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JP3351065B2 - ２，２−ジフェニルヘキサフルオロプロパン類の製造法 - Google Patents

２，２−ジフェニルヘキサフルオロプロパン類の製造法

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JP3351065B2 JP29449293A JP29449293A JP3351065B2 JP 3351065 B2 JP3351065 B2 JP 3351065B2 JP 29449293 A JP29449293 A JP 29449293A JP 29449293 A JP29449293 A JP 29449293A JP 3351065 B2 JP3351065 B2 JP 3351065B2
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benzene
diphenylhexafluoropropanes
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ロマノビッチ ポリシュチュク バレリ
理一 岩
春美 達
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、2,2-ジフェニルヘキサ
フルオロプロパン類の製造法に関する。更に詳しくは、
非置換または置換ベンゼンとヘキサフルオロアセトンと
を縮合反応させて、2,2-ジフェニルヘキサフルオロプロ
パン類を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】医薬、農薬等の中間原料あるいは合成ゴ
ムの加硫剤中間体等として用いられている2,2-ジフェニ
ルヘキサフルオロプロパン類は、従来非置換または置換
ベンゼンとヘキサフルオロアセトンとをフッ化水素酸の
存在下で縮合反応することにより製造されている。しか
しながら、このような縮合反応は、低級アルキル基また
はヒドロキシル基で置換されたベンゼンにおいてのみ有
効に行われるだけで、非置換またはハロゲンで置換され
たベンゼンの場合には反応が進行しない(Izv. Akad. Na
uk. USSR Ser. Khim 1967年第3号第614頁、同誌1960年
第4号第683頁)。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、非置
換あるいは広範囲の置換基で置換されたベンゼンとヘキ
サフルオロアセトンとの縮合反応を可能とし、種々の2,
2-ジフェニルヘキサフルオロプロパン類を製造し得る方
法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
非置換あるいはハロゲンまたは低級アルキル基で置換さ
れたベンゼンとヘキサフルオロアセトンとをトリフルオ
ロメタンスルホン酸の存在下で縮合反応させて2,2-ジフ
ェニルヘキサフルオロプロパン類を製造することによっ
て達成される。
【０００５】ベンゼンあるいはモノフルオロベンゼン、
モノクロロベンゼン、モノブロモベンゼン、トルエン、
o-キシレン等の置換ベンゼンとヘキサフルオロアセトン
とは、一般に2：1のモル比で用いられる。縮合反応は、
ガス状のヘキサフルオロアセトンが用いられるので、一
般にオートクレーブ等の耐圧容器を用いて行うことが好
ましいが、反応液中に化学量論的な量以上のヘキサフル
オロアセトンをガス状態のまま通すことによっても行わ
れる。従って、反応温度としては、約0〜300℃、好まし
くは約0〜200℃と広範囲の温度範囲を選ぶことができ
る。
【０００６】実際の反応では、反応容器内に非置換また
は置換ベンゼンおよびトリフルオロメタンスルホン酸を
仕込み、その後ヘキサフルオロアセトンを充填または通
すことにより行われる。この際に、トリフルオロメタン
スルホン酸は、一般にヘキサフルオロアセトンに対して
約1.2〜1.6倍モル量程度になるように、過剰量用いられ
る。トリフルオロメタンスルホン酸と同様に、他のパー
フルオロアルカンスルホン酸を用いることもできる。
【０００７】反応終了後は、メチレンジクロライド抽
出、溶媒留去などの常法を適用することにより、目的物
の取得が行われる。モノ置換ベンゼンが用いられた場合
には、2,2-ビス(p-置換フェニル)ヘキサフルオロプロパ
ンを与えるものと考えられる。
【０００８】また、ベンゼンまたはクロロベンゼンをヘ
キサフルオロアセトンと反応させた場合には、次の一般
式において Xが水素原子または塩素原子である2,2-ジフェニルヘキ
サフルオロプロパンが得られる。
【０００９】
【発明の効果】脱水縮合剤としてトリフルオロメチルス
ルホン酸CF3SO3Hを用いることにより、従来法ではヘキ
サフルオロアセトンと縮合反応しなかったベンゼンまた
はハロゲノベンゼンを縮合反応させることができ、種々
の2,2-ジフェニルヘキサフルオロプロパン類の製造を可
能とする。
【００１０】得られた2,2-ジフェニルヘキサフルオロプ
ロパン類のフェニル基の置換基は、更に他の基に変換さ
せることができ、例えばハロゲン基をCuCNと反応させて
ニトリル基に変換させたものは、耐熱性樹脂であるポリ
ベンゾオキサゾール等の原料物質となり、またメチル基
をKMnO4で酸化してカルボキシル基に変換させたもの
は、やはり耐熱性樹脂である芳香族ポリアミド、芳香族
ポリイミドの原料物質となり得る。
【００１１】
【実施例】次に、実施例について本発明を説明する。
【００１２】実施例１ 容量20mlのオートクレーブ中に、ベンゼン3.9g(50ミリ
モル)およびCF3SO3H4.5g(30ミリモル)を加えた後、ヘキ
サフルオロアセトン4.2g(25ミリモル)を充填した。この
オートクレーブを100℃に加温しながら、2時間撹拌し
た。反応終了後冷却し、反応混合物を氷水中に注ぎ、メ
チレンジクロライドで3回抽出した。抽出液を水で3回洗
浄した後、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、中和し、
硫酸マグネシウムで乾燥させた。この溶液の溶媒を留去
し、残渣を減圧蒸留して、沸点89〜90℃/3mmHgの2,2-ジ
フェニルヘキサフルオロプロパンを5.1g(収率67%)得
た。
【００１３】この生成物を分析したところ、19F-NMRで
はケミカルシフト-14.2ppmにシングレットのピークがみ
られ、1H-NMRでは積分で7.06ppmに1H、7.08ppmに2H、7.
47ppmに2Hのピークがそれぞれ測定され、目的物である
ことが確認された。
【００１４】実施例２ 実施例１において、ベンゼンの代わりにモノフルオロベ
ンゼン4.8g(50ミリモル)が用いられ、100℃で8時間の反
応が行われた。沸点84〜85℃/4mmHgの2,2-ビス(p-フル
オロフェニル)ヘキサフルオロプロパンが4.3g(収率50%)
得られた。19 F-NMR：-14.2ppm(CF3)、33.9ppm(F)1 H-NMR：6.71ppm、7.17ppm(芳香核H)
【００１５】実施例３ 実施例１において、ベンゼンの代わりにモノクロロベン
ゼン5.63g(50ミリモル)が用いられ、185℃で12時間の反
応が行われた。沸点129〜130℃/4mmHg、融点53〜54℃の
2,2-ビス(p-クロロフェニル)ヘキサフルオロプロパンが
7.7g(収率83%)得られた。 マス・スペクトル：372(M + )、353(M + -F)、337(M + -Cl)、303(M + -CF 3 )、 268(M + -Cl-CF 3 )、248(M + -Cl-CF 3 -HF) 19 F-NMR：-13.8ppm(CF 3 ) 1 H-NMR：7.06ppm
【００１６】実施例４ コンデンサを備えた容量50mlの反応容器中に、トルエン
8.6g(94ミリモル)およびCF 3 SO 3 H 12.0g(80ミリモル)を
仕込み、その混合液中にヘキサフルオロアセトンガスを
9時間にわたり通した。その後、反応液を2時間還流させ
てから冷却し、 氷水中に注ぎ入れた。メチレンジクロラ
イドによる抽出を3回行い、抽出液を水で3回洗浄した
後、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、中和し、硫酸マ
グネシウムで乾燥させた。この溶液の溶媒を留去し、残
渣として純度95%の2,2-ビス(p-メチルフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン(融点76〜77℃)を14.5g(収率93%)得
た。 マス・スペクトル：332(M + )、327(M + -CH 3 )、313(M + -F)、 263(M + -CF 3 )、248(M + -CF 3 -HF)、228(M + -CF 3 -CH 3 - HF)、193(M + -2CH 3 -H)、179(M + -2CF 3 -CH 3 ) 19 F-NMR：-14.1ppm(CF 3 ) 1 H-NMR：2.11ppm(CH 3 )、6.95ppm(芳香核2H)、7.47ppm(芳香核2H)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 39/367 Ｃ０７Ｃ 39/367 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 岩 理一 茨城県北茨城市磯原町磯原1630−182 (72)発明者 達 春美 茨城県日立市弁天町３−８−４ (56)参考文献 特開 昭58−172330（ＪＰ，Ａ) 特表 昭57−502056（ＪＰ，Ａ) 特表 昭60−500175（ＪＰ，Ａ) 米国特許4814472（ＵＳ，Ａ) Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔ ｓ，Ｖｏｌ．97，Ｎｏ．22（1982）ｐ. １ 要約番号182895ｄ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 非置換あるいはハロゲンまたは低級アル
    キル基で置換されたベンゼンとヘキサフルオロアセトン
    とをトリフルオロメタンスルホン酸の存在下で縮合反応
    させることを特徴とする2,2-ジフェニルヘキサフルオロ
    プロパン類の製造法。
JP29449293A 1993-10-29 1993-10-29 ２，２−ジフェニルヘキサフルオロプロパン類の製造法 Expired - Fee Related JP3351065B2 (ja)

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EP94115363A EP0650949B1 (en) 1993-10-29 1994-09-29 Process for preparing 2,2-diphenylhexafluoropropanes
CN94113779A CN1049420C (zh) 1993-10-29 1994-10-28 2,2-二苯基六氟丙烷的制备方法
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001048820A (ja) * 1999-08-03 2001-02-20 Daikin Ind Ltd ビス（４−ヒドロキシ−３−ペルフルオロアルキルフェニル）フルオロアルカン誘導体およびその製造方法
ATE473967T1 (de) * 2003-11-26 2010-07-15 Pfizer Prod Inc Aminopyrazolderivate als gsk-3-inhibitoren
CN100431700C (zh) * 2006-07-25 2008-11-12 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 用于异构化法制备六氟丙酮的催化剂及其制备方法和应用
JP5668319B2 (ja) * 2009-04-27 2015-02-12 セントラル硝子株式会社 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造方法
JP5652286B2 (ja) * 2011-03-24 2015-01-14 セントラル硝子株式会社 含フッ素化合物およびその含フッ素重合性単量体の製造方法
CN108395363B (zh) * 2018-03-02 2020-10-09 上海如鲲新材料有限公司 一种2，2-双(3，4-二甲苯基)六氟丙烷的制备方法
CN112409125B (zh) * 2020-11-30 2024-02-02 山东华夏神舟新材料有限公司 连续化制备二芳基六氟丙烷的方法
CN113101979B (zh) * 2021-04-22 2022-07-05 江南大学 一种Lewis酸促进的复配质子酸及其催化应用
CN113214064A (zh) * 2021-04-27 2021-08-06 苏州根岸生物科技有限责任公司 1,3-二烯烃化合物氢甲酰化合成荧光染料中间体醛的方法
CN116813486A (zh) * 2023-06-30 2023-09-29 天津众泰材料科技有限公司 一种2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷类的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4814472A (en) 1981-11-06 1989-03-21 Hughes Aircraft Company Diethynylated diphenyl hexafluoropropanes

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3310573A (en) * 1963-06-17 1967-03-21 Du Pont Diaryl fluoro compounds
US4307024A (en) * 1978-03-30 1981-12-22 Nasa 1,1,1-Triaryl-2,2,2-trifluoroethanes and process for their synthesis
US4358624A (en) * 1980-12-31 1982-11-09 General Electric Company Fluorinated monophenols and diphenols and method for their preparation
US4503254A (en) * 1982-03-24 1985-03-05 Hughes Aircraft Company Process for making bis(halophenyl)hexafluoropropanes
US4649207A (en) * 1984-09-04 1987-03-10 Hughes Aircraft Company Derivatives of diphenylhexafluoropropane
DE3624913A1 (de) * 1986-07-23 1988-01-28 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von 2.2-bis(3-nitrophenyl)-hexafluorpropan sowie das dabei als zwischenprodukt auftretende 2.2-bis(4-carboxy-3-nitrophenyl)hexafluorpropan
US4758380A (en) * 1986-10-29 1988-07-19 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Substituted 1,1,1-triaryl-2,2,2-trifluoroethanes and processes for their synthesis
DE3833338A1 (de) * 1988-09-30 1990-05-31 Hoechst Ag Fluorhaltige monomere, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4814472A (en) 1981-11-06 1989-03-21 Hughes Aircraft Company Diethynylated diphenyl hexafluoropropanes

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，Ｖｏｌ．９７，Ｎｏ．２２（１９８２）ｐ．１ 要約番号１８２８９５ｄ

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Publication number Publication date
CN1049420C (zh) 2000-02-16
JPH07126200A (ja) 1995-05-16
DE69408085D1 (de) 1998-02-26
EP0650949A1 (en) 1995-05-03
DE69408085T2 (de) 1998-06-04
US5763699A (en) 1998-06-09
CN1106372A (zh) 1995-08-09
EP0650949B1 (en) 1998-01-21

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