JP3355631B2 - レーザ製版装置及び製版方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はレーザ源からのレーザビ
ームにより版胴の版を得る様にした製版装置及び製版方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】本出願人は先に特開平２−１３９２３８
号公報によって、レーザ源を用いて熱可塑性樹脂からな
る版にレーザビームを照射し、画像の濃淡に対応した凹
部を形成する様にした凹版の版胴を提案した。

【０００３】上記公報に開示した構成の大要を図１２を
用いて説明する。図１２は版胴１に巻回した版２のパタ
ーン形成方法を示す光学系の概念図であり、版胴１は金
属性の円筒であり、この版胴１の外径に沿って合成樹脂
の版２を巻付けて、皿螺子等で版胴１に穿った母螺に固
定する。この固定方法は適宜方法のものを選択すること
が出来て、例えば版の裏面に接着剤層を形成し版胴１に
固定することも出来る。

【０００４】版２の材料としては比較的融点の分布範囲
が狭く、硬化時に硬さがあり、融解時には樹脂が低温で
飛散又は昇華する熱可塑性樹脂がよく、例えば、ポリエ
チレン樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂にカー
ボン２０％程度を含有させたもの等を用いている。又、
版２の厚みは２００ミクロン程度のものが選択される。

【０００５】版胴１は後述する版胴回転モータに連結さ
れ、版胴１は矢印Ｂ方向に回転される。

【０００６】図１２は１Ｗ程度の半導体レーザ３を用い
て版２に窪み４を形成するための概念図を示すものであ
る。

【０００７】イメージスキャナー等で取り込まれた映像
入力信号５は半導体レーザ３に供給され、駆動電流やＰ
ＣＭ化した映像入力信号５でオン、オフして直接変調す
る。このため半導体レーザ３から放出されるレーザビー
ムは映像入力信号５に同期して点滅する。半導体レーザ
３を出たレーザビームはコリメートレンズ６で平行光に
成され、焦点レンズ７を介して版２の表面位置に焦点を
結ぶ様に照射される。

【０００８】半導体レーザ３、コリメータレンズ６、焦
点レンズ７を含むレーザブロック８は始めは版胴１の最
左端側の所定位置に焦点が合せられている。版胴１は矢
印Ｂ方向に後述する版胴回転用モータで回転される様に
なされているので、版胴１を１回転させると円周に沿っ
た１トラック分の窪み４がレーザビームで飛散して所定
の１トラック分の窪み４を作る。次にレーザブロック８
を１画素分版胴１の軸方向に移動させて、合成樹脂を飛
散させて行くと２トラック分の所定の窪み４が形成され
る。この様な走査を順次版胴１の全面に亘って行えば合
成樹脂材は映像入力信号５の濃淡に対応した窪み４のパ
ターンを形成する。

【０００９】即ち、版胴１にはレーザビームが焦点レン
ズ７を介して照射され、合成樹脂の版２の表面に焦点を
結び版面を融かして合成樹脂を飛散或は昇華させる。こ
の場合、レーザを変調するか、１つの窪み４に対するレ
ーザ照射時間を変えることで版面材の飛散或は昇華する
窪み量、大きさを調整し階調に対応した体積の窪み４と
する。即ち窪み４は図１２に示す様にレーザビームで飛
散する版面材の量が映像入力信号の濃淡によって深さｄ
を変えるか、面積Ｓを変える様にしている。

【００１０】図１３Ａ〜Ｄはレーザビームによってクラ
ビアの版２上に形成される窪み４の階調と信号の変化状
態を示すもので、図１３Ａ〜Ｄの９はドット面積率が１
〜３／４，３／４〜１／２，１／２〜１／４，１／４〜
０等の４段階の範囲に階調を区分した場合のレーザビー
ムによって製版された窪み４の面積Ｓを示し、１０はオ
ン、オフ状態の波形の一例を示すものである。

【００１１】この波形から解る様に、半導体レーザ３か
ら版２上にレーザビームが照射されている間だけ窪み４
が形成されるため、レーザビームのオン、オフ時間の比
を制御すれば面積Ｓの異なる窪み４を得ることが出来
て、面積階調を表現出来ることが解る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】叙上の従来構成で、例
えば、図１３Ｄのドット面積率が１／４〜０の範囲で考
えるとレーザビームのオン期間は図１３Ａのレーザビー
ムのオン期間の１／４〜０であるので、３／４〜１のオ
フ期間の波形で階調表現が成される。

【００１３】この為に、レーザビームの波形１０のオフ
時はパターンの窪み４を形成しておらず面積９は図１３
Ｄの如く小さくなり、この間製版時間としてみたとき、
無駄時間が多くなることになる。

【００１４】本発明は叙上の問題点を解決するために成
されたもので、その目的とするところは、製版時間を短
縮することの出来るレーザ製版装置及び製版方法を提供
するにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１に係わる本発明
は、レーザ源３からのレーザビーム１１を版２に照射
し、版２上に被印刷画像に対応するパターンのグラビア
版を製版するレーザ製版装置において、版２が巻回され
る版胴１の外周接線方向または回転軸方向にレーザビー
ム１１を高速微小走査する走査偏向手段１２，１３と、
パターンをｍ×ｎ（ｍ，ｎは任意の自然数、但しｎ＝ｍ
＋１）画素４の複数のブロック４５（４５ａ〜４５ｄ，
５０ａ〜５０ｉ）に区分するパターン幾何変換画像処理
手段と、ブロック４５（４５ａ〜４５ｄ，５０ａ〜５０
ｉ）毎の画素４の面積率に応じた階調を基にブロック４
５（４５ａ〜４５ｄ，５０ａ〜５０ｉ）の各画素４に連
続してレーザビーム１１を走査するように走査偏向手段
１２，１３の走査方法を制御する制御手段とを具備して
なることを特徴とするレーザ製版装置としたものであ
る。請求項２に係わる本発明のｍ×ｎ画素４の１つのブ
ロック４５は版胴１の外周接線方向の並びは揃え、回転
軸方向は１／ｎづつずらした配列と成したことを特徴と
する請求項１記載のレーザ製版装置としたものである。
請求項３に係わる本発明はシステムコントローラに入力
された製版画像データをｍ×ｎ（ｍ，ｎは任意の自然
数、但しｎ＝ｍ＋１）画素４の複数のブロック４５（４
５ａ〜４５ｄ，５０ａ〜５０ｉ）にパターン幾何変換画
像処理するプロセスＳＴ₂ と、ブロック４５（４５ａ〜
４５ｄ，５０ａ〜５０ｉ）内の複数の画素４中の最高階
調を検出するプロセスＳＴ₃ と、検出プロセスで検出し
た階調の段階に応じて、ブロック内の走査に対応してデ
ータを並べ換えるプロセスＳＴ₄ と、並び換えたデータ
に基づいてブロック４５（４５ａ〜４５ｄ，５０ａ〜５
０ｉ）内の走査信号を発生するプロセスＳＴ₄ と、ブロ
ック４５（４５ａ〜４５ｄ，５０ａ〜５０ｉ）内の走査
信号に基づき版胴１に巻回した版２に形成するパターン
のブロック４５（４５ａ〜４５ｄ，５０ａ〜５０ｉ）内
を走査して製版を行なうプロセスＳＴ₅ とより成ること
を特徴とする製版方法としたものである。

【００１６】

【作用】本発明のレーザ製版装置及び製版方法によれば
版上にレーザビームを用いて所定パターンの窪みを作る
際に、ブロック毎に複数に区分したブロック毎の階調に
応じて、走査方法を変更する様に制御したので、所定面
積内のパターンを製版する場合の製版時間を短縮するこ
との出来るものが得られる。

【００１７】

【実施例】以下、本発明のレーザ製版装置及び製版方法
を図１乃至図１１によって詳記する。

【００１８】図１は本例のレーザ製版装置の略線的な構
成図を示すもので、１は版胴であり、この版胴１の外周
面には図１２で説明したと同様の合成樹脂の版２が貼着
固定されている。１５は版胴１の回転軸を示すもので、
版胴回転モータ１６のモータ軸に後述するもプーリ等を
介して結合され、このモータ軸にはエンコーダ１７が取
り付けられ、版胴１の回転速度等が検出されて、コンピ
ュータ等よりなるシステムコントローラ１４にエンコー
ダ１７からの出力が供給される。

【００１９】ボールねじ１８は版胴１の軸方向と平行に
配設され、このボールねじ１８にはレーザブロック移動
用モータ１９がカップリング等を介して結合されてい
る。ボールねじ１８には移動子２０が螺合され、移動子
２０によってレーザブロック８がボールねじ１８の軸方
向に移動し、版胴１の版２上にレーザビーム１１によっ
て窪み４を形成する。

【００２０】システムコントローラ１４からは上述の版
胴回転モータ１６及びレーザブロック移動用モータ１９
を回転駆動させる制御駆動信号が供給されて、版胴１を
径方向に回転させると共にレーザブロック８を版胴１の
軸方向に移動させて、版２全面に所定の窪み４を形成
し、所定のパターンを形成させる。

【００２１】レーザブロック８内には図２に示す様に半
導体レーザ３、コリメータレンズ６、ガルバノミラー等
の偏光素子１２，１３を駆動するＸ軸及びＹ軸駆動モー
タ２４及び２５、並びに焦点レンズ７が内蔵されてい
る。

【００２２】即ち、半導体レーザ３はシステムコントロ
ーラ１４によって制御されるレーザドライバ２３によっ
て、オン、オフ制御が成されると共に半導体レーザ３か
ら出射されたレーザビーム１１はコリメートレンズ６で
並行光と成され、カルバルミラ１２に照射される。第１
のガルバノミラ１２はＹ軸駆動モータ２５でＹ軸（版胴
１の円周方向）に振られ、更に第２のガルバノミラ１３
に照射された反射光はＸ軸駆動モータ２４でＸ軸（版胴
１の軸方向）に振られ、焦点レンズ７で版胴１に巻回し
た版の所定位置に焦点を結んで版２に窪み４を形成す
る。

【００２３】この第１及び第２のガルバノミラ１２，１
３を駆動する偏向駆動制御信号はシステムコントローラ
１４から供給される。勿論、システムコントローラ１４
への画像データは予めＲＯＭ或はＲＡＭ等に格納された
版２を形成すべき画像データ源２６から供給される。
又、上述の構成では偏光素子としてガルバノミラ１２を
用いたが、これらの代りに音響光学偏光素子（ＡＯ
Ｄ）、電気光学偏光素子（ＥＯＤ）等を用いてもよく、
高速にレーザビームを版胴１のＸ及びＹ軸方向に偏向さ
せることの出来る偏向手段であればよい。

【００２４】図３は上述の概念図で説明したレーザ製版
装置の具体的構成例を示すものである。図３で３０は製
版装置のベースで略長方形状の鋼板上に版胴回転部３１
及びレーザブロック移動部３２が設けられる。版胴回転
部３１は略くの字状に形成した左右側壁３３Ｌ，３３Ｒ
間に略円筒状の版胴１を回転自在に枢着し、ベース３０
上に配設した版胴回転モータ１６によって、駆動される
様になされ、レーザブロック８内には半導体レーザ３を
含み、版胴１の軸方向に沿って配設した案内部３４に沿
って移動する様になされている。

【００２５】版胴１の円筒部の外周に沿って合成樹脂の
版２を巻付けて固定する。版胴１の左右には金属製のキ
ャップ３５Ｌ，３５Ｒが嵌着され、左右キャップ３５
Ｌ，３５Ｒに一体に形成した軸３６Ｌ，３６Ｒが左右側
壁３３Ｌ，３３Ｒに回動自在に枢着されている。軸３６
Ｒは複数のプーリ３７，３７‥‥とベルト３８，３８‥
‥を介してベース３０上に固定された版胴回転モータ１
６に連結されて、これらプーリ３７及びベルト３８を介
して版胴１に巻回した版２は矢印Ａ或はＢ方向に回転す
る。

【００２６】レーザブロック移動部３２はベース３０の
左右側壁３３Ｌ，３３Ｒ上に形成したく字状の段部に略
矩形状のサブベース３９が載置され、このサブベース３
９上に案内部３４が形成されている。更にサブベース３
９上には軸受部４０Ｌ，４０Ｒが植立され、これら軸受
部４０Ｌ，４０Ｒ間にレーザブロック移動部３２のボー
ルねじ１８が橋絡され、レーザブロック移動用モータ１
９でボールねじ１８は回転駆動される。即ち、ボールね
じ１８はレーザブロック移動用モータ１９の軸とカップ
リング用の軸継ぎ手４１で係合され、ボールねじ１８を
駆動する。

【００２７】ボールねじ１８には移動子２０が螺合さ
れ、この移動子２０とレーザブロック取付台４２がアー
ム４３で固定され、レーザブロック取付台４２上にはレ
ーザブロック８が載置され、このレーザブロック８が案
内部３４に沿って版胴１の軸方向に移動することで、レ
ーザブロック８内の半導体レーザ３から照射されたレー
ザビーム１１は版胴１に巻回した版２のＸ及びＹ軸の全
方向に対向して窪み４を形成することが出来る。

【００２８】この様なレーザ製版装置を用いて、グラビ
アの版２を形成する形成方法を図４のパターン構成方法
を用いて説明する。

【００２９】図４はシート状の版２上に形成される窪み
４のパターンを示すもので、版２上に形成されるパター
ンを所定の数の複数のブロック４５ａ，４５ｂ，４５
ｃ，４５ｄ‥‥に区分する。この複数ブロックの内の１
ブロック４５は、例えばＸ軸方向（版胴１の軸方向）及
びＹ軸方向（版胴１の円周方向）のドット数を３×４画
素分（以下ドットと記す）を単位に構成している。この
１ドットの大きさは例えば、１２５μｍ×１２５μｍ程
度である。

【００３０】そして、Ｙ軸方向はドットの窪み４，４，
‥‥の並びを揃えて配列し、Ｘ軸方向はドットの窪み４
のＹ軸方向の長さＬ＝１２５μｍの１／４Ｌだけずらし
て、階段上に配列させてある。即ち、この様に３×４ド
ットの１ブロック４５を単位としてＸ軸方向にブロック
４５ａ，４５ｃ‥‥として並べ、Ｙ軸方向にブロック４
５ａ，４５ｂ‥‥としてマトリックス状に並べて所定の
画像が形成される版２を製版する。

【００３１】上述の例では３×４ドットを１ブロック４
５として説明したが、ｍ，ｎを任意の自然数とすればｍ
×ｎドット（但し、（ｎ＝ｍ＋１）とし、ｎを階調数に
とりＸ軸方向に並べるを可とする。）を１ブロック４５
とするパターンに構成し得ることは明らかである。

【００３２】この様にブロック化したブロック内の走査
は高速微小走査光学系の偏光手段であるガルバンミラ１
２，１３で行なわれる。又、ブロック４５ａからブロッ
ク４５ｃ方向（Ｘ軸方向）への移動はレーザブロック移
動用モータ１９で行ないブロック４５ａからブロック４
５ｂ方向（Ｙ軸方向）への移動は版胴回転モータ１６で
行なわれる。

【００３３】図５乃至図８はブロック４５内のカルバノ
ミラ１２，１３の走査をブロック内の階調に応じて変化
させる走査方法を模式的に示している。

【００３４】図５は図１２Ａで示したドット面積率が１
乃至３／４までの階調に該当するものでガルバノミラ１
２及び１３を用いて、Ｙ軸及びＸ軸方向に４走査する。
即ち、実線で示す第１の走査でガルバノミラ１２でＹ
軸方向にブロック内をレーザビーム１１のオン期間連続
的に走査し、次に同様に破線で示す第２の走査を行う
ためにＸ軸用のガルバノミラ１３を１ドット分振って、
Ｙ軸方向の走査をガルバノミラー１２で３ドット分行な
う。同様に第３及び第４の走査及びを一点及び二点
鎖線の様に行なう。この場合の時間短縮効率は従来と同
様で１となる。

【００３５】次に図６に示す図１２Ｂに対応するドット
面積率が３／４乃至１／２までの階調に該当するもので
はレーザビーム１１をオンして、窪み４６ａをＹ軸方向
にガルバノミラ１２を振って形成する。次にレーザビー
ム１１のオフ期間の瞬間にガルバノミラ１３をＸ軸方向
に３ドット分偏光させ、次の瞬間のレーザビーム１１を
オンさせガルバノミラ１２をＹ軸方向に偏光させて、窪
み４６ｂを形成する。この様にすると、従来のレーザビ
ームオフ期間ｔを有効利用出来る。更にレーザビーム１
１のオフ期間の瞬間ガルバノミラ１３をマイナスＸ軸方
向に１ドット分偏光させ、次の瞬間のレーザビーム１１
をオンさせ、ガルバノミラ１２をＹ軸方向に偏光させ窪
み４６ｃを形成する。同様にレーザビーム１１のオフ期
間の瞬間ガルバノミラ１３をマイナスＸ軸方向に１ドッ
ト分偏光させ、次の瞬間レーザビーム１１をオンさせガ
ルバノミラ１２をＹ軸方向に振って窪み４６ｄを形成す
る。かくすれば実線ので示す走査で窪み４６ａ，４６
ｂ，４６ｃ，４６ｄが形成される。

【００３６】次は破線ので示す第２の走査を上述と同
様の原理に基づいて行なえば窪み４６ｅ，４６ｆ，４６
ｇ，４６ｈが形成される。

【００３７】更に一点鎖線で示す第３の走査を上述と
同様の原理に基づいて行なえば窪み４６ｉ，４６ｊ，４
６ｋ，４６Ｌが得られる。この場合の１ブロックの１２
ドットすべての走査は３走査で済み、時間短縮の効率は
図５の場合に比べ３／４になる。

【００３８】図７は図１２ｃに対応するドット面積率が
１／２〜１／４までの階調に該当するものであり、図６
と同様の動作で窪み４７ａ，４７ｂ，４７ｃ，４７ｄ，
４７ｅ，４７ｆを実線ので示す様にガルバノミラ１２
及び１３で走査することで形成し、次に破線ので示す
様にガルバノミラで走査することで窪み４７ｇ，４７
ｈ，４７ｉ，４７ｊ，４７ｋ，４７Ｌが形成される。こ
の場合は１ブロック４５の走査は２走査で済み、図５の
場合に比べて時間短縮の効率は１／２となる。

【００３９】図８は図１２Ｄに対応するもので、ドット
面積率が１／４〜０までの階調に該当するものであり、
図７と同様の動作で窪み４８ａ，４８ｂ，４８ｃ，４８
ｄ，４８ｅ，４８ｆ，４８ｇ，４８ｈ，４８ｉ，４８
ｊ，４８ｋ，４８Ｌを実線ので示す様にガルバノミラ
１２及び１３を走査することで一気に１ブロックを１走
査でスキャンすることが可能となる。この為に時間短縮
の効率は図５に比べれば１／４となる。

【００４０】上述で説明した方法のパターン構成方法に
よって、図９に示す様なグラビア版を製版する場合の動
作を図１０のフローチャートと共に説明する。

【００４１】図９は、例えばブロック５０ａ乃至５０ｉ
の９個から成り立つ版で、各階調が図５に示す１ドット
面積率が１〜３／４までのブロック５０ａと、図６で示
すドット面積率が３／４〜１／２までの階調のブロック
５０ｂ，５０ｄ，５０ｅと、図７で示すドット面積率が
１／２〜１／４までの階調のブロック５０ｃ，５０ｆ，
５０ｇ，５０ｈと図８で示すドット面積率が１／４〜０
までの階調のブロック５０ｉから成り立っているものと
する。

【００４２】図１０は図１で説明したシステムコントロ
ーラ１４の偏向手段の高速微小偏向時のフローチャート
を示すもので、同図で画像データ源２６のＲＯＭ或はＲ
ＡＭ等の記憶手段から読み出されたシアンＣ、マゼンダ
Ｍ、イエロＹ、ブラックＫ等の製版画像データがシステ
ムコントローラ１４に入力される（第１ステップＳ
Ｔ₁ ）。

【００４３】次にシステムコントローラ１４内では、こ
れら製版画像データを基に図９に示す様なブロック別の
パターン５０ａ〜５０ｉに幾何変換画像処理が行なわれ
る（第２ステップＳＴ₂ ）。

【００４４】次に第３ステップＳＴ₃ ではシステムコン
トローラ１４は、これら複数ブロック別の各ブロック５
０ａ〜５０ｉのうちの１ブロックのデータを読み込み、
１ブロック内での最高階調のものを検出し、検出されな
い場合は元に戻されるか、最高階調が検出されれば第４
ステップＳＴ₄ に進められる。

【００４５】第４ステップＳＴ₄ ではブロック５０ａ〜
５０ｉ内の各段階に応じて、ブロック内のデータを並べ
変える。例えばブロック５０ａで示すものは図５に対応
し、Ｙ軸方向に順次４走査する様になされるので、デー
タの並び換えは必要ないが、ブロック５０ｂのものでは
図６に対応しているので窪み４６ａの製版の次は窪み４
６ｂを次は４６ｃ→４６ｄとの走査に対応してデータ
を並べ換える必要がある。同様にの走査では４６ｅ〜
４６ｈとデータを並べ、の走査では４６ｉ〜４６Ｌと
データを並べ変えることになる。同様の並べ換えを各ブ
ロック５０ｃ〜５０ｉについて行うことになる。

【００４６】この様に並べ換えの行なわれた製版データ
に応じてＸ及びＹ軸ガルバノミラ１２及び１３を偏向さ
せるデータを発生し、レーザブロック８内のガルバノミ
ラ１２，１３を駆動するＹ軸駆動モータ２５、Ｘ軸駆動
モータ２４に供給する。

【００４７】この様にして第５ステップＳＴ₅ によりブ
ロック５０ａ〜５０ｉ内の高速微小走査が行なわれる。
ブロック５０ａからブロック５０ｂ方向へのブロック間
移動は版胴回転モータ１６をシステムコントローラ１４
が制御することで行ない、ブロック５０ａからブロック
５０ｄ方向へのブロック間移動はレーザブロック移動用
モータ１９をシステムコントローラ１４が制御すること
で行なう様になされる。

【００４８】第６ステップＳＴ₆ では最終ブロック５０
ｉであるか否かを判別し、最終ブロックでなければ上述
した様にモータ１６又はモータ１９の回転により第７ス
テップＳＴ₇ に進んでブロック間移動を行い第３ステッ
プＳＴ₃ の始に戻される。この場合版胴１のＸ軸方向或
はＹ軸方向のどちらの方向からブロック毎に製版して行
ってもよい。又、最終ブロック５０ｉであれば終了のス
テップＳＴ₈ に至り製版終了となる。

【００４９】本例の製版装置は上述の様に構成させ、且
つ動作させたので、図８に示す様に画像データが低濃度
（低階調）のもの程、製版時間の短縮が効果的で、従来
の製版では４回走査（図５参照）必要であったものが１
回の走査で済むことになる。これは製版時間がレーザが
版材に与える総エネルギー量に比例している事を考える
と自然なことになる。又高濃度（高階調）のノイズの多
い画像データ等は平滑化を行うことによって効果的に製
版時間を短縮出来る。

【００５０】上述の例ではｍ×ｎ（ｍ＋１）のブロック
構成について説明したが、より単純にはレーザブロック
８の高速微小偏向手段のガルバノミラを版胴１の軸方向
のみとしｍ×（列データ数）｛但し、ｍはドット数に対
応し、任意の自然数である。｝を１ブロックとすること
も出来る。

【００５１】上述の例では各ブロック間で同一階調のド
ット（窪み）を形成するものを説明したが、ブロック内
で製版すべき階調が異なるものの走査方法を図１１によ
って説明する。

【００５２】図１１に於いて、１ブロックは３×４画素
（ドット）５１ａ〜５１Ｌより構成され、各ドットの面
積率は３／４〜１／２までの階調で分布されているもの
とする。ここで１ドットの面積率が３／４の窪み５１ｋ
が最高階調（最大面積率ドット）である。

【００５３】この場合のの走査は第１の窪み５１ａの
形成によって半導体レーザ３をオンして、オフされた後
も、Ｙ軸用のガルバノミラ１２を窪み５１ｂの頭５２が
来る位置まで版胴１のＹ軸方向に微小偏向させた後にＸ
軸用のガルバノミラ１３を版胴１のＸ軸方向に振って偏
向させ、第２の窪み５１ｂを製版するために、再びＹ軸
方向に半導体レーザ３をオンにして、所定の面積率のド
ットを作り、半導体レーザ３をオフにした状態でＹ軸方
向に走査し、第３の窪み５１ｃの頭５３位置に来たらマ
イナスのＸ軸方向にガルバノミラ１３を偏向させる。以
後同様の走査で第３の窪み５１ｃを製版した後に、第４
の窪み５１ｄも同じ様に製版して行けばよい。

【００５４】同様に破線で示すの走査並に一点鎖線で
示すの走査も図６と同様に行なえばよいことになる。

【００５５】本発明によれば半導体レーザが版を作って
いないオフ時間を有効に利用して微小偏向を所定方向に
行なう様にしたので製版時間を短縮出来る製版装置及び
製版方法が得られる。

【００５６】

【発明の効果】本発明のレーザ製版装置及び製版方法に
よれば製版する版の階調に対応して製版時間を短縮する
ことの出来るものが得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレーザ製版装置の略線的構成図であ
る。

【図２】本発明のレーザ製版装置に用いるレーザブロッ
クの構成図である。

【図３】本発明のレーザ製版装置の具体的な構成を示す
斜視図である。

【図４】本発明のレーザ製版装置に用いるブロックのパ
ターン構成図である。

【図５】本発明のレーザ製版装置に用いるブロック内の
第１の走査説明図である。

【図６】本発明のレーザ製版装置に用いるブロック内の
第２の走査説明図である。

【図７】本発明のレーザ製版装置に用いるブロック内の
第３の走査説明図である。

【図８】本発明のレーザ製版装置に用いるブロック内の
第４の走査説明図である。

【図９】本発明のレーザ製版装置によるレーザ走査方法
の一例を示す版のパターンである。

【図１０】本発明のレーザ製版装置の動作説明用フロー
チャートである。

【図１１】本発明のレーザ製版装置のブロック内の走査
方法を示す他のパターンである。

【図１２】従来のレーザ走査方法を示す光学系概念図で
ある。

【図１３】製版時の階調による信号の変化と階調による
４段階の区分を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 版胴 ２ 版 ３ 半導体レーザ ８ レーザブロック １２，１３ ガルバノミラ

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザ源からのレーザビームを版に照射
   し、該版上に被印刷画像に対応するパターンのグラビア
   版を製版するレーザ製版装置において、 上記版が巻回される版胴１の外周接線方向または回転軸
   方向に上記レーザビームを高速微小走査する走査偏向手
   段と、 上記パターンをｍ×ｎ（ｍ，ｎは任意の自然数、但しｎ
   ＝ｍ＋１）画素の複数のブロックに区分するパターン幾
   何変換画像処理手段と、 上記ブロック毎の上記画素の面積率に応じた階調を基に
   前記ブロック内の各画素に連続して上記レーザビームを
   走査するように上記走査偏向手段の走査方法を制御する
   制御手段とを具備してなることを特徴とするレーザ製版
   装置。
2. 【請求項２】 前記ｍ×ｎ画素の１つのブロックは前記
   版胴の外周接線方向の並びは揃え、前記回転軸方向は１
   ／ｎづつずらした配列と成したことを特徴とする請求項
   １記載のレーザ製版装置。
3. 【請求項３】 システムコントローラに入力された製版
   画像データをｍ×ｎ（ｍ，ｎは任意の自然数、但しｎ＝
   ｍ＋１）画素の複数のブロックにパターン幾何変換画像
   処理するプロセスと、 上記ブロック内の複数の上記画素中の最高階調を検出す
   るプロセスと、 上記検出プロセスで検出した上記階調の段階に応じて、
   上記ブロック内の走査に対応してデータを並べ換えるプ
   ロセスと、 上記並び換えた上記データに基づいて上記ブロック内の
   走査信号を発生するプロセスと、 上記ブロック内の走査信号に基づき版胴に巻回した版に
   形成するパターンの上記ブロック内を走査して製版を行
   なうプロセスとより成ることを特徴とする製版方法。