JP3123185B2

JP3123185B2 - クロロガリウムフタロシアニンの新規な結晶、その新規な結晶よりなる光導電材料及びそれを用いた電子写真感光体

Info

Publication number: JP3123185B2
Application number: JP04027449A
Authority: JP
Inventors: 正和飯島; 克己額田; 克己大門; 彰今井; 泰生坂口; 徹石井
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd; Fujifilm Business Innovation Corp
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1991-04-22
Filing date: 1992-01-20
Publication date: 2001-01-09
Anticipated expiration: 2016-01-09
Also published as: JPH0598181A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、クロロガリウムフタロ
シアニンの新規な結晶、その新規な結晶よりなる光導電
材料及びそれを用いた電子写真感光体に関し、電子写真
感光体については、特に感光層を構成する電荷発生材料
と結着樹脂の組み合わせに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真感光体における感光材料
としては、種々のものが提案されており、そして、感光
層を電荷発生層と電荷輸送層とに分離した積層型の電子
写真感光体に関しても、電荷発生材料として種々の有機
化合物が提案されている。近年、従来提案された有機光
導電材料の感光波長域を近赤外線の半導体レーザーの波
長(780〜830nm ）にまで伸ばし、レーザープリンター等
のデジタル記録用の感光体として使用することの要求が
高まっており、この観点から、スクエアリリウム化合物
（特開昭４９−１０５５３６号及び同５８−２１４１６
号公報）、トリフェニルアミン系トリスアゾ化合物（特
開昭６１−１５１６５９号公報）、フタロシアニン化合
物（特開昭４８−３４１８９号及び同５７−１４８７４
５号公報）等が、半導体レーザー用の光導電材料として
提案されている。

【０００３】半導体レーザー用の感光材料として、有機
光導電材料を使用する場合は、まず、感光波長域が長波
長まで伸びていること、次に、形成される感光体の感
度、耐久性がよいことなどが要求される。しかし、上記
の有機光導電材料はこれらの諸条件を十分に満足するも
のではない。これらの欠点を克服するために、上記の有
機光導電材料のうちフタロシアニン化合物についてみれ
ば、電子写真感光体用材料、光記録用材料及び光電変換
材料として近年広範に検討されており、特に結晶型と電
子写真特性の関係が検討されている。

【０００４】一般に、フタロシアニン化合物は、製造方
法、処理方法の違いにより、幾つかの結晶型を示し、こ
の結晶型の違いはフタロシアニン化合物の光電変換特性
に大きな影響を及ぼすことが知られている。フタロシア
ニン化合物の結晶型については、例えば、銅フタロシア
ニンについてみると、安定系のβ型以外に、α、ε、
π、ｘ、ρ、γ、δ等の結晶型が知られており、これら
の結晶型は、機械的歪力、硫酸処理、有機溶剤処理及び
熱処理等により、相互に移転が可能であることが知られ
ている（例えば米国特許第２，７７０，６２９号、同第
３，１６０，６３５号、同第３，７０８，２９２号及び
同３，３５７，９８９号明細書）。また、特開昭５０−
３８５４３号公報には、銅フタロシアニンの結晶型の違
いと電子写真特性の関係について、α、β、γ及びε型
の比較ではε型が最も高い感度を示すことが記載されて
いる。

【０００５】さらにまた、クロロガリウムフタロシアニ
ンに関しては、電子写真学会誌，２６（３），２４０，
（１９８７）に、特定のブラッグ角度に回折ピークを有
するクロロガリウムフタロシアニンの結晶型について記
載されているが、本発明のものとは、結晶型が異なるも
のであり、電子写真への応用についての記載もない。一
方、特開昭５９−４４０５３号公報、信教技報ＣＰＭ８
１−６９，３９（１９８１）等には、電子写真への応用
についての記載があり、また、特開平１−２２１４５９
号公報には、特定のブラッグ角度に回折ピークを有する
クロロガリウムフタロシアニン及びそれを用いた電子写
真感光体が記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
クロロガリウムフタロシアニンに限らず、従来提案され
ているフタロシアニン化合物は、感光材料として使用し
た場合の光感度と耐久性の点が、未だ十分満足できるも
のではなく、また、その製造に際しても、結晶型の変換
操作が複雑であったり、結晶型の制御が難しい等の問題
があった。さらに、クロロガリウムフタロシアニンは、
結着樹脂中に分散して使用する際の分散性や分散液の塗
布性が悪く、感光体として利用する場合、感度特性や電
荷保持性に問題があり、また画質上もカブリや黒点等の
欠陥を生じ、十分満足できる特性を具備してなかった。

【０００７】本発明は、従来の技術における上述のよう
な問題点に鑑みてなされたものである。すなわち、本発
明の目的は、クロロガリウムフタロシアニンの新規な結
晶を提供することにある。また、本発明の他の目的は、
感度特性と耐久性に優れたクロロガリウムフタロシアニ
ンの新規な結晶よりなる光導電材料、及びより高い感度
特性を有し、電荷保持性が良好で、画質欠陥の少ない電
子写真感光体を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意研究
を重ねた結果、合成によって得られたクロロガリウムフ
タロシアニンを簡単な処理を行うことによって、光導電
材料として高い感度と耐久性を有する新規な結晶が得ら
れることを見出し、さらに、この新規な結晶と特定の結
着樹脂を感光層に含有する電子写真感光体は、その作製
時に結晶の分散性や分散液の塗布性を損なうことなく、
一層優れた感度特性を有し、電荷保持特性が良好で、画
質欠陥が少ないことを見出して、本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明は、Ｘ線回折スペクトルにおい
て、ブラッグ角度（２θ±０．２°）がｉ）７．４°、
１６．６°、２５．５°及び２８．３°、ii）６．８
°、１７．３°、２３．６°及び２６．９°または ii
i）８．７°〜９．２°、１７．６°、２４．０°、２
７．４°及び２８．８°に強い回折ピークを有するクロ
ロガリウムフタロシアニンの新規な結晶にある。本発明
は、また、上記の回折ピークを有するクロロガリウムフ
タロシアニン結晶の少なくとも１種以上よりなる電子写
真感光体用光導電材料にある。本発明は、さらに、上記
クロロガリウムフタロシアニン結晶を少なくとも１種以
上含有する感光層を導電性支持体上に被覆してなる電子
写真感光体にあり、感光層はクロロガリウムフタロシア
ニン結晶並びにポリビニルアセタール系樹脂、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂及び変性エ
ーテル型ポリエステル樹脂から選ばれる少なくとも１種
の結着樹脂を含有する電荷発生層と電荷輸送層とを順次
積層した積層構造のものが特に好ましい。

【０００９】以下、本発明について詳述する。光導電材
料として有用な本発明のクロロガリウムフタロシアニン
の新規な結晶は、Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッ
グ角度（２θ±０．２°）が i) ７．４°、１６．６
°、２５．５°及び２８．３°、ii) ６．８°、１７．
３°、２３．６°及び２６．９°または iii) ８．７°
〜９．２°、１７．６°、２４．０°、２７．４°及び
２８．８°に強い回折ピークを有するものであり、次の
ようにして製造される。すなわち、フタロニトリルと金
属塩化物とを加熱融解または有機溶媒の存在下で加熱す
るフタロニトリル法、無水フタル酸を尿素及び金属塩化
物と加熱融解または有機溶媒の存在下で加熱するワイラ
ー法、シアノベンズアミドと金属塩とを高温で反応させ
る方法、ジリチウムフタロシアニンと金属塩とを反応さ
せる方法等、公知のフタロシアニンの合成方法によって
製造することができる。

【００１０】これらの合成方法において使用する有機溶
媒としては、α−クロロナフタレン、β−クロロナフタ
レン、α−メチルナフタレン、メトキシナフタレン、ジ
フェニルエタン、エチレングリコール、ジアルキルエー
テル、キノリン、スルホラン、ジクロロベンゼン、ジク
ロロトルエン等の反応不活性な高沸点の溶媒が望まし
い。すなわち、本発明のクロロガリウムフタロシアニン
は、例えばフタロニトリルと塩化ガリウム化合物を上記
有機溶媒中で１５０〜３００℃で加熱攪拌して合成する
ことができる。また、フタロニトリルの代わりに、ジイ
ミノイソインドリン等のインドリン系化合物を使用する
こともできる。

【００１１】上記の方法で製造したクロロガリウムフタ
ロシアニンの結晶は、大粒径である場合が多く、本発明
の上記Ｘ線回折ピークを有するクロロガリウムフタロシ
アニン結晶を得るためには、場合により、微細化するこ
とが必要である。微細化は、磨砕法等の機械的処理法や
アシッドペースティング法、アシッドスラリー法等の化
学的処理法の中から選択され、それらの２種以上の処理
法を組み合わせることもできるが、上記の方法で製造し
た比較的大粒径のものを自動乳鉢、遊星ミル、振動ボー
ルミル、ＣＦミル、ローラーミル、サンドミル、ニーダ
ー等の機械的処理法で乾式磨砕するか、あるいは乾式磨
砕後さらに磨砕メディアと共に溶剤中で湿式磨砕するこ
とが好ましい。乾式磨砕の際、必要に応じて食塩、ぼう
硝等の磨砕助剤を用いると、非常に効率よく、粒径の整
った本発明の結晶型に転移させることが可能となる。磨
砕助剤はクロロガリウムフタロシアニン結晶に対し０．
５倍〜２０倍、好ましくは１〜１０倍用いる。そして、
乾式磨砕後のクロロガリウムフタロシアニン結晶は、一
次粒子径が０．３μｍ以下であることが望ましい。

【００１２】上記の乾式磨砕に続いて湿式磨砕を併用す
ると、結晶性が良好で、粒径の整ったクロロガリウムフ
タロシアニンを得ることができる。この湿式磨砕処理に
おいて使用する溶剤は、例えば、トルエン、クロロベン
ゼン等の芳香族系溶剤、ジメチルホルムアミド（ＤＭ
Ｆ）、Ｎーメチルピロリドン等のアミド系溶剤、メタノ
ール、エタノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコー
ル系溶剤、グリセリン、ポリエチレングリコール等の脂
肪族多価アルコール系溶剤、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン系溶剤、塩化メチレ
ン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素系溶剤、テトラヒドロ
フラン（ＴＨＦ）等のエーテル系溶剤、水などから１種
または２種以上の混合溶剤の形で選択することができ
る。また、磨砕装置としては、ボールミル、アトライタ
ー、ロールミル、サンドミル、ホモミキサー等を用いる
ことができるが、これ等に限定されるものではない。溶
剤の量は、クロロガリウムフタロシアニン１部に対して
１〜２００部、好ましくは１０〜１００部が用いられ
る。また、湿式磨砕の処理時間は４時間以上が好まし
く、処理温度は０℃〜溶剤の沸点以下、好ましくは１０
〜６０℃で処理される。このような溶剤処理は、必要に
応じてガラスビーズ、スチールビーズ、アルミナビーズ
等の磨砕メディアでミリングしながら行ってもよい。

【００１３】次に、上記の処理方法により得られるクロ
ロガリウムフタロシアニン結晶を感光層における光導電
性材料として作製される電子写真感光体について説明す
る。本発明の電子写真感光体は、感光層が単層構造のも
のでもあるいは電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離さ
れた積層構造のものでもよい。感光層が積層構造を有す
る場合において、電荷発生層は上記クロロガリウムフタ
ロシアニン結晶及び結着樹脂から構成される。図１ない
し図４は、本発明の電子写真感光体を模式的に示す断面
図である。図１において、電荷発生層１及びその上に積
層された電荷輸送層２からなる感光層が導電性支持体３
上に被覆されている。図２においては、電荷発生層１と
導電性支持体３の間に下引層４が介在しており、また、
図３においては、感光層の表面に保護層５が被覆されて
いる。さらに、図４においては、下引層４と保護層５の
両者が積層されている。以下、単層構造からなる感光層
の説明を途中に加えながら、上記層１〜５について詳細
に説明する。

【００１４】本発明の電子写真感光体における電荷発生
層１は、結着樹脂を有機溶剤に溶解した溶液に前記クロ
ロガリウムフタロシアニン結晶を分散させて塗布液を調
製し、それを導電性支持体３上に塗布することによって
形成される。使用する結着樹脂は広範な樹脂から選択す
ることができる。好ましい結着樹脂としては、例えば、
ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹
脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール
等で変性された部分アセタール化ポリビニルブチラール
樹脂等のポリビニルアセタール系樹脂、ポリアリレート
樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポ
リカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、変性エーテル
型ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニル
樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポ
リアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルピ
リジン樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルアルコール樹
脂、ポリビニルピロリドン樹脂、カゼインや、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ヒドロキシル変性塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル変性塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マ
イレン酸共重合体等の塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合
体、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−
アクリロニトリル共重合体、スチレン−アルキッド樹
脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂等の絶縁性樹脂をあげることができる。ま
た、ポリ-N- ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラ
セン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマーから
選択することもできる。しかし、これらの絶縁性樹脂あ
るいは有機光導電性ポリマーに限定されるものではな
い。またこれらの結着樹脂は単独または２種以上混合し
て用いることができる。

【００１５】結着樹脂を溶解する溶剤としては、下引層
４を溶解しないものから選択するのが好ましい。具体的
な有機溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プ
ロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベン
ジルアルコール等のアルコール類、アセトン、ＭＥＫ、
シクロヘキサノン等のケトン類、ＤＭＦ、ジメチルアセ
トアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスル
ホキシド類、ＴＨＦ、ジオキサン、ジエチルエーテル、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等の環状または直
鎖状のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−
ブチル等のエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエチレン、トリクロロエチレン等
の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、リグロイン等の鉱油、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン
化炭化水素類などを単独または２種以上混合して用いる
ことができる。

【００１６】前記クロロガリウムフタロシアニン結晶と
結着樹脂との配合比（重量）は、４０：１〜１：２０、
好ましくは１０：１〜１：１０の範囲である。クロロガ
リウムフタロシアニン結晶の比率が高すぎる場合には塗
布液の安定性が低下し、一方、低すぎる場合には感光体
の感度が低下するので、上記範囲に設定するのが好まし
い。クロロガリウムフタロシアニン結晶を分散させる方
法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、
サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができ
る。この際、粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３
μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サ
イズに微細化することが有効である。また、分散によっ
てクロロガリウムフタロシアニンの結晶型が変化しない
条件が必要とされるが、本発明で実施した上記の分散法
のいずれを採用しても分散前と結晶型が変化していない
ことが確認されている。

【００１７】塗布液の塗布は、浸漬コーティング法、ス
プレーコーティング法、スピナーコーティング法、ビー
ドコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレ
ードコーティング法、ローラーコーティング法、エアー
ナイフコーティング法、カーテンコーティング法等のコ
ーティング法を採用することができる。また、塗布液の
乾燥は、室温における指触乾燥後、３０〜２００℃の温
度で５分〜２時間の範囲で静止または送風下で加熱乾燥
するのが好ましい。そして、電荷発生層１の膜厚は、通
常０．０５〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍが
適当である。

【００１８】本発明においては、前記した結着樹脂のう
ち、クロロガリウムフタロシアニン結晶を結着樹脂に分
散する際の分散性、分散液の塗布性や感光体の感度特
性、電荷保持特性、画質特性等の点から、ポリビニルア
セタール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、
フェノキシ樹脂及び変性エーテル型ポリエステル樹脂か
ら選ばれる少なくとも１種より選択することが好まし
い。さらに、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角度
（２θ±０．２°）が７．４°、１６．６°、２５．５
°及び２８．３°に強い回折ピークを有するクロロガリ
ウムフタロシアニン結晶と上記した結着樹脂とを組み合
わせると、電子写真感光体の写真特性が特に優れてい
る。

【００１９】本発明の電子写真感光体における電荷輸送
層２は、電荷輸送材料を適当な結着樹脂中に含有させて
形成される。電荷輸送材料としては、２，５−ビス−
（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサ
ジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−
トリフェニルピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−
３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導
体、トリフェニルアミン、ジベンジルアニリン等の芳香
族第三級モノアミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−
Ｎ，Ｎ′−ビス−（ｍ−トリル）ベンジジン等の芳香族
第三級ジアミノ化合物、３−（ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）−５，６−ジ−（ｐ−メトキシフェニル）−１，
２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導
体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド 2,2−ジフェ
ニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−
４−スチリルキナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒ
ドロキシ−２，３−ジ−（ｐ−メトキシフェニル）ベン
ゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフ
ェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−
スチルベン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、Ｊｏｕ
ｒｎａｌｏｆＩｍａｇｉｎｇＳｃｉｅｎｃｅ，２
９，７〜１０（１９８５）に記載されているエナミン誘
導体、カルバゾール、Ｎ−エチルカルバゾール、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール、ポリグリシジルカルバゾール、ポリ−γ
−カルバゾールエチルグルタメート及びその誘導体、さ
らには、アントラセン、ピレン、フェナントレン等の多
環芳香族化合物、インドール、イミダゾール等の含窒素
複素環化合物、ポリビニルアントラセン、ポリ−９−ビ
ニルフェニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルアクリジン、ポリビニルアセナフチレン、ピレン−
ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール−ホルムア
ルデヒド樹脂等の公知の電荷輸送材料を用いることがで
きるが、これらに限定されるものではない。また、これ
らの電荷輸送材料は単独または２種以上混合して用いら
れ、電荷輸送材料がポリマーの場合はそれ自体で層を形
成してもよい。

【００２０】電荷輸送層２を形成する結着樹脂として
は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩
化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル
樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン
−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体、シリコン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキ
ッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等、前記
電荷発生層１に使用されるものと同様の樹脂が使用でき
る。電荷輸送層２は、上記電荷輸送材料と結着樹脂及び
前記電荷発生層１を形成する際に用いる有機溶剤と同様
のものを用いて塗布液を調製した後、前記したコーティ
ング法と同様の手段により塗布液を電荷発生層１上に塗
布して形成することができる。その際、電荷輸送材料と
結着樹脂との配合比（重量）は、１０：１〜１：５が好
ましい。また、電荷輸送層２の膜厚は、一般的には５〜
５０μｍ程度、好ましくは１０〜３０μｍが適当であ
る。

【００２１】本発明の感光層が単層構造を有する場合に
おいては、感光層はクロロガリウムフタロシアニン結晶
及び電荷輸送材料が結着樹脂に分散された光導電層より
なる。電荷輸送材料及び結着樹脂は前記と同様なものが
使用され、前記と同様の方法に従って光導電層が形成さ
れる。その場合、結着樹脂は、前記と同様の理由によ
り、ポリビニルアセタール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル系共重合体、フェノキシ樹脂及び変性エーテル型ポ
リエステル樹脂から選ばれる少なくとも１種より選択す
ることが最も好ましい。そして、電荷輸送材料と結着樹
脂との配合比（重量）は１：２０〜５：１、クロロガリ
ウムフタロシアニン結晶と電荷輸送材料との配合比（重
量）は１：１０〜１０：１程度に設定するのが好まし
い。

【００２２】導電性支持体３としては、電子写真感光体
として使用することが可能なものならば、いかなるもの
も使用することができる。具体的には、アルミニウム、
ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、アルミニ
ウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス、
金、バナジウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ等
の薄膜を被覆したプラスチックフィルムなどあるいは導
電性付与剤を塗布または含浸させた紙、プラスチックフ
ィルムなどがあげられる。これらの導電性支持体３は、
ドラム状、シート状、プレート状等、適宜の形状のもの
として使用されるが、これらに限定されるものではな
い。さらに必要に応じて、導電性支持体３の表面は、画
質に影響のない範囲で各種の処理を行ってもよく、例え
ば、表面の酸化処理や薬品処理及び着色処理または砂目
立て等の乱反射処理などを施してもよい。

【００２３】本発明においては、導電性支持体３と感光
層の間にさらに下引層４が介在してもよい。この下引層
４は積層構造からなる感光層の帯電時において導電性支
持体３から感光層への電荷の注入を阻止すると共に、感
光層を導電性支持体３に対して一体的に接着保持させる
接着層としての作用、あるいは場合によっては、導電性
支持体３の光の反射光防止作用等を示す。上記下引層４
を形成する材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロ
ピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
イミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアセター
ル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニル
アルコール樹脂、ポリアクリル酸樹脂、ポリアクリルア
ミド樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルピリ
ジン樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロース
等のセルロースエステル樹脂、セルロースエーテル樹
脂、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、ス
ターチアセテート、アミノ澱粉、ジルコニウムキレート
化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物等の有機ジル
コニウム化合物、チタニルキレート化合物、チタニルア
ルコキシド化合物等の有機チタニル化合物、シランカッ
プリング剤などの公知の結着樹脂を用いることができ
る。下引層４を形成するときに採用する塗布方法として
は、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティン
グ法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、
ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、
カーテンコーティング法等の通常の方法があげられる。
下引層４の膜厚は、０．０１〜１０μｍ、好ましくは
０．０５〜２μｍが適当である。

【００２４】本発明は、さらに必要に応じて、感光層の
表面に保護層５を被覆してもよい。この保護層５は、積
層構造からなる感光層の帯電時の電荷輸送層２の化学的
変質を防止すると共に、感光層の機械的強度を改善する
ために被覆される。上記保護層５は導電性材料を適当な
結着樹脂中に含有させて形成される。導電性材料として
は、ジメチルフェロセン等のメタロセン化合物、Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−（ｍ−トリル）ベ
ンジジン等の芳香族アミノ化合物、酸化アンチモン、酸
化スズ、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ−酸化
アンチモン等の金属酸化物などを用いることができる
が、これらに限定されるものではない。また、この保護
層５に用いる結着樹脂としては、ポリアミド樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルケトン
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等の
公知の樹脂を用いることができる。上記保護層５はその
電気抵抗が１０⁹〜１０¹⁴Ω・ｃｍとなるように構成す
ることが好ましい。電気抵抗が１０¹⁴Ω・ｃｍより高く
なると残留電位が上昇しカブリの多い複写物となってし
まい、一方、１０⁹Ω・ｃｍより低くなると画像のボ
ケ、解像力の低下が生じてしまう。また、保護層は像露
光に照射される光の透過を実質上妨げないように構成さ
れなければならない。保護層５を形成する際に採用する
塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤー
バーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コ
ーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコ
ーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法
を用いることができる。この保護層５の膜厚は、０．５
〜２０μｍ、好ましくは１〜１０μｍが適当である。

【００２５】

【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
する。なお、実施例及び比較例において、「部」は重量
部を意味する。合成例（クロロガリウムフタロシアニンの合成）１，３−ジイミノイソインドリン３０部及び三塩化ガリ
ウム９．１部をキノリン２３０部中に添加し、２００℃
において３時間反応させた後、生成物を濾過し、アセト
ン、メタノールで洗浄した。次いで、湿ケーキを乾燥し
てクロロガリウムフタロシアニン結晶２８部を得た。得
られたクロロガリウムフタロシアニン結晶の粉末Ｘ線回
折図を図５に示す。

【００２６】実施例１合成例で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
３．０部を、自動乳鉢（ヤマト科学社製：Ｌａｂ−Ｍｉ
ｌｌＵＴ−２１型）で３時間乾式磨砕した。得られた
Ｘ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）
が７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に
強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン
結晶の粉末Ｘ線回折図を図６に示す。

【００２７】実施例２実施例１で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
０．５部を１ｍｍφガラスビーズ６０部と共に、室温
下、水／クロロベンゼン１：１０の混合溶媒２０部中で
２４時間ボールミリング処理した後、瀘別し、メタノー
ル１０部で洗浄し、乾燥してクロロガリウムフタロシア
ニン結晶を得た。得られたＸ線回折スペクトルのブラッ
グ角度（２θ±０．２°）が７．４°、１６．６°、２
５．５°及び２８．３°に強い回折ピークを有するクロ
ロガリウムフタロシアニン結晶の粉末Ｘ線回折図を図７
に示す。

【００２８】実施例３実施例１で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
０．５部を１ｍｍφガラスビーズ６０部と共に、室温
下、塩化メチレン２０部中で２４時間ボールミリングし
た後、濾別し、エタノール１０部で洗浄してクロロガリ
ウムフタロシアニン結晶を得た。得られたＸ線回折スペ
クトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が６．８°、
１７．３°、２３．６°及び２６．９°に強い回折ピー
クを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶の粉末Ｘ
線回折図を図８に示す。

【００２９】実施例４実施例１で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
０．５部を１ｍｍφガラスビーズ６０部と共に、室温
下、クロロベンゼン２０部中で２４時間ボールミリング
した後、濾別し、メタノール１０部で洗浄してクロロガ
リウムフタロシアニン結晶を得た。得られたＸ線回折ス
ペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が７．４
°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に強い回折
ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶の粉
末Ｘ線回折図を図９に示す。

【００３０】実施例５実施例１で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
０．５部を１ｍｍφガラスビーズ６０部と共に、室温
下、メタノール２０部中で２４時間ボールミリングした
後、濾別し、メタノール１０部で洗浄してクロロガリウ
ムフタロシアニン結晶を得た。得られたＸ線回折スペク
トルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が８．７°〜
９．２°、１７．６°、２４．０°、２７．４°及び２
８．８°に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタ
ロシアニン結晶の粉末Ｘ線回折図を図１０に示す。

【００３１】実施例６〜１０実施例１〜５でそれぞれ得られたクロロガリウムフタロ
シアニン結晶１部をポリビニルブチラール（積水化学社
製：エスレックＢＭ−Ｓ）１部及びシクロヘキサノン１
００部と混合し、ガラスビーズと共にペイントシェーカ
ーで１時間処理して上記結晶が分散した塗布液を調製し
た。次いで、アルミニウム基板を導電性支持体３とし
て、その上に上記塗布液を浸漬コーティング法で塗布
し、１００℃において５分間加熱乾燥し、膜厚０．２μ
ｍの電荷発生層１を形成した。

【００３２】次に、下記構造式（１）

【化１】で示されるＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−
（ｍ−トリル）ベンジジン２部と

【００３３】下記構造式（２）

【化２】で示されるポリ［１，１−ジ−（ｐ−フェニレン）シク
ロヘキサンカーボネート］３部とをクロロベンゼン２０
部に溶解し、得られた塗布液を電荷発生層１が形成され
たアルミニウム基板上に浸漬コーティング法で塗布し、
１２０℃において１時間加熱乾燥して膜厚２０μｍの電
荷輸送層２を形成した。

【００３４】このようにして作製された電子写真感光体
の電子写真特性を下記のようにして測定した。静電複写
紙試験装置（川口電機社製：エレクトロスタティックア
ナライザーＥＰＡ−８１００、）を用いて、常温常湿
（２０℃、５０％ＲＨ）の環境下に−６ＫＶのコロナ放
電により感光体を帯電させた後、タングステンランプの
光を、モノクロメーターを用いて８００ｎｍの単色光に
分光し、感光体表面上で１μＷ／ｃｍ²になるように調
整し、照射した。そして、その初期表面電位Ｖ₀（ボル
ト）、Ｖ₀の１／２になるまでの半減露光量Ｅ_1/2（ｅ
ｒｇ／ｃｍ²）を測定し、その後１０ｌｕｘのタングス
テン光を１秒間感光体表面上に照射し、残留電位Ｖ
_R（ボルト）を測定した。また、減衰率ＤＤＲ（％）に
ついても測定した。さらに、上記の帯電、露光を１００
０回繰り返した後のＶ₀、Ｅ_1/2、ＤＤＲ、Ｖ_Rを測定
した。その結果を下記の比較例１、２と併せて後記の表
１に示す。

【００３５】比較例１合成例で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶を
用いた以外は、実施例６と同様の方法で電荷発生層１と
電荷輸送層２を形成し、作製された電子写真感光体を実
施例６と同様の方法で評価した。

【００３６】比較例２実施例１で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
０．５部を1 ｍｍφガラスビーズ６０部と共に、室温
下、エチレングリコール２０部中で２０時間ボールミリ
ング処理した後、ガラスビーズを濾別し、メタノール１
０部で洗浄してクロロガリウムフタロシアニン結晶を得
た。得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶の粉末
Ｘ線回折図を図１１に示す。次いで、実施例６と同様の
方法で電荷発生層１と電荷輸送層２を形成し、作製され
た電子写真感光体を実施例６と同様の方法で評価した。

【００３７】

【表１】

【００３８】実施例１１アルミニウム基板上にアルコール可溶性ナイロン樹脂
（大日本インキ化学社製：ラッカマイドＬ−５００３）
１部とメタノール１０部からなる溶液を浸漬コーティン
グ法で塗布し、１２０℃において１０分間加熱乾燥し、
膜厚０．５μｍの下引層４を形成した。次いで、実施例
２で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶１部
を、ポリビニルブチラール樹脂（積水化学社製：エスレ
ックＢＭ−Ｓ）１部及び酢酸ｎ−ブチル１００部と混合
し、ガラスビーズと共にペイントシェーカーで１時間処
理して樹脂溶液中に分散させた。得られた塗布液を浸漬
コーティング法で上記下引層４上に塗布し、１００℃に
おいて１０分間加熱乾燥して膜厚０．１５μｍの電荷発
生層１を形成した。なお、分散後の上記クロロガリウム
フタロシアニン結晶の結晶型はＸ線回折によって分散前
の結晶型と比較して変化していないことを確認した。

【００３９】次に、前記構造式（１）で示されるＮ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−（ｍ−トリル）ベ
ンジジン２部と前記構造式（２）で示されるポリ［１，
１−ジ−（ｐ−フェニレン）シクロヘキサンカ−ボネ−
ト］３部をクロロベンゼン２０部に溶解し、得られた塗
布液を電荷発生層１が形成されたアルミニウム基板上に
浸漬コ−ティング法で塗布し、１２０℃において１時間
加熱乾燥して膜厚２０μｍの電荷輸送層２を形成した。

【００４０】このようにして作製された電子写真感光体
の電子写真特性を下記のようにして測定した。静電複写
紙試験装置（川口電機製：エレクトロスタティックアナ
ライザーＥＰＡ−８１００）を用いて、常温常湿（２０
℃、４０％ＲＨ）の環境下に−６ＫＶのコロナ放電によ
り感光体を帯電させた後、タングステンランプの光を、
モノクロメーターを用いて８００ｎｍの単色光に分光
し、感光体表面上で１μＷ／ｃｍ²になるように調節
し、照射した。そして、その初期表面電位Ｖ_O（ボル
ト）、半減露光量Ｅ_1/2（ｅｒｇ／ｃｍ²）を測定し、
その後１０ｌｕｘの白色光を感光体表面上に１秒間照射
し、残留電位Ｖ_R（ボルト）を測定した。さらに、上記
の帯電、露光を１０００回繰り返した後のＶ_O、
Ｅ_1/2、Ｖ_Rを測定した。電荷発生層１を構成するクロ
ロガリウムフタロシアニン結晶と結着樹脂及び上記の測
定結果を、下記の実施例１２〜１７及び比較例３〜６と
併せて後記の表２に示す。

【００４１】実施例１２電荷発生層１を構成する前記ポリビニルブチラール樹脂
の代わりにポリエステル樹脂（東洋紡社製：バイロン２
００）１部を用いた以外は、実施例１１と同様の感光体
を作製し、同様の測定を行った。

【００４２】比較例３実施例２で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
の代わりに合成例で得られたクロロガリウムフタロシア
ニン結晶を用いた以外は、実施例１１と同様の感光体を
作製し、同様の測定を行った。

【００４３】比較例４実施例２で得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶
の代わりに比較例２で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン結晶を用いた以外は、実施例１１と同様の感光体
を作製し、同様の測定を行った。

【００４４】実施例１３水／クロロベンゼン混合溶媒の代わりにＴＨＦを用いた
以外は、実施例２と同様に処理した。得られたＸ線回折
スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が７．４
°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に強い回折
ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶の粉
末Ｘ線回折図は図７と同様であった。

【００４５】次に、アルミニウム基板上にアルコール可
溶性ナイロン樹脂（東レ社製：ＣＭ−８０００）１部と
メタノール１０部からなる溶液を浸漬コーティング法で
塗布し、１１０℃において１０分間加熱乾燥して膜厚
０．１μｍの下引層４を形成した。次いで、上記ＴＨＦ
処理して得られたクロロガリウムフタロシアニン結晶１
部を、部分アセトアセタール化ポリビニルブチラール樹
脂（積水化学社製：エスレックＢＸ−Ｌ）１部及びシク
ロヘキサノン１００部と混合し、ガラスビーズと共にペ
イントシェーカーで１時間処理して樹脂溶液中に分散さ
せた。得られた塗布液を浸漬コーティング法で上記下引
層４上に塗布し、１２０℃において１０分加熱乾燥して
膜厚０．２μｍの電荷発生層１を形成した。なお、分散
後の上記クロロガリウムフタロシアニン結晶の結晶型は
Ｘ線回折によって分散前の結晶型と比較して変化してい
ないことを確認した。

【００４６】そして、前記構造式（１）で示されるＮ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス−（ｍ−トリル）ベ
ンジジンの代わりに下記構造式（３）

【化３】で示されるＮ，Ｎ′−ビス−（ｐ−トリル）−Ｎ，Ｎ′
−ビス−（ｐ−エチルフェニル）−３，３′−ジメチル
ベンジジン２部を用いた以外は、実施例１１と同様の電
荷輸送層２を形成し、作製された感光体について実施例
１１と同様の測定を行った。

【００４７】実施例１４電荷発生層１を構成する前記部分アセトアセタール化ポ
リビニルブチラール樹脂の代わりにポリメチルメタクリ
レート樹脂（デュポン社製：エルバサイト２０２１）１
部を用いた以外は、実施例１３と同様の感光体を作製
し、同様の測定を行った。

【００４８】比較例５実施例１３において得られたクロロガリウムフタロシア
ニン結晶の代わりに比較例２で得られたクロロガリウム
フタロシアニン結晶を用いた以外は、実施例１３と同様
の感光体を作製し、同様の測定を行った。

【００４９】実施例１５ジルコニウム化合物（マツモト製薬社製：オルガチック
スＺＣ５４０）１０部及びシラン化合物（日本ユンカー
社製：Ａ１１１０）１部とｉ−プロパノール４０部及び
ブタノール２０部からなる溶液をアルミニウム基板上に
浸漬コーティング法で塗布し、１６０℃において１０分
間加熱乾燥して膜厚０．１μｍの下引層４を形成した。
次いで、実施例１３においてＴＨＦ処理して得られたク
ロロガリウムフタロシアニン結晶１部を、カルボキシル
変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（ユニオンカーバ
イト社製：ＶＭＣＨ）１部及び酢酸ｎ−ブチル１００部
と混合し、ガラスビーズと共にペイントシェーカーで１
時間処理して共重合体溶液中に分散させた。得られた塗
布液を浸漬コーティング法で上記下引層４上に塗布し、
１００℃において１０分間加熱乾燥して膜厚０．２μｍ
の電荷発生層１を形成した。なお、分散後の前記クロロ
ガリウムフタロシアニン結晶の結晶型はＸ線回折によっ
て分散前の結晶型と比較して変化していないことを確認
した。そして、実施例１３と同様の電荷輸送層２を形成
し、作製された感光体について実施例１３と同様の測定
を行った。

【００５０】実施例１６電荷発生層１を構成する前記変性塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体の代わりにフェノキシ樹脂（ユニオンカーバ
イド社製：ＰＫＨＨ）１部とシクロヘキサノン１００部
を用いた以外は、実施例１５と同様の感光体を作製し、
同様の測定を行った。

【００５１】実施例１７電荷発生層１を構成する前記変性塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体の代わりに変性エーテル型ポリエステル樹脂
（富士写真フィルム社製：ＳＴＡＦＩＸＮＬＣ−２）
１部とシクロヘキサノン１００部を用いた以外は、実施
例１５と同様の感光体を作製し、同様の測定を行った。

【００５２】比較例６実施例１３において得られたクロロガリウムフタロシア
ニン結晶の代わりに比較例２で得られたクロロガリウム
フタロシアニン結晶を用いた以外は、実施例１５と同様
の感光体を作製し、同様の測定を行った。

【００５３】

【表２】

【００５４】実施例１８〜２２実施例１１、１３、１５〜１７と同一の条件でドラム型
感光体を作製し、この電子写真用感光体を半導体レーザ
ープリンター（富士ゼロックス社製：ＦＸＸＰ−１
５）に装着して複写画像を形成し、複写を１万回繰り返
した。その結果を下記の比較例７〜９と併せて表３に示
す。

【００５５】比較例７〜９比較例４〜６と同一の条件でドラム型感光体を作製し、
実施例１８と同様な評価を行った。

【００５６】

【表３】

【００５７】

【発明の効果】本発明のクロロガリウムフタロシアニン
結晶は、前記のように新規な結晶型を有するものであっ
て、感光波長域が長波長まで伸びているため、半導体レ
ーザーを利用するプリンター等の電子写真感光体用光導
電材料として非常に有用である。また、上記の新規な結
晶型を有するクロロガリウムフタロシアニン結晶を用い
て作製される本発明の電子写真感光体は、高感度で、残
留電位が低く、帯電性が高く、かつ繰り返しによる変動
が少ないことから、耐久性に優れた感光体として用いる
ことができる。さらに、電荷発生材料としてクロロガリ
ウムフタロシアニン結晶とその結着樹脂としてポリビニ
ルアセタール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合
体、フェノキシ樹脂及び変性エーテル型ポリエステル樹
脂から選ばれる少なくとも１種とを感光層に含有する電
子写真感光体は、感度が高く、電荷保持性が良好で、画
質欠陥が少ないので、画像特性に著しく優れた電子写真
感光体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる電子写真感光体の模式的断面
図を示す。

【図２】本発明にかかる電子写真感光体の別の模式的
断面図を示す。

【図３】本発明にかかる電子写真感光体の他の模式的
断面図を示す。

【図４】本発明にかかる電子写真感光体のさらに他の
模式的断面図を示す。

【図５】合成例で得られたクロロガリウムフタロシア
ニン結晶の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図６】実施例１で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン結晶の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図７】実施例２で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン結晶の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図８】実施例３で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン結晶の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図９】実施例４で得られたクロロガリウムフタロシ
アニン結晶の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図１０】実施例５で得られたクロロガリウムフタロ
シアニン結晶の粉末Ｘ線回折図を示す。

【図１１】比較例２で得られたクロロガリウムフタロ
シアニン結晶の粉末Ｘ線回折図を示す。

【符号の説明】

１‥‥電荷発生層、２‥‥電荷輸送層、３‥‥導電性支
持体、４‥‥下引層、５‥‥保護層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者今井彰神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社竹松事業所内 (72)発明者坂口泰生神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社竹松事業所内 (72)発明者石井徹神奈川県南足柄市竹松1600番地富士ゼロックス株式会社竹松事業所内 (56)参考文献特開昭62−127843（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−44053（ＪＰ，Ａ) 特開平１−221459（ＪＰ，Ａ) 特開平２−97959（ＪＰ，Ａ) 特開平１−210388（ＪＰ，Ａ) 特開平１−297293（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C09B 67/50

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ
角度（２θ±０．２°）が７．４°、１６．６°、２
５．５°及び２８．３°に強い回折ピークを有するクロ
ロガリウムフタロシアニン結晶。
【請求項２】Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ
角度（２θ±０．２°）が６．８°、１７．３°、２
３．６°及び２６．９°に強い回折ピークを有するクロ
ロガリウムフタロシアニン結晶。
【請求項３】Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ
角度（２θ±０．２°）が８．７°〜９．２°、１７．
６°、２４．０°、２７．４°及び２８．８°に強い回
折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかに記載のク
ロロガリウムフタロシアニン結晶よりなる電子写真感光
体用光導電材料。
【請求項５】請求項１ないし３のいずれかに記載のク
ロロガリウムフタロシアニン結晶を含有する感光層を導
電性支持体上に被覆してなることを特徴とする電子写真
感光体。
【請求項６】前記感光層には、結着樹脂としてポリビ
ニルアセタール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重
合体、フェノキシ樹脂及び変性エーテル型ポリエステル
樹脂から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項５に
記載の電子写真感光体。
【請求項７】前記ポリビニルアセタール系樹脂がポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂及び
部分アセタール化ポリビニルブチラール樹脂から選ばれ
る１種または２種以上よりなる請求項６に記載の電子写
真感光体。
【請求項８】前記塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体
が塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ヒドロキシル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体及びカルボキシル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体から選ばれる１種また
は２種以上よりなる請求項６に記載の電子写真感光体。
【請求項９】前記感光層は電荷発生層及び電荷輸送層
が順次積層された積層構造からなり、前記クロロガリウ
ムフタロシアニン結晶と前記結着樹脂とを上記電荷発生
層に含有することを特徴とする請求項６に記載の電子写
真感光体。