JP3584058B2 - ウェーハノッチ部の鏡面研摩方法およびその装置 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は半導体ウェーハのノッチ部を鏡面研摩する方法およびその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
シリコン等の半導体ウェーハでは半導体チップの加工上その結晶軸の方向を明確にしておく必要がある。
この結晶軸の方向を示すため、円形のウェーハの一部を結晶軸の方向に切り欠くオリエンテーションフラット(いわゆるオリフラ)を形成するか、単にウェーハの周縁を小さなV字状に切り欠くノッチ部を設けるかしている。
近年では、ウェーハが大径化し、直径8インチのウェーハが出現している。このような大径のウェーハでは、オリフラを設けたのでは廃棄される無駄な部分が多くなることから、前記ノッチ部を設ける傾向にある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
シリコンウェーハは、高精度の表面加工が必要であり、特にポリッシング加工等では微細なゴミの発生でも加工品質に大きく影響してくるため、装置自体が無塵室等の設備の中に設置されていたり、様々な防塵対策が施されている。
ウェーハ表面はポリッシング前にラップ加工を行っているが、ウェーハ外周部が研削された状態のままではゴミ等が付着しやすく、この状態で加工すると、付着しているゴミが落ちてしまったり、ウェーハの粗面が欠けてしまったりして、加工品質を落としてしまう。
そのためウェーハの外周部を鏡面研摩することが要求されている。
オリフラ部の鏡面研摩については、特開平5−102111号に示されている技術が知られている。
ノッチ部を設けた場合にあっては、ノッチ部は前記のごとく小さいことから発塵の影響もそれ程なく、研摩することなく使用していた。また小さいノッチ部を研摩することが困難であった事情にもよる。
しかしながら、半導体チップは益々高集積化していることから、小さな発塵であっても与える影響が大きくなり、ノッチ部も鏡面研摩することが要求されるようになった。
【0004】
本発明は上記要望に応えるべくなされたものであり、その目的とするところは、ノッチ部を効果的に鏡面研摩できる方法および装置を提供するにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するため次の構成を備える。
すなわち、内周面に突周部が周設された筒状バフを用い、周縁にノッチ部が形成された半導体ウェーハをノッチ部を前記突周部に向けてバフ内周面にほぼ直角に当てがい、ノッチ部内に前記突周部を進入、かつ当接させ、前記バフを軸線を中心として回転させてノッチ部内端面を鏡面に研摩することを特徴としている。ウェーハをバフの内周面の円弧に沿って平行移動させるか、あるいはウェーハを、ノッチ部を突周部に当接させたままノッチ部を中心にバフの回転面と平行な面内で回動させるようにすると好適である。
本発明装置では、内周面に突周部が周設され、軸線を中心に回転可能に設けられた筒状のバフと、該バフを軸線を中心として回転させる駆動部と、周縁にノッチ部が形成された半導体ウェーハを保持する保持部と、前記バフと前記保持部とを相対的に接離させ、ウェーハのノッチ部を前記突周部に向けてバフ内周面にほぼ直角に当てがい、ノッチ部内に前記突周部を進入、かつ当接させる移動装置とを具備することを特徴としている。
前記移動装置は、先端側に前記保持部が配設され、支持部に回動軸を中心に前記保持部がバフ内周面に向けて接離するよう回動自在に支持された回動アームと、該回動アームを回動させて前記保持部に保持されているウェーハを所定の押圧力でバフ内周面に押接するシリンダ装置とで構成すると好適である。
さらに、前記支持部を移動させて前記回動アームの先端側に配設された保持部に保持されているウェーハをバフの内周面の円弧に沿って平行移動させる平行動装置を設けると好適である。
あるいは、前記支持部を回動させて前記回動アームの先端側に配設された保持部に保持されているウェーハをノッチ部を突周部に当接させたままノッチ部を中心にバフの回転面と平行な面内で回動させる回動装置を設けると好適である。
また、前記保持部は保持するウェーハをほぼノッチ部の幅の範囲内で軸線を中心に回動させる回動機構を設けると好適である。
あるいは、前記バフをほぼウェーハのノッチ部の幅分軸線方向に移動可能に設けると好適である。
また、前記移動装置の他に、前記バフ内周面に対してほぼ直角方向に、前記バフと前記保持部とを相対的に接離させ、ウェーハのノッチ部内に前記突周部を近接または進入させる接離動装置を設けることで、磨耗等による突周部の内径の変化にも好適に対応できる。
【0006】
【作用】
本発明方法および装置によれば、バフに筒状のものを用い、その内周面に周設した突周部をノッチ部内に進入させてノッチ部の研摩をするようにしたので、突周部の接触長が長くなり、効率よくノッチ部内端面を鏡面研摩できる。
またウェーハを平行移動させたり、ノッチ部を中心に回動させることで、ノッチ部内端面の面取部に突周部を効果的に当接させることができ、面取部をも効率よく鏡面研摩でき、全体の鏡面研摩が確実になされる。
さらにノッチ部の幅に応じてウェーハを微小角度回動させることにより、幅の広いノッチ部であっても内端面全面を鏡面研摩できる。
【0007】
【実施例】
以下、本発明の好適な実施例を添付図面に基づいて詳細に説明する。
本発明方法は本発明装置と軌を一にするので、装置発明の実施例と共に方法発明の実施例を説明する。
〔第1の実施例〕
図1、図2は第1の実施例を示す、正面図、側面図である。
10は円筒状をなすバフであり、例えば、シリカ等の砥粒が混入された硬質発泡ウレタンにて形成されている。なお、研摩材を供給しつつ研摩する場合は、砥粒が混入されていない通常のバフを使用しても効果的に研摩できる。
バフ10は回転板12に固定されて軸線を中心に回転可能に設けられている。13は回転軸、14は軸受け、15はカップリング、16は駆動モータ(駆動部)である。
また軸受け14、駆動モータ16は図2に示されるように機台18に適宜機構により上下動自在に支持された可動ブロック19に取り付けられている。従って、可動ブロック19が上下動することにより、バフ10も所定のストロークで軸線方向に上下動されるようになっている。なお、可動ブロック19を図1上で左右方向にも移動自在に設けることで、バフ10の磨耗等による筒状バフの内径の変化に対して好適に対応できる。
バフ10の内周面には、断面がほぼ3角形をなす突周部20が設けられている。
【0008】
22は保持部であり、回動アーム24の先端側に取り付けられている。
保持部22はウェーハ25を吸引してウェーハ25の周縁部が露出するよう保持する。26はウェーハ25の周縁に形成されたノッチ部である。
ノッチ部26は、図3に示すように両縁部に面取部26aが形成され、両面取部26a間は中央平坦部26bになっている。
27は正逆モータであり、回動アーム24上に配設され、保持部22をウェーハ25を吸引したまま正逆回転させるようになっている。
図4は保持部22とその回転機構の具体例の一例を示す。
すなわち正逆モータ27の出力軸28にベルト29を介して回転軸30が連結され、回転軸30先端に吸着板31が固定されている。吸着板31面にはリング状のシール32が取付られている。また吸着板31の中央には吸引孔33が開口され、この吸引孔33は、連通孔34、継手35、ホース36を介して吸引装置(図示せず)に接続されている。
したがって、吸着板31にてウェーハ25を吸着保持することができ、またウェーハ25を吸着保持したまま正逆モータ27により吸着板31を正逆回転、したがってウェーハ25を微小角度範囲内(ほぼノッチ部26の幅、図1の矢Z方向)で正逆回転させることができる。
正逆モータ27、回転軸30等により回動装置の一例を構成する。
【0009】
前記回動アーム24は支持台(支持部)40にその中途部にて、図1上左右方向に回動自在に設けられている。
41はその回動軸で、支持台40の軸受け42に回転自在に軸承されている。43は押圧手段の一例であるシリンダ装置であり、支持台40に配設され、そのロッド端が回動アーム24の上端側に連結され、回動アーム24に配設されている保持部22を図1上左右方向に回動させてウェーハ25をバフ10の内周面に接離させ、左方に回動した際に、保持部22に保持されているウェーハ25を所定の押圧力でバフ10の内周面に押接可能になっている。押圧手段としてはシリンダ装置の他にスプリングあるいは錘等を採用できる。
回動アーム24、シリンダ装置43等により移動装置の一例を構成する。
支持台40は機台18に立設された4本のガイドポール44にガイドされて、図1上紙面に垂直な方向、図2上では左右方向に移動可能になされている。45はその移動用のモータであり、支持台に螺合されているネジ桿46をベルト47を介して回転させることにより支持台40を移動させる。
支持台40、ガイドポール44、モータ45、ネジ桿46等により平行動装置の一例を構成する。
また、図示しないが、研摩材(スラリー等が混入された液状研摩材)をバフ10の突周部20付近に供給する公知の研摩材供給部が設けられている。この研摩材供給部からは、単なる水も供給できるのは勿論である。本実施例のような砥粒が混入されたバフによってウェーハが研摩されるときには、水を供給することで、バフとウェーハとの摩擦による発熱を冷却できる。
【0010】
本実施例は上記のように構成されている。
図5は動作原理図を示す。
本実施例では、まず保持部22により前記のごとくウェーハ25をノッチ部26が所定の方向を向くように位置決めして保持させる。
次いで図示しないモータ等により可動ブロック19を上昇させてバフ10内の所定位置に保持部22およびウェーハ25を位置させる。
ここでシリンダ装置43を駆動して可動アーム24を回動させ、ウェーハ25をバフ10の内周面にほぼ直角に所定の押圧力で押接せしめる。このときバフ10内周面の突周部20がノッチ部26内に進入し、ノッチ部26内端面に当接するように各部の位置設定がなされている。
次にバフ10を軸線を中心として回転させ、また研摩材供給機構から研摩材を連続または間欠的に供給してノッチ部26の内端面を鏡面に研摩できる。
本実施例ではバフ10の内周面に設けた突周部20によりノッチ部26を研摩するようにしているので、ノッチ部26内端面への突周部20の接触長が長くなり、それだけ効率よく研摩が行える。
また、バフ10の材料に硬質の発泡ウレタン等の所定の押圧力により弾性的に撓む材料を用いることにより、ノッチ部26内端面の稜線を面取加工してある場合にも、該面取部26aにまで突周部20を当接させることができ、ノッチ部26内端面の全面を鏡面研摩できる。
ノッチ部26の内端面全面をさらに均一に研摩するには、移動用のモータ45を駆動し、支持台40を所定距離往復移動させるようにする。これによりウェーハ25は図5上B位置からその左右のA位置およびC位置間に亙って平行移動する。
A、C位置ではウェーハ25に突周部20が斜めに当接し、したがってノッチ部26の面取部26aに突周部20が効果的に当接し、面取部26aを効率よく研摩できる。
この場合にバフ10の回転方向は適宜に選択できるが、好適には、ウェーハ25がA位置にいるとき、バフ10を図5のX方向に、ウェーハ25がC位置にいるときに図5のY方向に回転方向を変更すると好適である。このようにバフ10の回転方向を設定することにより、バフ10の突周部20からウェーハ25に加わる力が力の逃げる方向に作用し、ウェーハ25に無理な力が加わらず、ウェーハ25の損傷を防止できる。
またノッチ部26の幅が広いときには、正逆モータ27を駆動し、保持部22の吸着板31を矢Z方向に微小角度範囲で回転させることにより、ノッチ部26の幅が広くともノッチ部26内端面全面を研摩できる。
あるいは、バフ10をノッチ部26の幅程度で微小上下動させるようにしてもよい。
【0011】
〔第2の実施例〕
図6、図7は第2の実施例を示す、正面図と側面図である。第1の実施例と同一の部材は同一符号を付し、説明を省略する。
本実施例では、支持台40を軸受け51に軸承された回動軸50を中心に回動させるようにしている。この場合の回動軸50の回動中心は、保持部22に保持されたウェーハ25のノッチ部26を通るようにする。これによりウェーハ25はノッチ部26を中心にバフ10の回転面と平行な面内で回動される。
52はカップリング、53は支持台40を回動させるモータである。軸受け51およびモータ53は機台18に支持され、これにより支持台40、回動アーム24等の部材が機台18に支持されることになる。
支持台40、回動軸50等により回動装置の一例を構成する。
【0012】
図8は第2の実施例の動作原理図を示す。
本実施例ではノッチ部26内端面の面取部26aまで均一に鏡面研摩するときは、モータ53を駆動して支持台40を往復回動させる。これにより図8に示されるようにウェーハ25はノッチ部26を中心に、バフ10の回転面と平行な面内で、図8のA位置、B位置、C位置間に亙って回動される。
これにより、A、C位置ではウェーハ25に突周部20が斜めに当接し、したがってノッチ部26の面取部26aに突周部20が効果的に当接し、面取部26aを効率よく研摩できる。
この場合にバフ10の回転方向は適宜に選択できるが、好適には実施例1と同様に、ウェーハ25がA位置にいるとき、バフ10を図5のX方向に、ウェーハ25がC位置にいるときに図5のY方向に回転方向を変更すると好適である。このようにバフ10の回転方向を設定することにより、バフ10の突周部20からウェーハ25に加わる力が力の逃げる方向に作用し、ウェーハ25の損傷を防止できる。
また同じくノッチ部26の幅が広いときには、正逆モータ27を駆動し、保持部22の吸着板31を微小角度範囲で回転させ、これによりウェーハ25を図1の矢Z方向に回動させることにより、ノッチ部26の幅が広くともノッチ部26内端面全面を研摩できる。
【0013】
次に図7に基づいて、バフ10の移動装置である上下動装置および水平動装置について説明する。
54は水平動ブロックであり、表面には軸受け14および駆動モータ16が固定され、裏面には水平移動体55が固定されており、水平方向に配設されたリニアガイド56によって図7の紙面に対して直交する方向(水平方向)に往復動自在に案内されている。すなわち、水平移動体55が水平方向に配設されたリニアガイド56に摺動自在に嵌まっており、この水平移動体55を介して水平動ブロック54がリニアガイド56に沿って水平方向に往復動できる。
また、58は上下動ブロックであり、表面にリニアガイド56が固定され、裏面に上下移動体59が固定されており、上下方向に配設されたリニアガイド60によって上下方向に往復動自在に案内されている。
水平動ブロック54および上下動ブロック58の駆動装置は、いずれもボールネジ62と駆動モータ64を構成要素とするものである。上下動ブロック58の駆動装置を例にとると、図7に示すように、機台18にリニアガイド60に沿ってボールネジ62が回動可能に配設され、このボールネジ62に螺合する螺合部66が上下動ブロック58に固定されている。68はカップリングであり、駆動モータ64の出力軸とボールネジ62とを連結している。
【0014】
このようにして、水平動ブロック54を水平方向に移動自在に案内する構成と駆動装置によって水平動装置が構成されており、上下動ブロック58を上下方向に移動自在に案内する構成と駆動装置によって上下動装置が構成されている。
そして、水平動装置は、バフ内周面に対してほぼ直角方向に、バフ10を保持部22に対して接離させ、ウェーハのノッチ部26内に突周部20を近接または進入させる接離動装置として作動する。このため、水平動装置によれば、突周部20が磨耗してその内径が大きくなった場合などにおいて、ノッチ部26に突周部20を好適に近接できる。すなわち、水平動装置によれば、可動アーム24を回動させてノッチ部26を突周部20に押圧させる直前の好適な状態に、ウェーハ10を移動させることができる。なお、突周部20の内径は、磨耗した突周部20を再生するために、バイトで切削加工してその形状を整える際にも変化する。このような突周部20の内径の変化にも、水平動装置によって対応できるのである。
以上に説明したバフ10の移動装置である上下動装置および水平動装置は、図1の実施例にも適応できる。また、移動装置はバフ10と保持部22とを相対的に接離できればよいのであるから、上記実施例のようなバフ10側を移動させるものに限定されることはなく、上記実施例とは反対に保持部22側を移動させる移動装置としてもよい。
【0015】
以上本発明の好適な実施例を説明したが上記実施例に限定されないことはもちろんであり、例えばバフ10、回動アーム24の上下の配置関係は上記に限られない。
また突周部はあらかじめバフ内周面に複数条設けておいて、1つの突周部が磨耗した別の突周部を利用して研摩するようにすると好適である。
また、図面上の筒状のバフ10は、筒体の全体が硬質発砲ウレタン等のバフ材料で一体に形成されているが、バフ10の形状はこれに限られることなく、少なくとも突周部20の形成される部分を中心にバフ材料で筒状に形成されていればよい。
【0016】
【発明の効果】
本発明方法および装置によれば、バフに筒状のものを用い、その内周面に周設した突周部をノッチ部内に進入させてノッチ部の研摩をするようにしたので、突周部の接触長が長くなり、効率よくノッチ部内端面を鏡面研摩できる。
またウェーハを平行移動させたり、ノッチ部を中心に回動させることで、ノッチ部内端面の面取部に突周部を効果的に当接させることができ、面取部をも効率よく鏡面研摩でき、全体の鏡面研摩が確実になされる。
さらにノッチ部の幅に応じてウェーハを微小角度回動させることにより、幅の広いノッチ部であっても内端面全面を鏡面研摩できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施例を示した正面図である。
【図2】第1の実施例の側面図である。
【図3】ノッチ部の断面説明図である。
【図4】ウェーハの保持部の実施例を示す断面説明図である。
【図5】第1の実施例の動作原理を示す説明図である。
【図6】第2の実施例を示す正面図である。
【図7】第2の実施例の側面図である。
【図8】第2の実施例の動作原理を示す説明図である。
【符号の説明】
10 バフ
16 駆動モータ(駆動部)
20 突周部
22 保持部
24 回動アーム
25 ウェーハ
26 ノッチ部
27 正逆モータ
40 支持台
41 回動軸
43 シリンダ装置
45 モータ
50 回動軸
Claims (10)
- 内周面に突周部が周設された筒状バフを用い、周縁にノッチ部が形成された半導体ウェーハをノッチ部を前記突周部に向けてバフ内周面にほぼ直角に当てがい、ノッチ部内に前記突周部を進入、かつ当接させ、前記バフを軸線を中心として回転させてノッチ部内端面を鏡面に研摩することを特徴とするウェーハノッチ部の鏡面研摩方法。
- ウェーハをバフの内周面の円弧に沿って平行移動させることを特徴とする請求項1記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩方法。
- ウェーハを、ノッチ部を突周部に当接させたままノッチ部を中心にバフの回転面と平行な面内で回動させることを特徴とする請求項1記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩方法。
- 内周面に突周部が周設され、軸線を中心に回転可能に設けられた筒状のバフと、
該バフを軸線を中心として回転させる駆動部と、
周縁にノッチ部が形成された半導体ウェーハを保持する保持部と、
前記バフと前記保持部とを相対的に接離させ、ウェーハのノッチ部を前記突周部に向けてバフ内周面にほぼ直角に当てがい、ノッチ部内に前記突周部を進入、かつ当接させる移動装置とを具備することを特徴とするウェーハノッチ部の鏡面研摩装置。 - 前記移動装置は、先端側に前記保持部が配設され、支持部に回動軸を中心に前記保持部がバフ内周面に向けて接離するよう回動自在に支持された回動アームと、該回動アームを回動させて前記保持部に保持されているウェーハを所定の押圧力でバフ内周面に押接する押圧手段とを具備することを特徴とする請求項4記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩装置。
- 前記支持部を移動させて前記回動アームの先端側に配設された保持部に保持されているウェーハをバフの内周面の円弧に沿って平行移動させる平行動装置を具備することを特徴とする請求項5記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩装置。
- 前記支持部を回動させて前記回動アームの先端側に配設された保持部に保持されているウェーハをノッチ部を突周部に当接させたままノッチ部を中心にバフの回転面と平行な面内で回動させる回動装置を具備することを特徴とする請求項5記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩装置。
- 前記保持部は、保持するウェーハをほぼノッチ部の幅の範囲内で軸線を中心に回動させる回動機構を具備することを特徴とする請求項4、5、6または7記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩装置。
- 前記バフをほぼウェーハのノッチ部の幅分軸線方向に移動可能に設けたことを特徴とする請求項4、5、6または7記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩装置。
- 前記移動装置の他に、前記バフ内周面に対してほぼ直角方向に、前記バフと前記保持部とを相対的に接離させ、ウェーハのノッチ部内に前記突周部を近接または進入させる接離動装置を具備することを特徴とする請求項5、6、7、8または9記載のウェーハノッチ部の鏡面研摩装置。
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