JP3491660B2 - 新規な直鎖アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物 - Google Patents
新規な直鎖アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物Info
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Description
ィド型エピスルフィド化合物は、プラスチックレンズ、
プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等
の光学材料、中でも、眼鏡用プラスチックレンズの原料
として好適に使用される。
み、また染色が容易であることから、各種光学材料、特
に眼鏡レンズに近年多用されている。光学材料、特に、
眼鏡レンズに要求される性能は、低比重に加えるに光学
性能としては高屈折率と高アッベ数であり、物理的性能
としては、高耐熱性、高強度である。高屈折率はレンズ
の薄肉化を可能とし、高アッベ数はレンズの色収差を低
減し、高耐熱性、高強度は二次加工を容易にするととも
に、安全性等の観点から重要である。従来技術における
初期の代表的なプラスチック材料は、ジエチレングリコ
−ルビスアリルカ−ボ−ネ−ト、該ビスアリルカ−ボネ
−トとジアリルフタレ−ト、各種メタクリレ−ト類等の
化合物を重合して得られるものであった。これらは、屈
折率が1.5から1.55程度でありこのためレンズの
肉厚が厚くなり、結果として軽量性が失われていた。こ
のため、高屈折率を有する材料が望まれ、屈折率を1.
6あるいはこれ以上とする種々の努力がこれまでになさ
れてきた。既にクロル、ブロム原子を含むメタクリレー
ト化合物の重合体、ブロム原子を含むヒドロキシ化合物
とイソシアネート化合物との反応により得られるウレタ
ン構造を有する熱硬化型光学材料(特開昭58−164
615号公報等)が提案されている。しかしながら、ク
ロル、ブロム原子を含む化合物を用いた場合は比重が大
となり、この場合も軽量性が損なわれる結果となった。
このため、ポリチオール化合物とポリイソシアネート化
合物との反応により得られるチオウレタン構造を有する
熱硬化型光学材料が特公平4−58489号、特開平5
−148340号に提案されている。またこれらのチオ
ウレタンの原料となる新規なポリチオール化合物も種々
提案されている。すなわち、特開平5−148340号
には一分子中に硫黄原子を4個有する分岐型ポリチオー
ル化合物が、特開平2−270859号公報には一分子
中に硫黄原子を5個有する分岐型ポリチオール化合物
が、特開平6−192250号公報には分子中にジチア
ン環構造有するポリチオール化合物が提案されている。
これらチオウレタン構造を有する光学材料により屈折率
アッベ数の改良はある程度なされたがいまだ不十分であ
った。さらには、エポキシ樹脂またはエピスルフィド樹
脂を2官能以上の化合物と重合しレンズを得る技術も、
特開平1−98615号公報、特開平3−81320号
公報、国際公開wo89/10575に提案されてい
る。これら従来技術のエポキシ、エピスルフィド化合物
を硬化重合して得られる光学材料の屈折率は十分ではな
くまたアッベ数も低く、屈折率とアッベ数のバランスも
不満足なものであった。いずれにしても、これら従来技
術の含硫黄化合物等により、より薄い肉厚、軽量化の問
題はある程度解決されたが、さらに高い屈折率が望まし
いことは言うまでもない。一方、光学材料に要求される
もう一つの重要な性能として色収差が少ないことが挙げ
られる。色収差はアッベ数が高い程良好となるため高ア
ッベ数材料が望まれる。すなわち、高屈折率と高アッベ
数の同時実現も望まれている。しかしながら、一般に、
アッベ数は屈折率の上昇に伴い低下する傾向を示し、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネートおよび、ポ
リチオ−ル化合物とポリイソシアネ−ト化合物、エポキ
シ、エピスルフィド化合物等に代表される従来技術の化
合物を原料とするプラスチック材料では、屈折率1.5
から1.55の場合アッベ数は約50から55が、屈折
率1.60の場合40、屈折率1.66の場合30程度
が限界であり、屈折率1.7を無理に実現しようとした
場合、アッベ数は30程度以下となり実用に耐えるもの
ではなかった。さらに、従来技術、特にチオウレタン材
料等の場合、高屈折率発現のためには原料硫黄化合物の
分子量が大となり、このため架橋密度が低下し、高アッ
ベ数発現のためにはアルキル基含有量が増加し、このた
め原料化合物を構成する分子の剛直性が低下し、結果と
して耐熱性低下等の支障をきたしている。
する課題は、薄い肉厚および低い色収差を有する光学材
料を可能とする新規な含硫黄化合物を見いだすことにあ
る。従来技術により得られるエピスルフィド化合物、ポ
リチオール化合物とイソシアネート化合物による光学材
料では、高屈折率化には限界があり、さらに、高屈折率
化はアッベ数の低下をもたらすため、十分に高い屈折率
とアッベ数のバランスが得られないことの二点にあっ
た。
式で表される新規な直鎖アルキルスルフィド型エピスル
フイド化合物により解決された。
整数を表す。XはSまたはOを表し、このSの個数は三
員環を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上
である。) (1)式において、nは0から4の整数を表すが、好ま
しくは、0から3であり、より好ましくは、0から2で
ある。mは1から6の整数を表すが、好ましくは2から
4、より好ましくは2から3、最も好ましくは2であ
る。XはSまたはOを表すが、このSの個数は三員環を
構成するSとOの合計に対して平均でが50%以上であ
り、好ましくは80〜100%、より好ましくは90〜
100%、、特に好ましくは95〜100%である。最
も好ましくは100%である。nが4を超える場合、重
合硬化して得られる光学材料の耐熱性が低下し光学材料
として使用に耐えなくなるからであり。また、nが4以
下の場合であっても耐熱性的には小さいほうが有利であ
り、また小さすぎる場合材料の柔軟性が損なわれ脆くな
るからである。mは4から6の場合、硫黄含有量が低下
し高屈折率が達成されず、さらに材料の耐熱性が低下す
る。mが1の場合、化合物が熱的に幾分不安定となり本
化合物の製造に際して、条件設定等十分な注意を要す
る。X中のSの個数は三員環を構成するSとOの合計に
対して平均で80%以下、特に50%未満の場合、硫黄
含有量が低下し高屈折率が達成されず、化合物の反応性
低下に伴い高温条件下での重合が必要となるため、材料
に着色が生じる。本発明の化合物およびこれを重合硬化
して得られる光学材料の性能は以上のように整数nとm
およびX中のSの割合により決定される、しかしなが
ら、好ましい具体例等は、整数nとmを独立に上述の範
囲にあてはめ決定されない。好ましい例としては、n=
0およびn=1〜4の範囲でありかつm=1〜4の範囲
である化合物が挙げられる。これらのなかでより好まし
い例としては、n=0およびn=1〜4の範囲で、かつ
m=2〜4の範囲の化合物が挙げられる。これらのなか
でさらに好ましい例としては、n=0およびn=1〜3
の範囲で、かつm=2〜4の範囲の化合物が挙げられ
る。これらの中で特に好ましい例(n=0、n=1かつ
m=2〜4およびn=2かつm=2)を以下に実際に示
す。
型エピスルフィド化合物は、式(3)で表される直鎖ア
ルキルスルフィド構造を有するジメルカプト化合物、 HS〔(CH2 )mS〕nH (3) (ここで、mは1から6の整数を表し、nは1から4の
整数を表す。)硫化水素(H2 S)さらには水硫化ソ−
ダ(NaSH)または硫化ソ−ダ(Na 2 S)とエピク
ロロヒドリンに代表されるエピハロヒドリンをアルカリ
存在下で反応させて、式(4)で表される直鎖アルキル
スルフィド型エポキシ化合物を得
尿素、トリフェニルホスフィンスルフィド、3−メチル
ベンゾチアゾール−2−チオン等のチア化剤と、好まし
くはチオシアン酸塩、チオ尿素と反応させ製造される。
式(4)で表されるエポキシ化合物の製法において、エ
ピハロヒドリン化合物として好ましいものは、エピクロ
ロヒドリンである。また、エピハロヒドリン化合物は量
論的には式(3)のジメルカプト化合物、硫化水素、水
硫化ソ−ダまたは硫化ソ−ダの2倍モルを使用するが、
生成物の純度、反応速度、経済性等を重視するのであれ
ば、これ以下でもこれ以上の量を使用してもかまわな
い。好ましくは2〜30倍モル使用し反応する。反応
は、無溶媒あるいは溶媒中のいずれでもかまわないが、
溶媒を使用するときは、エピハロヒドリン、式(3)の
ジメルカプト化合物、ジメルカプト化合物の金属塩、硫
化水素、水硫化ソ−ダあるいは硫化ソ−ダのいずれかが
可溶のものを使用することが望ましい。具体例として
は、水、アルコール類、エーテル類、芳香族炭化水素
類、ハロゲン化炭化水素類等があげられる。反応は量論
以上の塩基の存在下において容易に進行する。すなわ
ち、式(3)のジメルカプト化合物および硫化水素を使
用する場合はこれらの化合物に対して2倍モルの、水硫
化ソ−ダの場合は等モルの塩基存在下において進行可能
である。硫化ソ−ダの場合は不存在下においても進行す
る。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジア
ザビシクロウンデセン等の三級アミン、アルカリまたは
アルカリ土類金属の水酸化物等があげられるが、好まし
いものは、アルカリまたはアルカリ土類金属の水酸化物
であり、より好ましいものは、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等である。反応温度は通常−10〜100℃
で実施されるが、好ましくは−10〜60℃である。反
応時間は上記の各種条件下で反応が完結する時間であれ
ばかまわないが、通常10時間以下が適当である。式
(4)で表されるエポキシ化合物より式(1)のエピス
ルフィド化合物を製造する方法において、チア化剤とし
てチオシアン酸塩を使用する場合、好ましいチオシアン
酸塩は、アミン、アルカリまたはアルカリ土類金属の塩
であり、より好ましいものは、チオシアン酸カリウム、
チオシアン酸ナトリウムである。また、チオシアン酸塩
は量論的には式(4)のエポキシ化合物の2倍モルを使
用するが、生成物の純度、反応速度、経済性等を重視す
るのであれば、これ以下でもこれ以上の量を使用しても
かまわない。好ましくは、2〜10倍モル使用し反応す
る。より好ましくは2〜5倍モル使用し反応する。反応
は、無溶媒あるいは溶媒中のいずれでもかまわないが、
溶媒を使用するときは、チオシアン酸塩あるいはチオ尿
素さらには式(4)のエポキシ化合物いずれかが可溶の
ものを使用することが望ましい。具体例としては、水、
メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル等のアルコ
ール類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエ−テル類;メチルセルソルブ、エチルセル
ソルブ、ブチルセルソルブ等のヒドロキシエ−テル類;
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハ
ロゲン化炭化水素類等があげられ、これらの併用使用、
例えば、エ−テル類、ヒドロキシエ−テル類、ハロゲン
化炭化水素類、芳香族炭化水素類とアルコ−ル類の組合
せ等は効果的である。また、反応液中に酸および酸無水
物等を重合抑制剤として添加することは、反応成績を上
げる面から有効な手段である。酸および酸無水物の具体
例としては、硝酸、塩酸、硫酸、発煙硫酸、ホウ酸、ヒ
酸、燐酸、青酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、シュウ酸、
酒石酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、マレイン酸、
安息香酸、無水硝酸、無水硫酸、酸化ホウ素、五酸化ヒ
素、五酸化燐、無水クロム酸、無水酢酸、無水プロピオ
ン酸、無水酪酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水
安息香酸、無水フタル酸、シリカゲル、シリカアルミ
ナ、塩化アルミニウム等があげられ、これらのいくつか
を併用することも可能である。添加量は通常反応液総量
に対して、0.001〜10wt%である。反応温度は通
常0〜100℃で実施されるが、好ましくは20〜70
℃である。反応時間は上記の各種条件下で反応が完結す
る時間であればかまわないが、通常20時間以下が適当
である。反応生成物は酸性水溶液を用いた洗浄によっ
て、得られる化合物の安定性を向上せしめることが可能
である。酸性水溶液に用いる酸の具体例としては、硝
酸、塩酸、硫酸、ホウ酸、ヒ酸、燐酸、青酸、酢酸、過
酢酸、チオ酢酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイ
ン酸等があげられる。また、これらは単独でも2種類以
上を混合して用いても良い。これらの酸の水溶液は通常
pH6以下で効果を現すが、より効果的にはpH3以下
である。
キシ化合物を対応する式(5)の不飽和化合物の有機過
酸、アルキルヒドロペルオキサイド、過酸化水素等によ
る酸化により製造し、これを上述の方法により式(1)
のエピスルフィド化合物とする方法もあげられる。 CH2 =CHCH2 S〔(CH2 )mS〕nCH2 CH=CH2 (5) (ここで、mは1から6の整数を表し、nは0から4の
整数を表す。) 式(5)の不飽和化合物は、例えば式(3)のジメルカ
プト化合物と硫化水素、水硫化ソ−ダまたは硫化ソ−ダ
の塩化、臭化アリル等のハロゲン化アリル化合物を塩基
の存在下縮合して製造可能である。さらに、別法として
は式(6)に示されるジハロジメルカプト化合物より、
脱ハロゲン化水素反応により製造することも有力な方法
である。 XCH2 CHSHCH2 S〔(CH2 )mS〕nCH2 CHSHCH2 X(6) (ここで、mは1から6の整数、nは0から4の整数、
Xは塩素あるいは臭素原子を表す。) 式(6)のジハロジメルカプト化合物は、式(5)の不
飽和化合物と塩化イオウ類から、容易に合成できること
が知られている(例えば、F.Lautenschla
ergerら,J.Org.Chem.,34,396
(1969))。
エピスルフィド化合物は、硬化触媒の存在下あるいは不
存在下に、加熱重合し樹脂を製造することができる。好
ましい方法は硬化触媒を使用する方法であり、硬化触媒
はアミン類、ホスフィン類、鉱酸類、ルイス酸類、有機
酸類、ケイ酸類、四フッ化ホウ酸等が使用される。具体
例としては、 (1)エチルアミン、n−プロピルアミン、sec−プ
ロピルアミン、n−ブチルアミン、sec−ブチルアミ
ン、i−ブチルアミン、t−ブチルアミン、ペンチルア
ミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミ
ン、デシルアミン、ラウリルアミン、ミスチリルアミ
ン、1,2−ジメチルヘキシルアミン、3−ペンチルア
ミン、2−エチルヘキシルアミン、アリルアミン、アミ
ノエタノール、1−アミノプロパノール、2−アミノプ
ロパノール、アミノブタノール、アミノペンタノール、
アミノヘキサノール、3−エトキシプロピルアミン、3
−プロポキシプロピルアミン、3−イソプロポキシプロ
ピルアミン、3−ブトキシプロピルアミン、3−イソブ
トキシプロピルアミン、3−(2−エチルヘキシロキ
シ)プロピルアミン、アミノシクロペンタン、アミノシ
クロヘキサン、アミノノルボルネン、アミノメチルシク
ロヘキサン、アミノベンゼン、ベンジルアミン、フェネ
チルアミン、α−フェニルエチルアミン、ナフチルアミ
ン、フルフリルアミン等の1級アミン;エチレンジアミ
ン、1,2−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロ
パン、1,2−ジアミノブタン、1,3−ジアミノブタ
ン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタ
ン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプ
タン、1,8−ジアミノオクタン、ジメチルアミノプロ
ピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ビス−
(3−アミノプロピル)エーテル、1,2−ビス−(3
−アミノプロポキシ)エタン、1,3−ビス−(3−ア
ミノプロポキシ)−2,2’−ジメチルプロパン、アミ
ノエチルエタノールアミン、1,2−、1,3−あるい
は1,4−ビスアミノシクロヘキサン、1,3−あるい
は1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,3−
あるいは1,4−ビスアミノエチルシクロヘキサン、
1,3−あるいは1,4−ビスアミノプロピルシクロヘ
キサン、水添4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2
−あるいは4−アミノピペリジン、2−あるいは4−ア
ミノメチルピペリジン、2−あるいは4−アミノエチル
ピペリジン、N−アミノエチルピペリジン、N−アミノ
プロピルピペリジン、N−アミノエチルモルホリン、N
−アミノプロピルモルホリン、イソホロンジアミン、メ
ンタンジアミン、1,4−ビスアミノプロピルピペラジ
ン、o−、m−、あるいはp−フェニレンジアミン、
2,4−あるいは2,6−トリレンジアミン、2,4−
トルエンジアミン、m−アミノベンジルアミン、4−ク
ロロ−o−フェニレンジアミン、テトラクロロ−p−キ
シリレンジアミン、4−メトキシ−6−メチル−m−フ
ェニレンジアミン、m−、あるいはp−キシリレンジア
ミン、1,5−あるいは、2,6−ナフタレンジアミ
ン、ベンジジン、4,4’−ビス(o−トルイジン)、
ジアニシジン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、
2,2−(4,4’−ジアミノジフェニル)プロパン、
4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−チ
オジアニリン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノジトリルスルホン、メチレンビ
ス(o−クロロアニリン)、3,9−ビス(3−アミノ
プロピル)2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5]ウンデカン、ジエチレントリアミン、イミノ
ビスプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミ
ン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレン
テトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレ
ンヘキサミン、N−アミノエチルピペラジン、N−アミ
ノプロピルピペラジン、1,4−ビス(アミノエチルピ
ペラジン)、1,4−ビス(アミノプロピルピペラジ
ン)、2,6−ジアミノピリジン、ビス(3,4−ジア
ミノフェニル)スルホン等の1級ポリアミン;ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ
−sec−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−n
−ペンチルアミン、ジ−3−ペンチルアミン、ジヘキシ
ルアミン、オクチルアミン、ジ(2−エチルヘキシル)
アミン、メチルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ピロ
リジン、ピペリジン、2−、3−、4−ピコリン、2,
4−、2,6−、3,5−ルペチジン、ジフェニルアミ
ン、N−メチルアニリン、N−エチルアニリン、ジベン
ジルアミン、メチルベンジルアミン、ジナフチルアミ
ン、ピロール、インドリン、インドール、モルホリン等
の2級アミン;N,N’−ジメチルエチレンジアミン、
N,N’−ジメチル−1,2−ジアミノプロパン、N,
N’−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N’
−ジメチル−1,2−ジアミノブタン、N,N’−ジメ
チル−1,3−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル−
1,4−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル−1,5
−ジアミノペンタン、N,N’−ジメチル−1,6−ジ
アミノヘキサン、N,N’−ジメチル−1,7−ジアミ
ノヘプタン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、
N,N’−ジエチル−1,2−ジアミノプロパン、N,
N’−ジエチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N’
−ジエチル−1,2−ジアミノブタン、N,N’−ジエ
チル−1,3−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル−
1,4−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル−1,6
−ジアミノヘキサン、ピペラジン、2−メチルピペラジ
ン、2,5−あるいは2,6−ジメチルピペラジン、ホ
モピペラジン、1,1−ジ−(4−ピペリジル)メタ
ン、1,2−ジ−(4−ピペリジル)エタン、1,3−
ジ−(4−ピペリジル)プロパン、1,4−ジ−(4−
ピペリジル)ブタン、テトラメチルグアニジン等の2級
ポリアミン;トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−n−プロピルアミン、トリ−iso−プロピルアミ
ン、トリ−1,2−ジメチルプロピルアミン、トリ−3
−メトキシプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、
トリ−iso−ブチルアミン、トリ−sec−ブチルア
ミン、トリ−ペンチルアミン、トリ−3−ペンチルアミ
ン、トリ−n−ヘキシルアミン、トリ−n−オクチルア
ミン、トリ−2−エチルヘキシルアミン、トリ−ドデシ
ルアミン、トリ−ラウリルアミン、トリ−シクロヘキシ
ルアミン、N,N−ジメチルヘキシルアミン、N−メチ
ルジヘキシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシル
アミン、N−メチルジシクロヘキシルアミン、トリエタ
ノールアミン、トリベンジルアミン、N,N−ジメチル
ベンジルアミン、ジエチルベンジルアミン、トリフェニ
ルアミン、N,N−ジメチルアミノ−p−クレゾール、
N,N−ジメチルアミノメチルフェノール、2−(N,
N−ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N−ジメ
チルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、ピリジン、
キノリン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジ
ン、2−(2−ジメチルアミノエトキシ)−4−メチル
−1,3,2−ジオキサボルナン等の3級アミン;テト
ラメチルエチレンジアミン、ピラジン、N,N’−ジメ
チルピペラジン、N,N’−ビス((2−ヒドロキシ)
プロピル)ピペラジン、ヘキサメチレンテトラミン、
N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−ブタンア
ミン、2−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロパン、
ジエチルアミノエタノール、N,N,N−トリス(3−
ジメチルアミノプロピル)アミン、2,4,6−トリス
(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール、ヘプタ
メチルイソビグアニド等の3級ポリアミン;イミダゾー
ル、N−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾー
ル、4−メチルイミダゾール、、N−エチルイミダゾー
ル、2−エチルイミダゾール、4−エチルイミダゾー
ル、N−ブチルイミダゾール、2−ブチルイミダゾー
ル、N−ウンデシルイミダゾール、2−ウンデシルイミ
ダゾール、N−フェニルイミダゾール、2−フェニルイ
ミダゾール、N−ベンジルイミダゾール、2−ベンジル
イミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾー
ル、N−(2’−シアノエチル)−2−メチルイミダゾ
ール、N−(2’−シアノエチル)−2−ウンデシルイ
ミダゾール、N−(2’−シアノエチル)−2−フェニ
ルイミダゾール、3,3−ビス−(2−エチル−4−メ
チルイミダゾリル)メタン、アルキルイミダゾールとイ
ソシアヌール酸の付加物、アルキルイミダゾールとホル
ムアルデヒドの縮合物等の各種イミダゾール類;1,8
−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、1,
5−ジアザビシクロ(4,3,0)ノネン−5、6−ジ
ブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7等のアミジン類;以上に代表されるアミ
ン系化合物。 (2)(1)のアミン類とハロゲン、鉱酸、ルイス酸、
有機酸、ケイ酸、四フッ化ホウ酸等との4級アンモニウ
ム塩。 (3)(1)のアミン類とボランおよび三フッ化ホウ素
とのコンプレックス。 (4)トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、
トリ−iso−プロピルホスフィン、トリ−n−ブチル
ホスフィン、トリ−n−シクロヘキシルホスフィン、ト
リ−n−オクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、トリベンジルホスフ
ィン、トリス(2−メチルフェニル)ホスフィン、トリ
ス(3−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メ
チルフェニル)ホスフィン、トリス(ジエチルアミノ)
ホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフ
ェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィ
ン、ジエチルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフ
ェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、ジフ
ェニルシクロヘキシルホスフィン、クロロジフェニルホ
スフィン等のホスフィン類。 (5)塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、炭酸等の鉱酸類および
これらの半エステル類。 (6)3フッ化ホウ素、3フッ化ホウ素のエ−テラ−ト
等に代表されるルイス酸類。 (7)カルボン酸に代表される有機酸類およびこれらの
半エステル類。 (8)ケイ酸、四フッ化ホウ酸 等である。これらの中で硬化物の着色が少なく好ましい
ものは、1級モノアミン、2級モノアミン、3級モノア
ミン、3級ポリアミン、イミダゾ−ル類、アミジン類、
4級アンモニウム塩、ホスフィン類である。より好まし
いものは、エピスルフィド基と反応し得る基を1個以下
有する、2級モノアミン、3級モノアミン、3級ポリア
ミン、イミダゾ−ル類、アミジン類、4級アンモニウム
塩、ホスフィン類である。また、これらは単独でも2種
類以上を混合して用いても良い。以上の硬化触媒は、ジ
エピスルフィド化合物1モルに対して通常0.0001
モルから1.0モル使用するが、好ましくは、0.00
01モルから0.5モル、より好ましくは、0.000
1モルから0.1モル未満、最も好ましくは、0.00
01モルから0.05モル使用する。硬化触媒の量がこ
れより多いと硬化物の屈折率、耐熱性が低下し、また着
色する。これより少ないと十分に硬化せず耐熱性が不十
分となる。
ィド型エピスルフィド化合物はエピスルフィド基と反応
可能な官能基を2個以上有する化合物あるいは、これら
の官能基1個以上と他の単独重合可能な官能基を1個以
上有する化合物さらには、エピスルフィド基と反応可能
でかつ単独重合も可能な官能基を1個有する化合物と硬
化重合して光学材料を製造することもできる。これらの
エピスルフィド基と反応可能な官能基を2個以上有する
化合物としては、エポキシ化合物、公知のエピスルフィ
ド化合物、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物、メ
ルカプトカルボン酸、ポリメルカプタン、メルカプトア
ルコール、メルカプトフェノール、ポリフェノール、ア
ミン類、アミド類等があげられる。一方、エピスルフィ
ド基と反応可能な官能基1個以上と他の単独重合可能な
官能基を1個以上有する化合物としては、ビニル、芳香
族ビニル、メタクリル、アクリル、アリル等の不飽和基
を有するエポキシ化合物、エピスルフィド化合物、カル
ボン酸、カルボン酸無水物、メルカプトカルボン酸、メ
ルカプタン類、フェノール類、アミン類、アミド類等が
あげられる。以下に、エピスルフィド基と反応可能な官
能基を2個以上有する化合物の具体例を示す。
キノン、カテコール、レゾルシン、ビスフェノールA、
ビスフェノールF、ビスフェノールスルフォン、ビスフ
ェノールエーテル、ビスフェノールスルフィド、ビスフ
ェノールスルフィド、ハロゲン化ビスフェノルA、ノボ
ラック樹脂等の多価フェノール化合物とエピハロヒドリ
ンの縮合により製造されるフェノール系エポキシ化合
物;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、1、3−プロパンジオール、1、4−
ブタンジオール、1、6−ヘキサンジオール、ネオペン
チルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、ペンタエリスリトール、1、3−
および1、4−シクロヘキサンジオール、1、3−およ
び1、4−シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェ
ノールA、ビスフェノルA・エチレンオキサイド付加
物、ビスフェノルA・プロピレンオキサイド付加物等の
多価アルコール化合物とエピハロヒドリンの縮合により
製造されるアルコール系エポキシ化合物;アジピン酸、
セバチン酸、ドデカンジカルボン酸、ダイマー酸、フタ
ル酸、イソ、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メ
チルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ヘ
ット酸、ナジック酸、マレイン酸、コハク酸、フマール
酸、トリメリット酸、ベンゼンテトラカルボン酸、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸、ナフタリンジカルボン
酸、ジフェニルジカルボン酸等の多価カルボン酸化合物
とエピハロヒドリンの縮合により製造されるグリシジル
エステル系エポキシ化合物;エチレンジアミン、1,2
−ジアミノプロパン、1,3−ジアミノプロパン、1,
2−ジアミノブタン、1,3−ジアミノブタン、1,4
−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6
−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,
8−ジアミノオクタン、ビス−(3−アミノプロピル)
エーテル、1,2−ビス−(3−アミノプロポキシ)エ
タン、1,3−ビス−(3−アミノプロポキシ)−2,
2’−ジメチルプロパン、1,2−、1,3−あるいは
1,4−ビスアミノシクロヘキサン、1,3−あるいは
1,4−ビスアミノメチルシクロヘキサン、1,3−あ
るいは1,4−ビスアミノエチルシクロヘキサン、1,
3−あるいは1,4−ビスアミノプロピルシクロヘキサ
ン、水添4,4’−ジアミノジフェニルメタン、イソホ
ロンジアミン、1,4−ビスアミノプロピルピペラジ
ン、m−、あるいはp−フェニレンジアミン、2,4−
あるいは2,6−トリレンジアミン、m−、あるいはp
−キシリレンジアミン、1,5−あるいは、2,6−ナ
フタレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−
(4,4’−ジアミノジフェニル)プロパン等の一級ジ
アミン、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、N,
N’−ジメチル−1,2−ジアミノプロパン、N,N’
−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N’−ジ
メチル−1,2−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル
−1,3−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル−1,
4−ジアミノブタン、N,N’−ジメチル−1,5−ジ
アミノペンタン、N,N’−ジメチル−1,6−ジアミ
ノヘキサン、N,N’−ジメチル−1,7−ジアミノヘ
プタン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、N,
N’−ジエチル−1,2−ジアミノプロパン、N,N’
−ジエチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N’−ジ
エチル−1,2−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル
−1,3−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル−1,
4−ジアミノブタン、N,N’−ジエチル−1,6−ジ
アミノヘキサン、ピペラジン、2−メチルピペラジン、
2,5−あるいは2,6−ジメチルピペラジン、ホモピ
ペラジン、1,1−ジ−(4−ピペリジル)−メタン、
1,2−ジ−(4−ピペリジル)−エタン、1,3−ジ
−(4−ピペリジル)−プロパン、1,4−ジ−(4−
ピペリジル)−ブタン等の二級ジアミンとエピハロヒド
リンの縮合により製造されるアミン系エポキシ化合物;
3、4−エポキシシクロヘキシル−3、4−エポキシシ
クロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクリヘキサン
ジオキサイド、2−(3、4−エポキシシクロヘキシ
ル)−5、5−スピロ−3、4−エポキシシクロヘキサ
ン−メタ−ジオキサン、ビス(3、4−エポキシシクロ
ヘキシル)アジペート等の脂環式エポキシ化合物;シク
ロペンタジエンエポキシド、エポキシ化大豆油、エポキ
シ化ポリブタジエン、ビニルシクロヘキセンエポキシド
等の不飽和化合物のエポキシ化により製造されるエポキ
シ化合物;上述の多価アルコール、フェノール化合物と
ジイソシアネートおよびグリシドール等から製造される
ウレタン系エポキシ化合物等を挙げることが出来る。
ては、以上のエポキシ化合物のエポキシ基の一部あるい
は全てをエピスルフィド化して得られるエピスルフィド
化合物を挙げることが出来る。
ポリフェノール、アミン類等の具体例としては上述のエ
ポキシ化合物のところで説明したエピハロヒドリンと反
応させる相手の原料として上述したものを挙げることが
出来る。
1,2−ジメルカプトエタン、1,3−ジメルカプトプ
ロパン、1,4−ジメルカプトブタン、1,6−ジメル
カプトヘキサン、ジ(2−メルカプトエチル)スルフィ
ド、1,2−〔ビス(2−メルカプトエチルチオ)〕エ
タン等の直鎖状ジメルカプタン化合物;2−メルカプト
メチル−1,3−ジメルカプトプロパン、2−メルカプ
トメチル−1,4−ジメルカプトブタン、2−(2−メ
ルカプトエチルチオ)−1,3−ジメルカプトプロパ
ン、1,2−ビス〔(2−メルカプトエチルチオ)〕−
3−メルカプトプロパン、1,1,1−トリス(メルカ
プトメチル)プロパン、テトラキスメルカプトメチルメ
タン等の分岐状脂肪族ポリメルカプタン化合物;エチレ
ングリコールジチオグリコレート、エチレングリコール
ジチオプロピオネート、1,4−ブタンジオールジチオ
グリコレート、1,4−ブタンジオールジチオプロピオ
ネート、トリメチロールプロパントリス(β−チオグリ
コレート)、トリメチロールプロパントリス(β−チオ
プロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス
(β−チオグリコレート)、ペンタエリスリトールテト
ラキス、(β−チオプロピオネート)等の含エステル脂
肪族ポリメルカプタン化合物;1,4−ジメルカプトシ
クロヘキサン、1,3−ジメルカプトシクロヘキサン、
1,4−ジメルカプトメチルシクロヘキサン、1,3−
ジメルカプトメチルシクロヘキサン、2,5−ジメルカ
プトメチル−1,4−ジチアン、2,5−ジメルカプト
エチル−1,4−ジチアン、2,5−ジメルカプトメチ
ル−1−チアン、2,5−ジメルカプトエチル−1−チ
アン等脂肪族環状ジメルカプタン化合物等をあげること
ができる。
な官能基1個以上と他の単独重合可能な官能基を1個以
上有する化合物の代表的具体例を示す。不飽和基を有す
るエポキシ化合物としては、ビニルフェニルグリシジル
エーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル、グリシ
ジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリル
グリシジルエーテル等をあげることができる。不飽和基
を有するエピスルフィド化合物としては上記の不飽和基
を有するエポキシ化合物のエポキシ基をエピスルフィド
化した化合物、例えば、ビニルフェニルチオグリシジル
エーテル、ビニルベンジルチオグリシジルエーテル、チ
オグリシジルメタクリレート、チオグリシジルアクリレ
ート、アリルチオグリシジルエーテル等をあげることが
できる。
は、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、フマル酸等のα、β−不飽和カルボン酸類をあ
げることができる。また、不飽和基を有するアミド類と
しては、以上のα、β−不飽和カルボン酸類のアミドを
あげることができる。
単独重合も可能な官能基を1個有する化合物の好ましい
具体例としてはエポキシ基あるいはエピスルフィド基を
1個有する化合物をあげることができる。より具体的に
は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のモ
ノエポキシ化合物類、酢酸、プロピオン酸、安息香酸等
のモノカルボン酸のグリシジルエステル類、メチルグリ
シジルエ−テル、エチルグリシジルエ−テル、プロピル
グリシジルエ−テル、ブチルグリシジルエ−テル等のグ
リシジリエ−テル類あるいはエチレンスルフィド、プロ
ピレンスルフィド等のモノエピスルフィド化合物、上述
のモノカルボン酸とチオグリシド−ル(1,2−エピチ
オ−3−ヒドロキシプロパン)から誘導される構造を有
するチオグリシジルエステル類、メチルチオグリシジル
エ−テル(1,2−エピチオプロピルオキシメタン)、
エチルチオグリシジルエ−テル、プロピルチオグリシジ
ルエ−テル、ブチルチオグリシジルエ−テル等のチオグ
リシジルエ−テル類をあげることができる。これらの中
で、より好ましいものはエピスルフィド基を1個有する
化合物である。
ルフィド基と反応可能な官能基を2個以上有する化合物
あるいは、これらの官能基1個以上と他の単独重合可能
な官能基を1個以上有する化合物およびエピスルフィド
基と反応可能かつ単独重合可能な官能基を1個有する化
合物とは、硬化重合触媒の存在下、硬化重合し製造する
ことができる。硬化触媒は、前述のアミン類、ホスフィ
ン類、酸類等が使用される。具体例としては、前述のも
のがここでも使用される。
る際には、重合促進剤として、ラジカル重合開始剤を使
用する事は好ましい方法である。ラジカル重合開始剤と
は、加熱あるいは紫外線や電子線によってラジカルを生
成するものであれば良く、例えば、クミルパーオキシネ
オデカノエート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネ
ート、ジアリルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プ
ロピルパーオキシジカーボネート、ジミリスチルパーオ
キシジカーボネート、クミルパーオキシネオヘキサノエ
ート、ter−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、
ter−ブチルパーオキシネオデカノエート、ter−
ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、ter−ブチ
ルパーオキシネオヘキサノエート、2,4−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、ジ−ter−ブチルパーオキ
サイド等のパーオキサイド類;クメンヒドロパーオキサ
イド、ter−ブチルヒドロパーオキサイド等のヒドロ
パーオキサイド類;2,2’−アゾビス(4−メトキシ
−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾ
ビス(2−シクロプロピルプロピオニトリル)、2,
2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、
2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−ア
ゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾ
ビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、1−
〔(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ〕ホルムアミ
ド、2−フェニルアゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチ
ル−バレロニトリル2、2’−アゾビス(2−メチルプ
ロパン)、2、2’−アゾビス(2、4、4−トリメチ
ルペンタン)等のアゾ系化合物等の公知の熱重合触媒、
ベンゾフェノン、ベンゾインベンゾインメチルエーテル
等の公知の光重合触媒が挙げられる。これらのなかで好
ましいものは、パーオキサイド類、ヒドロパーオキサイ
ド類、アゾ系化合物であり、より好ましいものは、パー
オキサイド類、アゾ系化合物であり、最も好ましいもの
は、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメ
チルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−シク
ロプロピルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾ
ビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メ
チルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘ
キサン−1−カルボニトリル)、1−〔(1−シアノ−
1−メチルエチル)アゾ〕ホルムアミド、2−フェニル
アゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチル−バレロニトリ
ル、2、2’−アゾビス(2−メチルプロパン)2、
2’−アゾビス、(2、4、4−トリメチルペンタン)
等のアゾ系化合物である。またこれらは、全て混合使用
することができる。ラジカル重合開始剤の配合量は、組
成物の成分や硬化方法によって変化するので一慨には決
められないが、通常は組成物総量に対して0.01wt
%〜5.0wt%、好ましくは0.1wt%〜2.0w
t%の範囲である。
ィド型エピスルフイド化合物を重合硬化して光学材料を
得るに際して、公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添
加剤を加えて、得られる材料の実用性をより向上せしめ
ることはもちろん可能である。また公知の外部および/
または内部離型剤を使用または添加して、得られる硬化
材料の型からの離型性を向上せしめることも可能であ
る。ここに言う内部離型剤とは、フッ素系ノニオン界面
活性剤、シリコン系ノニオン界面活性剤、アルキル第4
級アンモニウム塩、燐酸エステル、酸性燐酸エステル、
酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、高級脂肪酸の金属
塩、高級脂肪酸エステル、パラフィン、ワックス、高級
脂肪族アミド、高級脂肪族アルコール、ポリシロキサン
類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物等があげられ
る。
エピスルフィド化合物を重合硬化して光学材料を得るに
際して、原料となる、エピスルフィド化合物、さらには
所望に応じて前述の硬化触媒、不飽和基を有するエピス
ルフィド基と反応可能な例えばグリシジルメタクリレー
ト、チオグリシジルメタクリレ−ト(グリシジルメタク
リレ−トのエポキシ基をエピスルフィド化したもの)等
を併用する場合、ラジカル重合開始剤、ラジカル重合可
能な単量体、さらには離型剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤等の添加剤混合後、次の様にして重合硬化してレンズ
等の光学材料とされる。即ち、混合後の原料をガラスや
金属製の型に注入し、加熱によって重合硬化反応を進め
た後、型から外し製造される。硬化時間は0.1〜10
0時間、通常1〜48時間であり、硬化温度は−10〜
160℃、通常−10〜140℃である。また、硬化終
了後、材料を50から150℃の温度で10分から5時
間程度アニール処理を行う事は、本発明の光学材料の歪
を除くために好ましい処理である。さらに必要に応じて
ハードコート、反射防止、防曇性付与等表面処理を行う
ことができる。本発明の硬化樹脂光学材料の製造方法
は、さらに詳しく述べるならば以下の通りである。前述
の様に、主原料および副原料を混合後、型に注入硬化し
て製造されるが、主原料であるジエピスルフィド化合物
と所望により使用されるエピスルフィド基と反応可能な
官能基を2個以上有する化合物あるいは、これらの官能
基1個以上と他の単独重合可能な官能基を1個以上有す
る化合物およびエピスルフィド基と反応可能かつ単独重
合可能な官能基を1個有する化合物、さらには所望に応
じて使用される、硬化触媒、ラジカル重合開始剤、さら
には離型剤、安定剤等は、全て同一容器内で同時に撹拌
下に混合しても、各原料を段階的に添加混合しても、数
成分を別々に混合後さらに同一容器内で再混合しても良
い。混合にあたり、設定温度、これに要する時間等は基
本的には各成分が十分に混合される条件であればよい
が、過剰の温度、時間は各原料、添加剤間の好ましくな
い反応が起こり、さらには粘度の上昇を来たし注型操作
を困難にする等適当ではない。混合温度は−10℃から
100℃程度の範囲で行われるべきであり、好ましい温
度範囲は−10℃から50℃、さらにに好ましいのは、
−5℃から30℃である。混合時間は、1分から5時
間、好ましくは5分から2時間、さらに好ましくは5分
から30分、最も好ましいのは5分から15分程度であ
る。各原料、添加剤の混合前、混合時あるいは混合後
に、減圧下に脱ガス操作を行う事は、後の注型重合硬化
中の気泡発生を防止する点からは好ましい方法である。
この時の減圧度は0.1mmHgから700mmHg程
度で行うが、好ましいのは10mmHgから300mm
Hgである。さらに、型に注入に際して、ミクロフィル
ター等で不純物等を濾過し除去することは本発明の光学
材料の品質をさらに高める上からも好ましい。
化して得られる硬化樹脂光学材料より、従来技術の化合
物を原料とする限り困難であった十分に高い屈折率と、
良好な屈折率とアッベ数のバランスを有する樹脂光学材
料が可能となった。すなわち本発明の新規な化合物によ
り樹脂光学材料の軽量化、薄肉化および色収差の低減化
が格段に進歩することとなった。これにより眼鏡等のレ
ンズ用途として好ましい材料が製造可能となった。ま
た、本発明の新規な樹脂硬化材料は、耐熱性、強度にも
優れ各種用途に使用できる。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、得られた重合物の性能測定は以下の測定法で行っ
た。 屈折率、アッベ数:アッベ屈折計を用い、25℃で測定
した。 比重:電子比重計を用いて25℃で測定し、常法により
補正した。 耐熱性:ビカット軟化点が120℃以上のものを○、1
20℃未満80℃以上のものを△、80℃未満のものを
×とした。 強度:オートグラフを用いた3点曲げ試験測定におい
て、歪みが0.1以上のものを○、0.1未満0.05
以上のものを△、0.05未満のものを×とした。
g)とエピクロルヒドリン2.0mol(185.0
g)を液温を10℃まで冷却し、水酸化ナトリウム10
mmol(0.4g)を水4mlに溶かした水溶液を加
え、この温度で1時間攪拌した。その後、液温を40−
45℃前後に保ちながら2時間攪拌した。室温に戻し、
水酸化ナトリウム2mol(80.0g)を水80ml
に溶かした水溶液を、液温を40−45℃前後に保ちな
がら滴下しその後、液温を40−45℃前後に保ちなが
ら3時間攪拌した。反応混合物に水200mlを加え、
トルエン300mlで抽出し、トルエン層を水200m
lで3回洗浄した。トルエン層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥させ、溶媒を留去し、無色透明液体の1,2−ビス
(グリシジルチオ)エタンを202.0g(理論量の9
9%)で得た。ついで、ここで得られた、1,2−ビス
(グリシジルチオ)エタン0.3mol(79.9g)
とエタノール40mlをチオシアン酸カリウム87.5
g(0.9mol)を水60mlに溶解させた水溶液に
加え、1時間かけて液温を45℃まで上昇させ、この温
度で5時間反応させた。反応混合物に水500mlを加
え、トルエン500mlで抽出し、トルエン層を水50
0mlで3回洗浄した。トルエン層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させ、溶媒を留去し、白色固体の1,2−ビス
(β−エピチオプロピルチオ)エタン(式(1)のm=
2,n=1)を78.1g(理論量の88%)得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 40.19% 40.30% H 6.05% 5.95% S 53.79% 53.64% マススペクトル(EI):M+・238(理論分子量238) 赤外吸収スペクトル:620cm-1(エピスルフィド環の伸縮振動) 1 H−NMR: 2.2ppm(1,10位の炭素に付いた水素) 2.6ppm(1,10位の炭素に付いた水素) 2.7ppm(2,9位の炭素に付いた水素) 2.9ppm(5,6位の炭素に付いた水素) 3.0ppm(3,8位の炭素に付いた水素) 3.1ppm(3,8位の炭素に付いた水素) 13C−NMR:25.7ppm(1,10位の炭素) 32.5ppm(2,9位の炭素) 34.0ppm(5,6位の炭素) 38.4ppm(1,10位の炭素) さらに、本化合物100重量部にトリブチルアミンを1
重量部配合し、これを厚さ2mmに調節した2枚のガラ
ス板からなるモウルド中に注入し、80℃で5時間重合
硬化し光学材料を得た得られた材料の屈折率、アッベ数
および比重を測定し結果を、表1に示した。
ラスコに、1,2−ジメルカプトエタン1.0mol
(94.2g)、水酸化ナトリウム10mmol(0.
4g)を水4mlに溶かした水溶液、メタノ−ル100
mlを仕込み、ここにエピクロルヒドリン2.0ml
(185.0g)を1時間かけて滴下した。滴下中、反
応温度を0〜10℃に保った。滴下終了後さらに1時間
反応を続けた。この後、水360mlに溶解したカセイ
ソ−ダ6.0ml(240g)を1時間かけて滴下し
た。滴下中、反応温度を0〜10℃に保った。滴下終了
後さらに3時間反応を続けた。その後、トルエン抽出、
水洗後、溶媒を留去し、無色透明液体の1,2−ビス
(グリシジルチオ)エタンを202.2g(理論量の9
9%)得た。ついで、攪拌機、温度計、窒素導入管を装
着したフラスコに上記の1,2−ビス(グリシジルチ
オ)エタン0.3mol(79.9g)とチオ尿素1.
25mol(95.3g)と無水酢酸0.03mol
(2.96g)さらに溶媒としてトルエン250mlお
よびメタノ−ル250mlを仕込み、30℃で9時間反
応した。反応後トルエンで抽出し、1%硫酸水溶液で洗
浄、水洗後過剰の溶媒を留去したところ、、白色固体の
1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)エタン(式
(1)のm=2,n=1)を82.0g(理論量の93
%)得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 40.19% 40.30% H 6.05% 5.95% S 53.79% 53.64% マススペクトル(EI):M+・238(理論分子量238) 赤外吸収スペクトル:620cm-1(エピスルフィド環の伸縮振動) 1 H−NMR: 2.2ppm(1,10位の炭素に付いた水素) 2.6ppm(1,10位の炭素に付いた水素) 2.7ppm(2,9位の炭素に付いた水素) 2.9ppm(5,6位の炭素に付いた水素) 3.0ppm(3,8位の炭素に付いた水素) 3.1ppm(3,8位の炭素に付いた水素) 13C−NMR:25.7ppm(1,10位の炭素) 32.5ppm(2,9位の炭素) 34.0ppm(5,6位の炭素) 38.4ppm(1,10位の炭素) さらに、本化合物100重量部にトリブチルアミンを1
重量部配合し、これを厚さ2mmに調節した2枚のガラ
ス板からなるモウルド中に注入し、80℃で5時間重合
硬化し光学材料を得た。得られた材料の屈折率、アッベ
数および比重を測定し結果を、表1に示した。
に1,4−ジメルカプトブタンを使用する以外は実施例
1を繰り返し、1,4−ビス(β−エピチオプロピルチ
オ)ブタン(式(1)のm=4,n=1)を総収率85
%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 44.89% 45.07% H 6.99% 6.81% S 48.00% 48.13% マススペクトル(EI):M+・266(理論分子量266) 赤外吸収スペクトル:620cm-1(エピスルフィド環の伸縮振動) 1 H−NMR: 1.9ppm(6,7位の炭素に付いた水素) 2.2ppm(1,12位の炭素に付いた水素) 2.6ppm(1,12位の炭素に付いた水素) 2.7ppm(2,11位の炭素に付いた水素) 2.8ppm(5,8位の炭素に付いた水素) 3.0ppm(3,10位の炭素に付いた水素) 3.1ppm(3,10の炭素に付いた水素) 13C−NMR:25.7ppm(1,12位の炭素) 30.5ppm(6,7位の炭素) 31.3ppm(5,8位の炭素) 32.5ppm(2,11位の炭素) 39.1ppm(3,10位の炭素) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を表−1に示した。
にジメルカプトジエチルスルフィドを使用する以外は実
施例1を繰り返し、ビス(β−エピチオプロピルチオエ
チル)スルフィド(式(1)のm=2,n=2)を総収
率88%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 40.08% 40.23% H 6.22% 6.08% S 53.55% 53.70% マススペクトル(EI):M+・298(理論分子量298) 赤外吸収スペクトル:620cm-1(エピスルフィド環の伸縮振動)1 H−NMR:2.2ppm(1,13位の炭素に付いた水素) 2.6ppm(1,13位の炭素に付いた水素) 2.7ppm(2,12位の炭素に付いた水素) 2.8−2.9ppm(5,6,8,9位の炭素に付いた水素) 3.0ppm(3,11位の炭素に付いた水素) 3.1ppm(3,11の炭素に付いた水素)13 C−NMR:25.7ppm(1,13位の炭素) 32.4ppm(2,12位の炭素) 32.5ppm(6,8位の炭素) 34.0ppm(5,9位の炭素) 38.4ppm(3,11位の炭素) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
(34.1g)とエピクロルヒドリン1.0mol(9
2.5g)を入れ、液温を10℃まで冷却し、水酸化ナ
トリウム水溶液5mmol(0.2g)を水4mlに溶
かした水溶液を加え、この温度で1時間攪拌した。その
後、液温を40−45℃前後に保ちながら2時間攪拌し
た。液温を再び、10℃まで冷却し、エピクロルヒドリ
ン1.0mol(92.5g)と水酸化ナトリウム5m
mol(0.2g)を水4mlに溶かした水溶液を追加
し、10℃で1時間、40−45℃で2時間攪拌した。
室温に戻し、水酸化ナトリウム80.0g(2mol)
を水80mlに溶かした水溶液を、液温を40−45℃
前後に保ちながら滴下しその後、液温を40−45℃前
後に保ちながら3時間攪拌した。反応終了後実施例1と
同様に処理し、92.2g(理論量63%)得た。つい
で、これも実施例1と同様に、チオシアン酸カリウムと
反応させ、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド
(式(1)のn=0)を収率80%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 40.25% 40.41% H 5.81% 5.65% S 53.77% 53.94% マススペクトル(EI):M+・178(理論分子量178) 赤外吸収スペクトル:620cm-1(エピスルフィド環の伸縮振動) 1 H−NMR: 2.3ppm(1,7位の炭素に付いた水素) 2.6ppm(1,7位の炭素に付いた水素) 2.7ppm(2,6位の炭素に付いた水素) 3.0−3.1ppm(3,5位の炭素に付いた水素) 13C−NMR:25.6ppm(1,7位の炭素) 33.8ppm(2,6位の炭素) 38.6ppm(3,5位の炭素) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
に1,6−ジメルカプトヘキサンを使用する以外は実施
例1を繰り返し、1,6−ビス(β−エピチオプロピル
チオ)ヘキサンを総収率72%で得た。 元素分析値: (分析値) (計算値) C 48.72% 48.93% H 7.77% 7.53% S 43.30% 43.54% マススペクトル(EI):M+・294(理論分子量294) 赤外吸収スペクトル:620cm-1(エピスルフィド環の伸縮振動) 1 H−NMR:1.6ppm(7,8位の炭素に付いた水素) 1.8ppm(6,9位の炭素に付いた水素) 2.2ppm(1,14位の炭素に付いた水素) 2.6ppm(1,14位の炭素に付いた水素) 2.7ppm(2,13位の炭素に付いた水素) 2.8ppm(5,10の炭素に付いた水素) 3.0ppm(3,12の炭素に付いた水素) 3.1ppm(3,12の炭素に付いた水素) 13C−NMR:25.7ppm(1,14位の炭素) 27.8ppm(7,8位の炭素) 31.6ppm(6,9位の炭素) 32.0ppm(5,10位の炭素) 32.4ppm(2,13位の炭素) 39.0ppm(3,12位の炭素) 重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数および比
重を測定し結果を、表1に示した。
に1,2−ジヒドロキシエタン(エチレングリコール)
を使用する以外は実施例1を繰り返し、1,2−ビス
(β−エピチオプロピルオキシ)エタンを総収率58%
で得た。重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ数
および比重を測定し結果を、表1に示した。
に1,4−ジヒドロキシブタン(1,4−ブタンジオー
ル)を使用する以外は実施例2を繰り返し、1,4−ビ
ス(β−エピチオプロピルオキシ)ブタンを総収率66
%で得た。重合硬化後、得られた材料の屈折率、アッベ
数および比重を測定し結果を表1に示した。
わりにジヒドロキシジエチルエーテル(ジエチレングリ
コール)を使用する以外は実施例3を繰り返し、ビス
(β−エピチオプロピルオキシエチル)エーテルを総収
率68%で得た。重合硬化後、得られた材料の屈折率、
アッベ数および比重を測定し結果を表1に示した。
タン1モルに対してチオシアン酸カリウムを0.8モル
使用する以外は実施例1を繰り返した。得られた生成物
は、NMRスペクトルより式(1)のn=1,m=2で
あり、X中のSの個数は三員環を構成するSとOの合計
に対して平均で30%であった。重合硬化後、得られた
材料の屈折率、アッベ数および比重を測定し結果を、表
1に示した。
的に説明する。なお、得られた重合物の物性測定は、以
下の測定法で行った。 屈折率(nd)、アッベ数(νD ):25℃でアッベ屈
折計を用いた。 比重:電子比重計を用いて25℃で測定し、常法により
補正した。 色調;分光色彩計によりb値を測定した。 耐熱性:ビカット軟化点測定により針が0.1mm侵入
した温度を軟化点とした。 曲げ強度:オートグラフを用いた3点曲げ試験測定によ
り実施した。
ラスコにエピクロロヒドリン2kg(11.6mol)
を仕込み、ここにメタノール1Lに溶解した70%水硫
化ソーダ390g(2.5mol)を1時間かけて滴下
した。滴下中、反応温度を10〜15℃に保った。滴下
終了後さらに1時間反応を続けた。この後、水1リット
ルに溶解したカセイソーダ400g(10.0mol)
を1時間かけて滴下した。滴下中、反応温度を10〜1
5℃に保った。滴下終了後ジクロロメタン抽出、水洗後
溶媒と過剰のエピクロロヒドリンを留去し、さらに減圧
蒸留により62〜64℃/0.25mmHgの留分のグ
リシジルスルフィド521g(収率73%)を得た。次
いで、撹拌機、温度計、窒素導入管を装着したフラスコ
に上記の留分365.5g(2.5mol)とチオ尿素
952.6g(12.5mol)と無水酢酸29.6g
(0.3mol)、さらに溶媒としてトルエン2.5L
およびメタノ−ル2.5Lを仕込み、30℃で9時間反
応した。反応後トルエンで抽出し、1%硫酸水溶液で洗
浄、水洗後過剰の溶媒を留去したところ無色透明のビス
(β−エピチオプロピル)スルフィド401.1g(収
率90%)を得た。本化合物100重量部を10mmH
gの減圧下十分に脱気を行った。さらに、触媒としてピ
ペリジンを1重量部配合後均一液とした。ついでモール
ドに注入後、オーブン中で80℃、20時間重合硬化し
平板状試験片を製造した。得られた試験片の物性を表−
2に示した。屈折率、アッベ数ともに従来技術では、達
成されなかった高い値を示し、さらに耐熱性、強度も十
分に優れ、さらにb値も低く黄色度の低いものであっ
た。
を10mmHgの減圧下に十分脱気を行った。さらに触
媒としてトリエチルアミンを0.2重量部配合後均一液
とした。ついでモ−ルドに注入後、オ−ブン中で40℃
から100℃まで10時間かけて昇温し重合硬化した。
得られた平板状試験片の物性を表−2に示した。
に触媒としてN,N−ジエチルエタノ−ルアミン0.5
8重量部配合後均一液とした。さらに、10mmHgの
減圧下に脱気を行った。ついでモールドに注入後、オー
ブン中で40℃から80℃まで10時間かけて昇温し重
合硬化した。得られた試験片の物性を表−2に示した。
に触媒としてトリフェニルフォスフィンを0.1重量部
配合後均一液とした。さらに、10mmHgの減圧下に
脱気を行った。ついでモールドに注入後、オーブン中で
80℃、15時間重合硬化し平板状試験片を製造した。
得られた試験片の物性を表2に示した。
施例11を繰り返した。得られた試験片の物性を表2に
示した。
例11を繰り返した。得られた試験片の物性を表2に示
した。
例11を繰り返した。得られた試験片の物性を表2に示
した。
に触媒として水添4,4, −ジアミノジフェニルメタン
を5重量部配合後均一液とした。さらに10mmHgの
減圧下十分に脱気を行った。ついでモ−ルドに注入後、
オ−ブン中で80℃、15時間重合硬化し平板状試験片
を製造した。得られた試験片の物性を表−2に示した。
10重量部配合する以外は実施例15を繰り返した。得
られた試験片の物性を表−2に示した。
15重量部配合する以外は実施例15を繰り返した。得
られた試験片の物性を表−2に示した。
に触媒としてトリフェニルフォスフィンを0.1重量
部、抗酸化剤として2、6−ジ−ter−ブチル−4−
メチルフェノール0.2重量部、紫外線吸収剤として2
−(2−ヒドロキシ−5−ter−オクチルフェニル)
ベンゾトリアゾール0.1重量部を配合後、室温で撹拌
し均一液とした。さらに10mmHgの減圧下十分に脱
気を行った。ついでレンズ用モールドに注入し、オーブ
ン中で80℃、15時間重合硬化しレンズを製造した。
重合物は、モールドより容易に離型し、また重合中に剥
がれることもなく、レンズを得る事ができた。得られた
レンズは従来にない優れた光学特性、物理特性を有する
のみならず、色調は無色(b値=0.65)であり、さ
らに表面状態は良好であり、脈理、面変形もほとんど認
められなかった。新規なレンズ材料として十分使用可能
と判断された。また、得られたレンズの物性を表2に示
した。
8を繰り返した、重合硬化が不十分で試験片を得ること
が出来なかった。
例8を繰り返した、試験片は得られたものの、耐熱性は
室温程度の黄色軟質材料であった。屈折率、アッベ数を
表2に示した。
使用し実施例8を繰り返した。得られた試験片の物性を
表1に示した。
フェニルプロパンを使用し実施例8を繰り返した。得ら
れた試験片の物性を表2に示した。
フェニルプロパン75重量部と1−メルカプト−4−ヒ
ドロキシベンゼン25重量部を使用し実施例8を繰り返
した。得られた試験片の物性を表2に示した。
−ジチアオクタン48重量部とメタキシリレンジイソシ
アネート52重量部の混合物に硬化触媒としてジブチル
スズクロライドを混合物100重量部に対して0.1重
量部配合後均一液とし、さらに10mmHgの減圧下十
分に脱気を行った。ついでモールドに注入後、オーブン
中で80℃、20時間重合硬化し平板状試験片を製造し
た。得られた試験片の物性を表2に示した。
Claims (7)
- 【請求項1】 (1)式で表される直鎖アルキルスルフ
ィド型エピスルフィド化合物。 【化1】 (ここに、mは1から6の整数を表し、nは0から4の
整数を表す。XはSまたはOを表し、このSの個数は三
員環を構成するSとOの合計に対して平均で50%以上
である。) - 【請求項2】 (2)式で表されるビス(エピチオプロ
ピル)スルフィド化合物 【化2】 (ここに、mは1から6の整数を表し、nは0から4の
整数をあらわす。) - 【請求項3】 請求項1記載の直鎖アルキルスルフィド
型エピスルフィド化合物を重合硬化して得られる樹脂。 - 【請求項4】 請求項1記載の直鎖アルキルスルフィド
型エピスルフィド化合物を重合硬化して得られる光学材
料。 - 【請求項5】 請求項1記載の直鎖アルキルスルフィド
型エピスルフィド化合物を重合硬化して樹脂光学材料を
得る方法。 - 【請求項6】 請求項1記載の直鎖アルキルスルフィド
型エピスルフィド化合物を硬化触媒の存在下、重合硬化
して樹脂光学材料を得る方法。 - 【請求項7】 請求項2記載のビス(エピチオプロピ
ル)スルフィド化合物を重合硬化して得られる光学材
料。
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|---|---|
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008035643A1 (en) | 2006-09-19 | 2008-03-27 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composition for optical material and optical material using the same |
| WO2008114765A1 (ja) | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 光学材料用樹脂組成物およびそれから得られる光学材料 |
| WO2009101867A1 (ja) | 2008-02-13 | 2009-08-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 樹脂用組成物およびそれを含む光学レンズ |
| JP2011251940A (ja) * | 2010-06-02 | 2011-12-15 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用(ポリ)エピスルフィド化合物の製造方法 |
| KR20120031169A (ko) | 2009-05-14 | 2012-03-30 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 고굴절률 고강도 광학 재료용 조성물 |
| EP3056545B1 (en) | 2013-09-30 | 2020-10-21 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Transparent plastic substrate and plastic lens |
Families Citing this family (89)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4501091B2 (ja) * | 1998-01-05 | 2010-07-14 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 高屈折率樹脂の染色方法および該方法により染色された樹脂 |
| US6204311B1 (en) | 1998-03-13 | 2001-03-20 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition |
| EP0950905A3 (en) | 1998-03-26 | 2002-02-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing a novel resin for optical materials having excellent color tone and transparency |
| DE69903234T2 (de) * | 1998-08-07 | 2003-09-11 | Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. | Etherverbindung und dieses verwendendes gehärtetes Harz |
| JP4920126B2 (ja) * | 1998-08-17 | 2012-04-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | エピチオ構造を有する化合物の処理方法 |
| JP2000186087A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2000186086A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2005232464A (ja) * | 1999-02-24 | 2005-09-02 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物およびそれを用いた高屈折率樹脂の製造方法。 |
| JP4682391B2 (ja) * | 1999-03-16 | 2011-05-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | エピスルフィド化合物の保存方法 |
| JP4682392B2 (ja) * | 1999-03-19 | 2011-05-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | エピスルフィド化合物の精製方法 |
| JP4735787B2 (ja) * | 1999-03-30 | 2011-07-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用樹脂の染色方法 |
| EP1270634B1 (en) | 1999-11-09 | 2004-05-12 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Resin composition containing aromatic episulfide and optical material |
| JP3686806B2 (ja) * | 1999-12-09 | 2005-08-24 | 三井化学株式会社 | (チオ)エポキシ化合物の精製方法 |
| JP3387873B2 (ja) * | 1999-12-09 | 2003-03-17 | 三井化学株式会社 | (チオ)エポキシ化合物の精製方法 |
| CA2337955C (en) | 2000-03-15 | 2006-07-25 | Hoya Corporation | Plastic lenses for spectacles |
| DE60110967T2 (de) | 2000-03-27 | 2005-10-27 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polythiol, polymerisierbare Zusammensetzung, Harz und Linse und Verfahren zur Herstellung der Thiolverbindung |
| JP2001288181A (ja) * | 2000-04-07 | 2001-10-16 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物およびその製造方法 |
| AU755212B2 (en) | 2000-10-26 | 2002-12-05 | Hoya Corporation | Optical product, asymmetric disulfide compound used therefore and method for producing the asymmetric disulfide compound |
| JP5028718B2 (ja) * | 2001-06-20 | 2012-09-19 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用化合物 |
| JP2008132783A (ja) * | 2001-07-16 | 2008-06-12 | Asahi Lite Optical Co Ltd | 樹脂レンズの製造方法とその樹脂レンズ |
| JP4076760B2 (ja) | 2001-11-28 | 2008-04-16 | Hoya株式会社 | エピスルフィド化合物およびその製造方法 |
| JP2003160581A (ja) | 2001-11-28 | 2003-06-03 | Hoya Corp | チオール化合物およびその製造方法 |
| JP2003238562A (ja) | 2002-02-07 | 2003-08-27 | Hoya Corp | 環状ジスルフィド化合物およびその製造方法 |
| EP1482002B1 (en) | 2002-03-01 | 2010-04-28 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition containing novel cyclic sulfur compound and resin obtained by curing the polymerizable composition |
| JP2007327060A (ja) * | 2002-03-12 | 2007-12-20 | Mitsui Chemicals Inc | チオエポキシ系重合性組成物 |
| CN1578802A (zh) | 2002-03-12 | 2005-02-09 | 三井化学株式会社 | 硫环氧系聚合性组合物及其制造方法 |
| JP4799471B2 (ja) * | 2002-05-10 | 2011-10-26 | 三井化学株式会社 | レンズの製造方法 |
| DE60304935T2 (de) | 2002-06-04 | 2006-09-21 | Hoya Corp. | Verfahren zur Herstellung von Kunststofflinsen und die hergestellte Kunststofflinse |
| EP1524289B1 (en) * | 2002-07-08 | 2009-09-16 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polymerizable composition, optical material comprising the composition and method for producing the material |
| US7909929B2 (en) | 2002-11-13 | 2011-03-22 | Nippon Soda Co., Ltd. | Dispersoid having metal-oxygen bonds, metal oxide film, and monomolecular film |
| JP4599038B2 (ja) * | 2003-04-17 | 2010-12-15 | 三井化学株式会社 | エピスルフィド組成物の重合性を改良する方法 |
| US20060167217A1 (en) | 2003-07-24 | 2006-07-27 | Hiroyuki Okada | Coating composition, coating film made of same, and optical article |
| DE602004021604D1 (de) * | 2003-08-06 | 2009-07-30 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Ammensetzung |
| KR20070112891A (ko) | 2004-03-31 | 2007-11-27 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 중합성 화합물 및 그 용도 |
| JP2005338109A (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Mitsui Chemicals Inc | 硫黄原子含有樹脂光学材料 |
| JP2005345684A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Mitsui Chemicals Inc | 硫黄原子含有樹脂からなる光学材料 |
| JP2006003624A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Mitsui Chemicals Inc | 硫黄原子含有樹脂からなる光学材料 |
| WO2006054615A1 (ja) | 2004-11-16 | 2006-05-26 | Mitsui Chemicals, Inc. | 金属含有化合物およびその用途 |
| US8349995B2 (en) | 2005-10-31 | 2013-01-08 | Ube Industries, Ltd. | Polythiocarbonatepoly(thio)epoxide |
| EP1953182A4 (en) | 2005-10-31 | 2009-12-23 | Ube Industries | POLYMERIZABLE COMPOSITION AND POLYTHIOCARBONATE POLYTHIOETHER |
| EP2006319B1 (en) | 2006-03-01 | 2013-08-14 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition, resin using same, optical component and lens |
| JP5336843B2 (ja) | 2006-03-31 | 2013-11-06 | 三井化学株式会社 | 重合性組成物ならびにこれを用いた樹脂および光学部品 |
| AU2007262302B2 (en) | 2006-06-21 | 2013-06-20 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition, resin using the same, optical component and compound |
| AU2007262309A1 (en) | 2006-06-23 | 2007-12-27 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition, resin using the same, optical component and lens |
| JP2007051301A (ja) * | 2006-11-16 | 2007-03-01 | Mitsui Chemicals Inc | 離型性の改良されたレンズ |
| EP2144092B1 (en) | 2007-04-27 | 2018-02-28 | Hoya Corporation | Method for production of plastic lens |
| WO2009066687A1 (ja) * | 2007-11-21 | 2009-05-28 | Konica Minolta Opto, Inc. | 対物レンズ及び撮像レンズ |
| JP5338164B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2013-11-13 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新規なテトラチアスピロ化合物 |
| JP2010195636A (ja) | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | 金属酸化物微粒子、金属酸化物微粒子分散液、及び成形体 |
| KR101787132B1 (ko) * | 2010-02-24 | 2017-10-18 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물 |
| JP5668296B2 (ja) | 2010-02-25 | 2015-02-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | エピスルフィド化合物の製造方法 |
| KR101757501B1 (ko) | 2010-02-25 | 2017-07-12 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 광학 재료용 조성물 및 그 제조 방법 그리고 광학 재료용 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 |
| WO2012066744A1 (ja) | 2010-11-17 | 2012-05-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
| JP5655613B2 (ja) * | 2011-02-15 | 2015-01-21 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
| JP2013142073A (ja) | 2012-01-11 | 2013-07-22 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 含硫エポキシ化合物及びその製造方法 |
| EP2810972B1 (en) | 2012-02-02 | 2016-11-02 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing composition for optical material |
| TWI572641B (zh) | 2012-03-05 | 2017-03-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Composition for optical materials |
| TWI574952B (zh) | 2012-04-16 | 2017-03-21 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Preparation of sulfur - containing epoxy compounds |
| TWI570112B (zh) * | 2012-06-26 | 2017-02-11 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Preparation of bis (β-epoxypropyl) sulfide and bis (β-epoxypropyl) polysulfide |
| TWI592438B (zh) | 2012-09-10 | 2017-07-21 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Optical material composition and method of manufacturing the same |
| TWI601720B (zh) | 2013-03-14 | 2017-10-11 | 三菱瓦斯化學股份有限公司 | Novel episulfide and optical material compositions |
| WO2014208656A1 (ja) | 2013-06-27 | 2014-12-31 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 硬化性組成物 |
| TWI633140B (zh) | 2013-12-26 | 2018-08-21 | 三菱瓦斯化學股份有限公司 | Composition for optical material and method of producing the same |
| TWI656155B (zh) | 2014-04-14 | 2019-04-11 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | Composition for optical material, method for producing the same, and optical material obtained from composition for optical material |
| CN107250124B (zh) | 2015-03-24 | 2018-07-13 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新型的硫化合物及包含其的光学材料用组合物 |
| EP3225622B1 (en) | 2015-03-27 | 2018-07-25 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Novel cyclic compound and optical material composition including same |
| BR112017008984B1 (pt) | 2015-03-31 | 2022-04-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc | Composição para material ótico, composição curável por polimerização, material ótico, lente ótica, e, método para produzir um material ótico |
| KR101827334B1 (ko) | 2015-03-31 | 2018-02-08 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 신규 에피설파이드 화합물 및 이것을 포함하는 광학재료 조성물 |
| JP6245408B2 (ja) | 2015-03-31 | 2017-12-13 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新規なエピスルフィド化合物およびそれを含む光学材料用組成物 |
| US10508173B2 (en) | 2015-06-17 | 2019-12-17 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Composition for optical material and optical material using the same |
| KR102516520B1 (ko) | 2015-07-09 | 2023-03-31 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 광학재료용 조성물 및 광학재료 |
| US10647819B2 (en) | 2015-12-10 | 2020-05-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Photocurable composition and optical material |
| KR101869785B1 (ko) | 2016-03-24 | 2018-06-22 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 티올 화합물을 함유하는 신규 광학재료용 조성물 |
| US11078363B2 (en) | 2017-02-17 | 2021-08-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Optical material composition |
| JP6826756B2 (ja) * | 2017-03-16 | 2021-02-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 水酸基を有する新規なエピスルフィド化合物及びその製造方法 |
| KR102565632B1 (ko) | 2018-06-29 | 2023-08-10 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 다관능함황에폭시 화합물의 제조방법 |
| TWI799606B (zh) | 2018-07-24 | 2023-04-21 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 環硫化合物及光學材料用組成物 |
| CN112513012B (zh) | 2018-08-08 | 2022-09-20 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新型烯丙基化合物和光学材料用组合物 |
| KR102683975B1 (ko) | 2018-09-07 | 2024-07-12 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 광학재료용 조성물 및 광학재료 |
| KR102703465B1 (ko) * | 2019-10-31 | 2024-09-04 | 주식회사 엘지화학 | 경화성 조성물 및 이를 포함하는 광학 부재 |
| CN113278149A (zh) | 2020-02-19 | 2021-08-20 | 株式会社大赛璐 | 聚硫醚化合物的制造方法 |
| JP7726207B2 (ja) | 2020-05-27 | 2025-08-20 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
| CN116762033A (zh) | 2020-12-25 | 2023-09-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 组合物以及使用其的光学材料及透镜 |
| EP4282903A4 (en) | 2021-01-22 | 2024-07-31 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | LIGHT-CURING COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF AND OPTICAL MATERIAL CONTAINING THE CURED PRODUCT |
| WO2023054572A1 (ja) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 光学部材用モノマー、光学部材用重合性組成物、硬化物、眼鏡レンズ及び光学部材用モノマーの製造方法 |
| KR20240039003A (ko) * | 2021-09-30 | 2024-03-26 | 호야 렌즈 타일랜드 리미티드 | 광학 부재용 모노머, 광학 부재용 중합성 조성물, 경화물, 및 안경 렌즈 |
| CN114605605B (zh) * | 2022-03-08 | 2023-03-24 | 益丰新材料股份有限公司 | 一种含有多硫醇组合物的光学材料组合物 |
| WO2024157874A1 (ja) | 2023-01-25 | 2024-08-02 | 三井化学株式会社 | エピスルフィド組成物、重合性組成物、硬化物、光学材料、及びレンズ |
| TW202506638A (zh) | 2023-05-18 | 2025-02-16 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 以環硫樹脂作為起始原料之四官能硫醇的製造方法 |
-
1996
- 1996-08-14 JP JP21463196A patent/JP3491660B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008035643A1 (en) | 2006-09-19 | 2008-03-27 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composition for optical material and optical material using the same |
| WO2008114765A1 (ja) | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 光学材料用樹脂組成物およびそれから得られる光学材料 |
| EP2463318A1 (en) | 2007-03-16 | 2012-06-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composition for optical member and optical member obtained from the same |
| EP2799455A2 (en) | 2007-03-16 | 2014-11-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Resin composition for optical member and optical member obtained from the same |
| WO2009101867A1 (ja) | 2008-02-13 | 2009-08-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 樹脂用組成物およびそれを含む光学レンズ |
| KR20120031169A (ko) | 2009-05-14 | 2012-03-30 | 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 | 고굴절률 고강도 광학 재료용 조성물 |
| JP2011251940A (ja) * | 2010-06-02 | 2011-12-15 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学材料用(ポリ)エピスルフィド化合物の製造方法 |
| EP3056545B1 (en) | 2013-09-30 | 2020-10-21 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Transparent plastic substrate and plastic lens |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09110979A (ja) | 1997-04-28 |
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