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JP3228003B2 - 積層板の製造方法 - Google Patents

積層板の製造方法

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JP3228003B2
JP3228003B2 JP12997394A JP12997394A JP3228003B2 JP 3228003 B2 JP3228003 B2 JP 3228003B2 JP 12997394 A JP12997394 A JP 12997394A JP 12997394 A JP12997394 A JP 12997394A JP 3228003 B2 JP3228003 B2 JP 3228003B2
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Japan
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resin
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phenol
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benzoxazine
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健之 外木
光雄 横田
輝樹 相沢
康之 平井
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Resonac Corp
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  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電気用絶縁板、特にプ
リント配線板用絶縁基板として用いられる積層板の製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電気用絶縁板、特にプリント配線板用絶
縁基板として用いられる積層板(以下単に積層板とい
う)は、シート状繊維基材に、絶縁材料樹脂を塗布含浸
し、加熱してプリプレグを得、このプリプレグを所定数
重ね、加熱加圧することによって製造されている。絶縁
材料樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂が主に使用さ
れている。シート状繊維基材に、絶縁材料樹脂を塗布含
浸する工程では、多量の溶剤を使用している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、シート状繊
維基材に、絶縁材料樹脂を塗布含浸する工程で多量の溶
剤を使用しているため、火災、爆発などの災害発生防止
及び揮散する溶剤蒸気による環境汚染防止に配慮した設
備の設置と維持管理に多額の費用を要し生産コストを圧
迫している。
【0004】ジヒドロ−1.3−ベンゾオキサジン類
は、加熱することにより、揮発性の副生成成分を生ずる
ことなく重合、硬化することが知られているが(特開昭
49−47378号公報参照)、積層板の製造について
は、メチルエチルケトンなどの溶剤を使用する方法が採
られている。このため、材料の特殊性もあって、ジヒド
ロ−1.3−ベンゾオキサジン類の硬化物をマトリック
スとする積層板は実用化に至っていない。本発明は、ジ
ヒドロ−1.3−ベンゾオキサジン類が硬化するとき、
揮発性の副生成成分を生ずることなく重合、硬化すると
いう特長をいかして、溶剤を用いないで積層板を製造す
る方法を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、分子中に化2
に示す基を2以上有するジヒドロ−1.3−ベンゾオキ
サジン類(以下ジヒドロベンゾオキサジン樹脂という)
を抄きこんだシートを、所定枚数重ねて加熱加圧するこ
とを特徴とする積層板の製造方法である。
【0006】
【化2】 化2式中R1 は、フェニル基、置換フェニル基、メチル
基又はシクロヘキシル基であり、R2 は、水素、メチル
基、エチル基又はフェニル基である。
【0007】ジヒドロベンゾオキサジン樹脂は、ヒドロ
キシル基のオルト位の少なくとも一つが水素であるヒド
ロキシフェニレン基を、1分子中に2以上有する化合物
と、1級アミンとホルムアルデヒドとを、前記ヒドロキ
シフェニレン基のオルト位の少なくとも一つが水素であ
るヒドロキシル基1モルに対し、1級アミンを0.2〜
0.9モル、及び、ホルムアルデヒドを1級アミンの2
倍モル量以上の比で反応させることによって製造され
る。
【0008】具体的には、ヒドロキシル基のオルト位の
少なくとも一つが水素であるヒドロキシフェニレン基
を、1分子中に2以上有する化合物(以下、反応しうる
ヒドロキシフェニレン基を有する化合物という)と、1
級アミンとの混合物を、70℃以上に加熱したアルデヒ
ド中に添加して、70〜110℃、好ましくは、90〜
100℃で、20分〜2時間反応させ、その後120℃
以下の温度で減圧乾燥することによってジヒドロベンゾ
オキサジン樹脂が得られる。
【0009】反応しうるヒドロキシフェニレン基を有す
る化合物のヒドロキシル基1モルに対し、1級アミンを
0.2〜0.9モル、及び、ホルムアルデヒドを1級ア
ミンの2倍モル量以上の比で反応させることが肝要であ
る。1級アミンが0.2モルより少ないと、ジヒドロオ
キサジン環の数が少なくなるので、得られた化合物を硬
化させたとき、架橋密度が小さく、強度が小さい硬化物
しか得られない。また、0.9モルより多いと、分子鎖
の伸長度が小さくて架橋密度が小さくなるため200℃
を超えると軟化したり、熱劣化するので好ましくない。
【0010】反応しうるヒドロキシフェニレン基を有す
る化合物に対する1級アミンの配合量は、次のようにし
て求めることができる。すなわち、ヒドロキシフェニレ
ン基を有する化合物の全ヒドロキシル基と同モル量の1
級アミンを反応させて、実際に得られた生成物の重量か
ら反応したヒドロキシル基量、すなわち、ヒドロキシフ
ェニレン基を有する化合物中の反応しうるヒドロキシル
基量を見積もり、これに対する前記のモル比として算出
する。
【0011】1分子中に2以上の反応しうるヒドロキシ
フェニレン基を有する化合物としては、部分的にフェノ
ール核を有する種々の化合物が用いることができる。具
体的にはフェノールノボラック樹脂、レゾール樹脂、フ
ェノール変成キシレン樹脂、アルキルフェノール樹脂、
メラミンフェノール樹脂、フェノール変性ポリブタジエ
ン等が挙げられる。これらは、特に限定するものではな
いが架橋点となるヒドロキシル基のオルト位が無置換で
あるものが硬化物特性の点で望ましく、そのため例えば
フェノールノボラック樹脂の場合はオルト率が小さく比
較的分子量の小さいいわゆるランダムノボラックを用い
ることが好ましい。上記の樹脂は、1分子中の反応しう
るヒドロキシフェニレン基の数が異なった化合物の集合
であり、製造中に生成した熱硬化性化合物の一部が互い
に重合している。
【0012】1級アミンとしては、具体的にはメチルア
ミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、置換アニリン
等が挙げられる。脂肪族アミンであると、得られた熱硬
化性化合物の硬化が速いが硬化物の耐熱性がやや劣り、
アニリンのような芳香族アミンであると、得られた熱硬
化性化合物を硬化させた硬化物の耐熱性はよいが硬化が
遅くなる。
【0013】このようにして得られたジヒドロベンゾオ
キサジン樹脂を、予め80〜180℃、好ましくは12
0〜160℃で熱処理する事により、その一部を予備重
合させ、成形時の硬化速度や溶融粘度を調整する。
【0014】ジヒドロベンゾオキサジン樹脂を合成した
後粉砕し、繊維と共に水に分散し、これを抄網で抄き上
げ、乾燥してシート状にする。繊維としては、セルロー
ス系繊維が好適であるが、ガラスなど無機短繊維も用い
られる。繊維とジヒドロベンゾオキサジン樹脂の粉末と
を混合し乾式でシート状に形成してもよい。
【0015】ジヒドロベンゾオキサジン樹脂粉末の粒度
は、300μm以下、好ましくは50μm以下とする。
またシート中のジヒドロベンゾオキサジン樹脂粉末の量
は、30〜75重量%とする。30重量%より少ない
と、成形できず、75重量%より多いと、積層板として
必要な強度が得られない。
【0016】分子中に化1に示す基を2以上有するジヒ
ドロ−1.3−ベンゾオキサジン類を抄きこんだシート
を所定枚数重ねた構成体を離形フィルムで覆い、加熱加
圧して積層板を得る。離形フィルムに代えて、金属はく
例えば銅はくを重ねれば、金属はく張積層板を得ること
ができる。金属はくとしては、通常銅はくを使用する
が、必要特性によってはニッケルはく、アルミはく等の
金属はくを用いることもできる。
【0017】
【実施例】
実施例1 フェノール1.9kg、ホルマリン(37%水溶性)
1.0kg、しゅう酸4gを5リットルの反応釜に仕込
み、還流温度で6時間反応させた。引き続き内部を減圧
して未反応のフェノール及び水を除去した。得られた樹
脂は軟化点84℃(環球法)3〜多核体比82/18
(ゲルバ−ミエ−シヨンクロマトグラフィ−によるピー
ク面積比)であった。
【0018】上記により合成したフェノールノボラック
樹脂1.70kg(水酸基16mol相当)とアニリン
0.93kg(10mol相当)とを混合し、80℃で
5時間撹拌し均一な混合溶液を調整した。5リットルの
反応釜中にホルマリン1.62kgを仕込み90℃に加
熱し、その中に、前記フェノールノボラック樹脂とアニ
リンとの混合溶液を加え、30分間還流温度に保ち、次
に、100℃で2時間減圧して縮合水を除去した。反応
し得る水酸基の71%がジヒドロ−1.3−ベンゾオキ
サジン化された樹脂組成物を得た。
【0019】反応し得る水酸基量の算出法は、以下の通
りである。前記フェノールノボラック樹脂1.70kg
(水酸基16mol相当)をアニリン1.49kg(1
6mol相当)及びホルマリン2.59kgと同様に反
応させ、反応可能な水酸基のすべてをジヒドロ−1.3
−ベンゾオキサジン化する。未反応のアニリン及びホル
マリン並びに反応系の水を除去した残り、即ち、ジヒド
ロベンゾオキサジン樹脂の収量は、3.34kgであ
る。これは、フェノールノボラック樹脂の水酸基のうち
14molが反応し、ジヒドロ−1.3−ベンゾオキサ
ジン化したものに相当する。これから、本実施例におい
て得られた樹脂組成物は、反応し得る水酸基14mol
のうち10mol(71%)がジヒドロ−1.3−ベン
ゾオキサジン化したものであることがわかる。
【0020】実施例2 1,2−ブタジエン(日本曹達株式会社製、B−100
0)0.92kg、フェノール3.30kg、p−トル
エンスルホン酸1gを5リットルの反応釜に仕込み、8
0℃で5時間反応させた。冷却、水洗後、水蒸気蒸留に
より未反応のフェノールを除去しポリブタジエン変性フ
ェノール樹脂1.41kgを得た。付加したフェノール
の重量より、水酸基当量は270となる。
【0021】得られたポリブタジエン変性フェノール樹
脂2.70kg(水酸基10mol相当)、アニリン
0.56kg(6mol相当)及びホルマリン0.97
kgを用い、実施例1と同様の操作で反応し得る水酸基
の73%がジヒドロ−1.3−ベンゾオキサジン化され
た樹脂組成物を得た。
【0022】実施例3 桐油0.50kg、m−クレゾール4.00kg、p−
トルエンスルホン酸4gを5リットルの反応釜に仕込
み、80℃で5時間反応させた。冷却、水洗後、水蒸気
蒸留により未反応のm−クレゾールを除去し桐油/m−
クレゾール反応物0.82kgを得た。付加したm−ク
レゾールの重量より水酸基当量は280となる。
【0023】得られた桐油/m−クレゾール反応物2.
80kg(水酸基10mol相当)をアニリン0.56
kg(6mol相当)、ホルマリン0.97kgを用い
実施例1と同様の操作で反応し得る水酸基の66%がジ
ヒドロ−1.3−ベンゾオキサジン化された樹脂を得
た。
【0024】実施例4 キシレン樹脂(三菱瓦斯化学株式会社製商品名ニカノー
ルH、平均分子量557、反応性基当量96を使用)
0.96kg、フェノール4.00kg、p−トルエン
スルホン酸4gを5リットルの反応釜に仕込み、80℃
で5時間反応させた。冷却、水洗後、水蒸気蒸留により
未反応のフェノールを除去し、フェノール変性キシレン
樹脂1.12kgを得た。未反応フェノール残存量から
オキシメチレン基と置換したフェノールは0.31kg
であった。ここから合成したキシレン樹脂の水酸基当量
は340となる。
【0025】得られたキシレン変性フェノール樹脂3.
40kg(水酸基10mol相当)、アニリン0.28
kg(3mol相当)、ホルマリン0.49kgを用い
実施例1と同様の操作で反応し得る水酸基の79%がジ
ヒドロ−1.3−ベンゾオキサジン化された樹脂成物を
得た。
【0026】積層板1〜4の製造 得られた4種類のジヒドロベンゾオキサジン樹脂を、1
00μm以下に粉砕し、パルプに対して30重量%の割
合で水に分散し、抄紙した。なお、積層板1は実施例1
の樹脂、積層板2は実施例2の樹脂、積層板3は実施例
3の樹脂、積層板4は実施例4の樹脂を用いたものであ
る。得られたシート7枚と、厚さ18μmの銅はく1枚
を重ね、鏡板間にセットして、多段プレスで、温度17
0℃、圧力11MPaで60分間加熱加圧した。
【0027】積層板5の製造 実施例1で得られたジヒドロベンゾオキサジン樹脂を、
100μm以下に粉砕し、あらかじめ、水溶性メラミン
変性フェノール樹脂で処理したパルプに対して30重量
%の割合で水に分散し、抄紙した。得られたシート7枚
と、厚さ18μmの銅はく1枚を重ね、鏡板間にセット
して、多段プレスで、温度170℃、圧力11MPaで
60分間加熱加圧した。
【0028】比較例 桐油とフェノールとを酸性触媒下で反応させ、次に85
%パラホルムアルデヒド加えてアルカリ触媒下反応させ
て、レゾール化して、桐油変性率39%の桐油変性フェ
ノール樹脂を得た。この桐油変性フェノール樹脂100
重量部に、テトラブロモビスフェノールAジグリシジル
エーテル25重量部を配合してメチルエチルケトンに溶
解して含浸用ワニスとした。厚さ0.2mmのクラフト
紙に、水溶性メラミン変性フェノール樹脂を、樹脂分が
15重量%となるように塗布乾燥し、次に、前記含浸用
ワニスを樹脂付着量が53重量%になるように含浸乾燥
してプリプレグとした。得られたプリプレグ7枚を接着
剤付銅はく1枚を組み合わせて重ね、温度170℃圧力
8MPaで90分間に加熱加圧して積層板を得た。
【0029】得られた積層板について、気中耐熱性、加
熱減量、吸水率及び絶縁抵抗を調べた。結果を表1に示
す。気中耐熱性は、200℃の乾燥機中に保持してふく
れを生ずるまでの時間である。加熱減量は、200℃の
乾燥機中に10分間保持したときの保持前後の重量変化
である。吸水率は、50℃で24時間処理した後、23
℃の水の中に24時間保持したときの保持前後の重量変
化の百分率である。絶縁抵抗率は、銅はくをエッチング
で除去し、煮沸水中で2時間保持した後、中心間隔15
mmで設けた直径5mmの二つの穴に、絶縁抵抗計のテ
ーパーピンを挿入し、直流500Vを1分間印加したと
きの絶縁抵抗計の読みである。
【0030】
【表1】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 試験項目 積層板1 積層板2 積層板3 積層板4 ─────────────────────────────── 気中耐熱性(分) 60 45 40 40 加熱減量(%) 0.16 0.20 0.21 0.22 吸水率(%) 0.65 0.60 0.61 0.61 絶縁抵抗(Ω)×108 5 4 5 5 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 積層板5 比較例 ───────────────────── 気中耐熱性(分) 42 30 加熱減量(%) 0.20 0.35 吸水率(%) 0.35 0.75 絶縁抵抗(Ω)×108 5 2 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0031】
【発明の効果】本発明方法によれば、ベンゾオキサジン
樹脂が硬化するときに低分子量の反応副生物を生成しな
いという特徴を活かし、溶剤を使用しないで成形できる
ため、安全面及び環境衛生上優れている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI B29K 105:06 B29K 105:06 105:22 105:22 (72)発明者 平井 康之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社下館工場内 (56)参考文献 特開 昭49−47378(JP,A) 特開 平6−345898(JP,A) 特開 平2−69567(JP,A) 特開 昭52−148561(JP,A) 特開 昭61−78824(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 43/18 - 43/20 B29C 70/04 - 70/24 B32B 27/00 - 27/42 C08J 5/24 C08G 73/00 C08G 14/00 - 14/06 C08L 61/04 - 61/14 C08L 79/00

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 分子中に化1に示す基を2以上有するジ
    ヒドロ−1.3−ベンゾオキサジン類を抄きこんだシー
    トを、所定枚数重ねて加熱加圧することを特徴とする積
    層板の製造方法。 【化1】 式中R1 は、フェニル基、置換フェニル基、メチル基又
    はシクロヘキシル基であり、R3 は、水素、メチル基、
    エチル基又はフェニル基である。
  2. 【請求項2】 ジヒドロ−1.3−ベンゾオキサジン
    が、フェノール樹脂にホルマリン及び一級アミンを反応
    させて得られたジヒドロ−1.3−ベンゾオキサジンで
    あることを特徴とする積層板の製造方法。
  3. 【請求項3】 所定枚数のシートを重ね、その外側に金
    属はくを重ねて加熱加圧することを特徴とする請求項1
    又は2記載の積層板の製造方法。
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