JP3310165B2

JP3310165B2 - 積層フイルム

Info

Publication number: JP3310165B2
Application number: JP14415396A
Authority: JP
Inventors: 光峰東條; 真飯田; 利文大澤
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1996-06-06
Filing date: 1996-06-06
Publication date: 2002-07-29
Anticipated expiration: 2016-06-06
Also published as: JPH09323386A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層フイルムに関す
る。詳しくは、巻取り性、易滑性、ハンドリング性等に
優れ、電磁変換特性、ドロップアウト、磁性層の走行
性、耐久性に優れた磁気記録媒体、特に高密度磁気記録
媒体用として用いるのに適した熱可塑性樹脂積層フイル
ムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化の進歩はめざ
ましく、例えば強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリ
ング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体上
に形成せしめた強磁性金属薄膜磁気記録媒体、またメタ
ル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布し
た薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進んでいる。

【０００３】前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テ
ープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃｒ
合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７
０６号公報）が知られている。後者の例としては、例え
ば極薄層塗布型媒体による高密度磁気記録（電子通信学
会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０２））等が知
られている。

【０００４】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに
対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーテ
ィング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜
は、厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極薄層塗
布型媒体の場合も、非磁性下地層を設けるものの０．１
３μｍの厚みと非常に薄くなっている。

【０００５】上記の高密度磁気記録媒体においては、非
磁性支持体の表面状態が磁気記録層の表面性に大きな影
響を及ぼし、特に金属薄膜型の磁気記録媒体の場合に
は、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁気記録層表面
の凹凸として発現し、それが再生信号の雑音の原因とな
る。従って、非磁性支持体の表面は出来るだけ平滑であ
ることが望ましい。

【０００６】一方、ベースフイルムの製膜、加工工程で
の搬送・傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリング
の観点からは、フイルム表面が平滑過ぎると、フイルム
―フイルム相互の滑り性が悪化し、ブロッキング現象が
発生し、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメー
ション）が悪化し、製品歩留りの低下、ひいては製品の
製造コストの上昇を来す。従って、製造コストという観
点からは、支持体の表面は出来るだけ粗いことが望まし
い。

【０００７】この様に、電磁変換特性という観点からは
非磁性支持体の表面は平滑であることが要求され、ハン
ドリング性、フイルムコストの観点からは粗いことが要
求される。

【０００８】更に、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合
には、実際に使用されるときの重大な問題点として、金
属薄膜面の走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バン
ダー中に混入させてベースフイルムに塗布してなる塗布
型磁気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を
分散させて磁性面の走行性を向上させることが出来る
が、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な
対策をとることが出来ず、走行性を安定して保つのは非
常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの
問題点をかかえている。

【０００９】そこで、優れた品質の高密度記録媒体用ベ
ースフイルムを安価に供給する為には、上記の相反する
性質を同時に満足することが必要となる。

【００１０】この具体的な方策として、フイルム表面
に特定の塗剤を塗布し、不連続皮膜を形成させる方法
（特公平３―８０４１０号、特開昭６０―１８０８３９
号、特開昭６０―１８０８３８号、特開昭６０―１８０
８３７号、特開昭５６―１６９３７号、特開昭５８―６
８２２３号等）、微細突起を有する連続皮膜を形成す
る方法（特開平５―１９４７７２号、特開平５―２１０
８３３号）、共押し出し等の技術により表裏異面化す
る方法（特開平２―２１４６５７号、特公平７―８０２
８２号）、前記の＋又は＋の組み合わせによ
る方法（特開平３―７３４０９号）等が提案されてい
る。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、不連続
皮膜や微細突起を有する連続皮膜を形成する従来の方法
に於いては、フイルム―フイルム間の滑り、ブロッキン
グといった課題は解決できているが、皮膜中に微細な不
活性粒子を均一分散させることが難しく、凝集粒子によ
る粗大突起を生じやすいために電磁変換特性が悪化する
など磁気テープとしての品質が安定しないという問題が
あった。また凝集粒子は単分散粒子と比較して製膜工程
で各種ガイドロールとの接触によって削り取られやす
く、ベースフイルム上に付着堆積して突起となり、磁気
テープとしたときにドロップアウトの原因となる問題も
ある。また微細視野で見た場合に皮膜中での分散性に優
れていても、マクロ視野で見た場合の粗大凝集粒子が存
在すると、磁気テープとしたときにドロップアウトの増
加が起こるなどの問題がある。

【００１２】一般に、無機粒子は硬度が高く変形しにく
いため、磁気ヘッドのクリーニング性に優れており、ま
た種々のサイズの微粒子の製造が容易であるが、ポリマ
ーとの親和性に乏しく粒子の脱落を生じやすい傾向が見
られる。一方、有機粒子はポリマーとの親和性は優れる
ものの、硬度が無機粒子に比べ低く、粒子全体に熱や機
械的摩擦による変形等が加わるため、テープの電磁変換
特性がテープの走行を繰り返すことにより劣化していく
という問題がある。

【００１３】本発明の目的は、かかる従来技術の欠点を
解消し、製膜工程での削れ性、巻取り性に優れ、蒸着金
属薄膜型磁気記録媒体や極薄層塗布型磁気記録媒体とし
て用いられた場合に電磁変換特性、ドロップアウト特
性、走行耐久性に優れた積層フイルムを提供することに
ある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、第一に、平均粒径４０〜４００ｎｍ、体積形
状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ａを表面の突起頻度
が０．５万〜５万個／ｍｍ²となる量含有する熱可塑性
樹脂層Ａの少なくとも片面に、水性のアクリル樹脂及び
平均粒径ｄ_Bが５〜１００ｎｍである内部より外部が柔
軟なコアシェル型構造の粒子Ｂを含有する皮膜層Ｂを積
層した積層フイルムであって、粒子Ｂの平均粒径ｄ
_B（ｎｍ）、粒子Ｂのコア部の粒径ｄｃ_B（ｎｍ）及び皮
膜層Ｂの層厚みｔ_B（ｎｍ）が下記式（１）、（２）を
同時に満足し、皮膜層Ｂの粒子Ｂによる表面突起の頻度
が１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²であり、原子間力顕
微鏡（ＡＦＭ）にて測定した皮膜層Ｂの表面粗さＡＲａ
_B（ｎｍ）及び１０点平均粗さＡＲｚ_B（ｎｍ）が下記式
（３）、（４）を同時に満足し、かつ粒子Ｂのマクロ凝
集物による高さが０．５μｍ以上の突起頻度が２５個／
ｃｍ²以下であることを特徴とする積層フイルムによっ
て達成される。

【００１５】

【数５】１．０２ ≦ ｄ_B／ｄｃ_B ≦ ２．０・・・・・・（１）

【００１６】

【数６】０．０８≦ｔ_B／ｄｃ_B≦０．６・・・・・・（２）

【数７】０．７≦ＡＲａ _B ≦２．５・・・・・・（３）

【数８】１０≦ＡＲｚ _B ≦１００・・・・・・（４）

【００１７】本発明における熱可塑性樹脂としては、ポ
リエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示するこ
とができる。これらのうちポリステル系樹脂、更には芳
香族ポリエステルが好ましい。

【００１８】この芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好まし
くは例示することができる。これらのうち、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレン
ジカルボキシレートが好ましい。

【００１９】上記ポリエステルはホモポリエステルであ
ってもコポリエステルであってもよい。コポリエステル
の場合、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン
―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分
としては、例えばジエチレングリコール、プロピレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリ
コール、ｐ―キシレングリコール、１，４―シクロヘキ
サンジメタノール等のジオール成分、アジピン酸、セバ
シン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（但し
ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート
の場合）、２，６―ナフタレンジカルボン酸（但しポリ
エチレンテレフタレートの場合）、５―ナトリウムスル
ホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、ｐ―オキシ
エトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分等があげら
れる。尚、共重合成分の量は２０モル％以下、更には１
０モル％以下とするのが好ましい。

【００２０】更に、トリメリット酸、ピロメリット酸等
の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもでき
る。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば
２モル％以下共重合させることがよい。

【００２１】更に、上記のポリエステルは、該ポリエス
テルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘導体、
該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレングリコ
ール等の少なくとも一つを５重量％を超えない程度に混
合してもよい。

【００２２】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、平均
粒径が４０〜４００ｎｍ、好ましくは５０〜２００ｎ
ｍ、更に好ましくは６０〜１２０ｎｍであり、かつ体積
形状係数が０．１〜π／６の粒子Ａを表面の突起頻度が
０．５〜５（万個／ｍｍ²）、好ましくは０．７５〜４
（万個／ｍｍ²）、更に好ましくは１〜３（万個／ｍｍ
²）となる量含有している。粒子Ａの平均粒径が４０ｎ
ｍ未満では磁性層の対ＶＴＲヘッド摩擦が高く、磁性層
の繰り返し走行耐久性が悪く、またフイルム製膜工程で
の巻取り性も悪い。一方、平均粒径が４００ｎｍより大
きいと、高密度磁気記録媒体としての電磁変換特性に支
障を来す。また粒子Ａによる表面突起頻度が０．５（万
個／ｍｍ²）未満ではやはり磁性層の対ＶＴＲヘッド摩
擦が高く、磁性層の繰り返し走行耐久性が悪く、またフ
イルム製膜工程での巻取り性も悪い。一方、頻度が５
（万個／ｍｍ²）より大きいと高密度磁気記録媒体とし
ての電磁変換特性に支障を来す。さらにまた粒子Ａの形
状は、下式

【００２３】

【数９】ｆ＝Ｖ／ｄ_A ³ （ここで、Ｖは微粒子の体積（μｍ³）を、ｄ_Aは微粒子
投影面の最大径（μｍ）を表す。）で定義される体積形
状係数ｆが０．１〜π／６を満たす必要がある。さらに
体積形状係数ｆが０．３〜π／６のものが好ましく、特
に体積形状係数ｆが０．４〜π／６の実質的に球或いは
ラグビーボール状の楕円球が好ましい。ｆが０．１より
小さい、例えば薄片状粒子では薄膜磁性層の磁気特性の
劣化を来す。

【００２４】粒子Ａの種類としては、架橋シリコーン樹
脂、架橋ポリスチレン、架橋スチレン―ジビニルベンゼ
ン共重合体、ポリメチルメタクリレート、メチルメタク
リレート共重合体、架橋メチルメタクリレート共重合
体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフル
オライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹
脂等の如き耐熱性有機高分子からなる微粒子、シリカ、
アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファ
イト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カー
ボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機化合物からな
る微粒子のいずれでもよい。

【００２５】本発明における皮膜層Ｂを構成する水性樹
脂とは、水溶性有機樹脂及び水分散有機樹脂のことを言
い、水性のアルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ
樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体等を例示すること
ができるが、熱可塑性樹脂層Ａに対する密着性、突起保
持性、易滑性などの点から、水性のアクリル樹脂であ
る。この水性のアクリル樹脂は単一重合体でも共重合体
でもよく、また混合物でも良い。

【００２６】前記水性アクリル樹脂は、例えばアクリル
酸エステル（アルコール残基としては、メチル基、エチ
ル基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル
基、イソブチル基、ｔ―ブチル基、２―エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等を例示できる）；メタクリル酸エステル
（アルコール残基は上記と同じ）；２―ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２―ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―ヒドロ
キシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モ
ノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ―メチ
ルメタクリルアミド、Ｎ―メチルアクリルアミド、Ｎ―
メチロールアクリルアミド、Ｎ―メチロールメタクリル
アミド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリルアミド、Ｎ―メ
トキシメチルアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルメタ
クリルアミド、Ｎ―フェニルアクリルアミド等の如きア
ミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート等の如きアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジル
エーテル等の如きエポキシ基含有モノマー；スチレンス
ルホン酸、ビニルスルホン酸、及びこれらの塩（例えば
ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如
きスルホン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロト
ン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール
酸、及びそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム
塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボキシル基又はそ
の塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコ
ン酸等の無水物を含有するモノマー；その他ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニル
メチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリス
アルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、
アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステ
ル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量
体の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘
導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリル単量
体の成分が５０モル％以上含まれているものが好まし
く、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているもの
が好ましい。

【００２７】かかる水性アクリル樹脂は分子内の官能基
で自己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキ
シ化合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。

【００２８】

【００２９】

【００３０】本発明における内部より外部の方が軟質な
粒子（以下、シェルコア粒子と呼ぶ）Ｂとは、内外部の
それぞれが性質の異なる物質で構成される多層構造の粒
子をいう。この場合多層とは２層以上のことをいい、性
質が径方向に連続的に変化するものであっても良い。こ
の粒子の外部（以下シェル部と呼ぶ）はフイルム上に塗
布後フイルム基部と反応し、または熱処理を行うことに
より反応、溶融、軟化もしくは変形してフイルム基部に
固着する機能を有し、内部（以下、コア部と呼ぶ）はシ
ェル部と共にフイルムに適度のすべり性及び磁気ヘッド
との最適なスペーシングを与える、いわゆる粒子として
の機能を担うと考えられる。上記シェル、コア部それぞ
れの機能分担の観点から、シェル部にはフイルム基部と
の親和性に優れ、かつ製膜、熱処理温度での適切な物理
的、化学的、熱的特性を持つことが要求され、コア部に
は機械的摩擦等によって変形せず、シェル部もしくは基
層フイルムに対し相対的に大なる硬度を持つことが求め
られる。

【００３１】このシェルコア粒子Ｂのコア部の材質とし
ては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼ
ン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、
ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き
有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、
タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化
モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き
無機質のいずれを用いてもよい。

【００３２】シェル部の材質については、一般に熱可塑
性樹脂が好ましく、特にアクリル系樹脂、ポリエステル
系樹脂等が好ましく、さらにはフイルム基部との親和性
を高めるため、その分子中に任意の割合でフイルム基部
との反応性もしくは親和性を有する官能基、具体的には
カルボキシル基、水酸基、グリシジル基、アミド基、エ
ポキシ基、イソシアネート基等を導入したものが良い。
これらの官能基は単独、場合によっては二種以上併用し
ても良い。またシェル部のガラス転移温度（以下、Ｔｇ
とする）は好ましくは８０℃以下、さらに好ましくは２
０℃以下が良い。Ｔｇが８０℃を超えるとシェルコア粒
子のフイルム上からの脱落が目立つようになる。かかる
上記組成のポリマーをシェル部に使用することにより優
れた耐削れ性を発現させることができる。

【００３３】シェルコア粒子Ｂの粒子径ｄ_B（ｎｍ）と
コア部の粒径ｄｃ_B（ｎｍ）の比（ｄ_B／ｄｃ_B）は１．
０２〜２．０、好ましくは１．０４〜１．５である。こ
の比（ｄ_B／ｄｃ_B）が２．０を超えると、多層構造を持
たないシェル部の材質のみからなる有機粒子のような性
質を強く帯びるようになり、熱や機械的摩擦による変形
が大きくなる。一方、１．０２より小さくなると、無機
粒子的な性質が強くなり、フイルムとの固着性低下、該
粒子の脱落等が増加する傾向になり、また凝集率も増加
する傾向になる。いずれの場合もフイルムの加工性、磁
気テープの性能に悪影響を及ぼし易く、好ましくない。

【００３４】シェルコア粒子Ｂの平均粒径は５〜１００
ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。更に粒度分布
が均一であるものが好ましい。平均粒径が５ｎｍを下げ
まわるとすべり性、耐削れ性が悪化し、ロール状に巻取
ったときにブロッキング現象が発生する。一方平均粒径
が１００ｎｍを超えると、粒子の脱落が発生し、耐削れ
性が悪化する。また、磁気ヘッドとのスペーシングが大
きくなり、高密度の磁気記録媒体として供することが困
難となる。

【００３５】シェルコア粒子Ｂの皮膜層Ｂでの凝集率は
１０％以下が好ましく、より好ましくは５％以下であ
る。この凝集率が１０％を超えると、粒子凝集体の異常
突起としての性質が顕著となり、また粒子の脱落も発生
しやすくなり、磁気テープとしての性能に悪影響を及ぼ
し易くなる。

【００３６】また、シェルコア粒子Ｂのマクロ凝集物に
よる、高さが０．５μｍ以上の突起頻度は２５個／ｃｍ
²以下である。このマクロ凝集物による突起頻度が２５
個／ｃｍ²を超えると、ドロップアウトが著しくなり、
実用上問題となる。

【００３７】シェルコア粒子Ｂは、皮膜層Ｂの表面突起
頻度が１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²となる量を該
皮膜層Ｂ中に含有される。この表面突起頻度が１×１０
⁶個／ｍｍ²未満では磁気記録媒体としたときの走行耐
久性が不足する。一方、１×１０⁸個／ｍｍ²を超える
と、電磁変換特性に悪影響を及ぼす。より好ましくは表
面突起頻度は２×１０⁶〜５×１０⁷個／ｍｍ²、更に
好ましくは３．０×１０⁶〜３．０×１０⁷個／ｍｍ²
である。

【００３８】皮膜層Ｂの層厚みｔ_B（ｎｍ）とシェルコ
ア粒子Ｂのコア部の粒径ｄｃ_B （ｎｍ）の比（ｔ _B／ｄｃ
_B）は、０．０８〜０．６、好ましくは０．１〜０．５
である。この比（ｔ _B／ｄｃ_B）が０．６を超えると、シ
ェルコア粒子Ｂの突起形成作用が減少し、磁気記録媒体
としたときの走行耐久性が不足する。一方、０．０８よ
り小さくなると、製膜工程で各種ガイドロールとの接触
によって粒子が削りとられて走行耐久性が不足したり、
削り取られた粒子がフイルム上に付着堆積してドロップ
アウトの増加を引き起こしたりする。

【００３９】シェルコア粒子Ｂは、例えばコア部の粒子
が存在する系で、シェル部の重合性単量体を乳化重合せ
しめ、コア部の粒子表面を被覆する方法で製造すること
ができるが、粒子の製造方法によって限定されるもので
はない。

【００４０】本発明における皮膜層Ｂは熱可塑性樹脂層
Ａの少なくとも片面に、前述したシェルコア粒子及び水
性樹脂を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布、乾燥す
ることで形成するが、この塗液の固形分濃度は０．２〜
１０重量％、さらには０．５〜５重量％、特に０．７〜
３重量％であることが好ましい。そしてこの塗液、好ま
しくは水性塗液には本発明の効果を損わない範囲であれ
ば、所望により他の成分、例えば界面活性剤、安定剤、
分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することができ
る。

【００４１】塗布は最終延伸を施す以前の熱可塑性樹脂
フイルムに行い、塗布後にフイルムを少なくとも一軸方
向に延伸することが好ましい。この延伸の前乃至途中で
塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸熱可塑性樹
脂フイルム又は縦（一軸）延伸熱可塑性樹脂フイルムに
行うことが好ましい。塗布方法としては特に限定されな
いが、例えばロールコート法、ダイコート法等が好まし
く挙げられる。

【００４２】本発明におけるシェルコア粒子Ｂを使用す
ることによって、皮膜層Ｂ中での粒子凝集率及びマクロ
凝集物の頻度が、従来の無機、有機粒子を使用した場合
に比べて格段に改善されるが、その理由として粒子表面
の電位変化による粒子相互の反発力の増加、安定ｐＨ領
域の変化、などが考えられる。

【００４３】皮膜層Ｂの表面の、原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ）による表面粗さＡＲａ_B は０．７〜２．５ｎｍであ
り、且つ１０点平均粗さＡＲｚ_Bは１０〜１００ｎｍ、
さらに好ましくは１５〜７０ｎｍ、特に好ましくは２０
〜４０ｎｍである。このＡＲａ _Bが過度に大きい場合、
あるいはＡＲｚ_Bが１００ｎｍを超える場合は、特に金
属薄膜型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化
する。一方、ＡＲａ _Bが過度に小さい場合、あるいはＡ
Ｒｚ_B（ｎｍ）が１０ｎｍ未満の場合は、滑り性が極度
に悪化して走行耐久性が不足したり、磁気ヘッドに貼り
付いてテープ鳴きを生じたりして実用に供することがで
きなくなり易い。

【００４４】本発明ではフイルムの巻取り性を付与する
ために、熱可塑性樹脂層Ａの、皮膜層Ｂとは接しない面
に不活性粒子Ｃを含有する皮膜層Ｃを設けることが好ま
しい。

【００４５】皮膜層Ｃは塗布層として形成してもよく、
また後述する共押出し法により形成してもよい。皮膜層
Ｃが塗布層である場合は、含有する不活性粒子Ｃは単独
粒子又は大きさの違う２種以上の粒子からなり、単独粒
子及は２種以上の粒子の場合の最も大きい粒子の平均粒
径は２０〜２００ｎｍ、好ましくは３０〜１００ｎｍで
ある。皮膜層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量は３〜５０重
量％、好ましくは５〜３０重量％である。粒子Ｃの平均
粒径が２０ｎｍ未満、あるいは含有量が３重量％未満で
あると、フイルムの巻取り性、製膜工程での搬送性等の
点で不十分であり、またブロッキングを起こし易くな
る。一方、平均粒径が２００ｎｍを超える場合は、粒子
が塗膜から脱落しやすくなる。また皮膜層Ｃ中の不活性
粒子Ｃの含有量が５０重量％を超える場合は皮膜層Ｃ自
体の強度が低下し、削れ易くなる。

【００４６】皮膜層Ｃに含有する不活性粒子Ｃとして
は、ポリスチレン、ポリスチレン−ジビニルベンゼン、
ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重
合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリ
アクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機
質からなる粒子、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カ
オリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長
石、二酸化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウ
ム等の如き無機質からなる粒子のいずれを用いてもよ
い。

【００４７】前記粒子Ｃを含有して、塗布層を形成する
樹脂としては、皮膜層Ｂの形成に用いた水性樹脂と同じ
樹脂を例示することができる。またこれらに更にセルロ
ース系樹脂を含有させてもよい。

【００４８】皮膜層Ｃが共押出し法により形成される場
合は、含有する不活性粒子Ｃが単独粒子又は大きさの違
う２種以上の粒子からなり、単独粒子及は２種以上の粒
子の場合の最も大きい粒子の平均粒径は１００〜１００
０ｎｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍである。皮膜層
Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量は０．００１〜５．０重量
％、好ましくは０．００５〜１．０重量％である。平均
粒径が１００ｎｍ未満、あるいは含有量が０．００１重
量％未満であると、フイルムの巻取り性、製膜工程での
搬送性等の点で不十分であり、またブロッキングを起こ
し易くなる。一方、平均粒径が１０００ｎｍを超える場
合、あるいは含有量が５．０重量％を超える場合は、皮
膜層Ｂ側の面への突き上げ効果が著しくなり、電磁変換
特性の悪化が起こる。不活性粒子Ｃの種類としては皮膜
層Ｃを塗布層とした場合に用いた粒子と同じ粒子を例示
できる。

【００４９】本発明の積層フイルムは、従来から知られ
ている、或いは当業界に蓄積されている方法で製造する
ことができる。

【００５０】例えば、二軸配向ポリエステルフイルムで
説明すると、塗布法の場合まず、前記熱可塑性樹脂Ａを
口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフイル
ム状に押出した後、４０〜９０℃で急冷固化し未延伸フ
イルムを得る。しかる後に、該未延伸フイルムを常法に
従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）
〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステル
のガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ま
しくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで、皮膜
層Ｂ、Ｃを形成する塗液をフイルム両面に塗布し、その
後に前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃温
度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜
７．５倍の倍率で延伸する。更に必要に応じて縦方向及
び／又は横方向に再度延伸しても良い。即ち、２段、３
段、４段、或いは多段の延伸を行うと良い。全延伸倍率
は、面積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２
〜３５倍、更に好ましくは１５〜２６倍である。更に引
き続いて、二軸配向フイルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ
−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結
晶化することによって優れた寸法安定性が付与される。
なお、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。

【００５１】共押出し法の場合、層Ａ、層Ｃ用の、２種
の熱可塑性樹脂を押出し口金内又は口金以前（一般に前
者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック
方式と呼ぶ）で溶融状態にて積層複合し、好適な厚み比
となして共押出しをして二層積層の未延伸フイルムと
し、かつ一軸延伸後に皮膜層Ｂを形成する塗液を塗布す
る以外は前記塗布法と同様に行うと良い。かかる方法に
より、層間密着性の良い二軸配向積層ポリエステルフイ
ルムが得られる。

【００５２】なお、積層フイルムの製造に際し、熱可塑
性樹脂に、所望により上述の不活性粒子以外の添加剤、
例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤
等を添加含有させることができる。

【００５３】本発明の積層フイルムは、皮膜層Ｂの表面
に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主
成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜
層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じ
てダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、
含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性
樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知のバックコート層を
設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ
／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラー
レートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とする
ことが出来る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信
号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデ
オカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤ
ＳIV用テープ媒体として極めて有用である。

【００５４】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉を塩
化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等の
バインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好
ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可
塑性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知の方法でバック
コート層を設けることにより、特に短波長領域での出
力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップ
アウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布
型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じ
て皮膜層Ｂの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層とし
て微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層
と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもでき
る。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記
録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、
ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダ
ー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβ
カム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極めて有
用である。

【００５５】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、
又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉を塩化ビニ
ール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバイン
ダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましく
は０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可塑性樹
脂層Ａ又は皮膜層Ｃの上に公知の方法でバックコート層
を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／
Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、
エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録媒体
とすることが出来る。また、必要に応じて皮膜層Ｂの上
に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チ
タン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バ
インダー中に分散、塗設することも出来る。この酸化物
塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データス
トリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒
体として有用である。

【００５６】上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明の
フイルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に
極めて有用なベースフイルムと言うことができる。

【００５７】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、本発明において用いた測定法は次の通りで
ある。

【００５８】（１）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．
０６μｍ以上）島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグルパーテ
ィクルサイズアナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book
「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２
４２〜２４７参照）。

【００５９】（２）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．
０６μｍ未満）小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。即ち、ＮｉｃｏｍｐＩｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔｓＩｎｃ．社製のＮＩＣＯＭＰＭ
ＯＤＥＬ２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣ
ＬＥＳＩＺＥＲにより求められる全粒子の５０重量
％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００６０】（３）体積形状係数ｆ走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス
５００（日本レギュレーター製）を用い、投影面最大径
及び粒子の体積を算出し、次式により算出する。

【００６１】

【数１０】ｆ＝Ｖ／ｄ³ 式中、ｆは体積球状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ³）、
ｄは投影面の最大径（μｍ）を表す。

【００６２】（４）層厚及びコアシェル粒子のコア部粒
径フイルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０
点測定し、その平均値を用いる。層厚は、薄い側の層厚
を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全
厚より薄い側の層厚に引き算して求める。即ち、二次イ
オン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ
５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃度
の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度
比（Ｍ⁺／Ｃ⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ５００
０ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という
界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて
粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安
定値１になった後、上昇或いは減少して安定値２になる
場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線を
もとに、前者の場合は（安定値１＋安定値２）／２の粒
子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃
度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１
を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚とす
る。

【００６３】測定条件は以下の通りである。測定装置二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：ＰＥＲＫＩＮ
ＥＬＭＥＲ社製６３００測定条件一次イオン種：Ｏ２＋一次イオン加速電圧：１２ＫＶ一次イオン電流：２００ｎＡラスター領域：４００μｍ□ 分析領域：ゲート３０％測定真空度：６．０×１０^-9ＴｏｒｒＥ―ＧＵＮＮ：０．５ＫＶ―３．０Ａ

【００６４】尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多
く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子
の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッ
チングしながらＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム
赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光
法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求め
る。

【００６５】以上は共押出し層の場合に有効な測定法で
あって、塗布層の場合はフイルムの小片をエポキシ樹脂
にて固定成形し、ミクロトームにて約６０ｎｍの厚みの
超薄切片（フイルムの流れ方向に平行に切断する）を作
成し、この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ―
８００型）にて観察し、層の境界面より層厚みを求め
る。コアシェル粒子のコア部の粒径もこの超薄切片の断
面より観察し、求める。

【００６６】（５）ＡＦＭ表面粗さＡＲａ及びＡＲｚＤｉｇｉｔａｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間
力顕微鏡ＮａｎｏＳｃｏｐｅIII ＡＦＭのＪスキャナ
ーを使用し、以下の条件で算出されるＡＲａ（２乗平均
粗さ）及びＡｒｚ（１０点平均粗さ）を測定する。探針：単結合シリコンセンサー走査モード：タッピングモード走査範囲：２μｍ×２μｍ画素数：２５６×２５６データポイントスキャン速度：２．０Ｈｚ測定環境：室温、大気中

【００６７】（６）粒子突起の個数、凝集率ＳＥＭ（走査電子顕微鏡、日本電子製Ｔ―３００型）を
使用して、積層フイルムの表面を倍率５千倍あるいは３
万倍、角度０°で２０枚写真撮影して、粒状突起の数を
カウントし、その平均値を面積換算により個／ｍｍ²当
たりの突起個数として算出する。また凝集率は同じＳＥ
Ｍ写真を用いて下記式にて算出する。凝集率（％）＝［（２個以上の粒子が凝集した凝集塊の
総数）／（１個以上の粒子塊の総数）］×１００

【００６８】（７）マクロ凝集物による突起の高さと頻
度積層フイルムの皮膜層Ｂの面に真空蒸着法により傾斜角
４５°の角度から０．２μｍの厚みになるようにアルミ
ニウム薄膜を形成し、透過顕微鏡にて倍率４００倍で１
ｃｍ²を走査観察し、突起の影による非蒸着部の最大長
さ（突起高さに相当）が０．２ｍｍ以上の透過光の個数
をカウントする。（即ち、高さが０．２ｍｍ／４００＝
０．５μｍ以上の粗大なマクロ凝集物による突起頻度を
カウント。）

【００６９】（８）耐削れ性フイルムを２５〜３０ｃｍ長さ、幅１／２インチにサン
プリングし、レザー刃を皮膜層Ｂの面に対し９０°の角
度、深さ０．５ｍｍの条件であてがい、荷重５００ｇ／
０．５インチ、速度６．７ｃｍ／ｓｅｃで走行させたと
きに、レザー刃に付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微
鏡写真撮影（×１６０倍）して求めた。削れ粉の深さ方
向の幅が３μｍ以下を（◎）、３μｍ〜５μｍを
（○）、５μｍ以上を（×）とした。削れ粉の深さ方向
の幅が小さいほど削れ性に優れている。

【００７０】（９）巻き取り性スリット時の巻き取り条件を最適化後、幅５６０ｍｍ×
長さ９０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行
い、１週間放置後の、フイルムシワの発生のないロール
本を良品として、以下の基準にて巻き取り性の評価をす
る。良品ロール本数判定基準８本以上 ◎ ５〜７本 ○ ３〜４本 × ２本以下 ××

【００７１】（１０）磁気テープの製造及び特性評価積層フイルムの皮膜層Ｂの表面に、真空蒸着法により、
コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みに
なるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表
面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含
フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性樹
脂Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知方法でバックコート層を
設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍ
ビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市
販の機器を用いてテープの特性を測定する。使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ
―６０００Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター

【００７２】Ｃ／Ｎ測定記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。 ◎ ：＋２ｄＢ以上 ○ ：−１〜＋２ｄＢ × ：−４〜−２ｄＢ ××：−４ｄＢ以下

【００７３】ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）測定ドロップアウトカウンターを用いて、１５μｓ／１８ｄ
Ｂにて１分間当たりの個数を測定する。 ◎ ：０〜１０個／分 ○ ：１０〜２０個／分 × ：２０〜５０個／分 ××：５０個／分以上

【００７４】走行耐久性４０℃、８０％ＲＨで、テープ、走行速度８５ｃｍ／分
で記録再生を５００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、
初期値からのずれを次の基準で判定する。 ◎ ：初期値に対して＋０．０ｄＢ以上 ○ ：初期値に対して−１．０ｄＢ〜＋０．０ｄＢ × ：初期値に対して−１．０ｄＢ未満

【００７５】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す不活性粒子
を添加して常法により重合し、ポリエチレンテフタレー
ト（ＰＥＴ）を得た。

【００７６】このポリエチレンテレフタレートを７０℃
で３時間乾燥後、押出し機に供給し、溶融温度２８０〜
３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押し出し、
急冷して厚さ８４μｍの未延伸フイルムを得た。

【００７７】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度９５℃にて縦方向に
３．２倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの一
方の面に表１の皮膜層Ｂの水性樹脂および粒子Ｂを含む
水性塗液を、もう一方の反対の面に表２の皮膜層Ｃの樹
脂および粒子Ｃを含む水性塗液を各々０．００５μｍ、
０．０１５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布
し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に
４．１倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２２
０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．４μｍの積層二
軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００７８】［実施例２、比較例４、７、９］皮膜層Ｂ
と皮膜層Ｃの樹脂及び粒子、熱可塑性樹脂層Ａの厚みを
表１、２のように変更する以外は実施例１と同様の方法
で積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００７９】［比較例２、６］表１、２の熱可塑性樹脂層Ａ、皮膜層Ｃ用のポリエチレ
ンテレフタレートをそれぞれ２台の押し出し機に供給し
て、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて積層
し、表１の皮膜層Ｂの水性樹脂及び粒子Ｂを含む水性塗
液を皮膜層Ｃ側の面と反対の面に塗布する以外は実施例
１と同様の方法で積層二軸配向ポリエステルフイルムを
得た。

【００８０】［実施例３、比較例１、３、５、１０］表１に示す粒子を用い、かつジメチルテレフタレートの
代わりに２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同
モル量使用した以外は実施例１と同様の方法でポリエチ
レン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）を得た。

【００８１】このポリエチレン―２，６―ナフタレート
を１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各
実施例、比較例を満たす未延伸フイルムを得た。

【００８２】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度１３５℃にて縦方向
に３．６倍に延伸し、急冷し、次いで表１、２に示す皮
膜層Ｂ及び皮膜層Ｃの水性塗液を実施例１と同様に塗布
し、続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に
６．０倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２０
０℃の熱風で４秒間熱固定し、積層二軸配向ポリエステ
ルフイルムを得た。

【００８３】［比較例８］表１、２の熱可塑性樹脂層Ａ、皮膜層Ｃ用のポリエチレ
ンテレフタレートをそれぞれ２台の押し出し機に供給し
て、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて積層
し、表１の皮膜層Ｂの水性樹脂及び粒子Ｂを含む水性塗
液を皮膜層Ｃ側の面と反対の面に塗布し、ポリエチレン
テレフタレートの代りに、表１に示すようにポリエチレ
ン―２，６―ナフタレートを用いる以外は実施例１と同
様の方法で積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００８４】

【表１】

【００８５】

【表２】

【００８６】実施例１〜３及び比較例１〜１０で得られ
た積層二軸配向フイルムの表面特性、シェルコア粒子の
粒子径ｄ_Bとコア部の粒径の比ｄ_B／ｄｃ_B、皮膜層Ｂの
層厚みｔ_Bとシェルコア粒子のコア部の粒径ｄｃ_Bの比ｔ
_B／ｄｃ_B、耐削れ性、巻き取り性、このフイルムを用い
た強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表３に示す。

【００８７】

【表３】

【００８８】表３から明らかなように、本発明による積
層フイルムは製膜工程での削れ性、巻取り性に優れ、磁
気記録媒体として用いられる場合に電磁変換特性、ドロ
ップアウト特性、走行耐久性に極めて優れる。一方、本
発明の要件を満たさないものはこれらの特性を同時に満
足することはできない。

【００８９】

【発明の効果】本発明によれば、製膜工程での削れ性、
巻取り性に優れ、かつ電磁変換特性、ドロップアウト特
性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体のベースフイルム
として有用な積層フイルムを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平７−241962（ＪＰ，Ａ) 特開平７−232420（ＪＰ，Ａ) 特開平７−249217（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】平均粒径４０〜４００ｎｍ、体積形状係
数０．１〜π／６の不活性粒子Ａを表面の突起頻度が
０．５万〜５万個／ｍｍ²となる量含有する熱可塑性樹
脂層Ａの少なくとも片面に、水性のアクリル樹脂及び平
均粒径ｄ_Bが５〜１００ｎｍである内部より外部が柔軟
なコアシェル型構造の粒子Ｂを含有する皮膜層Ｂを積層
した積層フイルムであって、粒子Ｂの平均粒径ｄ_B（ｎ
ｍ）、粒子Ｂのコア部の粒径ｄｃ_B（ｎｍ）、及び皮膜
層Ｂの層厚みｔ_B（ｎｍ）が下記式（１）、（２）を同
時に満足し、皮膜層Ｂの粒子Ｂによる表面突起の頻度が
１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²であり、原子間力顕微
鏡（ＡＦＭ）にて測定した皮膜層Ｂの表面粗さＡＲａ_B
（ｎｍ）及び１０点平均粗さＡＲｚ_B（ｎｍ）が下記式
（３）、（４）を同時に満足し、かつ粒子Ｂのマクロ凝
集物による高さが０．５μｍ以上の突起頻度が２５個／
ｃｍ²以下であることを特徴とする積層フイルム。【数１】１．０２≦ｄ_B／ｄｃ_B≦２．０・・・・・・（１）【数２】０．０８≦ｔ_B／ｄｃ_B≦０．６・・・・・・（２）【数３】０．７≦ＡＲａ_B≦２．５・・・・・・（３）【数４】１０≦ＡＲｚ_B≦１００・・・・・・（４）
【請求項２】皮膜層Ｂ中の粒子Ｂの凝集率が１０％以
下である請求項１に記載の積層フイルム。
【請求項３】熱可塑性樹脂層Ａの皮膜層Ｂとは接して
いない面に、不活性粒子Ｃを含有する塗布層からなる皮
膜層Ｃを積層し、該塗膜層中の不活性粒子Ｃが単独粒子
又は大きさの違う２種以上の粒子からなり、単独粒子の
平均粒径又は２種以上の粒子のうち最も大きい粒子の平
均粒径が２０〜２００ｎｍであり、かつ不活性粒子Ｃの
含有量が１〜５０重量％である請求項１に記載の積層フ
イルム。
【請求項４】熱可塑性樹脂層Ａの皮膜層Ｂとは接して
いない面に、不活性粒子Ｃを含有する共押出層からなる
皮膜層Ｃを積層し、該共押出層中の不活性粒子Ｃが単独
粒子又は大きさの違う２種以上の粒子からなり、単独粒
子の平均粒径又は２種以上の粒子のうち最も大きい粒子
の平均粒径が０．１〜１μｍであり、かつ不活性粒子Ｃ
の含有量が０．００１〜５．０重量％である請求項１に
記載の積層フイルム。
【請求項５】積層フイルムの全厚みが２．５〜２０μ
ｍである請求項１〜４のいずれかに記載の積層フイル
ム。
【請求項６】磁気記録媒体のベースフイルムである請
求項１〜５のいずれかに記載の積層フイルム。
【請求項７】磁気記録媒体が金属薄膜型磁気記録媒体
である請求項６に記載の積層フイルム。
【請求項８】磁気記録媒体が磁性層の厚みが１μｍ以
下の塗布型磁気記録媒体である請求項６に記載の積層フ
イルム。
【請求項９】磁気記録媒体がデジタル信号記録型磁気
記録媒体である請求項６、７又は８に記載の積層フイル
ム。