JP3357191B2 - オレフィン重合体の製造法 - Google Patents
オレフィン重合体の製造法Info
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、オレフィン重合体の製
造法に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、
炭素数3〜12のα−オレフィンを立体規則性重合させ
てメルトフローレート(MFR)が30〜1000g/
10分と大きい(分子量の比較的小さい)重合体を製造
する場合であっても、高活性でしかも高立体規則性を有
するオレフィン重合体の製造を可能にする方法に関する
ものである。
造法に関するものである。さらに詳しくは、本発明は、
炭素数3〜12のα−オレフィンを立体規則性重合させ
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する場合であっても、高活性でしかも高立体規則性を有
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【0002】
【従来の技術】チタン、マグネシウム、ハロゲンおよび
必要に応じて電子供与性化合物を含有する固体成分と、
周期律表第I〜III 族の有機金属化合物成分、さらに必
要に応じて電子供与性化合物成分からなるオレフィン重
合用触媒を用いて、炭素数3以上のα−オレフィンを立
体規則性重合させて、オレフィン重合体を製造すること
は公知である。また、有機金属成分として有機亜鉛化合
物は知られているが、これを使用した触媒は活性が不充
分なものであるので、最近では使用されることがない。
近年、ポリオレフィン重合体を成型するときには、経済
性の観点から成型サイクルの向上のため成型スピードの
向上が要求されている。そのためには、重合体の分子量
が小さいこと、言い換えるとメルトフローレート(MF
R)が大きいこと、が必要となるが、その分子量が小さ
いときでも従来通りの高立体規則性が必要となる。高立
体規則性のポリオレフィン重合体でないと、成形材料と
して必要な充分な性能、例えば剛性が得られ難いからで
ある。
必要に応じて電子供与性化合物を含有する固体成分と、
周期律表第I〜III 族の有機金属化合物成分、さらに必
要に応じて電子供与性化合物成分からなるオレフィン重
合用触媒を用いて、炭素数3以上のα−オレフィンを立
体規則性重合させて、オレフィン重合体を製造すること
は公知である。また、有機金属成分として有機亜鉛化合
物は知られているが、これを使用した触媒は活性が不充
分なものであるので、最近では使用されることがない。
近年、ポリオレフィン重合体を成型するときには、経済
性の観点から成型サイクルの向上のため成型スピードの
向上が要求されている。そのためには、重合体の分子量
が小さいこと、言い換えるとメルトフローレート(MF
R)が大きいこと、が必要となるが、その分子量が小さ
いときでも従来通りの高立体規則性が必要となる。高立
体規則性のポリオレフィン重合体でないと、成形材料と
して必要な充分な性能、例えば剛性が得られ難いからで
ある。
【0003】しかしながら、従来知られている触媒で
は、分子量の比較的大きい(例えば、MFR=1)重合
体の製造のときは高立体規則性を有する重合体が得られ
るが、分子量の小さい(例えばMFR=50)ものを製
造する条件、例えば重合系に添加する水素の量を変えた
条件、では、目的とする重合体の立体規則性が低下す
る。そこで、上記問題点を解決するために、例えば外部
ドナーとしての電子供与性化合物を多量に使用する方法
が考えられるが、その場合は、触媒活性の大巾低下や触
媒のコスト上昇等の問題点が避け難い。したがって、多
量の水素や電子供与体を使用しないで重合体の分子量の
比較的小さいところで、高活性でしかも高立体規則性を
有する重合体を得られる製造法を提供することが望まれ
ている。
は、分子量の比較的大きい(例えば、MFR=1)重合
体の製造のときは高立体規則性を有する重合体が得られ
るが、分子量の小さい(例えばMFR=50)ものを製
造する条件、例えば重合系に添加する水素の量を変えた
条件、では、目的とする重合体の立体規則性が低下す
る。そこで、上記問題点を解決するために、例えば外部
ドナーとしての電子供与性化合物を多量に使用する方法
が考えられるが、その場合は、触媒活性の大巾低下や触
媒のコスト上昇等の問題点が避け難い。したがって、多
量の水素や電子供与体を使用しないで重合体の分子量の
比較的小さいところで、高活性でしかも高立体規則性を
有する重合体を得られる製造法を提供することが望まれ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、前述の問題点を解決することにあり、本発
明は、生成重合体の分子量の比較的小さいところで高活
性でしかも高立体規則性を有する重合体の得られる触媒
を提供するものである。
する課題は、前述の問題点を解決することにあり、本発
明は、生成重合体の分子量の比較的小さいところで高活
性でしかも高立体規則性を有する重合体の得られる触媒
を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】〔発明の概要〕 <要旨>本発明はこれらの問題点に解決を与えることを
目的とするものであって、触媒の活性が十分に高くかつ
極性ビニルモノマー含量の高い共重合体を与える製造法
に関する。即ち、本発明のオレフィン重合体の製造方法
は、触媒の存在下炭素数3〜12のα−オレフィンを立
体規則性重合させてメルトフローレート(MFR)が3
0〜1000g/10分のオレフィン重合体を製造する
方法において、使用する触媒が下記成分(A)、成分
(B)及び成分(C)からなるものであることを特徴と
するものである。 成分(A):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを必
須成分として含有し、かつ下記の一般式で表されるケイ
素化合物を含有してなるオレフィンの立体規則性重合用
固体触媒成分 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2 はR1 と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3 は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(B):下記の一般式で表される有機アルミニウム
化合物 一般式 R4 3-m AlXm (ここで、R4 は炭素数1〜20の炭化水素残基を、X
は水素またはハロゲンを、mは0≦m≦2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(C):下記の一般式で表される有機亜鉛化合物 一般式 R5 R6 Zn (ここで、R5 およびR6 はそれぞれ独立して炭素数1
〜20の炭化水素残基を示す)
目的とするものであって、触媒の活性が十分に高くかつ
極性ビニルモノマー含量の高い共重合体を与える製造法
に関する。即ち、本発明のオレフィン重合体の製造方法
は、触媒の存在下炭素数3〜12のα−オレフィンを立
体規則性重合させてメルトフローレート(MFR)が3
0〜1000g/10分のオレフィン重合体を製造する
方法において、使用する触媒が下記成分(A)、成分
(B)及び成分(C)からなるものであることを特徴と
するものである。 成分(A):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを必
須成分として含有し、かつ下記の一般式で表されるケイ
素化合物を含有してなるオレフィンの立体規則性重合用
固体触媒成分 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2 はR1 と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3 は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(B):下記の一般式で表される有機アルミニウム
化合物 一般式 R4 3-m AlXm (ここで、R4 は炭素数1〜20の炭化水素残基を、X
は水素またはハロゲンを、mは0≦m≦2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(C):下記の一般式で表される有機亜鉛化合物 一般式 R5 R6 Zn (ここで、R5 およびR6 はそれぞれ独立して炭素数1
〜20の炭化水素残基を示す)
【0006】
【発明の効果】本発明によれば、高活性でしかも目的と
する重合体の分子量の比較的小さいところ、即ち、MF
Rで30〜1000g/10分、好ましくは50〜50
0g/10分の範囲の重合体でも、立体規則性が高い重
合体の製造が可能となる。この様な効果が発現する理由
は明らかではないが、有機亜鉛化合物を使用することで
少い水素の添加で目的とするMFRの大きい、高立体規
則性の重合体が得られることにある。
する重合体の分子量の比較的小さいところ、即ち、MF
Rで30〜1000g/10分、好ましくは50〜50
0g/10分の範囲の重合体でも、立体規則性が高い重
合体の製造が可能となる。この様な効果が発現する理由
は明らかではないが、有機亜鉛化合物を使用することで
少い水素の添加で目的とするMFRの大きい、高立体規
則性の重合体が得られることにある。
【0007】発明の具体的説明 本発明の方法において使用される触媒は、下記の成分
(A)、成分(B)及び成分(C)からなるものであ
る。 <成分(A)>本発明で使用する成分(A)は、チタ
ン、マグネシウムおよびハロゲンを必須成分として含有
し、かつ下記の一般式で表されるケイ素化合物を含有し
てなる固体触媒成分である。 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2 はR1 と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3 は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の
数を、それぞれ示す) 先ず、ここでTi、Mgおよびハロゲンに関してこれを
「必須成分として含有し」ということは、挙示の三成分
の外に合目的的な他元素を含んでいてもよいこと、これ
らの元素はそれぞれが合目的的な任意の化合物として存
在してもよいこと、ならびにこれら元素は相互に結合し
たものとして存在してもよいこと、を示すものである。
(A)、成分(B)及び成分(C)からなるものであ
る。 <成分(A)>本発明で使用する成分(A)は、チタ
ン、マグネシウムおよびハロゲンを必須成分として含有
し、かつ下記の一般式で表されるケイ素化合物を含有し
てなる固体触媒成分である。 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2 はR1 と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3 は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の
数を、それぞれ示す) 先ず、ここでTi、Mgおよびハロゲンに関してこれを
「必須成分として含有し」ということは、挙示の三成分
の外に合目的的な他元素を含んでいてもよいこと、これ
らの元素はそれぞれが合目的的な任意の化合物として存
在してもよいこと、ならびにこれら元素は相互に結合し
たものとして存在してもよいこと、を示すものである。
【0008】チタン、マグネシウムおよびハロゲンを含
む固体成分そのものは公知のものである。例えば、特開
昭53−45688号、同54−3894号、同54−
31092号、同54−39483号、同54−945
91号、同54−118484号、同54−13158
9号、同55−75411号、同55−90510号、
同55−90511号、同55−127405号、同5
5−147507号、同55−155003号、同56
−18609号、同56−70005号、同56−72
001号、同56−86905号、同56−90807
号、同56−155206号、同57−3803号、同
57−34103号、同57−92007号、同57−
121003号、同58−5309号、同58−531
0号、同58−5311号、同58−8706号、同5
8−27732号、同58−32604号、同58−3
2605号、同58−67703号、同58−1172
06号、同58−127708号、同58−18370
8号、同58−183709号、同59−149905
号、同59−149906号各公報等に記載のものが使
用される。
む固体成分そのものは公知のものである。例えば、特開
昭53−45688号、同54−3894号、同54−
31092号、同54−39483号、同54−945
91号、同54−118484号、同54−13158
9号、同55−75411号、同55−90510号、
同55−90511号、同55−127405号、同5
5−147507号、同55−155003号、同56
−18609号、同56−70005号、同56−72
001号、同56−86905号、同56−90807
号、同56−155206号、同57−3803号、同
57−34103号、同57−92007号、同57−
121003号、同58−5309号、同58−531
0号、同58−5311号、同58−8706号、同5
8−27732号、同58−32604号、同58−3
2605号、同58−67703号、同58−1172
06号、同58−127708号、同58−18370
8号、同58−183709号、同59−149905
号、同59−149906号各公報等に記載のものが使
用される。
【0009】本発明において使用されるマグネシウム源
となるマグネシウム化合物としては、マグネシウムジハ
ライド、ジアルコキシマグネシウム、アルコキシマグネ
シウムハライド、マグネシウムオキシハライド、ジアル
キルマグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシ
ウム、マグネシウムのカルボン酸塩等があげられる。こ
れらの中でもマグネシウムジハライド及びジアルコキシ
マグネシウムが好ましい。
となるマグネシウム化合物としては、マグネシウムジハ
ライド、ジアルコキシマグネシウム、アルコキシマグネ
シウムハライド、マグネシウムオキシハライド、ジアル
キルマグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシ
ウム、マグネシウムのカルボン酸塩等があげられる。こ
れらの中でもマグネシウムジハライド及びジアルコキシ
マグネシウムが好ましい。
【0010】また、チタン源となる化合物は、一般式T
i(OR7 )4-p Xp (ここで、R 7 は炭化水素残基、
好ましくは炭素数1〜10程度のもの、であり、Xはハ
ロゲンを示し、pは0≦p≦4の数を示す)で表わされ
る化合物があげられる。具体例としては、TiCl4 、
TiBr4 、Ti(OC2 H5 )Cl3 、Ti(OC 2
H5 )2 Cl2 、Ti(OC2 H5 )3 Cl、Ti(O
−iC3 H7 )Cl3、Ti(O−nC4 H9 )C
l3 、Ti(O−nC4 H9 )2 Cl2 、Ti(OC2
H5 )Br3 、Ti(OC2 H5 )(OC4 H9 )2 C
l、Ti(O−nC 4 H9 )3 Cl、Ti(O−C6 H
5 )Cl3 、Ti(O−iC4 H9 )2 Cl 2 、Ti
(OC5 H11)Cl3 、Ti(OC6 H13)Cl3 、T
i(OC2 H5)4 、Ti(O−nC3 H7 )4 、Ti
(O−nC4 H9 )4 、Ti(O−iC 4 H9 )4 、T
i(O−nC6 H13)4 、Ti(O−nC8 H17)4 、
Ti〔OCH2 CH(C2 H5 )C4 H9 〕4 などが挙
げられる。
i(OR7 )4-p Xp (ここで、R 7 は炭化水素残基、
好ましくは炭素数1〜10程度のもの、であり、Xはハ
ロゲンを示し、pは0≦p≦4の数を示す)で表わされ
る化合物があげられる。具体例としては、TiCl4 、
TiBr4 、Ti(OC2 H5 )Cl3 、Ti(OC 2
H5 )2 Cl2 、Ti(OC2 H5 )3 Cl、Ti(O
−iC3 H7 )Cl3、Ti(O−nC4 H9 )C
l3 、Ti(O−nC4 H9 )2 Cl2 、Ti(OC2
H5 )Br3 、Ti(OC2 H5 )(OC4 H9 )2 C
l、Ti(O−nC 4 H9 )3 Cl、Ti(O−C6 H
5 )Cl3 、Ti(O−iC4 H9 )2 Cl 2 、Ti
(OC5 H11)Cl3 、Ti(OC6 H13)Cl3 、T
i(OC2 H5)4 、Ti(O−nC3 H7 )4 、Ti
(O−nC4 H9 )4 、Ti(O−iC 4 H9 )4 、T
i(O−nC6 H13)4 、Ti(O−nC8 H17)4 、
Ti〔OCH2 CH(C2 H5 )C4 H9 〕4 などが挙
げられる。
【0011】また、TiX′4 (ここで、X′はハロゲ
ンを示す)に後述する電子供与体を反応させた分子化合
物をチタン源として用いることもできる。そのような分
子化合物の具体例としては、TiCl4 ・CH3 COC
2 H5 、TiCl4 ・CH3CO2 C2 H5 、TiCl
4 ・C6 H5 NO2 、TiCl4 ・CH3 COCl、T
iCl4 ・C6 H5 COCl、TiCl4 ・C6 H5 C
O2 C2 H5 、TiCl4 ・ClCOC2 H5 、TiC
l4 ・C4 H4 O等が挙げられる。またTiCl3 (T
iCl4 をH2 で還元したもの、Al金属で還元したも
の、あるいは有機金属化合物で還元したもの等を含
む)、TiBr3 、Ti(OC 2 H5 )Cl2 、TiC
l2 、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロライド
等のチタン化合物の使用も可能である。これらのチタン
化合物の中でもTiCl4 、Ti(OR7 )4 (ここで
R7 は前記と同じ)、殊にTi(OC4 H9 )4 、Ti
(OC2 H5 )Cl3 等が好ましい。ハロゲンは、上述
のマグネシウムおよび(または)チタンのハロゲン化合
物から供給されるのが普通であるが、他のハロゲン源、
たとえばAlCl3 、AlBr3 、(C2 H5 )AlC
l2 、(C2 H5 )AlCl、Al(OCH3 )2 C
l、等のアルミニウムのハロゲン化物やSiCl4 、S
i(CH3 )Cl3 、等のケイ素のハロゲン化物、PC
l5 等のリンのハロゲン化物、WCl6 、MoCl5 等
といった公知のハロゲン化剤から供給することもでき
る。触媒成分中に含まれるハロゲンは、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素またはこれらの混合物であってもよく、特
に塩素が好ましい。
ンを示す)に後述する電子供与体を反応させた分子化合
物をチタン源として用いることもできる。そのような分
子化合物の具体例としては、TiCl4 ・CH3 COC
2 H5 、TiCl4 ・CH3CO2 C2 H5 、TiCl
4 ・C6 H5 NO2 、TiCl4 ・CH3 COCl、T
iCl4 ・C6 H5 COCl、TiCl4 ・C6 H5 C
O2 C2 H5 、TiCl4 ・ClCOC2 H5 、TiC
l4 ・C4 H4 O等が挙げられる。またTiCl3 (T
iCl4 をH2 で還元したもの、Al金属で還元したも
の、あるいは有機金属化合物で還元したもの等を含
む)、TiBr3 、Ti(OC 2 H5 )Cl2 、TiC
l2 、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロライド
等のチタン化合物の使用も可能である。これらのチタン
化合物の中でもTiCl4 、Ti(OR7 )4 (ここで
R7 は前記と同じ)、殊にTi(OC4 H9 )4 、Ti
(OC2 H5 )Cl3 等が好ましい。ハロゲンは、上述
のマグネシウムおよび(または)チタンのハロゲン化合
物から供給されるのが普通であるが、他のハロゲン源、
たとえばAlCl3 、AlBr3 、(C2 H5 )AlC
l2 、(C2 H5 )AlCl、Al(OCH3 )2 C
l、等のアルミニウムのハロゲン化物やSiCl4 、S
i(CH3 )Cl3 、等のケイ素のハロゲン化物、PC
l5 等のリンのハロゲン化物、WCl6 、MoCl5 等
といった公知のハロゲン化剤から供給することもでき
る。触媒成分中に含まれるハロゲンは、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素またはこれらの混合物であってもよく、特
に塩素が好ましい。
【0012】本発明で使用する成分(A)は、上述のマ
グネシウム化合物及びチタン化合物を用いて製造される
固体成分と前述のケイ素化合物とを接触させて得られる
が、好ましくはジハロゲン化マグネシウムとTi(OR
7 )4 (R7 は前記と同じ)とを含む炭化水素溶媒にア
ルキルヒドロポリシロキサン(炭素数1〜10のアルキ
ル)、好ましくは粘度が1〜100センチストークスと
なるような重合度のもの、を接触して固体を析出させる
ことにより得られた固体成分、さらに好ましくはこの固
体成分をハロゲン化剤、特に好ましくは四塩化ケイ素と
接触させて得られた固体成分である。
グネシウム化合物及びチタン化合物を用いて製造される
固体成分と前述のケイ素化合物とを接触させて得られる
が、好ましくはジハロゲン化マグネシウムとTi(OR
7 )4 (R7 は前記と同じ)とを含む炭化水素溶媒にア
ルキルヒドロポリシロキサン(炭素数1〜10のアルキ
ル)、好ましくは粘度が1〜100センチストークスと
なるような重合度のもの、を接触して固体を析出させる
ことにより得られた固体成分、さらに好ましくはこの固
体成分をハロゲン化剤、特に好ましくは四塩化ケイ素と
接触させて得られた固体成分である。
【0013】さらに、この固体成分を製造する場合に、
電子供与体を内部ドナーとして使用し製造することもで
き、内部ドナーの使用が好ましいものである。この固体
成分の製造に利用できる電子供与体(内部ドナー)とし
ては、アルコール類、フェノール類、ケトン類、アルデ
ヒド類、カルボン酸類、有機酸のエステル類、エーテル
類、酸アミド類、酸無水物類のような含酸素電子供与
体、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアネートの
ような含窒素電子供与体などを例示することができる。
電子供与体を内部ドナーとして使用し製造することもで
き、内部ドナーの使用が好ましいものである。この固体
成分の製造に利用できる電子供与体(内部ドナー)とし
ては、アルコール類、フェノール類、ケトン類、アルデ
ヒド類、カルボン酸類、有機酸のエステル類、エーテル
類、酸アミド類、酸無水物類のような含酸素電子供与
体、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアネートの
ような含窒素電子供与体などを例示することができる。
【0014】より具体的には、(イ)メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ペンタノール、ヘキサノール、
オクタノール、ドデカノール、オクタデシルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール、
イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1ないし
18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾール、
キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノー
ル、イソプロピルフェノール、ノニルフェノール、ナフ
トールなどのアルキル基を有してよい炭素数6ないし2
5のフェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノンなどの炭素数3ないし15のケトン類、(ニ)
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、トリアルデヒド、ナフト
アルデヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒド類、
(ホ)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニ
ル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシ
ル、酢酸セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、吉草酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メ
チル、ジクロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロ
トン酸エチル、シクロヘキサン、カルボン酸エチル、安
息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安
息香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキ
シル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸
セロソルブ、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、ト
リイル酸アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチ
ル、アニス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、
γ−ブチロラクトン、α−バレロラクトン、クマリン、
フタリド、炭酸エチレンなどの炭素数2ないし20の有
機酸エステル類、(ヘ)アセチルクロリド、ベンゾイル
クロリド、トルイル酸クロリド、アニス酸クロリド、塩
化フタロイル、イソ塩化フタロイルなどの炭素数2ない
し15の酸ハライド類、(ト)メチルエーテル、エチル
エーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ア
ミルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、ジフ
ェニルエーテルなどの炭素数2ないし20のエーテル
類、(チ)酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル酸ア
ミドなどの酸アミド類、(リ)メチルアミン、エチルア
ミン、ジエチルアミン、トリブチルアミン、ピペリジ
ン、トリベンジルアミン、アニリン、ピリジン、ピコリ
ン、テトラメチルエチレンジアミンなどのアミン類、
(ヌ)アセトニトリル、ベンゾニトリル、トルニトリル
などのニトリル類、などを挙げることができる。これら
の電子供与体は、二種以上用いることができる。これら
の中で好ましいのは有機酸エステルおよび酸ハライドで
あり、特に好ましいのはフタル酸エステル、酢酸セロソ
ルブエステルおよびフタル酸ハライドである。
ノール、プロパノール、ペンタノール、ヘキサノール、
オクタノール、ドデカノール、オクタデシルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール、
イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1ないし
18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾール、
キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノー
ル、イソプロピルフェノール、ノニルフェノール、ナフ
トールなどのアルキル基を有してよい炭素数6ないし2
5のフェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノンなどの炭素数3ないし15のケトン類、(ニ)
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、トリアルデヒド、ナフト
アルデヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒド類、
(ホ)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニ
ル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシ
ル、酢酸セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、吉草酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メ
チル、ジクロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロ
トン酸エチル、シクロヘキサン、カルボン酸エチル、安
息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安
息香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキ
シル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸
セロソルブ、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、ト
リイル酸アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチ
ル、アニス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、
γ−ブチロラクトン、α−バレロラクトン、クマリン、
フタリド、炭酸エチレンなどの炭素数2ないし20の有
機酸エステル類、(ヘ)アセチルクロリド、ベンゾイル
クロリド、トルイル酸クロリド、アニス酸クロリド、塩
化フタロイル、イソ塩化フタロイルなどの炭素数2ない
し15の酸ハライド類、(ト)メチルエーテル、エチル
エーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、ア
ミルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、ジフ
ェニルエーテルなどの炭素数2ないし20のエーテル
類、(チ)酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル酸ア
ミドなどの酸アミド類、(リ)メチルアミン、エチルア
ミン、ジエチルアミン、トリブチルアミン、ピペリジ
ン、トリベンジルアミン、アニリン、ピリジン、ピコリ
ン、テトラメチルエチレンジアミンなどのアミン類、
(ヌ)アセトニトリル、ベンゾニトリル、トルニトリル
などのニトリル類、などを挙げることができる。これら
の電子供与体は、二種以上用いることができる。これら
の中で好ましいのは有機酸エステルおよび酸ハライドで
あり、特に好ましいのはフタル酸エステル、酢酸セロソ
ルブエステルおよびフタル酸ハライドである。
【0015】そして、本発明で使用する成分(A)は、
特定の一般式で表されるケイ素化合物をも含有してなる
ものである。ここで、成分(A)をガスクロマトグラフ
ィで分析すればそこに含まれているケイ素化合物が実質
的に当該一般式で表される構造のものであることが確認
できる。さて、本発明で成分(A)を製造するために使
用するケイ素化合物は、 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2 はR1 と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3 は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の
数を、それぞれ示す)で表されるものである。このケイ
素化合物は、上記式の化合物の複数種の混合物であって
もよい。
特定の一般式で表されるケイ素化合物をも含有してなる
ものである。ここで、成分(A)をガスクロマトグラフ
ィで分析すればそこに含まれているケイ素化合物が実質
的に当該一般式で表される構造のものであることが確認
できる。さて、本発明で成分(A)を製造するために使
用するケイ素化合物は、 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2 はR1 と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3 は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の
数を、それぞれ示す)で表されるものである。このケイ
素化合物は、上記式の化合物の複数種の混合物であって
もよい。
【0016】ここで、R1 が分岐脂肪族炭化水素残基で
ある場合は、ケイ素原子に隣接する炭素原子から分岐し
ているものが好ましい。その場合の分岐基は、アルキル
基、シクロアルキル基またはアリール基(たとえば、フ
ェニル基またはメチル置換フェニル基)であることが好
ましい。さらに好ましいR1 は、ケイ素原子に隣接する
炭素原子、すなわちα−位炭素原子、が2級または3級
の炭素原子であるものである。とりわけ、ケイ素原子に
結合している炭素原子が3級のものが好ましい。R1 が
分岐脂肪族炭化水素残基である場合の炭素数は通常3〜
20、好ましくは4〜10、である。また、R1 が脂環
式炭化水素残基である場合の炭素数は通常5〜20、好
ましくは5〜10である。R2 は、R1 と同一もしくは
異なる炭素数1〜20、好ましくは1〜10、の分岐ま
たは直鎖状の飽和脂肪族炭化水素残基であることがふつ
うである。R3 は脂肪族炭化水素残基、好ましくは炭素
数1〜10の脂肪族炭化水素残基、であることがふつう
である。
ある場合は、ケイ素原子に隣接する炭素原子から分岐し
ているものが好ましい。その場合の分岐基は、アルキル
基、シクロアルキル基またはアリール基(たとえば、フ
ェニル基またはメチル置換フェニル基)であることが好
ましい。さらに好ましいR1 は、ケイ素原子に隣接する
炭素原子、すなわちα−位炭素原子、が2級または3級
の炭素原子であるものである。とりわけ、ケイ素原子に
結合している炭素原子が3級のものが好ましい。R1 が
分岐脂肪族炭化水素残基である場合の炭素数は通常3〜
20、好ましくは4〜10、である。また、R1 が脂環
式炭化水素残基である場合の炭素数は通常5〜20、好
ましくは5〜10である。R2 は、R1 と同一もしくは
異なる炭素数1〜20、好ましくは1〜10、の分岐ま
たは直鎖状の飽和脂肪族炭化水素残基であることがふつ
うである。R3 は脂肪族炭化水素残基、好ましくは炭素
数1〜10の脂肪族炭化水素残基、であることがふつう
である。
【0017】本発明で使用されるケイ素化合物の具体例
は、下記の通りである。 (CH3 )3 CSi(CH3 )(OCH3 )2 、(CH
3 )3 CSi(CH(CH3 )2 )(OCH3 )2 、
(CH3 )3 CSi(CH3 )(OC2 H5 )2 、(C
2 H5 )3 CSi(CH3 )(OCH3 )2 、(C
H3 )(C2 H5 )CHSi(CH3 )(OC
H3 )2 、((CH3 )2 CHCH2 )2 Si(OCH
3 )2 、(C2 H5 )(CH3 )2 CSi(CH3 )
(OCH3 )2 、(C2 H5 )(CH3 )2 CSi(C
H3 )(OC2 H5 )2 、(CH3 )3 CSi(OCH
3 )3 、(CH3 )3 CSi(OC2 H5 )3 、(C2
H5 )3 CSi(OC2 H5 )3 、(CH3 )(C2 H
5 )CHSi(OCH3 )3 、(CH3 )2 CH(CH
3 )2 CSi(CH3 )(OCH3 )2 、((CH3 )
3 C)2 Si(OCH3 )2 、(C2 H5 )(CH3 )
2 CSi(OCH3 )3 、(C2 H5 )(CH3 )2 C
Si(OC2 H5 )3 、(CH3 )3 CSi(O−tC
4 H9 )(OCH3 )2 、(iC3 H7 )2 Si(OC
H3 )2 、(iC3 H7 )2 Si(OC2 H5 )2 、
(iC4 H9 )2 Si(OCH3 )2 、(CH3 )3 C
(C6 H13)Si(OC4 H9 )2 、(CH3 )3 C
(C5 H9 )Si(OiC3 H7 )2 、(C5 H9 )2
Si(OCH3 )2 、(C5 H9 )2 Si(OC
2 H5 )2 、(C5 H9 )2 (CH3 )Si(OC
H3 )2 、(C5 H9 )(iC4 H9 )Si(OC
H3 )2 、(C6 H11)Si(CH3 )(OC
H3 )2 、(C6 H11)Si(OCH3 )2 、(C6 H
11)(iC4 H9 )Si(OCH3 )2 、(iC
4 H9 )(secC4 H9 )Si(OCH3 )2 、(i
C4 H9 )(iC3 H7 )Si(OC5 H11)2 、HC
(CH3 )2 C(CH3 )2 Si(CH3 )(OC
H3 )2 、HC(CH3 )2 C(CH3 )2 Si(OC
H3 )3 、HC(CH3 )2 C(CH3 )2 Si(OC
2 H5 )3 、
は、下記の通りである。 (CH3 )3 CSi(CH3 )(OCH3 )2 、(CH
3 )3 CSi(CH(CH3 )2 )(OCH3 )2 、
(CH3 )3 CSi(CH3 )(OC2 H5 )2 、(C
2 H5 )3 CSi(CH3 )(OCH3 )2 、(C
H3 )(C2 H5 )CHSi(CH3 )(OC
H3 )2 、((CH3 )2 CHCH2 )2 Si(OCH
3 )2 、(C2 H5 )(CH3 )2 CSi(CH3 )
(OCH3 )2 、(C2 H5 )(CH3 )2 CSi(C
H3 )(OC2 H5 )2 、(CH3 )3 CSi(OCH
3 )3 、(CH3 )3 CSi(OC2 H5 )3 、(C2
H5 )3 CSi(OC2 H5 )3 、(CH3 )(C2 H
5 )CHSi(OCH3 )3 、(CH3 )2 CH(CH
3 )2 CSi(CH3 )(OCH3 )2 、((CH3 )
3 C)2 Si(OCH3 )2 、(C2 H5 )(CH3 )
2 CSi(OCH3 )3 、(C2 H5 )(CH3 )2 C
Si(OC2 H5 )3 、(CH3 )3 CSi(O−tC
4 H9 )(OCH3 )2 、(iC3 H7 )2 Si(OC
H3 )2 、(iC3 H7 )2 Si(OC2 H5 )2 、
(iC4 H9 )2 Si(OCH3 )2 、(CH3 )3 C
(C6 H13)Si(OC4 H9 )2 、(CH3 )3 C
(C5 H9 )Si(OiC3 H7 )2 、(C5 H9 )2
Si(OCH3 )2 、(C5 H9 )2 Si(OC
2 H5 )2 、(C5 H9 )2 (CH3 )Si(OC
H3 )2 、(C5 H9 )(iC4 H9 )Si(OC
H3 )2 、(C6 H11)Si(CH3 )(OC
H3 )2 、(C6 H11)Si(OCH3 )2 、(C6 H
11)(iC4 H9 )Si(OCH3 )2 、(iC
4 H9 )(secC4 H9 )Si(OCH3 )2 、(i
C4 H9 )(iC3 H7 )Si(OC5 H11)2 、HC
(CH3 )2 C(CH3 )2 Si(CH3 )(OC
H3 )2 、HC(CH3 )2 C(CH3 )2 Si(OC
H3 )3 、HC(CH3 )2 C(CH3 )2 Si(OC
2 H5 )3 、
【0018】
【化1】
【0019】本発明の成分(A)は、上記の必須成分の
ほかに必要に応じて任意成分を含んでなることは前記の
通りであるが、そのような任意成分として適用なものと
しては以下の化合物をあげることができる。 (イ)ビニルシラン化合物 ビニルシラン化合物としては、モノシラン(SiH4 )
中の少なくとも1つの水素原子がビニル(CH2 =CH
−)に置き換えられ、そして残りの水素原子のうちのい
くつかが、ハロゲン(好ましくはCl)、アルキル(好
ましくは炭素数1〜12のもの)、アリール(好ましく
はフェニル)、その他、で置き換えられた構造を示すも
の、より具体的には、 CH2 =CH−SiH3 、 CH2 =CH−SiH2 (CH3 )、 CH2 =CH−SiH(CH3 )2 、 CH2 =CH−Si(CH3 )3 、 CH2 =CH−SiCl3 、 CH2 =CH−SiCl2 (CH3 )、 CH2 =CH−SiCl(CH3 )H、 CH2 =CH−SiCl(C2 H5 )2 、 CH2 =CH−Si(C2 H5 )3 、 CH2 =CH−Si(CH3 )(C2 H5 )2 、 CH2 =CH−Si(C6 H5 )(CH3 )2 、 CH2 =CH−Si(CH3 )2 (C6 H4 CH3 )、 (CH2 =CH)(CH3 )2 −Si−O−Si(CH
3 )2 (CH=CH2 )、(CH2 =CH)2 SiCl
2 、 (CH2 =CH)2 Si(CH3 )2 等、を例示するこ
とができる。これらのうちでは、酸素を含有しないビニ
ルシラン、ビニルアルキルシラン(炭素数1〜12のア
ルキル)およびビニルハロゲン化シランが好ましい。
ほかに必要に応じて任意成分を含んでなることは前記の
通りであるが、そのような任意成分として適用なものと
しては以下の化合物をあげることができる。 (イ)ビニルシラン化合物 ビニルシラン化合物としては、モノシラン(SiH4 )
中の少なくとも1つの水素原子がビニル(CH2 =CH
−)に置き換えられ、そして残りの水素原子のうちのい
くつかが、ハロゲン(好ましくはCl)、アルキル(好
ましくは炭素数1〜12のもの)、アリール(好ましく
はフェニル)、その他、で置き換えられた構造を示すも
の、より具体的には、 CH2 =CH−SiH3 、 CH2 =CH−SiH2 (CH3 )、 CH2 =CH−SiH(CH3 )2 、 CH2 =CH−Si(CH3 )3 、 CH2 =CH−SiCl3 、 CH2 =CH−SiCl2 (CH3 )、 CH2 =CH−SiCl(CH3 )H、 CH2 =CH−SiCl(C2 H5 )2 、 CH2 =CH−Si(C2 H5 )3 、 CH2 =CH−Si(CH3 )(C2 H5 )2 、 CH2 =CH−Si(C6 H5 )(CH3 )2 、 CH2 =CH−Si(CH3 )2 (C6 H4 CH3 )、 (CH2 =CH)(CH3 )2 −Si−O−Si(CH
3 )2 (CH=CH2 )、(CH2 =CH)2 SiCl
2 、 (CH2 =CH)2 Si(CH3 )2 等、を例示するこ
とができる。これらのうちでは、酸素を含有しないビニ
ルシラン、ビニルアルキルシラン(炭素数1〜12のア
ルキル)およびビニルハロゲン化シランが好ましい。
【0020】(ロ)周期律表第I〜III 族金属の有機金
属化合物 周期律表第I〜III 族金属の有機金属化合物としては、
少なくとも一つの有機基−金属結合を持つ。その場合の
有機基としては、炭素数1〜10程度、好ましくは1〜
6程度、のヒドロカルビル基が代表的である。原子価の
少なくとも1つが有機基で充足されている有機金属化合
物の金属の残りの原子価(もしそれがあれば)は、水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビルオキシ基(ヒドロ
カルビル基は、炭素数1〜10程度、好ましくは1〜6
程度)、あるいは酸素原子を介した当該金属(具体的に
は、メチルアルモキサンの場合の
属化合物 周期律表第I〜III 族金属の有機金属化合物としては、
少なくとも一つの有機基−金属結合を持つ。その場合の
有機基としては、炭素数1〜10程度、好ましくは1〜
6程度、のヒドロカルビル基が代表的である。原子価の
少なくとも1つが有機基で充足されている有機金属化合
物の金属の残りの原子価(もしそれがあれば)は、水素
原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビルオキシ基(ヒドロ
カルビル基は、炭素数1〜10程度、好ましくは1〜6
程度)、あるいは酸素原子を介した当該金属(具体的に
は、メチルアルモキサンの場合の
【0021】
【化2】
【0022】その他で充足される。このような有機金属
化合物の具体例を挙げれば、(イ)メチルリチウム、n
−ブチルリチウム、第三ブチルリチウム等の有機リチウ
ム化合物、(ロ)ブチルエチルマグネシウム、ジブチル
マグネシウム、ヘキシルエチルマグネシウム、ブチルマ
グネシウムクロリド、第三ブチルマグネシウムブロミド
等の有機マグネシウム化合物、(ハ)ジエチル亜鉛、ジ
ブチル亜鉛等の有機亜鉛化合物、(ニ)トリメチルアル
ミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリn−ヘキシルアルミニウム、ジエチル
アルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジエチルアルミニウムエトキシド、エチルアルミニ
ウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、
メチルアルミノキサン等の有機アルミニウム化合物があ
げられる。このうちでは、有機アルミニウム化合物が、
特に、トリアルキルアルミニウム化合物が好ましい。上
記任意成分(イ)及び(ロ)は、1種又は2種以上を組
合せて使用することができる。これらの任意成分を使用
すると、本発明の効果、即ち活性及び立体規則性はより
大きくなる。
化合物の具体例を挙げれば、(イ)メチルリチウム、n
−ブチルリチウム、第三ブチルリチウム等の有機リチウ
ム化合物、(ロ)ブチルエチルマグネシウム、ジブチル
マグネシウム、ヘキシルエチルマグネシウム、ブチルマ
グネシウムクロリド、第三ブチルマグネシウムブロミド
等の有機マグネシウム化合物、(ハ)ジエチル亜鉛、ジ
ブチル亜鉛等の有機亜鉛化合物、(ニ)トリメチルアル
ミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリn−ヘキシルアルミニウム、ジエチル
アルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジエチルアルミニウムエトキシド、エチルアルミニ
ウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、
メチルアルミノキサン等の有機アルミニウム化合物があ
げられる。このうちでは、有機アルミニウム化合物が、
特に、トリアルキルアルミニウム化合物が好ましい。上
記任意成分(イ)及び(ロ)は、1種又は2種以上を組
合せて使用することができる。これらの任意成分を使用
すると、本発明の効果、即ち活性及び立体規則性はより
大きくなる。
【0023】成分(A)の製造 成分(A)は、成分(A)を構成する各成分を、又は必
要により上記任意成分を段階的にあるいは一時に相互に
接触させ、その中間および(または)最後に有機溶媒、
たとえば炭化水素またはハロ炭化水素で洗浄することに
よって製造することができ、それが好ましい製法であ
る。その場合に、Ti、Mgおよびハロゲンを必須成分
とする固体生成物を先ず製造し、それを前記一般式のケ
イ素化合物と接触させる方式(いわば二段法)によるこ
ともできるし、Ti、Mgおよびハロゲンを必須成分と
する固体生成物をつくる過程で既にこのケイ素化合物を
存在させることによって一挙に成分(A)を製造する方
法(いわば一段法)によることも可能である。好ましい
方式は前者である。
要により上記任意成分を段階的にあるいは一時に相互に
接触させ、その中間および(または)最後に有機溶媒、
たとえば炭化水素またはハロ炭化水素で洗浄することに
よって製造することができ、それが好ましい製法であ
る。その場合に、Ti、Mgおよびハロゲンを必須成分
とする固体生成物を先ず製造し、それを前記一般式のケ
イ素化合物と接触させる方式(いわば二段法)によるこ
ともできるし、Ti、Mgおよびハロゲンを必須成分と
する固体生成物をつくる過程で既にこのケイ素化合物を
存在させることによって一挙に成分(A)を製造する方
法(いわば一段法)によることも可能である。好ましい
方式は前者である。
【0024】上述の成分(A)を構成する各成分の接触
条件は、本発明の効果が認められるかぎり任意のもので
ありうるが、一般的には次の条件が好ましい。接触温度
は、−50〜200℃程度、好ましくは0〜100℃、
である。接触方法としては、回転ボールミル、振動ミ
ル、ジェットミル、媒体撹拌粉砕機などによる機械的な
方法、不活性希釈剤の存在下に撹拌により接触させる方
法などがあげられる。このとき使用する不活性希釈剤と
しては、脂肪族または芳香族の炭化水素およびハロゲン
炭化水素、ポリシロキサン等があげられる。成分(A)
を構成する各成分の使用量は本発明の効果が認められる
かぎり任意のものでありうるが、一般的には次の範囲内
が好ましい。
条件は、本発明の効果が認められるかぎり任意のもので
ありうるが、一般的には次の条件が好ましい。接触温度
は、−50〜200℃程度、好ましくは0〜100℃、
である。接触方法としては、回転ボールミル、振動ミ
ル、ジェットミル、媒体撹拌粉砕機などによる機械的な
方法、不活性希釈剤の存在下に撹拌により接触させる方
法などがあげられる。このとき使用する不活性希釈剤と
しては、脂肪族または芳香族の炭化水素およびハロゲン
炭化水素、ポリシロキサン等があげられる。成分(A)
を構成する各成分の使用量は本発明の効果が認められる
かぎり任意のものでありうるが、一般的には次の範囲内
が好ましい。
【0025】チタン化合物の使用量は、使用するマグネ
シウム化合物の使用量に対してモル比で1×10-4〜1
000の範囲内がよく、好ましくは0.01〜10の範
囲内である。ハロゲン源としてそのための化合物を使用
する場合は、その使用量はチタン化合物および(また
は)マグネシウム化合物がハロゲンを含む、含まないに
かかわらず、使用するマグネシウムの使用量に対してモ
ル比で1×10-2〜1000の範囲内がよく、好ましく
は0.1〜100の範囲内である。ケイ素化合物の使用
量は、成分(A)を構成するチタン成分に対するケイ素
の原子比(ケイ素/チタン)で0.01〜1000、好
ましくは0.1〜100、の範囲内である。ビニルシラ
ン化合物を使用するときのその使用量は、成分(A)を
構成するチタン成分に対するモル比で0.001〜10
00の範囲内がよく、さらに好ましくは0.01〜10
0の範囲内である。アルミニウムおよびホウ素化合物を
使用するときのその使用量は、上記のマグネシウム化合
物の使用量に対してモル比で1×10-3〜100の範囲
内がよく、好ましくは0.01〜1の範囲内である。電
子供与性化合物を使用するときのその使用量は、上記の
マグネシウム化合物の使用量に対してモル比で1×10
-3〜10の範囲内がよく、好ましくは0.01〜5の範
囲内である。
シウム化合物の使用量に対してモル比で1×10-4〜1
000の範囲内がよく、好ましくは0.01〜10の範
囲内である。ハロゲン源としてそのための化合物を使用
する場合は、その使用量はチタン化合物および(また
は)マグネシウム化合物がハロゲンを含む、含まないに
かかわらず、使用するマグネシウムの使用量に対してモ
ル比で1×10-2〜1000の範囲内がよく、好ましく
は0.1〜100の範囲内である。ケイ素化合物の使用
量は、成分(A)を構成するチタン成分に対するケイ素
の原子比(ケイ素/チタン)で0.01〜1000、好
ましくは0.1〜100、の範囲内である。ビニルシラ
ン化合物を使用するときのその使用量は、成分(A)を
構成するチタン成分に対するモル比で0.001〜10
00の範囲内がよく、さらに好ましくは0.01〜10
0の範囲内である。アルミニウムおよびホウ素化合物を
使用するときのその使用量は、上記のマグネシウム化合
物の使用量に対してモル比で1×10-3〜100の範囲
内がよく、好ましくは0.01〜1の範囲内である。電
子供与性化合物を使用するときのその使用量は、上記の
マグネシウム化合物の使用量に対してモル比で1×10
-3〜10の範囲内がよく、好ましくは0.01〜5の範
囲内である。
【0026】本発明の方法に用いる成分(A)は、以下
の様なものである。チタン、マグネシウムおよびハロ
ゲンを必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表さ
れるケイ素化合物を含有してなるオレフィンの立体規則
性重合用固体触媒成分 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 、R2 、R3 およびnの規定は前記の通
り)。
の様なものである。チタン、マグネシウムおよびハロ
ゲンを必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表さ
れるケイ素化合物を含有してなるオレフィンの立体規則
性重合用固体触媒成分 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 、R2 、R3 およびnの規定は前記の通
り)。
【0027】チタン、マグネシウム、ハロゲンおよび
電子供与体、特に好ましくはフタル酸クロライド、フタ
ル酸エステルおよび酢酸セロソルブから選ばれる化合
物、を必須成分として含有し、かつ上記のケイ素化合
物を含有してなるオレフィンの立体規則性重合用固体触
媒成分
電子供与体、特に好ましくはフタル酸クロライド、フタ
ル酸エステルおよび酢酸セロソルブから選ばれる化合
物、を必須成分として含有し、かつ上記のケイ素化合
物を含有してなるオレフィンの立体規則性重合用固体触
媒成分
【0028】 Ti(OR7 )4 (R7 は、好ましく
は炭素数1〜10の炭化水素残基)およびジハロゲン化
マグネシウムを含む炭化水素溶媒にアルキルヒドロポリ
シロキサン(炭素数1〜10のアルキル)、好ましくは
粘度が1〜100センチストークスとなるような重合度
のもの、を接触させて得られた固体成分にハロゲン化
剤、特に好ましくは四塩化ケイ素、を接触させ、さらに
電子供与体およびケイ素化合物を使用して製造される上
記記載の固体触媒成分。
は炭素数1〜10の炭化水素残基)およびジハロゲン化
マグネシウムを含む炭化水素溶媒にアルキルヒドロポリ
シロキサン(炭素数1〜10のアルキル)、好ましくは
粘度が1〜100センチストークスとなるような重合度
のもの、を接触させて得られた固体成分にハロゲン化
剤、特に好ましくは四塩化ケイ素、を接触させ、さらに
電子供与体およびケイ素化合物を使用して製造される上
記記載の固体触媒成分。
【0029】 上記においてハロゲン化剤を接触さ
せ、さらにビニルシラン化合物および/または周期律表
第I〜III 族金属の有機金属化合物、電子供与体および
ケイ素化合物を使用して製造される上記記載の固体触
媒成分。
せ、さらにビニルシラン化合物および/または周期律表
第I〜III 族金属の有機金属化合物、電子供与体および
ケイ素化合物を使用して製造される上記記載の固体触
媒成分。
【0030】 ジハロゲン化マグネシウム、チタン化
合物及び上記のケイ素化合物を共粉砕して得られた固
体にビニルシラン化合物および/または周期律表第I〜
第III 族金属の有機金属化合物を接触させて製造される
上記記載の固体触媒成分。
合物及び上記のケイ素化合物を共粉砕して得られた固
体にビニルシラン化合物および/または周期律表第I〜
第III 族金属の有機金属化合物を接触させて製造される
上記記載の固体触媒成分。
【0031】<成分(B)>本発明で使用する成分
(B)は、下記の一般式で表わされる有機アルミニウム
化合物である。 R4 3-m AlXm (ここで、R4 は炭素数1〜20の炭化水素残基を、X
は水素またはハロゲンを、mは0≦m≦2の数を、それ
ぞれ示す) このような化合物の具体例としては、(イ)トリメチル
アルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオク
チルアルミニウム、トリデシルアルミニウム、などのト
リアルキルアルミニウム、(ロ)ジエチルアルミニウム
モノクロライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロラ
イド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルア
ルミニウムジクロライド、などのアルキルアルミニウム
ハライド、(ハ)ジエチルアルミニウムハイドライド、
ジイソブチルアルミニウムハイドライド、(ニ)ジエチ
ルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェ
ノキシドなどのアルミニウムアルコキシドなどがある。
(B)は、下記の一般式で表わされる有機アルミニウム
化合物である。 R4 3-m AlXm (ここで、R4 は炭素数1〜20の炭化水素残基を、X
は水素またはハロゲンを、mは0≦m≦2の数を、それ
ぞれ示す) このような化合物の具体例としては、(イ)トリメチル
アルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオク
チルアルミニウム、トリデシルアルミニウム、などのト
リアルキルアルミニウム、(ロ)ジエチルアルミニウム
モノクロライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロラ
イド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルア
ルミニウムジクロライド、などのアルキルアルミニウム
ハライド、(ハ)ジエチルアルミニウムハイドライド、
ジイソブチルアルミニウムハイドライド、(ニ)ジエチ
ルアルミニウムエトキシド、ジエチルアルミニウムフェ
ノキシドなどのアルミニウムアルコキシドなどがある。
【0032】これら(イ)〜(ハ)の有機アルミニウム
化合物に他の有機金属化合物、たとえばR8 3-q Al
(OR9 )q (ここで、1≦q≦3、R8 およびR9 は
同一または異なってもよい炭素数1〜20程度の炭化水
素残基である)で表わされるアルキルアルミニウムアル
コキシドを併用することもできる。たとえば、トリエチ
ルアルミニウムとジエチルアルミニウムエトキシドとの
併用、ジエチルアルミニウムモノクロライドとジエチル
アルミニウムエトキシドとの併用、エチルアルミニウム
ジクロライドとエチルアルミニウムジエトキシドとの併
用、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウムエ
トキシドとジエチルアルミニウムクロライドとの併用が
あげられる。
化合物に他の有機金属化合物、たとえばR8 3-q Al
(OR9 )q (ここで、1≦q≦3、R8 およびR9 は
同一または異なってもよい炭素数1〜20程度の炭化水
素残基である)で表わされるアルキルアルミニウムアル
コキシドを併用することもできる。たとえば、トリエチ
ルアルミニウムとジエチルアルミニウムエトキシドとの
併用、ジエチルアルミニウムモノクロライドとジエチル
アルミニウムエトキシドとの併用、エチルアルミニウム
ジクロライドとエチルアルミニウムジエトキシドとの併
用、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウムエ
トキシドとジエチルアルミニウムクロライドとの併用が
あげられる。
【0033】<成分(C)>本発明で使用する成分
(C)は、下記の一般式で表わされる有機亜鉛化合物で
ある。 一般式 R5 R6 Zn (ここで、R5 およびR6 はそれぞれ独立に炭素数1〜
20、好ましくは炭素数1〜10の炭化水素残基であ
る。) この様な化合物の具体例としては、(CH3 )2 Zn、
(C2 H5 )2 Zn、(iC3 H7 )2 Zn、(iC4
H9 )2 Zn、(nC4 H9 )2 Zn、(C5H11)2
Zn、(C6 H13)2 Zn、(CH3 )(C2 H5 )Z
n、(C8 H17)2 Zn等がある。
(C)は、下記の一般式で表わされる有機亜鉛化合物で
ある。 一般式 R5 R6 Zn (ここで、R5 およびR6 はそれぞれ独立に炭素数1〜
20、好ましくは炭素数1〜10の炭化水素残基であ
る。) この様な化合物の具体例としては、(CH3 )2 Zn、
(C2 H5 )2 Zn、(iC3 H7 )2 Zn、(iC4
H9 )2 Zn、(nC4 H9 )2 Zn、(C5H11)2
Zn、(C6 H13)2 Zn、(CH3 )(C2 H5 )Z
n、(C8 H17)2 Zn等がある。
【0034】<成分(A)、(B)および(C)の使用
量>本発明の成分(A)、(B)および(C)の使用量
は、本発明の効果が認められるかぎり、任意のものであ
りうるが、一般的には、次の範囲内が好ましい。成分
(B)の使用量は、重量比で成分(B)/成分(A)が
0.1〜1000、好ましくは1〜100の範囲内であ
る。また成分(C)の使用量は、モル比で成分(C)/
成分(B)が0.01〜100、好ましくは、0.05
〜10、さらに好ましくは、0.1〜2の範囲内であ
る。
量>本発明の成分(A)、(B)および(C)の使用量
は、本発明の効果が認められるかぎり、任意のものであ
りうるが、一般的には、次の範囲内が好ましい。成分
(B)の使用量は、重量比で成分(B)/成分(A)が
0.1〜1000、好ましくは1〜100の範囲内であ
る。また成分(C)の使用量は、モル比で成分(C)/
成分(B)が0.01〜100、好ましくは、0.05
〜10、さらに好ましくは、0.1〜2の範囲内であ
る。
【0035】<触媒の使用/重合>本発明による触媒
は、通常のスラリー重合に適用されるのはもちろんであ
るが、実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合、溶液重
合または気相重合法にも適用される。また、連続重合、
回分式重合または予備重合を行なう方式にも適用され
る。スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あ
るいは混合物が用いられる。重合温度は室温から150
℃程度、好ましくは50〜100℃であり、重合圧力は
大気圧〜300kg/cm2 程度、好ましくは大気圧〜
50kg/cm2 であり、そのときの分子量調節剤とし
て水素を用いることができる。
は、通常のスラリー重合に適用されるのはもちろんであ
るが、実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合、溶液重
合または気相重合法にも適用される。また、連続重合、
回分式重合または予備重合を行なう方式にも適用され
る。スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単独あ
るいは混合物が用いられる。重合温度は室温から150
℃程度、好ましくは50〜100℃であり、重合圧力は
大気圧〜300kg/cm2 程度、好ましくは大気圧〜
50kg/cm2 であり、そのときの分子量調節剤とし
て水素を用いることができる。
【0036】用いる水素の量は重合槽の気相部の濃度が
水素/オレフィンの体積パーセントで3〜50vol
%、好ましくは5〜30vol%、さらに好ましくは、
7〜20vol%の範囲内である。上記の濃度が低すぎ
ると、目標とする分子量の小さい重合体が得られず、高
すぎると分子量が小さすぎて、実用的でない。また、得
られる重合体の立体規則性を制御するために重合時に第
三成分として、公知のエステル、エーテル、アミン等の
電子供与性化合物を使用することもできる。スラリー重
合の場合は、成分(A)の使用量は、0.001〜0.
1グラム、成分(A)/リットル溶剤の範囲が好まし
い。
水素/オレフィンの体積パーセントで3〜50vol
%、好ましくは5〜30vol%、さらに好ましくは、
7〜20vol%の範囲内である。上記の濃度が低すぎ
ると、目標とする分子量の小さい重合体が得られず、高
すぎると分子量が小さすぎて、実用的でない。また、得
られる重合体の立体規則性を制御するために重合時に第
三成分として、公知のエステル、エーテル、アミン等の
電子供与性化合物を使用することもできる。スラリー重
合の場合は、成分(A)の使用量は、0.001〜0.
1グラム、成分(A)/リットル溶剤の範囲が好まし
い。
【0037】本発明の触媒系で重合するα−オレフィン
類は、一般式R−CH=CH2 (ここで、Rは炭素数1
〜10の炭化水素残基であり、分枝基を有してもよい)
で表わされるものである。具体的には、プロピレン、ブ
テン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペ
ンテン−1などのオレフィン類がある。好ましいのはプ
ロピレンである。これらのα−オレフィンの単独重合の
ほかに、共重合、たとえばプロピレンとプロピレンに対
して30重量%までの上記オレフィン、特にエチレン、
との共重合を行なうことができる。その他の共重合性モ
ノマー(たとえば酢酸ビニル、ジオレフィン等)との共
重合を行なうこともできる。本発明の方法で得られるオ
レフィン重合体は、MFRが30g/10分より小さい
重合体においても高活性かつ高立体規則性で製造できる
が、その効果は比較的小さく、通常MFRが30〜10
00g/10分、好ましくは50〜500g/10分の
重合体を製造する際に、本発明の効果は大きい。
類は、一般式R−CH=CH2 (ここで、Rは炭素数1
〜10の炭化水素残基であり、分枝基を有してもよい)
で表わされるものである。具体的には、プロピレン、ブ
テン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペ
ンテン−1などのオレフィン類がある。好ましいのはプ
ロピレンである。これらのα−オレフィンの単独重合の
ほかに、共重合、たとえばプロピレンとプロピレンに対
して30重量%までの上記オレフィン、特にエチレン、
との共重合を行なうことができる。その他の共重合性モ
ノマー(たとえば酢酸ビニル、ジオレフィン等)との共
重合を行なうこともできる。本発明の方法で得られるオ
レフィン重合体は、MFRが30g/10分より小さい
重合体においても高活性かつ高立体規則性で製造できる
が、その効果は比較的小さく、通常MFRが30〜10
00g/10分、好ましくは50〜500g/10分の
重合体を製造する際に、本発明の効果は大きい。
【0038】
実施例−1 〔成分(A)の製造〕充分に窒素置換したフラスコに、
脱水および脱酸素したn−ヘプタン200ミリリットル
を導入し、次いでMgCl2 を0.4モルおよびTi
(O−nC4 H 9 )4 を0.8モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次
いでメチルヒドロポリシロキサン(20センチストーク
スのもの)を48ミリリットル導入し、3時間反応させ
た。生成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。つい
で充分に窒素置換したフラスコに、上記と同様に精製し
たn−ヘプタンを50ミリリットル導入し、上記で合成
した固体成分をMg原子換算で0.24モル導入した。
ついでn−ヘプタン25ミリリットルにSiCl4 0.
4モルを混合して30℃、30分間でフラスコへ導入
し、70℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘプ
タンで洗浄した。次いでケイ素化合物として(t−C4
H9 )(C2 H5 )Si(OCH3 )2を2.6ml導
入し、20℃で2時間接触させた。接触終了後n−ヘプ
タンで充分に洗浄し、成分(A)とした。一部分をとり
出して、組成分析したところ、Ti含量=2.7wt
%、(t−C4 H9 )(C2 H5 )Si(OCH3 )2
含量=6.9wt%であった。
脱水および脱酸素したn−ヘプタン200ミリリットル
を導入し、次いでMgCl2 を0.4モルおよびTi
(O−nC4 H 9 )4 を0.8モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次
いでメチルヒドロポリシロキサン(20センチストーク
スのもの)を48ミリリットル導入し、3時間反応させ
た。生成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。つい
で充分に窒素置換したフラスコに、上記と同様に精製し
たn−ヘプタンを50ミリリットル導入し、上記で合成
した固体成分をMg原子換算で0.24モル導入した。
ついでn−ヘプタン25ミリリットルにSiCl4 0.
4モルを混合して30℃、30分間でフラスコへ導入
し、70℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘプ
タンで洗浄した。次いでケイ素化合物として(t−C4
H9 )(C2 H5 )Si(OCH3 )2を2.6ml導
入し、20℃で2時間接触させた。接触終了後n−ヘプ
タンで充分に洗浄し、成分(A)とした。一部分をとり
出して、組成分析したところ、Ti含量=2.7wt
%、(t−C4 H9 )(C2 H5 )Si(OCH3 )2
含量=6.9wt%であった。
【0039】〔プロピレンの重合〕撹拌および温度制御
装置を有する内容積1.5リットルのステンレス鋼製オ
ートクレーブに、充分に脱水および脱酸素したn−ヘプ
タンを500ミリリットル成分(B)として、AlEt
3 を100ミリグラム、成分(C)としてジエチル亜鉛
108ミリグラムおよび上記で製造した成分(A)を1
5ミリグラム、次いで、水素を導入し、昇温昇圧し、重
合圧力=5kg/cm2 G、重合温度=70℃、重合時
間=2時間の条件で重合操作を行なった。重合終了後、
得られたポリマースラリーを濾過により分離し、ポリマ
ーを乾燥させた。その結果、187.4グラムのポリマ
ーが得られた。なお重合槽の気相部の水素濃度は5.8
vol%であった。また、濾過液からは、0.18グラ
ムのポリマーが得られた。沸騰ヘプタン抽出試験より、
全製品I.I(以下T−I.Iと略す)は98.2重量
パーセントであった。MFR48.3g/10分、ポリ
マー嵩比重=0.48g/ccであった。
装置を有する内容積1.5リットルのステンレス鋼製オ
ートクレーブに、充分に脱水および脱酸素したn−ヘプ
タンを500ミリリットル成分(B)として、AlEt
3 を100ミリグラム、成分(C)としてジエチル亜鉛
108ミリグラムおよび上記で製造した成分(A)を1
5ミリグラム、次いで、水素を導入し、昇温昇圧し、重
合圧力=5kg/cm2 G、重合温度=70℃、重合時
間=2時間の条件で重合操作を行なった。重合終了後、
得られたポリマースラリーを濾過により分離し、ポリマ
ーを乾燥させた。その結果、187.4グラムのポリマ
ーが得られた。なお重合槽の気相部の水素濃度は5.8
vol%であった。また、濾過液からは、0.18グラ
ムのポリマーが得られた。沸騰ヘプタン抽出試験より、
全製品I.I(以下T−I.Iと略す)は98.2重量
パーセントであった。MFR48.3g/10分、ポリ
マー嵩比重=0.48g/ccであった。
【0040】比較例−1 実施例−1のプロピレンの重合において、成分(C)の
ジエチル亜鉛を使用せずに、重合槽内の水素濃度は8.
1vol%にした以外は全く同様に重合を行なった。1
62.5グラムのポリマーが得られ、T−I.I=9
7.3重量%であり、MFR=45.4g/10分、ポ
リマー嵩比重=0.47g/ccであった。
ジエチル亜鉛を使用せずに、重合槽内の水素濃度は8.
1vol%にした以外は全く同様に重合を行なった。1
62.5グラムのポリマーが得られ、T−I.I=9
7.3重量%であり、MFR=45.4g/10分、ポ
リマー嵩比重=0.47g/ccであった。
【0041】実施例−2 〔成分(A)の製造〕追加実施例−1の成分(A)の製
造において、ケイ素化合物として(t−C4H9 )(C
2 H5 )Si(OCH3 )2 のかわりに(t−C
4 H9 )(n−C6H11)Si(OCH3 )2 1.2m
lおよび(iC4 H9 )3 Al 3.3グラムを使用し
た以外は、全く同様に成分(A)の製造を行なった。一
部をとり出して組成分析したところ、Ti含量=2.9
wt%、(t−C4 H9 )(n−C6H11)Si(OC
H3 )2 含量=10.7wt%であった。
造において、ケイ素化合物として(t−C4H9 )(C
2 H5 )Si(OCH3 )2 のかわりに(t−C
4 H9 )(n−C6H11)Si(OCH3 )2 1.2m
lおよび(iC4 H9 )3 Al 3.3グラムを使用し
た以外は、全く同様に成分(A)の製造を行なった。一
部をとり出して組成分析したところ、Ti含量=2.9
wt%、(t−C4 H9 )(n−C6H11)Si(OC
H3 )2 含量=10.7wt%であった。
【0042】〔プロピレンの重合〕実施例−1のプロピ
レンの重合の重合条件で重合温度を75℃、成分(B)
としてAl(C2 H5 )3 を125ミリグラム、成分
(C)としてジエチル亜鉛を135ミリグラムそれぞれ
使用した以外は、実施例−1と全く同様に重合した。な
お重合槽の気相部の水素濃度は、5.9vol%であっ
た。その結果、207.2グラムのポリマーが得られ、
T−I.I=98.5重量%、MFR=55.2g/1
0分、ポリマー嵩比重=0.49g/ccであった。
レンの重合の重合条件で重合温度を75℃、成分(B)
としてAl(C2 H5 )3 を125ミリグラム、成分
(C)としてジエチル亜鉛を135ミリグラムそれぞれ
使用した以外は、実施例−1と全く同様に重合した。な
お重合槽の気相部の水素濃度は、5.9vol%であっ
た。その結果、207.2グラムのポリマーが得られ、
T−I.I=98.5重量%、MFR=55.2g/1
0分、ポリマー嵩比重=0.49g/ccであった。
【0043】実施例−3 〔成分(A)の製造〕充分に窒素置換したフラスコに、
脱水および脱酸素したn−ヘプタン200ミリリットル
を導入し、次いでMgCl2 を0.4モルおよびTi
(O−nC4 H 9 )4 を0.8モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次
いでメチルヒドロポリシロキサン(20センチストーク
スのもの)を48ミリリットル導入し、3時間反応させ
た。生成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。つい
で充分に窒素置換したフラスコに、上記と同様に精製し
たn−ヘプタンを50ミリリットル導入し、上記で合成
した固体成分をMg原子換算で0.24モル導入した。
ついでn−ヘプタン25ミリリットルにSiCl4
0.4モルを混合して30℃、30分間でフラスコへ導
入し、70℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘ
プタンで洗浄した。次いでn−ヘプタン25ミリリット
ルにフタル酸クロライド0.024モルを混合して、7
0℃、30分間でフラスコへ導入し、90℃で1時間反
応させた。反応終了後、n−ヘプタンで洗浄した。次い
でSiCl4 10ミリリットルを導入して80℃で6
時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充分に洗
浄して成分(A)を製造するための固体成分とした。こ
のもののチタン含量は、1.24重量%であった。
脱水および脱酸素したn−ヘプタン200ミリリットル
を導入し、次いでMgCl2 を0.4モルおよびTi
(O−nC4 H 9 )4 を0.8モル導入し、95℃で2
時間反応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次
いでメチルヒドロポリシロキサン(20センチストーク
スのもの)を48ミリリットル導入し、3時間反応させ
た。生成した固体成分をn−ヘプタンで洗浄した。つい
で充分に窒素置換したフラスコに、上記と同様に精製し
たn−ヘプタンを50ミリリットル導入し、上記で合成
した固体成分をMg原子換算で0.24モル導入した。
ついでn−ヘプタン25ミリリットルにSiCl4
0.4モルを混合して30℃、30分間でフラスコへ導
入し、70℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘ
プタンで洗浄した。次いでn−ヘプタン25ミリリット
ルにフタル酸クロライド0.024モルを混合して、7
0℃、30分間でフラスコへ導入し、90℃で1時間反
応させた。反応終了後、n−ヘプタンで洗浄した。次い
でSiCl4 10ミリリットルを導入して80℃で6
時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充分に洗
浄して成分(A)を製造するための固体成分とした。こ
のもののチタン含量は、1.24重量%であった。
【0044】充分に窒素置換したフラスコに、充分に精
製したn−ヘプタンを50ミリリットル導入し、次いで
上記で得た固体成分を5グラム導入し、任意成分として
ビニルトリメチルシランを0.5ミリリットル、ケイ素
化合物として(t−C4 H9)(n−C8 H17)Si
(OCH3 )2 を0.5ミリリットル、Al(C
2 H5)3 を1.7gそれぞれ導入し、95℃で2時間
接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄し
て成分(A)とした。その一部をとり出して組成分析し
たところ、チタン含量=1.62wt%、(t−C4 H
9 )(n−C8 H17)Si(OCH3 )2 含量=5.7
wt%であった。
製したn−ヘプタンを50ミリリットル導入し、次いで
上記で得た固体成分を5グラム導入し、任意成分として
ビニルトリメチルシランを0.5ミリリットル、ケイ素
化合物として(t−C4 H9)(n−C8 H17)Si
(OCH3 )2 を0.5ミリリットル、Al(C
2 H5)3 を1.7gそれぞれ導入し、95℃で2時間
接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄し
て成分(A)とした。その一部をとり出して組成分析し
たところ、チタン含量=1.62wt%、(t−C4 H
9 )(n−C8 H17)Si(OCH3 )2 含量=5.7
wt%であった。
【0045】〔プロピレンの重合〕撹拌および温度制御
装置を有する内容積1.5リットルのステンレス鋼製オ
ートクレーブに、充分に脱水および脱酸素したn−ヘプ
タンを500ミリリットル、トリエチルアルミニウム
(成分(B1 ))125ミリグラムとジエチル亜鉛(成
分(C))135ミリグラムおよび上記で製造した成分
(A)を10ミリグラム、次いで、水素を導入し、昇温
昇圧し、重合圧力=5kg/cm2 G、重合温度=75
℃、重合時間=2時間の条件で重合操作を行なった。な
お気相部の水素濃度は6.7vol%であった。重合終
了後、得られたポリマースラリーを濾過により分離し、
ポリマーを乾燥させた。その結果、236.8グラムの
ポリマーが得られた。また、濾過液からは、0.21グ
ラムのポリマーが得られた。沸騰ヘプタン抽出試験よ
り、全製品I.I(以下T−I.Iと略す)は、98.
5重量パーセントであった。MFR=77.4/10
分、ポリマー嵩比重=0.48g/ccであった。
装置を有する内容積1.5リットルのステンレス鋼製オ
ートクレーブに、充分に脱水および脱酸素したn−ヘプ
タンを500ミリリットル、トリエチルアルミニウム
(成分(B1 ))125ミリグラムとジエチル亜鉛(成
分(C))135ミリグラムおよび上記で製造した成分
(A)を10ミリグラム、次いで、水素を導入し、昇温
昇圧し、重合圧力=5kg/cm2 G、重合温度=75
℃、重合時間=2時間の条件で重合操作を行なった。な
お気相部の水素濃度は6.7vol%であった。重合終
了後、得られたポリマースラリーを濾過により分離し、
ポリマーを乾燥させた。その結果、236.8グラムの
ポリマーが得られた。また、濾過液からは、0.21グ
ラムのポリマーが得られた。沸騰ヘプタン抽出試験よ
り、全製品I.I(以下T−I.Iと略す)は、98.
5重量パーセントであった。MFR=77.4/10
分、ポリマー嵩比重=0.48g/ccであった。
【0046】実施例−4 〔成分(A)の製造〕充分に精製した窒素で置換した5
00ミリリットルのフラスコに、Mg(OC 2 H5 )2
を20グラム、精製したトルエンを100ミリリット
ル、次いでTiCl4 60ミリリットルを導入し、7
0℃に昇温し、次いで酢酸セルソルブを8.6ミリリッ
トル導入し、100℃に昇温して3時間反応させた。反
応終了後、反応物をn−ヘプタンで充分に洗浄した。そ
の後、さらにTiCl4 100ミリリットルを導入し、
110℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタ
ンで充分に洗浄して、成分(A)を製造するための固体
成分とした。実施例−3の成分(A)の合成と同様に、
充分に精製したフラスコにn−ヘプタンを50ミリリッ
トル、次いで上記で得た固体成分を5グラム導入し、次
いでケイ素化合物として(シクロ−C5 H9 )2 Si
(OCH3 )2 を1.2ミリリットル導入し、さらに
(C2 H5 )2 Zn 0.4グラムおよびジメチルハイ
ドロシロキサンを1.0グラムを導入し、50℃で2時
間接触させた。接触終了後、生成物をn−ヘプタンで充
分に洗浄して成分(A)とした。これを組成分析したと
ころ、チタン含量=2.3wt%、(シクロ−C
5 H9 )2 Si(OCH3)2 含量=9.8wt%であ
った。
00ミリリットルのフラスコに、Mg(OC 2 H5 )2
を20グラム、精製したトルエンを100ミリリット
ル、次いでTiCl4 60ミリリットルを導入し、7
0℃に昇温し、次いで酢酸セルソルブを8.6ミリリッ
トル導入し、100℃に昇温して3時間反応させた。反
応終了後、反応物をn−ヘプタンで充分に洗浄した。そ
の後、さらにTiCl4 100ミリリットルを導入し、
110℃で3時間反応させた。反応終了後、n−ヘプタ
ンで充分に洗浄して、成分(A)を製造するための固体
成分とした。実施例−3の成分(A)の合成と同様に、
充分に精製したフラスコにn−ヘプタンを50ミリリッ
トル、次いで上記で得た固体成分を5グラム導入し、次
いでケイ素化合物として(シクロ−C5 H9 )2 Si
(OCH3 )2 を1.2ミリリットル導入し、さらに
(C2 H5 )2 Zn 0.4グラムおよびジメチルハイ
ドロシロキサンを1.0グラムを導入し、50℃で2時
間接触させた。接触終了後、生成物をn−ヘプタンで充
分に洗浄して成分(A)とした。これを組成分析したと
ころ、チタン含量=2.3wt%、(シクロ−C
5 H9 )2 Si(OCH3)2 含量=9.8wt%であ
った。
【0047】〔プロピレンの重合〕実施例−3の重合条
件において、重合槽の気相部の水素濃度を8.3vol
%とした以外は、全く同様に重合を行なった。その結
果、158.4グラムのポリマーが得られ、T−I.I
=98.0重量%、MFR=81.7g/10分、ポリ
マー嵩比重=0.44 (g/cc)であった。
件において、重合槽の気相部の水素濃度を8.3vol
%とした以外は、全く同様に重合を行なった。その結
果、158.4グラムのポリマーが得られ、T−I.I
=98.0重量%、MFR=81.7g/10分、ポリ
マー嵩比重=0.44 (g/cc)であった。
【0048】実施例−5 〔成分(A)の製造〕充分に窒素置換した内容積0.4
リットルのボールミルに、内径1.6mmのスチール製
ボールを23個導入し、無水MgCl2 を20グラム、
(t−C4 H 9 )(CH3 )Si(OCH3 )2 を3.
2ミリリットルおよびTiCl4 を1.5ミリリットル
それぞれ導入し、20℃の雰囲気で48時間粉砕した。
粉砕終了後、ミルより取り出して成分(A)を製造する
ための固体成分とした。次いで、充分に精製した窒素で
置換した500ミリリットルのフラスコに、充分に精製
したn−ヘプタンを100ミリリットル、上記の固体成
分を5グラムおよびビニルトリクロロシランを0.5ミ
リリットル導入し、50℃で2時間接触させた。接触終
了後、n−ヘプタンで接触物を充分に洗浄して成分
(A)とした。これを組成分析したところ、チタン含量
=2.2wt%、(t−C4 H9 )(CH3 )Si(O
CH3 )2 含量=8.3wt%であった。
リットルのボールミルに、内径1.6mmのスチール製
ボールを23個導入し、無水MgCl2 を20グラム、
(t−C4 H 9 )(CH3 )Si(OCH3 )2 を3.
2ミリリットルおよびTiCl4 を1.5ミリリットル
それぞれ導入し、20℃の雰囲気で48時間粉砕した。
粉砕終了後、ミルより取り出して成分(A)を製造する
ための固体成分とした。次いで、充分に精製した窒素で
置換した500ミリリットルのフラスコに、充分に精製
したn−ヘプタンを100ミリリットル、上記の固体成
分を5グラムおよびビニルトリクロロシランを0.5ミ
リリットル導入し、50℃で2時間接触させた。接触終
了後、n−ヘプタンで接触物を充分に洗浄して成分
(A)とした。これを組成分析したところ、チタン含量
=2.2wt%、(t−C4 H9 )(CH3 )Si(O
CH3 )2 含量=8.3wt%であった。
【0049】〔プロピレンの重合〕実施例−3の重合条
件において、成分(B)としてトリイソブチルアルミニ
ウム125ミリグラムを使用し、成分(C)としてジブ
チル亜鉛57mgを使用し、成分(A)の使用量を15
mgにし、重合温度を65℃にし、重合槽の気相部の水
素濃度を4.8vol%に変更した以外は、全く同様に
重合操作を行なった。その結果、89.6グラムのポリ
マーが得られ、T−I.I=97.7wt%、MFR=
33.6/10分、ポリマー嵩比重=0.42 (g/c
c)であった。
件において、成分(B)としてトリイソブチルアルミニ
ウム125ミリグラムを使用し、成分(C)としてジブ
チル亜鉛57mgを使用し、成分(A)の使用量を15
mgにし、重合温度を65℃にし、重合槽の気相部の水
素濃度を4.8vol%に変更した以外は、全く同様に
重合操作を行なった。その結果、89.6グラムのポリ
マーが得られ、T−I.I=97.7wt%、MFR=
33.6/10分、ポリマー嵩比重=0.42 (g/c
c)であった。
【0050】比較例−2 実施例−3の重合条件において、成分(C)のジエチル
亜鉛を使用せずに、水素濃度を10.5vol%にした
以外は、実施例−1と全く同様に重合を行なった。19
4.5グラムのポリマーが得られ、T−I.I=97.
6重量%、MFR=75.8g/10分、ポリマー嵩比
重=0.48g/ccであった。
亜鉛を使用せずに、水素濃度を10.5vol%にした
以外は、実施例−1と全く同様に重合を行なった。19
4.5グラムのポリマーが得られ、T−I.I=97.
6重量%、MFR=75.8g/10分、ポリマー嵩比
重=0.48g/ccであった。
【0051】比較例−3 実施例−4の重合条件において、成分(C)のジエチル
亜鉛を使用せずに、水素濃度を12.6vol%にした
以外は、実施例−2と全く同様に重合を行なった。12
6.3グラムのポリマーが得られ、T−I.I=97.
1重量%、MFR=89.1g/10分、ポリマー嵩比
重=0.44g/ccであった。
亜鉛を使用せずに、水素濃度を12.6vol%にした
以外は、実施例−2と全く同様に重合を行なった。12
6.3グラムのポリマーが得られ、T−I.I=97.
1重量%、MFR=89.1g/10分、ポリマー嵩比
重=0.44g/ccであった。
【0052】比較例−4 実施例−5の重合条件において、成分(C)のジブチル
亜鉛を使用せずに、水素濃度を8.7vol%にした以
外は、実施例−3と全く同様に重合を行なった。73.
1グラムのポリマーが得られ、T−I.I=96.8重
量%、MFR=35.2g/10分、ポリマー嵩比重=
0.43g/ccであった。
亜鉛を使用せずに、水素濃度を8.7vol%にした以
外は、実施例−3と全く同様に重合を行なった。73.
1グラムのポリマーが得られ、T−I.I=96.8重
量%、MFR=35.2g/10分、ポリマー嵩比重=
0.43g/ccであった。
【0053】実施例6〜10 〔成分(A)の製造〕実施例−4の成分(A)の製造に
おいて、成分(ii)のケイ素化合物を表−1に示すよう
に変更した以外は、実施例−4と全く同様に製造を行な
い、成分(A)を得た。
おいて、成分(ii)のケイ素化合物を表−1に示すよう
に変更した以外は、実施例−4と全く同様に製造を行な
い、成分(A)を得た。
【0054】〔プロピレンの重合〕実施例−4のプロピ
レンの重合において、成分(B)および成分(C)の使
用量を表−1に示すように変更した以外は、実施例−2
と全く同様に重合を行なった。その結果を表−1に示
す。
レンの重合において、成分(B)および成分(C)の使
用量を表−1に示すように変更した以外は、実施例−2
と全く同様に重合を行なった。その結果を表−1に示
す。
【0055】
【表1】
【0056】実施例−11〜13 実施例−3のプロピレンの重合において、水素濃度を表
−2に示すように変更した以外は、実施例−3と全く同
様に重合を行なった。その結果を表−2に示す。
−2に示すように変更した以外は、実施例−3と全く同
様に重合を行なった。その結果を表−2に示す。
【0057】比較例5〜7 比較例−2のプロピレンの重合において、水素濃度を表
−2に示すように変更した以外は、比較例−2と全く同
様に重合を行なった。その結果を表−2に示す。
−2に示すように変更した以外は、比較例−2と全く同
様に重合を行なった。その結果を表−2に示す。
【0058】
【表2】
【図1】チーグラー触媒に関する本発明の技術内容の理
解を助ける為のものである。 >
解を助ける為のものである。 >
Claims (1)
- 【請求項1】触媒の存在下炭素数3〜12のα−オレフ
ィンを立体規則性重合させてメルトフローレート(MF
R)が30〜1000g/10分のオレフィン重合体を
製造する方法において、使用する触媒が下記成分
(A)、成分(B)及び成分(C)からなるものである
ことを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。 成分(A):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを必
須成分として含有し、かつ下記の一般式で表されるケイ
素化合物を含有してなるオレフィンの立体規則性重合用
固体触媒成分 一般式 R1 R2 3-n Si(OR3 )n (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2 はR1 と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3 は炭化水素残基を、nは1≦n≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(B):下記の一般式で表される有機アルミニウム
化合物 一般式 R4 3-m AlXm (ここで、R4 は炭素数1〜20の炭化水素残基を、X
は水素またはハロゲンを、mは0≦m≦2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(C):下記の一般式で表される有機亜鉛化合物 一般式 R5 R6 Zn (ここで、R5 およびR6 はそれぞれ独立して炭素数1
〜20の炭化水素残基を示す)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20391494A JP3357191B2 (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | オレフィン重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20391494A JP3357191B2 (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | オレフィン重合体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0867710A JPH0867710A (ja) | 1996-03-12 |
| JP3357191B2 true JP3357191B2 (ja) | 2002-12-16 |
Family
ID=16481791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20391494A Expired - Fee Related JP3357191B2 (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | オレフィン重合体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3357191B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6870022B2 (en) | 2000-08-04 | 2005-03-22 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for producing α-olefin polymer |
| CN101379097B (zh) | 2006-02-03 | 2011-08-03 | 日本聚丙烯公司 | 丙烯类聚合物及其制备方法、丙烯类聚合物组合物以及由该组合物制成的成型制品 |
| US10011669B2 (en) | 2013-02-27 | 2018-07-03 | Toho Titanium Co., Ltd. | Method for producing propylene block copolymer |
| SG10201805413UA (en) | 2014-01-20 | 2018-08-30 | Toho Titanium Co Ltd | Solid catalyst component for olefin polymerization, method for producing the same, olefin polymerization catalyst, and method for producing olefin polymer |
| WO2016031600A1 (ja) | 2014-08-26 | 2016-03-03 | 東邦チタニウム株式会社 | プロピレン系ブロック共重合体の製造方法 |
-
1994
- 1994-08-29 JP JP20391494A patent/JP3357191B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0867710A (ja) | 1996-03-12 |
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