共通支持構造、および共通投影系（または投影系の一部）のうちの少なくとも１つを有することができる。

本明細書において使用する「投影系」なる用語は、例えば使用する露光放射線、または浸漬流体の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システムを含む各種形式の投影系を網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」なる用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影系」なる用語と同義と見なされる。

投影系は、個々に制御可能な素子のアレイにパターンを像形成でき、もって、基板上にパターンが首尾一貫して形成される。または、投影系は、２次ソースを描像することができ、そこでは個々に制御可能な素子のアレイにある素子がシャッタとして作用する。この点で、投影系は例えば２次ソースを形成し、スポットを基板に描像するために、マイクロレンズアレイ（ＭＬＡとして知られる）またはフレネルレンズアレイのような集束素子のアレイを有する。このような構成では、集束素子のアレイにある各集束素子が、個々に制御可能な素子のアレイにある個々に制御可能な素子の１つに関連する。あるいは、投影系は、個々に制御可能な素子のアレイにある個々に制御可能な複数の素子からの放射線が、集束素子のアレイにある集束素子の１つに配向され、そこから基板へと配向されるように構成することができる。

本明細書の以下の図で示すように、本装置は反射式である（例えば個々に制御可能な素子の反射性アレイを使用する）。あるいは、装置は透過式でもよい（例えば個々に制御可能な素子の透過性アレイを使用する）。

リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上（例えば多段）の基板テーブルを有する形式でよい。このような「多段」機械においては、追加のテーブルが並列して使用されるか、１つ以上の他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が１つ以上のテーブルにて実行される。

リソグラフィ装置は、投影系と基板との間の空間を充填するよう、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する「浸漬液」で覆う形式でもよい。浸漬液は、例えばコントラストデバイスと投影系の間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用してもよい。浸漬技術は、投影系の開口数を増加させるために使用可能である。本明細書で使用する「浸漬」なる用語は、基板などの構造を液体に浸さなければいけないという意味ではなく、露光中に投影系と基板の間に液体を配置するというだけの意味である。

例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、または自身内にこのようなコンピュータプログラムを有するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。

［例示的環境］
図１は、本発明の実施形態によるリソグラフィ投影装置１００を模式的に示す。装置１００は、少なくとも放射線装置１０２、個々に制御可能な素子（例えば、コントラストデバイスまたはパターン付与手段）のアレイ１０４、目標物テーブル１０６（例えば、基板テーブル）、および投影系（レンズ）１０８を含む。

放射線装置１０２は、放射線（例えばＵＶ放射線）のビーム１１０を供給するために用いることができ、これはこの特定の場合は放射線ソース１１２も含む。

個々に制御可能な素子のアレイ１０４（例えばプログラム可能なミラーアレイ）は、ビーム１１０にパターンを適用するために使用することができる。概して、個々に制御可能な素子のアレイ１０４の位置を、投影系１０８に対して固定することができる。しかし、代替配置構成では、投影系１０８に対して正確に位置決めするために、個々に制御可能な素子のアレイ１０４を位置決め装置（図示せず）に接続することができる。本明細書で示すように、個々に制御可能な素子１０４は反射式（例えば個々に制御可能な素子の反射性アレイを有する）である。

オブジェクトテーブル１０６には、基板１１４（例えばレジスト塗布したシリコンウェハまたはガラス基板）を保持するための基板ホルダ（特に図示せず）を設けることができ、オブジェクトテーブル１０６は、投影系１０８に対して基板１１４を位置決めするために、位置決め装置１１６に接続することができる。

投影系１０８（例えばクォーツおよび／またはＣａＦ₂レンズシステム、またはこのような材料から作成したレンズ要素を有する反射屈折性システム、またはミラーシステム）は、ビーム分割器１１８から受け取ったパターン形成ビームを基板の目標部分１２０（例えば１つ以上のダイ）に投影するために使用することができる。投影系１０８は、個々に制御可能な素子のアレイ１０４の像を基板１１４に投影することができる。あるいは、投影系１０８は、個々に制御可能な素子のアレイ１０４の素子がシャッタとして作用する２次ソースの像を投影することができる。投影系１０８は、２次ソースを形成し、微小スポットを基板１１４に投影するために、マイクロレンズアレイ（ＭＬＡ）を有してもよい。

ソース１１２（例えばピクセル格子画像形成モードでは周波数を３倍にしたＮｄ：ＹＡＧ、または他のモードではエキシマレーザ）は、放射線ビーム１２２を生成することができる。ビーム１２２は、直接的に、または例えばビーム拡張器のような調整デバイス１２６を通り抜けた後に、照明系（例えば照明装置）１２４に供給される。

一例では、装置１００がピクセル格子画像形成モードで作動している場合、照明装置１２４は、ビーム１２２のスポットサイズを調節するためにズームを設定する調節デバイス１２８を有してよい。また、照明装置１２４は一般的に、スポット発生装置１３０および集光器１３２のような様々な他の構成要素を含む。例えば、スポット発生装置１３０は、屈折性または回折性格子、分割したミラーアレイ、導波管などでよいが、それに制限されない。この方法で、個々に制御可能な素子のアレイ１０４に当たるビーム１１０は、その断面に所望のズーム、スポットサイズ、均一性、および強度分布を有する。

別の例では、装置１００が他のモードで作動した場合、照明１２４は、ビーム１２２の強度分布の外部および／あるいは内部放射範囲（一般的にそれぞれ、外側および内側と呼ばれる）を設定する調節デバイス１２８を有することができる。また、照明装置１２４は一般的に、様々な他の構成要素を含む。この例では、上記で検討した例と比較して、要素１３０は、積分器１３０でよく、要素１３２は集光器１３２でよい。この方法で、個々に制御可能な素子１０４のアレイに当たるビーム１１０は、その断面に亘り所望する均一性と強度分布とを有する。

図１に関して、ソース１１２はリソグラフィ投影装置１００のハウジング内にあってよいことに留意されたい。代替実施形態では、ソース１１２はリソグラフィ投影装置１００から離れていてよい。この場合、放射線ビーム１２２は、（例えば適切な配向ミラーの助けにより）装置１００に配向される。これらのシナリオは両方とも、本発明の範囲内で想定されることを理解されたい。

ビーム１１０はその後、ビーム分割器１１８を使用して配向された後、個々に制御可能な素子１０４のアレイに当たる。ビーム１１０は、個々に制御可能な素子のアレイで反射してから、ビーム１１０を基板１１４の目標部分１２０に集束する投影系１０８を通過する。

位置決め装置１１６（および任意選択で、ビーム分割器１４０を介して干渉計ビーム１３８を受け取るベースプレート１３６上の干渉測定デバイス１３４）の助けにより、ビーム１１０の路で様々な目標部分１２０を位置決めするように、基板テーブル６を移動することができる。使用する場合、個々に制御可能な素子１０４のアレイの位置決め装置（図示せず）を使用して、例えば走査中に、ビーム１１０の路に対して個々に制御可能な素子１０４のアレイの位置を補正することができる。概して、目標物テーブル１０６の動作は、図１では明示的に図示されていない長行程モジュール（粗位置決め）および短行程モジュール（微小位置決め）の助けにより実現される。個々に制御可能な素子１０４のアレイを位置決めするために、同様のシステムを使用することもできる。必要な相対的運動を提供するために、ビーム１１０は、代替的／追加的に移動可能に動作可能にすることが可能で、目標物テーブル１０６および／または個々に制御可能な素子１０４のアレイは、固定位置を有してもよいことが理解される。

実施形態の代替構成では、基板１１４が基板テーブル１０６上で移動可能である状態で、基板テーブル１０６を固定することができる。これを実行する場合は、基板テーブル１０６には平坦な最上表面に複数の開口を設け、開口を通して気体を共有して、基板１１４を支持可能な気体クッションを提供する。これは従来、空気支承構成と呼ばれている。ビーム１１０の路に対して基板１１４を位置決めできる１つ以上のアクチュエータ（図示せず）を使用して、基板１１４を基板テーブル１０６上で移動させる。あるいは、気体が開口を通過するのを選択的に開始し、停止することによって、基板１１４を基板テーブル１０６で移動させることができる。

本発明によるリソグラフィ装置１００は、本明細書では基板上のレジストを露光するためのものとして説明されているが、本発明はこの使用法に制限されず、レジストなしリソグラフィで使用するために装置１００を使用して、パターン形成したビーム１１０を投影できることが理解される。

図示の装置１００は、以下の複数のモードで使用することができる。
１．ステップモード：個々に制御可能な素子１０４のアレイ上の全パターンを、１回で目標部分１２０に投影する（つまり１回の「フラッシュ」）。次に、パターン形成したビーム１１０で異なる目標部分１２０を照射するために、基板テーブル１０６をｘおよび／またはｙ方向で異なる位置へと移動させる。
２．走査モード：ステップモードと同様であるが、１回の「フラッシュ」で任意の目標部分１２０が露光されない。代わりに、個々に制御可能な素子１０４のアレイが、速度ｖで任意の方向（いわゆる「走査方向」、例えばｙ方向）に移動可能であり、したがってパターン形成したビーム１１０が個々に制御可能な素子１０４のアレイを走査できるようにする。それと同時に、基板テーブル１０６を速度Ｖ＝Ｍｖで同じ方向または反対方向に同時に移動し、ここでＭは投影系１０８の倍率である。この方法で、解像度妥協せずに、比較的大きい目標部分１２０を露光することができる。
３．パルスモード：個々に制御可能な素子１０４のアレイは、基本的に静止状態に維持し、パルス状放射線装置１０２を使用してパターン全体を基板１１４の目標部分１２０に投影する。基板テーブル１０６は基本的に一定の速度で移動し、したがってパターン形成されたビーム１１０が基板１０６全体で線を走査する。連続する目標部分１２０を基板１１４上の必要な位置で露光するように、個々に制御可能な素子１０４のアレイ上にあるパターンは、放射線装置１０２のパルス間に必要に応じて更新し、パルスのタイミングをとる。その結果、パターン形成したビーム１１０は基板１１４を走査して、基板１１４の細片に対して完全なパターンを露光することができる。完全な基板１１４が線ごとに露光されるまで、このプロセスを繰り返す。
４．連続操作モード：パルスモードと同様であるが、ほぼ一定の放射線装置１０２を使用し、パターン形成したビーム１１０が基板１１４を走査して、それを露光するにつれ、個々に制御可能な素子１０４のアレイ上にあるパターンを更新する。
５．ピクセル格子画像形成モード：基板１１４上に形成されるパターンは、アレイ１０４上に配向されたスポット発生装置１３０によって形成されたスポットをその後に露光することによって実現される。露光したスポットは、ほぼ同じ形状を有する。基板１１４上で、スポットはほぼ格子内に印刷される。一例では、スポットのサイズは、印刷されたピクセル格子のピッチより大きいが、露光スポット格子より非常に小さい。印刷されるスポットの強度を変化させることによって、パターンが実現される。露光フラッシュとフラッシュの間で、スポット上の強度分布を変化させる。

前記使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも使用することができる。

図２は、本発明の１つの実施形態による装置２００の配置構成を示す。例えば、装置２００は、フラットパネルディスプレイの製造に特に有用である。図１で示した構成要素に対応する構成要素は、同様の参照番号で図示され、その記述は、適切な場合を除き繰り返さない。

図２で示すように、投影系２０８はビーム拡張器を含み、これはレンズ２５０および２５２を有する。第一レンズ２５０は、変調した放射線ビーム２１０を受け取って、開口ストップ２５４の開口を通してそれを集束するように配置構成される。一例では、レンズ２５６は開口に配置される。次に、放射線ビーム１１０が発散し、第二レンズ２５２（例えば視野レンズ）によって集束される。

投影系２０８はさらに、拡張した調整済み放射線１１０を受け取るように配置構成されたレンズ（ＭＬＡ）２５８のアレイを有する。パターン付与手段１０４内の個々に制御可能な素子のうち１つ以上に対応する変調調整ビーム１１０の様々な部分が、ＭＬＡ２５８の個々の異なるレンズ２６０を通過する。各レンズ２６０は、変調放射線ビーム１１０の個々の部分を、基板２１４上にある点に集束する。この方法で、放射線スポット２６２のアレイが基板２１４に露光される。８個のレンズ２６０しか図示されていないが、ＭＬＡ２５８は数千個のレンズを有してよく、これはパターン付与手段２０４として使用する個々に制御可能な素子のアレイについても真であることが理解される。

図３は、本発明の１つの実施形態により基板３１４上にパターンを生成する方法を概略的に示す。塗りつぶした円は、例えば図２で示すように、投影系のＭＬＡによって基板３１４上に投影されたスポット３６２のアレイを表す。基板３１４上で一連の露光部が露光されるにつれ、基板３１４が投影系に対してＹ方向に移動する。

空白の円は、以前に基板３１４上で露光されているスポット露光部３６４を表す。図示のように、投影系内のレンズのアレイによって基板３１４上に投影された各スポット３６２は、基板３１４上のスポット露光部の列３６６を露光する。基板３１４の完全なパターンが、各スポット３６２によって露光されたスポット露光部３６６４の全ての列３６６の合計によって生成される。このような配置構成は通常、上記で検討したように「ピクセル格子画像形成」と呼ばれる。

放射線スポット３６２のアレイは、基板３１４に対して角度θで配置構成されることが分かる（基板３１４の縁がＸ方向およびＹ方向に平行である）。こうするのは、基板３１４が走査方向（例えばＹ方向）に移動すると、各放射線スポット３６２が基板３１４の異なる区域を通過し、それによって基板全体を放射線スポットのアレイでカバーできるからである。図示を容易にするために、図３では角度θが誇張されていることが理解される。

図４は、本発明の１つの実施形態により、複数の光学的エンジンを使用してフラットパネルディスプレイ基板４１４全体を１回の走査で露光する方法を概略的に示す。放射線スポットの８つのアレイ４６８は、放射線スポットの１アレイの縁が、放射線スポットの隣接アレイの縁と（例えば走査方向Ｙで）わずかに重なるように、「チェス盤」構成で２列４７０、４７２にて配置構成された８つの光学的エンジン（図示せず）によって生成される。この例では、放射線の帯が基板４１４の幅にわたって延在し、それによって基板全体の露光を１回の走査で実行することができる。任意の適切な数の光学的エンジンを使用してよいことが理解される。

一例では、各光学的エンジンは、上述したように別個の照明系、パターン付与手段、および投影系を有する。しかし、２つ以上の光学的エンジンが、照明系、パターン付与手段、および投影系のうち１つ以上の少なくとも一部を共有してよいことを理解されたい。

図５、図６および図７は、本発明の１つの実施形態による複数プレート保持デバイス５７０のそれぞれ上面図、斜視図および断面図（図６の線Ａ−Ａを見る）。デバイス５７０は、１つ以上の区画５７２、この場合は４つの区画を含む枠体であり、これがそれぞれ１つの基板５１４を保持、位置決めかつ／または固定する。任意の数の基板５１４を位置決めし、１つ以上のプレートを含むデバイス５７０内にしっかり保持できることを理解されたい。これらの区画５７２は、横方向部分５７４および縦方向部分５７６のような様々な別個のデバイスを使用して、形成することができる。例えば、区画５７２は、デバイス５７０内の凹所（図６参照）、または基板５１４間のスペーサを介して形成された縦方向および横方向区画５７４および５７６間の空間（図７参照）などでよい。後者の場合、横方向および縦方向区画５７４および５７６は、支持体５７８の表面上に構築することができる（図７参照）。横方向および縦方向区画５７４および５７６は、その間に配置されたパネル全体が損傷されず、相互に接触しないようにサイズ決定されるが、用途専用にすることができる。

一例では、基板５１４間のスペーサまたは分離手段は、移動または後退可能にすることができる。これによって、各種サイズの基板５１４を支持テーブル、操作装置および／またはロボット上に同時に位置決めすることができる。

図８は、本発明の１つの実施形態によるリソグラフィ装置の部分８８０を示す。部分８８０は、基板８１４を保管する基板保管デバイス８８２、ロボット８８４、基板操作装置８８６、および基板テーブル８０６を含む。作動時に、基板８１４（またはパネル）は、ロボット８８４を使用して基板保管部８８２から回収され、操作装置８８６に移動する。操作装置８８６は、露光作業前後の基板８１４をテーブル８０６との間で移送する。

一例では、デバイス５７０が操作装置８８６上に位置決めされ、ロボット８８４が１つ以上の基板８１４をデバイス５７０内またはその上に配置する。例えば、ロボット８８４は、各基板８１４をデバイス５７０の各区画５７２内に配置することができる。次に、操作装置８８６は、露光するためにデバイス５７０および基板８１４をテーブル８０６上に移動する。

別の例では、デバイス５７０をテーブル８０６上に配置する。この例では、ロボット８８４が１つ以上の基板８１４を操作装置８８６上に移動させ、追加のロボット８８８が必要に応じて、１つ以上の基板８１４を操作装置８８６からデバイス５７０内、またはその上へと移動する。一例では、ロボット８８４は、基板８１４を保管部８８２からテーブル８０６上に配置されたデバイス５７０内、またはその上へと移動するのに十分な大きさである。

別の例では、デバイス５７０が必要なく、ロボット８８４が所望されるだけの数の基板８１４を操作装置８８６上に配置し、次にロボット８８４またはロボット８８８が基板８１４をテーブル８０６上に移動する。

例示的な他の操作装置が、参照により全体が本明細書に組み込まれる２００４年１２月３０日出願の米国暫定特許出願第６０／６３９，９６０号で教示されている。

図９は、本発明の１つの実施形態による操作装置９８６および支持テーブル９０６の上面図を示す。この実施形態では、スペーサ９９０を操作装置８８６の表面９９２および／または支持テーブル９０６の表面９９４に配置して、基板９１４に接触しないことを保証することができる。２つの例示的な空間の配置構成が図９に図示されているが、本発明の範囲内で、スペーサの他の配置構成および形状も想定される。

さらに別の例では、デバイス５７０を操作装置上に装填し、同時に１つ以上の基板５１４を保持しながら、ロボットを使用して基板テーブルとの間で移動する。

以上の実施形態および／または実施例のいずれでも、リソグラフィデバイスは、現在および将来のリソグラフィ作業のスループットを増加するために、１つ以上のプレート、パネル、基板、または工作物を同時に担持するように構成することができる。

マスクを用いないリソグラフィ装置、または、マスクを用いたリソグラフィ装置により、複数のさらなるプレート、パネル、基板または工作物を同時に露光できる。

［結論］
以上では本発明の様々な実施形態について説明してきたが、これは例示によってのみ提示されたもので、制限的ではないことを理解されたい。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、その形態および細部を様々に変更できることが、当業者には明白である。したがって、本発明の範囲は上述した例示的実施形態のいずれにも制限されず、請求の範囲およびその等価物によってのみ画定される。

請求の範囲を解釈するために、詳細な説明の部分のみを使用し、課題を解決するための手段および要約は使用しないものとする。課題を解決するための手段および要約の部分は、本発明の発明者が想定するような本発明の１つ以上の例示的実施形態を説明できるが、全ては説明できず、したがって本発明および請求の範囲をいかなる意味でも制限するものではない。

本発明の一例によるリソグラフィ装置。 本発明の一例により、フラットパネルディスプレイの製造に使用可能なリソグラフィ装置。 本発明の一例により、リソグラフィ装置を使用してパターンを基板に転写するモードを示す。 本発明の一例により、フラットパネルディスプレイの製造に使用する基板上にパターンを露光するための光学的エンジンの配置構成を示す。 本発明の一例による複数プレート保持デバイスの上面図。 本発明の一例による複数プレート保持デバイスの斜視図。 本発明の一例による複数プレート保持デバイスの（図６の線Ａ−Ａで見た）断面図。 本発明の一例によるリソグラフィ装置の一部を示す。 本発明の一例による操作装置および支持テーブルの上面図。

符号の説明

１００ リソグラフィ装置
１０２ 放射線装置
１０４ アレイ
１０６ 目標物テーブル
１０８ 投影系
１１０ ビーム
１１２ 放射線源
１１４ 基板
１１６ 位置決め装置
１１８ ビーム分割器
１２２ 放射線ビーム
１２６ １２８ 調整デバイス
１２４ 照明装置
１３０ スポット発生装置
１３２ 集光器

Claims (16)

1. 基板テーブルと、投影系と、基板操作装置とを含むリソグラフィ装置において、
   前記基板テーブルが、複数の基板を同時に保持するように構成され、
   前記投影系が、パターン付与された放射線ビームを前記複数の基板のうちの対応する基板の目標部分に投影するように構成され、
   前記基板操作装置が、前記複数の基板の各々を前記基板テーブルに対して相対的に動かし、また、前記複数の基板を、個別に、または、同時に担持するように構成され、
   前記基板操作装置及び前記基板テーブルの少なくとも一方が分離手段を有し、該分離手段が、前記複数の基板の各々の保持または位置決めのうちの少なくとも一方を実行するように構成され、
   前記分離手段が１つ以上の凹所、壁またはスペーサを含み、
   １つ以上の凹所、壁またはスペーサが可動であり、それによって、各種サイズの前記複数の基板用にサイズ変更できるようになっているリソグラフィ装置。
2. 基板テーブルと、投影系と、基板操作装置とを含むリソグラフィ装置において、
   前記基板テーブルが、複数の基板を同時に保持するように構成され、
   前記投影系が、パターン付与された放射線ビームを前記複数の基板のうちの対応する基板の目標部分に投影するように構成され、
   前記基板操作装置が、前記複数の基板の各々を前記基板テーブルに対して相対的に動かし、また、前記複数の基板を、個別に、または、同時に担持するように構成され、
   前記基板操作装置及び前記基板テーブルの少なくとも一方が分離手段を有し、該分離手段が、前記複数の基板の各々の保持または位置決めのうちの少なくとも一方を実行するように構成され、
   前記分離手段が１つ以上の凹所、壁またはスペーサを含み、
   前記１つ以上の壁またはスペーサが後退可能であるリソグラフィ装置。
3. 前記基板操作装置が、前記複数の基板のうちの少なくとも２つを同時に担持する請求項１または２に記載されたリソグラフィ装置。
4. 前記基板操作装置が、少なくとも１つの支持表面または支持台を有し、前記少なくとも１つの支持表面または支持台が、前記複数の基板を、基板テーブルとの関係で同時に担持するように構成されている請求項１または２に記載されたリソグラフィ装置。
5. 前記支持表面に前記基板を動かし、または、前記支持表面から前記基板を取り去るための基板搬送手段を、前記少なくとも１つの支持表面が有する請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
6. 前記基板テーブル上に置かれる、２つ以上の区画を有する枠体を更に含み、
   前記２つ以上の区画が、前記複数の基板のうちの少なくとも２つの保持または位置決めのうちの少なくとも一方を実行するように構成されている請求項１から５のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
7. 前記複数の基板を前記基板操作装置上に位置づけ、かつ、該複数の基板を前記基板操作装置から前記基板テーブルまで動かすように構成されたロボットを更に含む請求項１から６のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
8. 前記複数の基板の各々を確実に保持するように構成された複数の区画を有する枠体を更に含む請求項１または２に記載されたリソグラフィ装置。
9. 前記枠体が前記基板操作装置上に位置づけられ、
   ロボットが、前記複数の基板の各々を、前記枠体の前記区画内に位置づけ、かつ
   前記基板操作装置が、前記枠体を前記基板テーブル上に動かすようになっている請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
10. 前記複数の基板が装填位置で、前記枠体に装填され、ロボットが、前記基板操作装置上に前記枠体を動かし、
    前記基板操作装置が、前記基板テーブル上に前記枠体を動かすようになっている請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
11. 同じ支持テーブル上で同時に支持された複数の基板の各々の目標部分に、パターン付与された放射線ビームを投影すること、および、
    操作装置と前記支持テーブルとの間で、前記複数の基板の各々を、個別に、または、同時に動かすことを含み、
    前記複数の基板を分離するために、前記操作装置上及び前記支持テーブル上の少なくとも一方のスペーサ、凹所または壁のうちの１つを用いることを更に含み、
    前記複数の基板である各種サイズの基板を同時に保持するべく、１つ以上のスペーサまたは凹所を移動可能または後退可能にすることを更に含む方法。
12. 前記基板テーブル上に位置づけられた、複数の区画を有する枠体を用いることを更に含み、前記枠体は、前記複数の基板を確実に保持するためのものである請求項１１に記載された方法。
13. 前記枠体が、前記複数の基板と共に、操作装置と前記支持テーブルとの間で動かされる請求項１２に記載された方法。
14. 前記枠体に前記複数の基板が装填され、
    前記枠体が前記操作装置上に位置付けられ、
    前記枠体が、前記操作装置と前記基板テーブルとの間で動かされる請求項１２に記載された方法。
15. 前記複数の基板を確実に保持するために、複数の区画を有する枠体を前記支持テーブルに一体化することを更に含む請求項１１から１４のいずれかに記載された方法。
16. 前記複数の基板を前記操作装置上に動かすために、移動手段を用いること、および、
    前記複数の基板を、前記操作装置と前記支持テーブルとの間で動かすために、前記移動手段を用いることを更に含む請求項１１から１５のいずれかに記載された方法。

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