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JP3511450B2 - 光学式測定装置の位置校正方法 - Google Patents

光学式測定装置の位置校正方法

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JP3511450B2
JP3511450B2 JP24893997A JP24893997A JP3511450B2 JP 3511450 B2 JP3511450 B2 JP 3511450B2 JP 24893997 A JP24893997 A JP 24893997A JP 24893997 A JP24893997 A JP 24893997A JP 3511450 B2 JP3511450 B2 JP 3511450B2
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optical length
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optical
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貞行 松宮
隆夫 川辺
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Mitutoyo Corp
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    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
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    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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    • G01B21/02—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness
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    • G01B21/042—Calibration or calibration artifacts

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Indication And Recording Devices For Special Purposes And Tariff Metering Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、複数の光学式測
長器を併設して構成される測定装置の位置校正方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、接触式検出器を用いた三次元
座標測定機において、検出器の位置を校正する場合、一
般にマスターボールが用いられている。マスターボール
は、真直度がよく、且つ直径が高精度に校正されたボー
ルである。具体的には、接触式検出器でマスターボール
の表面上の３点以上を測定し、これらの表面座標値に基
づいて演算を行ってマスターボールの中心座標を求め
る。こうして求められたマスターボールの中心座標を基
準座標として、実際にワーク測定を行った時の測定デー
タの位置校正を行う。
【０００３】しかし、非接触式検出器である光学式測長
器（例えば、ＣＣＤを用いた画像測定ヘッドやレーザ変
位計等）を用いた場合、接触式検出器の場合と同様にマ
スターボールを用いて同様の手法で校正を行おうとする
と、必ず傾斜面上の点の測定を必要とするために、その
点の垂直軸（Ｚ軸）座標値の測定に誤差を含む。傾斜面
では垂直軸方向から光を照射したとき、垂直軸方向には
反射しないからである。この誤差は、マスターボール中
心座標値の演算結果に影響を与え、求められる中心座標
値のＺ，Ｙ座標値にも大きな誤差を含む結果となる。ま
た、通常の光学式測長器は急傾斜面には焦点を合わせる
ことができないから、測定点は極めて小さい範囲からし
か選べなくなり、これも演算誤差の原因となる。
【０００４】具体的に、マスターボール表面の４測定点
の座標値から中心座標値を演算する場合の、測定された
ある点のＺ軸座標値の誤差が、求められる中心座標値に
与える影響の大きさを説明する。マスターボールは、図
６に示すように直径がＲであり、原点を中心としてその
球面は下記数１で表される。
【０００５】
【数１】ｘ2＋ｙ2＋ｚ2＝Ｒ2
【０００６】マスターボールの中心座標を（ａ，ｂ，
ｃ）すると、その球面は、下記数２で表される。
【０００７】
【数２】（ｘ−ａ）2＋（ｙ−ｂ）2＋（ｚ−ｃ）2＝Ｒ2
【０００８】この様なマスターボール表面の４点、即
ち、Ｚ軸との交点位置Ｐ１（０，０，Ｒ）と、この点Ｐ
１の周囲から選択されたＺ軸からの傾き角がθである３
つの表面位置Ｐ２（Ｒsinθ，０，Ｒcosθ），Ｐ３
（０，Ｒsinθ，Ｒcosθ），Ｐ４（−Ｒsinθ，０，Ｒc
osθ）を測定して、中心座標を求めるものとする。上の
各座標データのうちＰ１，Ｐ２及びＰ４は正しく測定さ
れたものとし、測定点Ｐ３の座標のうちＺ座標値に誤差
δが含まれて、Ｐ３（０，Ｒsinθ，Ｒcosθ＋δ）とな
ったと仮定する。このとき、マスターボールの中心座標
値（ａ，ｂ，ｃ）を求める演算式は、４つの測定点デー
タを数２に代入することにより、下記数３で表される。
【０００９】
【数３】 ａ2＋ｂ2＋（Ｒ−ｃ）2＝Ｒ2 …（１） （Ｒsinθ−ａ）2＋ｂ2＋（Ｒcosθ−ｃ）2＝Ｒ2 …（２） ａ2＋（Ｒsinθ−ｂ）2＋（Ｒcosθ−ｃ＋δ）2＝Ｒ2 …（３） （Ｒsinθ＋ａ）2＋ｂ2＋（Ｒcosθ−ｃ）2＝Ｒ2 …（４）
【００１０】数３の（２）式と（４）式を減算すると、
下記数４のように、Ｘ座標値ａが求められる。
【００１１】
【数４】４Ｒａsinθ＝０ ∴ ａ＝０
【００１２】ａ＝０を（１），（２），（３）式に代入
すると、それぞれ下記数５に示す（１′），（２′），
（３′）が得られる。
【００１３】
【数５】 ｂ2＋（Ｒ−ｃ）2＝Ｒ2 …（１′） （Ｒsinθ）2＋ｂ2＋（Ｒcosθ−ｃ）2＝Ｒ2 …（２′） （Ｒsinθ−ｂ）2＋（Ｒcosθ−ｃ＋δ）2＝Ｒ2 …（３′）
【００１４】（１′）式と（２′）式とを減算すると、
下記数６のように、Ｚ座標値ｃが求められる。
【００１５】
【数６】２Ｒｃ（cosθ−１）＝０ ∴ ｃ＝０
【００１６】（２′），（３′）式にｃ＝０を代入し
て、これらを減算すると、下記数７のようにＹ座標値ｂ
が求められる。
【００１７】
【数７】ｂ＝（δ2＋２Ｒδcosθ）／２Ｒsinθ
【００１８】この様に、Ｙ座標値が０でない測定点Ｐ３
点について測定されたＺ座標値に誤差があると、求めら
れる中心座標値のＹ座標値に誤差が含まれる。同様に、
Ｘ座標値が０でない点Ｐ２或いはＰ４を測定した時のＺ
座標値に誤差があれば、求められる中心座標値のＸ座標
値に誤差が含まれることになる。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】以上のように光学式測
長器を用いた場合、マスターボールを用いて位置校正を
行おうとすると、垂直軸座標値の測定誤差の影響で、マ
スターボールの中心座標値、即ち校正用の位置データを
正しく求めることができないという問題があった。更に
光学式測長器は急傾斜面には焦点を合わせることができ
ないため、測定点は小さい範囲に限定され、これも正し
い校正データを得ることを難しくする。
【００２０】この発明は、上記事情を考慮してなされた
もので、複数の光学式測長器を併設し、これらの光学式
測長器をワークを載置するステージ上で同時に三次元駆
動できるように保持して構成される光学式測定装置にお
いて、簡単且つ正確に位置校正データを得ることを可能
とした光学式測長装置の位置校正方法を提供することを
目的としている。
【００２１】
【課題を解決するための手段】この発明は、ワークを撮
像し画像処理により形状測定を行う第１の光学式測長器
とワークの高さ方向の変位を検出して形状測定を行う第
２の光学式測長器とを併設し、これらの光学式測長器を
ワークを載置するステージ上で同時に三次元駆動できる
ように保持して構成される光学式測定装置における前記
光学式測長器の位置校正方法において、基板上に平行で
ない２本の直線線分を含み、且つ微小高さのシャープな
エッジを持つ基準パターンであって、各光学式測長器で
水平面内での位置測定が可能な基準パターンが形成され
た校正用治具を用意して前記ステージに載置し、前記第
１の光学式測長器により前記エッジの画像から前記校正
用治具の基準パターンの座標を測定し、前記第２の光学
式測長器により前記エッジにおける高さ方向の変位から
前記校正用治具の基準パターンの座標を測定し、各光学
式測長器により求められた基準パターンの座標値を演算
処理して、各光学式測長器による測定データの位置校正
を行うことを特徴とする。具体的に光学式測定装置は、
例えば複数の光学式測長器として、ＣＣＤカメラを用い
た画像測定器とレーザ変位計とが併設されているもので
ある。
【００２２】この発明において対象とする光学式測定装
置は、少なくとも二つの光学式測長器を併設して構成さ
れる。例えば第１の測長器としてＣＣＤカメラを用いて
撮像データを画像処理して形状等を求めるものを用い、
これと第２の測長器としてのレーザ変位計を併設するシ
ステムがある。このようなシステムは、ＣＣＤカメラで
比較的大きい範囲で測定物の撮像を行って形状測定を行
う一方、ＣＣＤカメラでは合焦点撮像が難しいような測
定物の微小範囲をレーザ変位計で測定して、微小形状を
含む大きな範囲の形状を高精度に測定しようとする用途
に適用される。
【００２３】この様なシステムで二つの光学式測長器の
測定データを位置相関させるには、二つの測長器の間の
オフセット値を正確に求めることが必要である。この発
明においては、併設する二つの光学式測長器の位置校正
用の治具として、各光学式測定器で水平面内での位置測
定が可能な基準パターンが形成された校正用治具を用い
る。そして各光学式測長器により求められた基準パター
ンの座標値を演算処理して、各光学式測長器の間の水平
面内のオフセット値を求め、求められたオフセット値を
位置相関を示す校正データとする。この発明によれば、
水平面内のパターン測定のみにより水平面内のオフセッ
トを求めるので、マスターボールを用いた場合のように
垂直軸方向の測定が平面上の座標値に影響を与えるとい
うことはなく、二つの光学式測長器の位置校正を高精度
に行うことができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施例を説明する。図１は、この発明の一実施例によ
る光学式測定装置の概略構成を示す。基台１には、被測
定物を載置するためのＹ軸方向に駆動可能なステージ２
（駆動機構は省略）が設けられ、またＸ軸ガイド３が取
り付けられている。Ｘ軸ガイド３にはＸ軸方向に摺動可
能にスライド部材４が取り付けられ、スライド部材４に
は一体にＺ軸柱５が取り付けられている。このＺ軸柱５
には支持部材９がＺ軸方向に摺動可能に取り付けられ、
この支持部材９に、第１の光学式測長器を構成するＣＣ
Ｄカメラ６と、第２の光学式測長器を構成するレーザ変
位計７とが併設されている。これにより、ＣＣＤカメラ
６とレーザ変位計７とは、一定の位置関係を保って、
Ｘ，Ｙ，Ｚの３軸方向に同時に移動できるようになって
いる。
【００２５】ＣＣＤカメラ６は、ステージ２に載置され
た被測定物を撮像し、その画像処理により形状測定を行
う。高さ方向（Ｚ軸方向）の寸法は、画面のコントラス
トによって合焦点判定を行うことにより求める。合焦点
判定は、微小範囲の撮像では難しく、比較的大きな画面
の撮像が必要となる。即ち微小範囲での高さ測定はＣＣ
Ｄカメラ６では難しい。また、ＣＣＤカメラ６の焦点深
度はレンズにもよるが、１μm 〜数μm であり、この範
囲以下では常に合焦点を判定してしまうため、測定誤差
が生じる。そこで、微小な範囲での高さ測定を行うため
に、レーザ変位計７が用いられる。レーザ変位計７は、
レーザホロスケールを用いて、０．０１μm といった分
解能で高精度の高さ測定が可能である。
【００２６】具体的に例えば、ＣＣＤカメラ６により被
測定物を撮像して得られた画像データは、図２に示すよ
うに、信号処理回路２１で処理され、コントローラ２４
により制御される選択回路２３により選択されて演算処
理回路２５に送られる。次に、同じ被測定物に対して、
レーザ変位計７の走査により被測定物の高さ測定を行
う。レーザ変位計７の測定データは信号処理回路２２で
処理され、選択回路２３で選択されて演算処理回路２５
に送られる。演算処理回路２５では、二つの測定データ
の位置相関をとって、被測定物の三次元形状を求める。
測定形状は例えば、ディスプレイ２７に表示される。
【００２７】上述の測定動作において、ＣＣＤカメラ６
による撮像データとレーザ変位計７によるデータの位置
相関をとるには、ＣＣＤカメラ６とレーザ変位計７の間
の位置校正が必要であり、そのためには両者の取り付け
誤差を含めた正確なオフセット値が分かっていることが
必要である。次にこのオフセット値を求めて位置校正を
行う具体的な方法を説明する。
【００２８】ＣＣＤカメラ６とレーザ変位計７の間のオ
フセット値を求めるために、この実施例では、図１に示
すようにステージ２上に平板状の校正用治具８を置く。
図３は、校正用治具８の平面図と側面図である。図示の
ようにこの治具８は、基板３１上に、基準パターンとし
て、ＣＣＤカメラ６の視野範囲内に入るように金属膜等
の光反射体による台形パターン３２を形成したものであ
る。台形パターン３２は、シャープなエッジを持ち、レ
ーザ変位計７の測長範囲にある微小な高さｈを持って形
成されたもので、非平行の二つの辺、即ちＡ１−Ａ２間
の直線線分Ｌ１と、Ｂ１−Ｂ２間の直線線分Ｌ２とを含
む。校正データは、これらの線分Ｌ１，Ｌ２を、二つの
光学式側長器であるＣＣＤカメラ６とレーザ変位計７と
により測定して、次のようにして求める。
【００２９】ＣＣＤカメラ６で治具８を撮像して、よく
知られたエッジ検出を利用して画像処理すれば、二つの
線分Ｌ１，Ｌ２を求めることができる。またレーザ変位
計７により、Ｙ軸上の異なる２点でＸ方向走査を行っ
て、同様にエッジ検出と簡単な計算により二つの線分Ｌ
１，Ｌ２を求めることができる。いま、ＣＣＤカメラ６
とレーザ変位計７の受光面座標を、図４に示すようにそ
れぞれ、（Ｘ１，Ｙ１），（Ｘ２，Ｙ２）として、これ
らの中心座標のズレ、即ちオフセット値を（ｘ０，ｙ
０）とすると、線分Ｌ１についてＣＣＤカメラ６により
求められる式と、レーザ変位計７により求められる式
は、下記数８の関係になる。
【００３０】
【数８】ｙ＝ａ11ｘ＋ｂ11 ｙ−ｙ０＝ａ12（ｘ−ｘ０）＋ｂ12
【００３１】同様に、線分Ｌ２についてそれぞれＣＣＤ
カメラ６とレーザ変位計７により求められる式は、下記
数９の関係になる。
【００３２】
【数９】ｙ＝ａ21ｘ＋ｂ21 ｙ−ｙ０＝ａ22（ｘ−ｘ０）＋ｂ22
【００３３】なお、ＣＣＤカメラ６とレーザ変位計７に
よる測定は、上述のようにその一方で測定を行った後、
Ｘ，Ｙ軸方向に測定系を移動させて他方の測定を行うこ
とになるが、この場合２回の測定の間の測定系のＸ，Ｙ
水平面内の移動量を考慮にいれて、上の数８及び数９の
相対位置関係を求めることができる。
【００３４】線分Ｌ１，Ｌ２の傾きは、二つの測定系の
座標中心のオフセットに拘らず、ＣＣＤカメラ６とレー
ザ変位計７とで等しく求められるから、数８及び数９に
おいて、ａ11＝ａ12（＝ａ1），ａ21＝ａ22（＝ａ2）で
ある。これらを数８及び数９に代入して、ｘ，ｙを消去
する演算を行うと、二つの中心座標のオフセット値（ｘ
０，ｙ０）は、下記数１０のように求められる。
【００３５】
【数１０】
【００３６】以上の演算は、図２の演算処理回路２５で
簡単に行うことができる。求められるオフセット値（ｘ
０，ｙ０）は、治具の投影面即ち水平面内での測定デー
タのみによるものであるため、ａ1，ａ2，ｂ11，ｂ12，
ｂ21，ｂ22は正確に求められ、マスターボールを用いた
場合と異なり、Ｚ軸座標の測定誤差の影響を受けること
がない。求められたオフセット値は、二つの測定器の相
対位置を示す位置校正データとして、例えば図２に示す
メモリ２６に保持される。以上のように求められた位置
校正データを用いることにより、具体的な被測定物の二
次元形状の測定をＣＣＤカメラ６により行い、同測定物
の各部の高さ測定をレーザ変位計７により行って、両者
の測定データの位置相関を正確にとりながら、被測定物
の三次元形状測定を行うことができる。
【００３７】この発明は、上記実施例に限られない。実
施例では、図３に示すように台形パターン３２が形成さ
れた校正用治具８を用いたが、非平行の２本の直線線分
を有する他の校正用治具として、図５（ａ）に示すよう
に三角形パターン３３を用いてもよい。この場合も、三
角形パターン３３は、平坦で且つエッジがシャープであ
り、微小な高さを持つものとする。この場合、上記実施
例と同様の処理によりオフセット値を求めることができ
る。
【００３８】更に、図５（ｂ）に示すように、基準パタ
ーンとして円形パターン３４を形成した治具を用いるこ
ともできる。この場合も、円形パターン３４は平坦で且
つエッジがシャープであり、微小な高さを持つものと
し、また径が正確に設定されているものとする。この円
形パターン３４の場合、ＣＣＤカメラ６の撮像データの
簡単な処理により円形パターン３４の中心とＣＣＤカメ
ラ６の中心の位置関係を求めることができ、レーザ変位
計７でも任意のＹ軸座標でＸ軸走査を行って２つのエッ
ジを検出し、そのデータ処理により円形パターン３４の
中心とレーザ変位計７の中心の位置関係を求めることが
できる。そして、これらのデータからＣＣＤカメラ６と
レーザ変位計７のオフセット値を求めることができる。
【００３９】また実施例では、二つの光学式測長器とし
て、ＣＣＤカメラとレーザ変位計を用いた例を示した
が、他の測長器の組み合わせにも同様にこの発明を適用
することができる。例えば、被測定物の赤外線画像と紫
外線画像を得る二つの画像ヘッドを併設して、被測定物
の内部構造を含めて形状測定を行うシステムや、或いは
同種の測長器ではあるが倍率の異なるものを併設して広
範囲の測定を高精度で行うシステム等にも、この発明の
位置校正法は有用である。更に、３個以上の光学式測長
器を併設するシステムにもこの発明を適用することがで
きる。
【００４０】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、併
設する二つの光学式測長器の位置校正用の治具として、
基板上に所定の平面基準パターンが形成されたものを用
い、この治具の基準パターン座標値をそれぞれの光学測
長器で求め、それらの結果を処理することによって、二
つの光学式測長器の水平面内オフセット値を求めて、こ
れを両者の相関を示す位置校正データとすることによ
り、マスターボールを用いた場合のように精度の悪い垂
直軸方向の測定が平面上の座標値に影響を与えるという
ことはなく、二つの光学式測長器の水平面内位置校正を
高精度に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の一実施例による光学式測定装置の
概略構成を示す。
【図２】 同実施例の信号処理系の構成を示す。
【図３】 同実施例の位置校正用治具の平面図と側面図
を示す。
【図４】 同実施例の位置校正用オフセット値の算出法
を説明するための図である。
【図５】 他の実施例の校正用治具の平面図を示す。
【図６】 マスターボールによる位置校正誤差を説明す
るための図である。
【符号の説明】
１…基台、２…ステージ、３…Ｘ軸ガイド、４…スライ
ド部材、５…Ｚ軸柱、６…ＣＣＤカメラ、７…レーザ変
位計、８…校正用治具、９…支持部材、３１…基板、３
２…台形パターン、２１，２２…信号処理回路、２３…
選択回路、２４…コントローラ、２５…演算処理回路、
２６…メモリ、２７…ディスプレイ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−239212（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 11/00 - 11/30

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ワークを撮像し画像処理により形状測定
    を行う第１の光学式測長器とワークの高さ方向の変位を
    検出して形状測定を行う第２の光学式測長器とを併設
    し、これらの光学式測長器をワークを載置するステージ
    上で同時に三次元駆動できるように保持して構成される
    光学式測定装置における前記光学式測長器の位置校正方
    法において、 基板上に平行でない２本の直線線分を含み、且つ微小高
    さのシャープなエッジを持つ基準パターンであって、各
    光学式測長器で水平面内での位置測定が可能な基準パタ
    ーンが形成された校正用治具を用意して前記ステージに
    載置し、 前記第１の光学式測長器により前記エッジの画像から前
    記校正用治具の基準パターンの座標を測定し、前記第２の光学式測長器により前記エッジにおける高さ
    方向の変位から前記校正用治具の基準パターンの座標を
    測定し、 各光学式測長器により求められた基準パターンの座標値
    を演算処理して、各光学式測長器による測定データの位
    置校正を行うことを特徴とする光学式測定装置の位置校
    正方法。
  2. 【請求項２】 前記第１の光学式測長器は、ＣＣＤカメ
    ラを用いた画像測定器であり、前記第２の光学式測長器
    は、レーザ変位計であることを特徴とする請求項１記載
    の光学式測定装置の位置校正方法。
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