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JP3108245B2 - Silver halide photographic material - Google Patents

Silver halide photographic material

Info

Publication number
JP3108245B2
JP3108245B2 JP05094897A JP9489793A JP3108245B2 JP 3108245 B2 JP3108245 B2 JP 3108245B2 JP 05094897 A JP05094897 A JP 05094897A JP 9489793 A JP9489793 A JP 9489793A JP 3108245 B2 JP3108245 B2 JP 3108245B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
general formula
alkyl
formula
Prior art date
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JP05094897A
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Japanese (ja)
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JPH06289520A (en
Inventor
利秀 江副
一巳 新居
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH06289520A publication Critical patent/JPH06289520A/en
Priority to US08/733,450 priority patent/US5766822A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3108245B2 publication Critical patent/JP3108245B2/en
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料に関し、特に写真製版用に用いられる超硬調ハロゲ
ン化銀写真感光材料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide photographic material and, more particularly, to a super-high contrast silver halide photographic material used for photolithography.

【0002】[0002]

【従来の技術】リス現像システムは現像液の活性を一定
に保つことが非常に困難であり、それによる画像形成の
不安定さが大きな弱点であった。そこで、良好な保存安
定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得ら
れる画像形成システムが要望され、その1つとして米国
特許4,166,742号、同4,168,977号、
同4,221,857号、同4,224,401号、同
4,243,739号、同4,272,606号、同
4,311,781号にみられるように、特定のアシル
ヒドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写
真感光材料を、pH11.0〜12.3で亜硫酸保恒剤
を0.15モル/リットル以上含み、良好な保存安定性
を有する現像液で処理して、γが10を超える超硬調の
ネガ画像を形成するシステムが提案された。しかしなが
ら、なお現像液の疲労による感度、Dmax などの写真性
能の変化は無視できず、その改良の為様々な工夫が試み
られている。一方、特開昭62−247351号、同6
2−270948号、同63−249838号、特開平
3−102343号、同3−152528号、特願平3
−128212号、同3−246493号、同4−26
7332号、同4−267333号には構造あるいは性
質の異なるヒドラジン化合物を併用することが開示され
ている。しかし、いずれの方法においても現像液の疲労
による写真性能の変化を充分小さくすることはできず、
さらに改良が必要であった。
2. Description of the Related Art In a squirrel developing system, it is very difficult to keep the activity of a developing solution constant, and the instability of image formation due to this is a great disadvantage. Therefore, there is a demand for an image forming system which develops with a processing solution having good storage stability and obtains ultra-high contrast photographic characteristics. One of them is U.S. Pat. Nos. 4,166,742 and 4,168,977. ,
Specific acylhydrazine compounds as shown in JP-A-4,221,857, JP-A-4,224,401, JP-A-4,243,739, JP-A-4,272,606 and JP-A-4,311,781 Is added to a surface latent image type silver halide photographic light-sensitive material, which is treated with a developing solution having a pH of 11.0 to 12.3 and containing a sulfurous acid preservative of 0.15 mol / L or more and having good storage stability. , Γ of more than 10 have been proposed. However, changes in photographic performance such as sensitivity and Dmax due to fatigue of the developer cannot be ignored, and various attempts have been made to improve them. On the other hand, JP-A-62-247351 and 6
Nos. 2-270948, 63-249838, JP-A-3-102343, JP-A-3-152528, Japanese Patent Application No. 3
No. -128212, No. 3-246493, No. 4-26
Nos. 7332 and 4-267333 disclose the use of hydrazine compounds having different structures or properties in combination. However, none of these methods can sufficiently reduce the change in photographic performance due to fatigue of the developer.
Further improvements were needed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、硬調でかつ現像液の疲労による写真性能変化の小さ
い製版用感光材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a photographic material for plate making which has a high contrast and a small change in photographic performance due to fatigue of a developer.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳
剤層またその他の親水性コロイド層に一般式(1)で
わされるヒドラジン誘導体の少なくとも一種を含有した
ハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層またはそ
の他の親水性コロイド層に一般式(N)で表わされるヒ
ドラジン誘導体の少なくとも一種を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料によって達成された。 一般式(1)
An object of the present invention, in order to solve the problem] has at least one silver halide emulsion layer on a support, the general formula (1) or emulsion layers and other hydrophilic colloid layers Table In a silver halide photographic light-sensitive material containing at least one hydrazine derivative, the emulsion layer or another hydrophilic colloid layer contains at least one hydrazine derivative represented by the general formula (N). This has been attained by a silver halide photographic light-sensitive material. General formula (1)

【0005】[0005]

【化4】 Embedded image

【0006】式中、X1 はアルキル基、アルコキシ基、
置換アミノ基またはアルキルチオ基を表わす。Y1 はア
ルコキシ基、アリーロキシ基アルキルチオ基またはア
リールチオ基を表わし、R1 はアルキレン基を表わす。
Wherein X 1 is an alkyl group, an alkoxy group,
Represents a substituted amino group or an alkylthio group. Y 1 represents an alkoxy group, an aryloxy group , an alkylthio group or an arylthio group, and R 1 represents an alkylene group.

【0007】[0007]

【0008】一般式(N)General formula (N)

【0009】[0009]

【化6】 Embedded image

【0010】式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表
わし、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ
基、ルバモイル基又はオキシカルボニル基を表わし、
1 は-CO-基、-SO2- 基、-SO-基、-PO(R2)-基、-CO-CO
- 基、チオカルボニル基又はイミノメチレン基を表わ
し、A1 、A2 はともに水素原子あるいは一方が水素原
子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル
基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
[0010] formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a hydrazino group, mosquitoes Rubamoiru group or an oxycarbonyl Represents a group,
G 1 is a —CO— group, a —SO 2 — group, a —SO— group, a —PO (R 2 ) — group, a —CO-CO
-Represents a group, a thiocarbonyl group or an iminomethylene group, wherein A 1 and A 2 are both a hydrogen atom or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group,
Or a substituted or unsubstituted acyl group.

【0011】本発明の化合物について詳細に説明する。
一般式(1)においてX1 で表わされるアルキル基およ
びX1 で表わされるアルコキシ基、アルキルチオ基中に
含まれるアルキル基は直鎖、分枝もしくは環状のアルキ
ル基であり、代表的な例としてはエチル基、ブチル基、
イソプロピル基、イソブチル基、t−アミル基、シクロ
ヘキシル基などがあげられる。X1 で表わされる置換ア
ミノ基の置換基としてはアルキル基、アリール基の他、
アシル基(R−CO−基、Rはアルキルまたはアリー
ル)、アルコキシまたはアリーロキシカルボニル基、置
換もしくは無置換のカルバモイル基、置換もしくは無置
換のヒドラジノカルボニル基、アルキルまたはアリール
スルホニル基、置換もしくは無置換のスルファモイル基
なども含まれ、後者の場合にはカルボンアミド基、ウレ
タン基、ウレイド基、セミカルバジド基、スルホンアミ
ド基等を形成する。X1 はまた2−メトキシエトキシ
基、3,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)ウレイド基
の様に置換されていても良い。X1 において、置換基を
含めた炭素原子数の総和は1から6が好ましく、2から
6がさらに好ましい。3から6が特に好ましい。X1
しては置換アミノ基が好ましく、カルボンアミド基、ウ
レイド基、スルホンアミド基を形成するように置換され
たアミノ基が最も好ましい。X1 のフェニル基上の置換
位置はヒドラジン部分のオルト位、メタ位、パラ位のい
ずれでも良いが、メタ位、パラ位が好ましく、パラ位が
最も好ましい。X1とヒドラジン部分を連結するフェニ
レン基は置換されていても良いが、これらの置換基とX
1 に含まれる炭素数の総和が1から6であることが好ま
しい。
The compound of the present invention will be described in detail.
Formula (1) in the alkoxy group represented by an alkyl group and X 1 is represented by X 1, the alkyl group contained in the alkylthio group is a linear, branched or cyclic alkyl group, representative examples Ethyl group, butyl group,
Examples thereof include an isopropyl group, an isobutyl group, a t-amyl group, a cyclohexyl group and the like. Examples of the substituent of the substituted amino group represented by X 1 include an alkyl group and an aryl group,
Acyl group (R-CO- group, R is alkyl or aryl), alkoxy or aryloxycarbonyl group, substituted or unsubstituted carbamoyl group, substituted or unsubstituted hydrazinocarbonyl group, alkyl or arylsulfonyl group, substituted or unsubstituted A substituted sulfamoyl group and the like are also included, and in the latter case, a carbonamido group, urethane group, ureido group, semicarbazide group, sulfonamido group and the like are formed. X 1 may be substituted such as a 2-methoxyethoxy group and a 3,3-bis (2-hydroxyethyl) ureido group. In X 1 , the total number of carbon atoms including the substituent is preferably 1 to 6, more preferably 2 to 6. 3 to 6 are particularly preferred. X 1 is preferably a substituted amino group, and most preferably an amino group substituted to form a carboxamide group, a ureido group, or a sulfonamide group. The substitution position on the phenyl group of X 1 may be any of the ortho, meta and para positions of the hydrazine moiety, but is preferably the meta or para position, and most preferably the para position. The phenylene group connecting X 1 and the hydrazine moiety may be substituted, but these substituents and X
The total number of carbon atoms contained in 1 is preferably 1 to 6.

【0012】一般式(1)においてY1 で表わされるア
ルコキシ基、アルキルチオ基中に含まれるアルキル基は
直鎖、分枝もしくは環状のアルキル基であり、代表的な
例としてはメチル基、ドデシル基、イソブチル基、2−
エチルヘキシル基などがあげられる。Y1 で表わされる
アリーロキシ基、アリールチオ基中に含まれるアリール
基は単環もしくは2環の不飽和炭素環基もしくは不飽和
ヘテロ環基が好ましい。代表的な例としてはベンゼン
環、ナフタレン環、ピリジン環、キノリン環等があげら
れる1 としてはアルコキシ基、アリーロキシ基が好
ましく、アリーロキシ基が最も好ましい。Y1 で表わさ
れる基は置換されていても良く、代表的な置換基として
は例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ
基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スル
ファモイル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリー
ルチオ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アル
キルまたはアリールスルフィニル基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカル
ボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシル
オキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カル
ボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミ
ド基などが挙げられる。好ましい置換基としてはアルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル
基(好ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基
(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換された
アミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜3
0を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭
素数1〜30のもの)などである。これらの基はさらに
置換されていても良い。
The alkyl group contained in the alkoxy group or alkylthio group represented by Y 1 in the general formula (1) is a linear, branched or cyclic alkyl group, and typical examples include a methyl group and a dodecyl group. , Isobutyl group, 2-
And an ethylhexyl group. The aryl group represented by the aryloxy group or the arylthio group represented by Y 1 is preferably a monocyclic or bicyclic unsaturated carbocyclic group or unsaturated heterocyclic group. Representative examples include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, and a quinoline ring . As Y 1 , an alkoxy group and an aryloxy group are preferable, and an aryloxy group is most preferable. The group represented by Y 1 may be substituted, and typical substituents include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, a ureido group, a urethane group, Aryloxy, sulfamoyl, carbamoyl, alkyl or arylthio, alkyl or arylsulfonyl, alkyl or arylsulfinyl, hydroxy, halogen, cyano, sulfo, aryloxycarbonyl, acyl, alkoxycarbonyl , An acyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a carboxyl group, a phosphoric acid amide group, a diacylamino group, an imide group, and the like. Preferred substituents are an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), an aralkyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms), an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), and a substituted amino group (Preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), an acylamino group (preferably having 2 to 3 carbon atoms)
0), a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a phosphoric amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms) Things). These groups may be further substituted.

【0013】一般式(1)においてR1 で表わされるア
ルキレン基は置換されていても良く、代表的な置換基と
してはY1 の置換基の例として列挙したものがあてはま
る。R1 は好ましくは炭素数1から20のアルキレン基
であり、炭素数1から8のアルキレン基がさらに好まし
い。最も好ましくは、R1 は置換または無置換のメチレ
ン基である。Y1 およびR1 に含まれる炭素原子の総和
は6から30が好ましく、8から20が特に好ましい。
The alkylene group represented by R 1 in the general formula (1) may be substituted, and typical substituents include those listed as examples of the substituent of Y 1 . R 1 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. Most preferably, R 1 is a substituted or unsubstituted methylene group. The total number of carbon atoms contained in Y 1 and R 1 is preferably from 6 to 30, and particularly preferably from 8 to 20.

【0014】[0014]

【0015】以下に本発明に用いられる化合物を列記す
るが本発明はこれに限定されるものではない。
[0015] Although listed compounds used in the present invention the following the present invention is not limited thereto.

【0016】[0016]

【化7】 Embedded image

【0017】[0017]

【化8】 Embedded image

【0018】[0018]

【化9】 Embedded image

【0019】[0019]

【0020】本発明のヒドラジン化合物は例えば、特開
昭61−213,847号、同62−260,153
号、米国特許第4,684,604号、特開平1−26
9,936号、米国特許第3,379,529号、同
3,620,746号、同4,377,634号、同
4,332,878号、特開昭49−129,536
号、同56−153,336号、同56−153,34
2号、米国特許第4,988,604号、同4,99
4,365号などに記載されている方法を利用すること
により合成した。以下に具体的合成例を示す。
The hydrazine compounds of the present invention are described, for example, in JP-A-61-213,847 and JP-A-62-260,153.
No. 4,684,604, JP-A-1-26
9,936, U.S. Pat. Nos. 3,379,529, 3,620,746, 4,377,634, 4,332,878, and JP-A-49-129,536.
Nos. 56-153,336 and 56-153,34
No. 2, U.S. Pat. Nos. 4,988,604 and 4,99
No. 4,365, for example. A specific synthesis example is shown below.

【0021】合成例:例示化合物1−9の合成 イミダゾール(157g)のテトラヒドロフラン溶液
(1.5リットル)へ窒素雰囲気中、0℃に冷却攪拌
下、合成原料A(300g)を添加した。反応液を室温
にもどし2時間攪拌した後、p−ニトロフェニルヒドラ
ジン(153g)をTHF(200ml)に溶かしたもの
を添加した。反応液を一夜放置した後、水(3リット
ル)に注ぎ、析出した結晶を濾取し、水、アセトニトリ
ルで洗浄、減圧乾燥し中間体A(346g)を得た。
Synthesis Example: Synthesis of Exemplified Compound 1-9 To a solution of imidazole (157 g) in tetrahydrofuran (1.5 L) was added, under a nitrogen atmosphere, a cooling raw material A (300 g) at 0 ° C. while stirring. After the reaction solution was returned to room temperature and stirred for 2 hours, a solution of p-nitrophenylhydrazine (153 g) dissolved in THF (200 ml) was added. The reaction solution was allowed to stand overnight, then poured into water (3 L), and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water and acetonitrile, and dried under reduced pressure to obtain Intermediate A (346 g).

【0022】中間体A(150g)と塩化アンモニウム
(15g)とイソプロピルアルコール(1.5リット
ル)と水(150ml)の混合溶液を窒素雰囲気下加熱還
流したものに還元鉄(150g)を徐々に添加した。1
時間加熱還流の後、セライトを用いて濾過し、不溶分を
除去した。得られた濾液を冷却攪拌し析出した結晶を濾
取、減圧乾燥し、中間体B(98g)を得た。
Reduced iron (150 g) was gradually added to a mixture of intermediate A (150 g), ammonium chloride (15 g), isopropyl alcohol (1.5 liter) and water (150 ml) heated to reflux under a nitrogen atmosphere. did. 1
After heating under reflux for an hour, the mixture was filtered using celite to remove insolubles. The obtained filtrate was cooled and stirred, and the precipitated crystals were collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain Intermediate B (98 g).

【0023】[0023]

【化11】 Embedded image

【0024】中間体B(18.0g)とジメチルアセト
アミド(100ml)の混合溶液へ、0℃に冷却攪拌下、
トリエチルアミン(8.0ml)を添加し、引き続きN,
N−ジメチルカルバモイルクロライド(5.9g)を滴
下した。反応液を室温にもどし一夜放置した。反応終了
後、反応液を0.5N塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで
抽出し、飽和食塩水で洗った後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、酢酸エチルを留去し、シリカゲルクロマトグ
ラフィーにて単離精製し、目的物(9.2g)を得た。
化学構造はnmr スペクトル、及びirスペクトルにより確
認した。m.p. 138〜139℃
To a mixed solution of Intermediate B (18.0 g) and dimethylacetamide (100 ml), the mixture was cooled to 0 ° C. and stirred.
Triethylamine (8.0 ml) was added, followed by N,
N-Dimethylcarbamoyl chloride (5.9 g) was added dropwise. The reaction was returned to room temperature and left overnight. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into a 0.5N hydrochloric acid aqueous solution, extracted with ethyl acetate, washed with saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the ethyl acetate was distilled off and isolated by silica gel chromatography. Purification gave the desired product (9.2 g).
The chemical structure was confirmed by the nmr spectrum and the ir spectrum. mp 138-139 ° C

【0025】本発明では一般式(1)で表わされるヒドラ
ジン誘導体と、一般式(N)で表わされ、一般式(1)に
は包含されないヒドラジン化合物を併用する。
[0025] with a hydrazine derivative represented by the general formula (1) in the present invention, represented by general formula (N), <br/> the general formula (1) is used in combination with hydrazine compounds that are not included.

【0026】一般式(N)において、R1 で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、特
に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基
である。ここで分岐アルキル基はその中に1つまたはそ
れ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成する
ように環化されていてもよい。またこのアルキル基は、
アリール基、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンア
ミド基、カルボンアミド基等の置換基を有していてもよ
い。
In the general formula (N), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. is there. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. This alkyl group is
It may have a substituent such as an aryl group, an alkoxy group, a sulfoxy group, a sulfonamide group, and a carbonamide group.

【0027】一般式(N)においてR1 で表される芳香
族基は単環または2環のアリール基または不飽和ヘテロ
環基である。ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環
のアリール基と縮環してヘテロアリール基を形成しても
よい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、
ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリ
ン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾ
ール環、ベンゾチアゾール環等があるが、なかでもベン
ゼン環を含むものが好ましい。
The aromatic group represented by R 1 in the general formula (N) is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group. For example, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring,
There are a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring and the like, and among them, those containing a benzene ring are preferable.

【0028】R1 として特に好ましいものはアリール基
である。R1 のアリール基または不飽和ヘテロ環基は置
換されていてもよく、代表的な置換基としては例えばア
ルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイ
ド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アルキルまたはアリールチオ基、
アルキルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたは
アリールスルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシ
ル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、
R2-NH-CO-NR2-CO-基などが挙げられ、好ましい置換基と
しては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは
炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはア
ルキル部分の炭素数が1〜3の単環または2環のも
の)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20のアル
キル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ま
しくは炭素数2〜30を持つもの)、スルホンアミド基
(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基
(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、リン酸アミ
ド基(好ましくは炭素数1〜30のもの)などである。
Particularly preferred as R 1 is an aryl group. The aryl group or unsaturated heterocyclic group represented by R 1 may be substituted, and typical examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted amino group, and a ureido. Group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkyl or arylthio group,
Alkyl or aryl sulfonyl group, alkyl or aryl sulfinyl group, hydroxy group, halogen atom, cyano group, sulfo group, aryloxycarbonyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, acyloxy group, carbonamide group, sulfonamide group, carboxyl group, Phosphoric acid amide group, diacylamino group, imide group,
R 2 —NH—CO—NR 2 —CO— groups and the like are mentioned, and preferred substituents are linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl groups (preferably alkyl groups). A monocyclic or bicyclic C1-C3 moiety, an alkoxy group (preferably having 1-20 carbon atoms), or a substituted amino group (preferably an alkyl group having 1-20 carbon atoms) An amino group), an acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms), a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), And a phosphoric amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms).

【0029】一般式(N)においてR2 で表わされるア
ルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル
基であって、例えばハロゲン原子、水酸基、シアノ基、
カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、フェニル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アルキルまたはアリール
スルホニル基、スルファモイル基、ニトロ基、複素芳香
環基、R1-NA1-NA2-G1-基などの置換基を有していてもよ
く、更にこれらの基が置換されていてもよい。
The alkyl group represented by R 2 in the general formula (N) is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group,
Carboxy group, sulfo group, alkoxy group, phenyl group,
A substituent such as an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkyl or arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a nitro group, a heteroaromatic ring group, an R 1 -NA 1 -NA 2 -G 1 -group; And these groups may be further substituted.

【0030】アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。このアリール基は置換されていてもよく、置換基の
例としてはアルキル基の場合と同様である。アルコキシ
基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のものが好まし
く、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。アリールオキシ基としては単環のものが好まし
く、また置換基としてはハロゲン原子などがある。アミ
ノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10のア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、アルキ
ル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ
基などで置換されていてもよい。カルバモイル基として
は、無置換カルバモイル基及び炭素数1〜10のアルキ
ルカルバモイル基、アリールカルバモイル基が好まし
く、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ
基などで置換されていてもよい。オキシカルボニル基と
しては、炭素数1〜10のアルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基が好ましく、アルキル基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などで置換されていて
もよい。
The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, for example, one containing a benzene ring. The aryl group may be substituted, and examples of the substituent are the same as those in the case of the alkyl group. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and may be substituted with a halogen atom, an aryl group, or the like. The aryloxy group is preferably a monocyclic one, and the substituent includes a halogen atom. The amino group is preferably an unsubstituted amino group, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, or an arylamino group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, or the like. The carbamoyl group is preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an arylcarbamoyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, or the like. The oxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryloxycarbonyl group, and may be substituted with an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, or the like.

【0031】R2 で表わされる基のうち好ましいもの
は、G1 が-CO-基の場合には、水素原子、アルキル基
(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒド
ロキシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル
基、フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキル基
(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール
基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル
基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタン
スルホニルフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル
基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
Among the groups represented by R 2 , when G 1 is a —CO— group, a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl, trifluoromethyl, 3-hydroxypropyl, 3 A methanesulfonamidopropyl group, a phenylsulfonylmethyl group, an aralkyl group (eg, an o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, a phenyl group, a 3,5-dichlorophenyl group, an o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, etc.), and particularly preferably a hydrogen atom.

【0032】またG1 が-SO2- 基の場合には、R2 はア
ルキル基(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例
えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基
(例えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例え
ば、ジメチルアミノ基など)などが好ましい。G1 が-S
O-基の場合、好ましいR2 はシアノベンジル基、メチル
チオベンジル基などがあり、G1 が-PO(R2)-基の場合に
は、R2 としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ
基、フェノキシ基、フェニル基が好ましく、特に、フェ
ノキシ基が好適である。G1 がN−置換または無置換イ
ミノメチレン基の場合、好ましいR2 はメチル基、エチ
ル基、置換または無置換のフェニル基である。R2 の置
換基としては、R1 に関して列挙した置換基も適用でき
る。一般式(N)のGとしては-CO-基が最も好ましい。
When G 1 is a —SO 2 — group, R 2 is an alkyl group (eg, a methyl group), an aralkyl group (eg, an o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, a phenyl group). Or a substituted amino group (eg, a dimethylamino group). G 1 is -S
In the case of an O- group, preferred R 2 include a cyanobenzyl group and a methylthiobenzyl group, and when G 1 is a —PO (R 2 )-group, R 2 represents a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, Phenoxy groups and phenyl groups are preferred, and phenoxy groups are particularly preferred. When G 1 is an N-substituted or unsubstituted iminomethylene group, preferred R 2 is a methyl group, an ethyl group, or a substituted or unsubstituted phenyl group. As the substituent for R 2, the substituents listed for R 1 can also be applied. G in the general formula (N) is most preferably a -CO- group.

【0033】又、R2 はG1 −R2 の部分を残余部分か
ら分裂させ、−G−R2 部分の原子を含む環式構造を生
成させる環化反応を生起するようなものであってもよ
く、具体的には一般式(a)で表わすことができるよう
なものである。 一般式(a) −R3 −Z1 式中、Z1 はG1 に対し求核的に攻撃し、G1 −R3
1 部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R3
2 から水素原子1個除いたもので、Z1 がG1 に対し
求核攻撃し、G1 、R3 、Z1 で環式構造が生成可能な
ものである。
R 2 is such that it causes a cyclization reaction that splits the G 1 -R 2 moiety from the remainder to form a cyclic structure containing atoms of the -GR 2 moiety. More specifically, it can be represented by the general formula (a). In the general formula (a) -R 3 -Z 1 formula, Z 1 is nucleophilically attacked to G 1, G 1 -R 3 -
A group capable of Z 1 portion was split from the remaining molecule, R 3 is one obtained by removing one hydrogen atom from R 2, Z 1 is a nucleophilic attack to G 1, in G 1, R 3, Z 1 A cyclic structure can be generated.

【0034】さらに詳細には、Z1 は一般式(I)のヒ
ドラジン化合物が酸化等により次の反応中間体を生成し
たときに容易にG1 と求核反応し R1 −N=N′−G1 −R3 −Z11 −N=N基をG1 から分裂させうる基であり、具体
的にはOH、SHまたはNHR4(R4 は水素原子、アル
キル基、アリール基、-COR5 、または-SO2R5であり、R
5 は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基な
どを表す)、COOHなどのようにG1 と直接反応する
官能基であってもよく(ここで、OH、SH、NH
4 、−COOHはアルカリ等の加水分解によりこれら
の基を生成するように一時的に保護されていてもよ
い)、あるいは-CO-R6、-C(=N-R7)-R6(R6 、R7 は水
素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または
ヘテロ環基を表す)のように水酸イオンや亜硫酸イオン
等のような求核剤を反応することでG1 と反応すること
が可能になる官能基であってもよい。また、G1
3 、Z1 で形成される環としては5員または6員のも
のが好ましい。
More specifically, Z 1 easily undergoes a nucleophilic reaction with G 1 when the hydrazine compound of the general formula (I) produces the next reaction intermediate by oxidation or the like, and R 1 -N = N'- G 1 -R 3 -Z 1 R 1 -N = A group capable of splitting an N group from G 1 , specifically, OH, SH or NHR 4 (R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,- COR 5 , or —SO 2 R 5 ,
5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, etc., or a functional group which directly reacts with G 1 such as COOH (here, OH, SH, NH
R 4 and —COOH may be temporarily protected to generate these groups by hydrolysis of an alkali or the like), or —CO—R 6 , —C (CNR 7 ) —R 6 (R 6 , R 7 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group) and reacts with G 1 by reacting with a nucleophilic agent such as a hydroxyl ion or a sulfite ion. May be a functional group capable of G 1 ,
The ring formed by R 3 and Z 1 is preferably a 5- or 6-membered ring.

【0035】一般式(a)で表されるもののうち、好ま
しいものとしては一般式(b)及び(c)で表されるも
のを挙げることができる。 一般式(b)
Among the compounds represented by the general formula (a), preferred are the compounds represented by the general formulas (b) and (c). General formula (b)

【0036】[0036]

【化12】 Embedded image

【0037】式中、Rb 1 〜Rb 4 は水素原子、アルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル
基(好ましくは炭素数2〜12のもの)、アリール基
(好ましくは炭素数6〜12のもの)などを表し、同じ
でも異なってもよい。Bは置換基を有してもよい5員環
または6員環を完成するのに必要な原子であり、m、n
は0または1であり、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。Z1
一般式(a)と同義である。 一般式(c)
[0037] In the formula, R b 1 ~R b 4 is a hydrogen atom, an alkyl group (preferably having 1 to 12 carbon atoms), (ones preferably having 2 to 12 carbon atoms) alkenyl group, an aryl group (preferably And the like, and may be the same or different. B is an atom necessary to complete a 5- or 6-membered ring which may have a substituent, and m and n
Is 0 or 1, and (n + m) is 1 or 2.
The 5- or 6-membered ring formed by B includes, for example, a cyclohexene ring, a cyclopentene ring, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a quinoline ring and the like. Z 1 has the same meaning as in formula (a). General formula (c)

【0038】[0038]

【化13】 Embedded image

【0039】式中、Rc 1 、Rc 2 は水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基またはハロゲン原子な
どを表し、同じでも異なってもよい。Rc 3 は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、またはアリール基を表
す。pは0から2の整数値を表し、qは1〜4を表す。
c 1 、Rc 2 およびRc 3 はZ1 がC1 へ分子内求核
攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形成
してもよい。Rc 1 、Rc 2 は好ましくは水素原子、ハ
ロゲン原子、またはアルキル基であり、Rc 3 は好まし
くはアルキル基またはアリール基である。qは好ましく
は1〜3を表し、qが1のときpは1または2を、qが
2のときpは0または1を、qが3のときpは0または
1を表し、qが2または3のとき複数存在する(CRc
1 c 2 )は同一でも異なってもよい。Z1 は一般式
(a)と同義である。
In the formula, R c 1 and R c 2 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a halogen atom, and may be the same or different. R c 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. p represents an integer value of 0 to 2, and q represents 1 to 4.
R c 1 , R c 2 and R c 3 may combine with each other to form a ring as long as Z 1 is capable of intramolecular nucleophilic attack on C 1 . R c 1 and R c 2 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R c 3 is preferably an alkyl group or an aryl group. q preferably represents 1-3, p is 1 or 2 when q is 1, p is 0 or 1 when q is 2, p is 0 or 1 when q is 3, and q is 2 Or when 3 is present (CR c
1 R c 2 ) may be the same or different. Z 1 has the same meaning as in formula (a).

【0040】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルスルまたはアリールスルホニル基(好ましくは
フェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が
−0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾ
イル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又
は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置
換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホ
ンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる。))である。A1 、A
2 としては水素原子が最も好ましい。
A 1 and A 2 are each a hydrogen atom or an alkylsulfur or arylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenylsulfonyl group or a substituent such that the sum of the substituent constants of Hammett is -0.5 or more. A phenylsulfonyl group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more; or a linear, branched, or cyclic group Unsubstituted and substituted aliphatic acyl groups (for example, examples of the substituent include a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, and a sulfonic acid group). A 1 , A
2 is most preferably a hydrogen atom.

【0041】一般式(N)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に
対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、ア
ルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノ
キシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことが
できる。またポリマーとしては例えば特開平1−100
530号に記載のものが挙げられる。
R 1 or R 2 in the formula (N) may have a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties. For example, the ballast group is selected from an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group, and the like. Can be. As the polymer, for example, JP-A-1-100
No. 530.

【0042】一般式(N)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ
尿素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾールなどの米国特許第4,385,108号、同
4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、特開昭61−170,733号、同61−2
70,744号、同62−948号、同63−234,
244号、同63−234,245号、同63−23
4,246号に記載された基が挙げられる。
R 1 or R 2 in the general formula (N) may have a group in which a group that enhances adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of such adsorbing groups include thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercapto heterocyclic groups, and triazoles in U.S. Patent Nos. 4,385,108 and 4,459,347, and JP-A-59-195,233.
Nos. 59-200, 231 and 59-201, 04
No. 5, 59-201, 046, 59-201, 0
No. 47, 59-201, 048, 59-201,
No. 049, JP-A Nos. 61-170,733 and 61-2.
70,744, 62-948, 63-234,
No. 244, No. 63-234, No. 245, No. 63-23
4,246.

【0043】一般式(N)で示される化合物の具体例を
以下に示す。但し本発明は以下の化合物に限定されるも
のではない。
Specific examples of the compound represented by formula (N) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0044】[0044]

【化14】 Embedded image

【0045】[0045]

【化15】 Embedded image

【0046】[0046]

【化16】 Embedded image

【0047】[0047]

【化17】 Embedded image

【0048】[0048]

【化18】 Embedded image

【0049】[0049]

【化19】 Embedded image

【0050】[0050]

【化20】 Embedded image

【0051】[0051]

【化21】 Embedded image

【0052】[0052]

【化22】 Embedded image

【0053】[0053]

【化23】 Embedded image

【0054】[0054]

【化24】 Embedded image

【0055】[0055]

【化25】 Embedded image

【0056】[0056]

【化26】 Embedded image

【0057】[0057]

【化27】 Embedded image

【0058】[0058]

【化28】 Embedded image

【0059】[0059]

【化29】 Embedded image

【0060】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item 2
3516(1983年11月号、p.346)およびそこ
に引用された文献の他、米国特許第4,080,207
号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,560,638
号、同4,478,928号、英国特許2,011,3
91B、特開昭60−179734号、同62−27
0,948号、同63−29,751号、同61−17
0,733号、同61−270,744号、同62−9
48号、EP217,310号、またはUS4,68
6,167号、特開昭62−178,246号、同63
−32,538号、同63−104,047号、同63
−121,838号、同63−129,337号、同6
3−223,744号、同63−234,244号、同
63−234,245号、同63−234,246号、
同63−294,552号、同63−306,438
号、特開平1−100,530号、同1−105,94
1号、同1−105,943号、特開昭64−10,2
33号、特開平1−90,439号、特願昭63−10
5,682号、同63−114,118号、同63−1
10,051号、同63−114,119号、同63−
116,239号、同63−147,339号、同63
−179,760号、同63−229,163号、特願
平1−18,377号、同1−18,378号、同1−
18,379号、同1−15,755号、同1−16,
814号、同1−40,792号、同1−42,615
号、同1−42,616号、同1−123,693号、
同1−126,284号に記載されたものを用いること
ができる。
As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCHDISCLOSURE Item 2
3516 (November 1983, p. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,207.
No. 4,269,929, 4,276,364
Nos. 4,278,748 and 4,385,108
Nos. 4,459,347 and 4,560,638
No. 4,478,928, British Patent 2,011,3
91B, JP-A-60-179834, JP-A-62-27
Nos. 0,948, 63-29,751, 61-17
Nos. 0,733, 61-270,744 and 62-9
No. 48, EP 217,310 or US 4,68
No. 6,167, JP-A-62-178,246, 63-63
-32,538, 63-104,047, 63
-121,838, 63-129,337, 6
3-223,744, 63-234,244, 63-234,245, 63-234,246,
Nos. 63-294,552 and 63-306,438
No., JP-A Nos. 1-100,530 and 1-105,94
No. 1, No. 1-105,943, JP-A-64-10,2
No. 33, JP-A-1-90,439, Japanese Patent Application No. 63-10 / 1988.
No. 5,682, No. 63-114, No. 118, No. 63-1
Nos. 10,051, 63-114,119, 63-
Nos. 116, 239, 63-147, 339, 63
-179,760, 63-229,163, Japanese Patent Application Nos. 1-18,377, 1-18,378, 1-
Nos. 18,379, 1-15,755, 1-16,
No. 814, No. 1-40,792, No. 1-42,615
No. 1-42,616, 1-123, 693,
Those described in JP-A-1-126,284 can be used.

【0061】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としては、一般式(1)の化合物および一般式(N)の化
合物の総量として、ハロゲン化銀1モルあたり1×10
-6モルないし5×10-2モル含有されるのが好ましく、
特に1×10-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ま
しい添加量である。一般式(N)の化合物は、一般式
(1)の化合物に対してモル比で1:100〜100:
1、好ましくは1:20〜20:1の割合で併用され
る。
In the present invention, the amount of the hydrazine derivative to be added is 1 × 10 5 per mole of silver halide, based on the total amount of the compound of the general formula (1) and the compound of the general formula (N).
-6 mol to 5 × 10 -2 mol is preferable,
In particular, the range of 1 × 10 −5 mol to 2 × 10 −2 mol is a preferable addition amount. The compound of the general formula (N) has the general formula
1: 100 to 100: molar ratio to the compound of (1)
1, preferably in a ratio of 1:20 to 20: 1.

【0062】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な水混
和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、エ
タノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブな
どに溶解して用いることができる。
The hydrazine derivative of the present invention can be prepared by using a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methylcell It can be used by dissolving it in Solve or the like.

【0063】また、既に良く知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
成して用いることもできる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散して用いることもできる。
Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used for dissolution and mechanical dissolution. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the powder of the hydrazine derivative can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used.

【0064】本発明の感光材料に用いられる各種添加
剤、現像処理方法等に関しては、特に制限は無く、例え
ば下記箇所に記載されたものを好ましく用いることが出
来る。 項 目 該 当 個 所 1)造核促進剤 特開平2-103536号公報第9 頁右上欄13行目から同第 16頁左上欄10行目の一般式(II-m)ないし(II-p)及び 化合物例II-1ないしII-22 、特開平1-179939号公報 に記載の化合物。 2)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2-97937 号公報第20頁右下欄12行目から同第 その製造 21頁左下欄14行目、特開平2-12236 号公報第7 頁右 上欄19行目から同第8 頁左下欄12行目、および特願 平3-189532号に記載のセレン増感法。 3)分光増感色素 特開平2-12236 号公報第8 頁左下欄13行目から同右 下欄4 行目、同2-103536号公報第16頁右下欄3 行目 から同第17頁左下欄20行目、さらに特開平1-112235 号、同2-124560号、同3-7928号、特願平3-189532号 及び同3-411064号に記載の分光増感色素。 4)界面活性剤 特開平2-122363号公報第9 頁右上欄7 行目から同右 下欄7 行目、及び特開平2-185424号公報第2 頁左下 欄13行目から同第4 頁右下欄18行目。 5)カブリ防止剤 特開平2-103536号公報第17頁右下欄19行目から同第 18頁右上欄4 行目及び同右下欄1 行目から5 行目、 さらに特開平1-237538号公報に記載のチオスルフィ ン酸化合物。 6)ポリマーラテックス 特開平2-103536号公報第18頁左下欄12行目から同20 行目。 7)酸基を有する化合物 特開平2-103536号公報第18頁左下欄6 行目から同第 19頁左上欄1 行目。 8)マット剤、滑り剤、 特開平2-103536号公報第19頁左上欄15行目から同第 可塑剤 19頁右上欄15行目。 9)硬膜剤 特開平2-103536号公報第18頁右上欄5 行目から同第 17頁行目。 10)染料 特開平2-103536号公報第17頁右下欄 1行目から同18 行目の染料、同2-294638号公報及び特願平3-185773 号に記載の固体染料。 11)バインダー 特開平2-18542 号公報第3 頁右下欄1 行目から20行 目。 12)黒ポツ防止剤 米国特許第4956257 号及び特開平1-118832号公報に 記載の化合物。 13)レドックス化合物 特開平2-301743号公報の一般式(I) で表される化合 物(特に化合物1ないし50) 、同3-174143号公報第 3 頁ないし第20頁に記載の一般式(R-1) 、(R-2) 、 (R-3) 、化合物例1 ないし75、さらに特願平3-6946 6 号、同3-15648 号に記載の化合物 14) モノメチン化合物 特開平2-287532号公報の一般式(II)の化合物(特に 化合物例II-1ないしII-26)。 15) ジヒドロキシベンゼ 特開平3-39948 号公報第11頁左上欄から第12頁左下 ン類 欄の記載、及びEP452772A 号公報に記載の化合物。 16) 現像液及び現像方法 特開平2-103536号公報第19頁右上欄16行目から同第 21頁左上欄8 行目。
There are no particular restrictions on the various additives used in the light-sensitive material of the present invention, the development processing method and the like, and for example, those described in the following places can be preferably used. Item The relevant place 1) Nucleation accelerator JP-A-2-103536, page 9, upper right column, line 13 to page 16, upper left column, line 10, general formulas (II-m) to (II-p) ) And compound examples II-1 to II-22 and compounds described in JP-A-1-179939. 2) Silver halide emulsion and JP-A-2-97937, page 20, lower right column, line 12 to production thereof, page 21 lower left column, line 14, JP-A-2-12236, page 7, right upper column, 19 The selenium sensitization method described from line 12 to line 12 in the lower left column of page 8, and Japanese Patent Application No. 3-189532. 3) Spectral sensitizing dyes JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to right lower column, line 4, JP-A-2-103536, page 16, lower right column, line 3 to page 17, lower left Column 20, line 20. Further, spectral sensitizing dyes described in JP-A-1-112235, JP-A-2-124560, JP-A-3-7928, Japanese Patent Application Nos. 3-189532 and 3-4111064. 4) Surfactant JP-A-2-122363, page 9, upper right column, line 7 to right lower column, line 7, and JP-A-2-854424, page 2, lower left column, line 13 to page 4, right Line 18 in the bottom column. 5) Antifoggants JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5, furthermore, JP-A 1-237538 Thiosulfinic acid compounds described in the gazette. 6) Polymer latex JP-A-2-103536, page 18, lower left column, lines 12 to 20. 7) Compound having an acid group JP-A-2-103536, page 18, lower left column, line 6 to page 19, upper left column, line 1. 8) Matting agent, slip agent, JP-A-2-103536, page 19, upper left column, line 15 to plasticizer, page 19, upper right column, line 15; 9) Hardener From page 5, right upper column, line 5 to page 17, JP-A-2-103536. 10) Dyes Dyes in lines 1 to 18 of the lower right column on page 17 of JP-A-2-103536, solid dyes described in JP-A-2-94638 and JP-A-3-185773. 11) Binder JP-A 2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20. 12) Black potting inhibitor A compound described in US Pat. No. 4,956,257 and JP-A-1-18832. 13) Redox compounds The compounds represented by the general formula (I) (especially compounds 1 to 50) in JP-A-2-301743 and the compounds represented by the general formulas (3 to 20) described in JP-A-3-174143, pp. 3-20. R-1), (R-2), (R-3), compound examples 1 to 75, and compounds described in Japanese Patent Application Nos. 3-69466 and 3-15648.14) Monomethine compound Compounds of the general formula (II) of JP-A-287532 (especially compound examples II-1 to II-26). 15) Dihydroxybenze Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column to page 12, lower left column, and EP452772A. 16) Developing solution and developing method JP-A-2-103536, page 19, upper right column, line 16 to page 21, upper left column, line 8

【0065】[0065]

【実施例】 実施例1 (現像液処方) ハイドロキノン 25.0g 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3− ピラゾリドン 0.5g 水酸化ナトリウム 10.0g 亜硫酸カリウム 60.0g ジエチレントリアミン五酢酸 2.0g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ−4− (1H)−キナゾリノン 0.05g 臭化カリウム 3.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.1g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸 0.15g 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 0.2g 炭酸ナトリウム 11.0g 水を加えて1リットル pH10.4に合わせるExamples Example 1 (Developer solution formulation) Hydroquinone 25.0 g 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone 0.5 g Sodium hydroxide 10.0 g Potassium sulfite 60.0 g Diethylenetriaminepentaacetic acid 2 0.0 g 2,3,5,6,7,8-hexahydro-2-thioxo-4- (1H) -quinazolinone 0.05 g potassium bromide 3.0 g 5-methylbenzotriazole 0.1 g 2-mercaptobenzimidazole- 0.15 g of 5-sulfonic acid Sodium 3- (5-mercaptotetrazole) benzenesulfonate 0.2 g 11.0 g of sodium carbonate Add water to adjust to 1 liter pH 10.4

【0066】(乳剤の調整)0.13Mの硝酸銀水溶液
と、銀1モルあたり1×10-7モルに相当する(NH4)3Rh
Cl6 を含み0.04Mの臭化カリウムと0.09Mの塩
化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を、塩化ナトリウ
ムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオンを
含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながら38℃で12
分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ
0.15μm 、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子
を得ることにより核形成を行なった。続いて同様に0.
87Mの硝酸銀水溶液と、0.26Mの臭化カリウム
と、0.65Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液をダブルジェット法により、20分間かけて添加し
た。
(Preparation of emulsion) 0.13 M aqueous silver nitrate solution and (NH 4 ) 3 Rh equivalent to 1 × 10 −7 mol per mol of silver
An aqueous solution of a halogen salt containing 0.06 M potassium bromide and 0.09 M sodium chloride containing Cl 6 was added to a gelatin aqueous solution containing sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinethione at 38 ° C. while stirring. At 12
The mixture was added by a double jet method for one minute to obtain silver chlorobromide particles having an average particle size of 0.15 μm and a silver chloride content of 70 mol%, thereby forming nuclei. Subsequently, 0.
A silver salt aqueous solution containing 87M silver nitrate aqueous solution, 0.26M potassium bromide and 0.65M sodium chloride was added over 20 minutes by a double jet method.

【0067】その後1×10-3モルのKI溶液を加えて
コンバージョンを行ない常法に従ってフロキュレーショ
ン法により水洗し、ゼラチン40gを加え、pH6.
5、pAg7.5に調整し、さらに銀1モルあたりチオ
硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8mgを加え、60℃で
60分間加熱し、化学増感処理を施し、安定剤として4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン150mgを加えた。得られた粒子は平均粒子
サイズ0.27μm 、塩化銀含量70モル%の塩臭化銀
立方体粒子であった。(変動係数10%)。
Thereafter, 1 × 10 −3 mol of a KI solution was added to perform conversion, washed with water by a flocculation method according to a conventional method, and 40 g of gelatin was added.
5, adjusted to a pAg of 7.5, further added 5 mg of sodium thiosulfate and 8 mg of chloroauric acid per 1 mol of silver, heated at 60 ° C. for 60 minutes, subjected to a chemical sensitization treatment, and added 4 mg of a stabilizer.
150 mg of -hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene were added. The obtained grains were cubic silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.27 μm and a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 10%).

【0068】(塗布試料の作成)上記乳剤に表1に示す
ように本発明のヒドラジン誘導体を添加した。さらに、
下記構造式(S)の化合物を銀1モルあたり3.4×1
-4モル、1−フェノール−5−メルカプトテトラゾー
ルを2×10-4モル、下記構造式(a)で表わされる短波
シアニン色素を5×10-4モル、(b) で表わされる水溶
性ラテックス(200mg/m2)、ポリエチルアクリレー
トの分散物(200mg/m2)、および硬膜剤として1,
3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール(200mg
/m2)を添加した。
(Preparation of Coated Sample) The hydrazine derivative of the present invention was added to the above emulsion as shown in Table 1. further,
The compound of the following structural formula (S) was converted to 3.4 × 1 per mole of silver.
0-4 mol, 2 × 10 -4 mol of 1-phenol-5-mercaptotetrazole, 5 × 10 -4 mol of short-wave cyanine dye represented by the following structural formula (a), water-soluble latex represented by (b) (200 mg / m 2 ), a dispersion of polyethyl acrylate (200 mg / m 2 ), and 1 as a hardener
3-divinylsulfonyl-2-propanol (200 mg
/ M 2 ).

【0069】[0069]

【化30】 Embedded image

【0070】また、造核促進剤として下記構造式で表わ
されるアミン化合物(20mg/m2)を添加した。
An amine compound (20 mg / m 2 ) represented by the following structural formula was added as a nucleation accelerator.

【0071】[0071]

【化31】 Embedded image

【0072】保護層としてゼラチン1.0g/m2、粒子
サイズ約3.5μの不定型なSiO2マット剤40mg/m2
メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド1
00mg/m2、ハイドロキノン200mg/m2、シリコーン
オイル及び塗布助剤として下記構造式で示されるフッ素
界面活性剤とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを
含む層を乳剤層と同時に塗布行なった。
As a protective layer, gelatin 1.0 g / m 2 , an irregular SiO 2 matting agent 40 mg / m 2 having a particle size of about 3.5 μm,
Methanol silica 0.1 g / m 2 , polyacrylamide 1
00mg / m 2, hydroquinone 200 mg / m 2, a layer containing a fluorine surfactant and sodium dodecyl benzene sulfonate represented by the following structural formula as a silicone oil and a coating aid were conducted simultaneously coated with the emulsion layer.

【0073】[0073]

【化32】 Embedded image

【0074】またバック層およびバック層保護層は次に
示す処方にて塗布した。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40g/m2 SnO2/Sb (重量比90/10 、平均粒径0.02μm) 200mg/m2 ゼラチン硬化剤
The back layer and the back layer protective layer were applied according to the following formulation. [Back layer formulation] Gelatin 3 g / m 2 latex Polyethyl acrylate 2 g / m 2 Surfactant Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 g / m 2 SnO 2 / Sb (weight ratio 90/10, average particle size 0.02 μm) 200 mg / M 2 gelatin hardener

【0075】[0075]

【化33】 Embedded image

【0076】 染料 染料〔a〕、〔b〕、及び〔c〕の混合物Dye Mixture of dyes [a], [b] and [c]

【0077】[0077]

【化34】 Embedded image

【0078】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μ) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクナートナトリウム塩 15mg/m2 ドデジルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2 [Back protective layer] Gelatin 0.8 mg / m 2 polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 4.5 μ) 30 mg / m 2 dihexyl-α-sulfosacnate sodium salt 15 mg / m 2 sodium dodecylbenzenesulfonate Salt 15 mg / m 2 Sodium acetate 40 mg / m 2

【0079】(評価)これらの試料を、3200°Kの
タングステン光で光学クサビ又は、光学クサビとコンタ
クトスクリーン(富士フイルム、150Lチエーンドッ
ト型)を通して露光後、前記の現像液1で34℃30秒
間現像し、定着、水洗、乾燥した。定着液としては、富
士写真フイルム(株)製、GR−F1を用いた。写真性
能1について感度は、濃度がかぶり+1.5を与える露
光量の常用対数値で示し、サンプルAの値を1とし、値
が大きい方が高感になるようにとった。γは下記式で表
される。Dmax は特性曲線上で濃度が0.1の感度点に
対してlogE+0.5の露光量にける濃度で示した。
(Evaluation) Each of these samples was exposed to tungsten light at 3200 ° K through an optical wedge or an optical wedge and a contact screen (Fujifilm, 150L chain dot type), and then exposed to the developer 1 at 34 ° C. for 30 seconds. It was developed, fixed, washed with water and dried. As a fixing solution, GR-F1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used. Regarding the photographic performance 1, the sensitivity was represented by a common logarithmic value of an exposure amount giving a density of fog +1.5. The value of sample A was set to 1, and the higher the value, the higher the sensitivity. γ is represented by the following equation. Dmax is represented by a density at an exposure amount of logE + 0.5 with respect to a sensitivity point having a density of 0.1 on the characteristic curve.

【0080】[0080]

【数1】 (Equation 1)

【0081】写真性能2は、経時疲労した現像液のシミ
ュレーションとして、上記処方の現像液に対して、亜硫
酸カリウムを3分の1、pHを0.2あげた処方の現像
液2を用い、写真性能1と同様に感度、γ、Dmax をと
った。
The photographic performance 2 was used as a simulation of a developer that had been fatigued with time. The sensitivity, γ, and Dmax were taken as in Performance 1.

【0082】結果を表1に示した。The results are shown in Table 1.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】サンプルA、B、C、Dのように、pH1
1.0未満の現像液で処理しても10以上のガンマを得
ることは可能であるが、経時疲労した現像液で著しく軟
調化し、Dmaxが実用上不可である4.0以下となる。ま
たサンプルF、G、H、I、J、Kのように公知のヒド
ラジン誘導体を併用してもガンマ、Dmaxともに改良効果
は見られない。本発明のヒドラジン誘導体を高活性のヒ
ドラジン誘導体(例えばN−37、N−67、N−6
8、N−69)と併用することによりガンマ、Dmaxとも
に変動が著しく小さくなる。
As in Samples A, B, C and D, pH 1
It is possible to obtain a gamma of 10 or more by processing with a developing solution of less than 1.0, but with a developing solution that has been fatigued over time, the softening is remarkably lowered, and Dmax becomes 4.0 or less, which is impractical. Even when a known hydrazine derivative such as Samples F, G, H, I, J, and K is used in combination, neither gamma nor Dmax has an improvement effect. The hydrazine derivative of the present invention is converted to a highly active hydrazine derivative (for example, N-37, N-67, N-6).
8, N-69), the variation in both gamma and Dmax is significantly reduced.

【0085】実施例2 (現像液処方) ハイドロキノン 50.0g N−メチル−p−アミノフェノール 0.3g 水酸化ナトリウム 18.0g 5−スルホサリチル酸 55.0g 亜硫酸カリウム 110.0g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0g 臭化カリウム 10.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.4g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸 0.3g 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベンゼンスルホン酸 ナトリウム 0.2g N−n−ブチルジエタノールアミン 15.0g N−n−ジメチル−n−ヘキサノールアミン 1.0g トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0g 水を加えて 1リットル pH=11.8に合わせる(水酸化カリウムを加えて) pH11.8Example 2 (Formulation of developer) Hydroquinone 50.0 g N-methyl-p-aminophenol 0.3 g Sodium hydroxide 18.0 g 5-Sulfosalicylic acid 55.0 g Potassium sulfite 110.0 g Disodium ethylenediaminetetraacetate 1 0.0 g Potassium bromide 10.0 g 5-Methylbenzotriazole 0.4 g 2-Mercaptobenzimidazole-5-sulfonic acid 0.3 g Sodium 3- (5-mercaptotetrazole) benzenesulfonate 0.2 g Nn-butyldiethanolamine 15.0 g Nn-dimethyl-n-hexanolamine 1.0 g Sodium toluenesulfonate 8.0 g Add water to adjust to 1 liter pH = 11.8 (add potassium hydroxide) pH 11.8

【0086】(画像形成層乳剤の調製)以下の方法で乳
剤Aを調製した。 乳剤A:0.37Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり
1×10-7モルに相当するK2 Rh(H2 O)Cl5
び2×10-7モルに相当するK3 IrCl6 を含む0.
16Mの臭化カリウムと0.22Mの塩化ナトリウムを
含むハロゲン塩水溶液を、0.08Mの塩化ナトリウム
と1,3−ジメチル−2−イミダゾリチオン(0.00
2%)を含有する2%ゼラチン水溶液に攪拌しながら3
8℃で12分間ダブルジェット法により添加し、平均粒
子サイズ0.20μm 、塩化銀含量55モル%の塩臭化
銀粒子を得ることにより核形成を行った。続いて同様に
0.63Mの硝酸銀水溶液と、0.23Mの臭化カリウ
ムと0.43Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液を、ダブルジェット法により20分間かけて添加し
た。その後、銀1モルあたり1×10-3モルのKI溶液
を加えてコンバージョンを行い、常法に従ってフロキュ
レーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン4
0gを加え、pH6.0、pAg7.3に調整し、さら
に銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム7
mgとベンゼンスルフィン酸2mg、塩化金酸10mgおよび
チオ硫酸ナトリウム5mgを加え、60℃で100分間加
熱し化学増感を施した後、安定剤として4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン1
50mgおよび防腐剤としてプロキセルを加えた。得られ
た粒子は平均粒子サイズ0.27μm 、塩化銀含有率6
0モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数1
0%)
(Preparation of Image Forming Layer Emulsion) Emulsion A was prepared by the following method. Emulsion A: containing 0.37 M silver nitrate aqueous solution, K 2 Rh (H 2 O) Cl 5 corresponding to 1 × 10 −7 mol and K 3 IrCl 6 corresponding to 2 × 10 −7 mol per mol of silver 0.
An aqueous halide solution containing 16 M potassium bromide and 0.22 M sodium chloride was mixed with 0.08 M sodium chloride and 1,3-dimethyl-2-imidazolithione (0.00%).
3% with stirring in a 2% aqueous gelatin solution containing
Nucleation was performed by adding the mixture by a double jet method at 8 ° C. for 12 minutes to obtain silver chlorobromide grains having an average grain size of 0.20 μm and a silver chloride content of 55 mol%. Subsequently, a 0.63 M silver nitrate aqueous solution and a halogen salt aqueous solution containing 0.23 M potassium bromide and 0.43 M sodium chloride were similarly added by a double jet method over 20 minutes. Thereafter, a conversion was performed by adding a KI solution of 1 × 10 −3 mol per mol of silver, followed by washing with water by a flocculation method according to a conventional method, and a gelatin solution per mol of silver.
The solution was adjusted to pH 6.0 and pAg 7.3, and sodium benzenethiosulfonate per mole of silver was added.
mg, 2 mg of benzenesulfinic acid, 10 mg of chloroauric acid and 5 mg of sodium thiosulfate, and heated at 60 ° C. for 100 minutes to perform chemical sensitization. Then, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a was used as a stabilizer. , 7-Tetrazaindene 1
50 mg and proxel as preservative were added. The resulting grains had an average grain size of 0.27 μm and a silver chloride content of 6
It was 0 mol% silver chlorobromide cubic grains. (Coefficient of variation 1
0%)

【0087】こうして得られた乳剤に、それぞれ銀1モ
ルあたり7×10-4モルの5−〔3−(4−スルホブチ
ル)−5−クロロ−2−ベンゾオキサゾリジリデン〕エ
チリデン−1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2−
ピリジル)−2−チオヒダントインカリウム塩、6×1
-4モルの下記構造式(A)で表される短波シアニン色
素、3×10-4モルの1−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、4×10-4モルの下記構造式(B)で表さ
れるメルカプト化合物、3×10-4モルの下記構造式
(C)で表されるメルカプト化合物、4×10-4モルの
下記構造式(D)で表されるトリアジン化合物、9×1
-4モルの5−クロロ−8−ヒドロキシキノリンを添加
した。さらに本発明のヒドラジン誘導体、実施例1で示
したその比較化合物を表2のように添加した。さらにN
−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg
/m2加え、これにポリエチルアクリレートの分散物(5
00mg/m2)硬膜剤として1,2−ビス(ビニルスルホ
ニルアセトアミド)エタン40mg/m2加え、pHを6.
0に調整し、ヒドラジン含有層塗布液を調製した。
The emulsion thus obtained was added to 7 × 10 −4 mol of 5- [3- (4-sulfobutyl) -5-chloro-2-benzooxazolidylidene] ethylidene-1-hydroxy per 7 mol of silver. Ethoxyethyl-3- (2-
Pyridyl) -2-thiohydantoin potassium salt, 6 × 1
0-4 mol of the short-wave cyanine dye represented by the following structural formula (A), 3 × 10 -4 mol of 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, and 4 × 10 -4 mol of the following structural formula (B) 3 × 10 −4 mol of a mercapto compound represented by the following structural formula (C), 4 × 10 −4 mol of a triazine compound represented by the following structural formula (D), 9 × 1
0-4 moles of 5-chloro-8-hydroxyquinoline was added. Further, the hydrazine derivative of the present invention and its comparative compound shown in Example 1 were added as shown in Table 2. Further N
-Oleyl-N-methyltaurine sodium salt 30 mg
/ M 2 and a dispersion of polyethyl acrylate (5
200 mg / m 2) as a hardening agent 1,2-bis (vinylsulfonyl acetamide) ethane 40 mg / m 2 was added, pH 6.
It was adjusted to 0 to prepare a hydrazine-containing layer coating solution.

【0088】[0088]

【化35】 Embedded image

【0089】(レドックス化合物含有量乳剤の調製)
1.0Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり3×10-7
モルに相当する(NH4)3RhCl6を含有し0.3Mの臭化カ
リウムと0.74Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩
水溶液を、0.08Mの塩化ナトリウムと0.002%
の1,3−ジメチル−2−イミダゾリンチオンを含有す
る2%ゼラチン水溶液に、攪拌しながら45℃で30分
間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.
30μm、塩化銀含量70モル%の塩臭化銀粒子を得
た。その後、銀1モルあたり1×10-3モルのKI溶液
を加えてコンバージョンを行い、常法に従ってフロキュ
レーション法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン4
0gを加え、pH6.0、pAg7.6に調整し、さら
に銀1モルあたりベンゼンチオスルフォン酸ナトリウム
7mgとベンゼンスルフィン酸2mg、塩化金酸8mgおよび
チオ硫酸ナトリウム5mgを加え、60℃で60分間加熱
し化学増感を施した後、安定剤として4−ヒドロキシ−
6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン35
0mgおよび防腐剤としてプロキセルを加えた。得られた
粒子は平均粒子サイズ0.30μm 、塩化銀含有率70
モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数9
%)。
(Preparation of Redox Compound Content Emulsion)
1.0 M silver nitrate aqueous solution and 3 × 10 −7 per mole of silver
An aqueous solution of a halogen salt containing 0.3 M potassium bromide and 0.74 M sodium chloride containing (NH 4 ) 3 RhCl 6 in an amount of 0.08 M sodium chloride and 0.002%
Was added to a 2% aqueous gelatin solution containing 1,3-dimethyl-2-imidazolinethione at 45 ° C. for 30 minutes with stirring by a double jet method to give an average particle size of 0.1%.
Silver chlorobromide grains having a thickness of 30 μm and a silver chloride content of 70 mol% were obtained. Thereafter, a conversion was performed by adding a KI solution of 1 × 10 −3 mol per mol of silver, followed by washing with water by a flocculation method according to a conventional method, and a gelatin solution per mol of silver.
0 g, adjusted to pH 6.0 and pAg 7.6, and further added 7 mg of sodium benzenethiosulfonate, 2 mg of benzenesulfinic acid, 8 mg of chloroauric acid and 5 mg of sodium thiosulfate per mole of silver, and heated at 60 ° C. for 60 minutes. After chemical sensitization, 4-hydroxy-
6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene 35
0 mg and proxel as preservative were added. The obtained grains had an average grain size of 0.30 μm and a silver chloride content of 70.
Mol% of silver chlorobromide cubic grains. (Coefficient of variation 9
%).

【0090】こうして得られた乳剤に、それぞれ増感色
素として銀1モルあたり5×10-4モルの5−〔3−
(4−スルホブチル)−5−クロロ−2−ベンゾオキサ
ゾリジリデン〕エチリデン−1−ヒドロキシエトキシエ
チル−3−(2−ピリジル)−2−チオヒダントインカ
リウム塩を加え、さらに下記構造式(J)で表される染
料を10mg/m2、ポリエチルアクリレートの分散物(2
50mg/m2)、さらに下記のレドックス化合物(R−
1)を表3に示すように添加した。
The emulsion thus obtained was added as a sensitizing dye to 5 × 10 -4 mol of 5- [3-
(4-sulfobutyl) -5-chloro-2-benzooxazolidylidene] ethylidene-1-hydroxyethoxyethyl-3- (2-pyridyl) -2-thiohydantoin potassium salt, and the following structural formula (J) 10 mg / m 2 of a dye represented by
50 mg / m 2 ) and the following redox compound (R-
1) was added as shown in Table 3.

【0091】[0091]

【化36】 Embedded image

【0092】(中間層塗布液の調製)ゼラチン溶液に、
エタンチオスルホン酸ナトリウムを5mg/m2、(K)で
表される染料を100mg/m2、ハイドロキノンを100
mg/m2、(L)で表されるトリオール化合物を50mg/
m2、ポリエチルアクリレートの分散物を350mg/m2
加し、中間層塗布液を調製した。
(Preparation of Coating Solution for Intermediate Layer)
5 mg / m 2 of sodium ethanethiosulfonate, 100 mg / m 2 of the dye represented by (K) and 100 mg of hydroquinone
mg / m 2 , the triol compound represented by (L)
350 mg / m 2 of a dispersion of m 2 and polyethyl acrylate was added to prepare an intermediate layer coating solution.

【0093】[0093]

【化37】 Embedded image

【0094】そして、ゼラチンを下塗りしたポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上にビス(ビニルスルホニ
ル)メタン40mg/m2を含んだゼラチン0.3g/m2
層を最下層に、画像形成層(Ag3.4g/m2、ゼラチ
ン1.6g/m2)、中間層(ゼラチン1.0g/m2)を
介して、レドックス化合物を含む層(Ag0.2g/
m2、ゼラチン0.2g/m2)、さらにこの上に保護層と
してゼラチン0.2g/m2、平均粒子サイズ約3.5μ
の不定形なSiO2マット剤60mg/m2、メタノールシリカ
0.1g/m2、流動パラフィン50mg/m2、塗布助剤と
して下記構造式(F)で表されるフッ素界面活性剤5mg
/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム20mg/
m2を塗布し、
Then, an image forming layer (Ag 3.4 g / m 2 ) containing a 0.3 g / m 2 layer of gelatin containing 40 mg / m 2 of bis (vinylsulfonyl) methane as the lowermost layer on a polyethylene terephthalate film undercoated with gelatin. 2 , gelatin 1.6 g / m 2 ) and a layer containing a redox compound (Ag 0.2 g / m 2 ) via an intermediate layer (gelatin 1.0 g / m 2 ).
m 2 , gelatin 0.2 g / m 2 ), further thereon gelatin 0.2 g / m 2 as a protective layer, average particle size of about 3.5 μm
Amorphous SiO 2 matting agent 60 mg / m 2 , methanol silica 0.1 g / m 2 , liquid paraffin 50 mg / m 2 , 5 mg of a fluorine surfactant represented by the following structural formula (F) as a coating aid
/ M 2 and sodium dodecylbenzenesulfonate 20 mg /
m 2

【0095】[0095]

【化38】 Embedded image

【0096】またバック層は、次に示す処方にて塗布し
た。 (バック層処方) ゼラチン 3.2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 40mg/m2 ゼラチン硬化剤 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロ パノール 200mg/m2 染料 下記染料(M)、(H)、(I)、(J)の混合物 染料(M) 20mg/m2 染料(H) 50mg/m2 染料(I) 20mg/m2 染料(J) 30mg/m2 プロキセル 4mg/m2
The back layer was applied according to the following formulation. (Back layer formulation) Gelatin 3.2 g / m 2 Surfactant Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 40 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 40 mg / m 2 Gelatin hardener 1,3-divinylsulfonyl-2 -Propanol 200 mg / m 2 dye A mixture of the following dyes (M), (H), (I) and (J) Dye (M) 20 mg / m 2 Dye (H) 50 mg / m 2 Dye (I) 20 mg / m 2 Dye (J) 30 mg / m 2 Proxel 4 mg / m 2

【0097】[0097]

【化39】 Embedded image

【0098】 (バック保護層) ゼラチン 1.3g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径2.5μ) 20mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 60mg/m2 (Back protective layer) Gelatin 1.3 g / m 2 Polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 2.5 μ) 20 mg / m 2 Sodium p-dodecylbenzenesulfonate 15 mg / m 2 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium Salt 15 mg / m 2 Sodium acetate 60 mg / m 2

【0099】(評価)これらの試料を、3200°Kの
タングステン光で光学クサビおよびコンタクトスクリー
ン(富士フイルム、150Lチェーンドット型)を通し
て露光後、前記処方の現像液でFG−710F自動現像
機(富士写真フイルム株式会社製)を用いて34℃3
0″処理を行った。定着液は、GR−F1(富士写真フ
イルム株式会社製)を用いた。
(Evaluation) These samples were exposed to tungsten light at 3200 ° K through an optical wedge and a contact screen (Fuji Film, 150 L chain dot type), and then the FG-710F automatic developing machine (Fuji 34 ° C3 using Photo Film Co., Ltd.
0 "processing was performed. As a fixing solution, GR-F1 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used.

【0100】評価は、以下の方法で行った。写真性能1
は、前記処方の現像液でFG−710F自動現像機(富
士写真フイルム株式会社製)を用いて34℃30秒処理
を行った結果である。定着液にはGR−F1(富士写真
フイルム株式会社製)を用いた。感度、Dmaxを実施例1
と同様に数値化した。また、網階調は次式で表わした。 * 網階調=95%の網点面積率を与え露光量(log E95
%)−5%の網点面積率を与える露光量(log E5%) 写真性能2は、経時疲労した現像液のシミュレーション
として、上記処方の現像液に対して、亜硫酸カリウムを
3分の1、pHを0.2あげた処方の現像液を用い、写
真性能1と同様に感度、Dmaxをとった。
The evaluation was performed by the following method. Photo Performance 1
Shows the results obtained by performing a treatment at 34 ° C. for 30 seconds using an FG-710F automatic developing machine (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with the developer having the above formulation. GR-F1 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as the fixing solution. Example 1 for sensitivity and Dmax
It was digitized in the same way as. The halftone was represented by the following equation. * Halftone = 95% halftone dot area ratio gives the exposure (log E95
%) -5% Exposure to give halftone dot area ratio (log E5%) Photographic performance 2 is a simulation of a developer that has been fatigued over time. The sensitivity and Dmax were measured in the same manner as in photographic performance 1, using a developer having a formulation with a pH raised by 0.2.

【0101】結果を表2に示した。The results are shown in Table 2.

【0102】[0102]

【表2】 [Table 2]

【0103】サンプルA、B、Cからわかるように、レ
ドックス化合物を導入すると網階調は著しく広くなるが
経時疲労液でDmaxが低下し、実用上好ましくない。公知
のヒドラジン誘導体を併用してもDmaxは改良されない
が、本発明のヒドラジン誘導体を併用することにより疲
労液でもDmaxが4.0以上となる。またその時、網階調
も1.4以上を保っている。本発明の構成により、広い
網階調を持ち処理液組成依存性の小さい感材が提供でき
るようになった。
As can be seen from Samples A, B and C, when a redox compound is introduced, the halftone gradation is remarkably widened, but Dmax is lowered by a fatigue liquid over time, which is not practically preferable. Dmax is not improved by using a known hydrazine derivative in combination, but by using the hydrazine derivative of the present invention in combination, Dmax becomes 4.0 or more even in a fatigue fluid. At that time, the halftone tone is also kept at 1.4 or more. According to the configuration of the present invention, it is possible to provide a photosensitive material having a wide halftone and a small dependence on the composition of the processing solution.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03C 1/06 501 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03C 1/06 501

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化
銀乳剤層を有し、該乳剤層またその他の親水性コロイ
ド層に一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体の少な
くとも一種を含有したハロゲン化銀写真感光材料におい
て、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層に一般式
(N)で表わされるヒドラジン誘導体の少なくとも一種
を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。 一般式(1) 【化1】 式中、X1 はアルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基
またはアルキルチオ基を表わす。Y1 はアルコキシ基、
アリーロキシ基アルキルチオ基またはアリールチオ基
を表わし、R1 はアルキレン基を表わす。 一般式(N) 【化3】 式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、ヒドラジノ基、ルバモイ
ル基又はオキシカルボニル基を表わし、G1 は-CO-基、
-SO2- 基、-SO-基、-PO(R2)-基、-CO-CO- 基、チオカル
ボニル基又はイミノメチレン基を表わし、A1 、A2
ともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換も
しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無
置換のアシル基を表わす。
[Claim 1 further comprising at least one silver halide emulsion layer on a support, a halogen containing at least one hydrazine derivative represented by the general formula (1) or emulsion layers and other hydrophilic colloid layers A silver halide photographic light-sensitive material, characterized in that the emulsion layer or another hydrophilic colloid layer contains at least one hydrazine derivative represented by the formula (N). General formula (1) In the formula, X 1 represents an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group or an alkylthio group. Y 1 is an alkoxy group,
Represents an aryloxy group , an alkylthio group or an arylthio group, and R 1 represents an alkylene group. General formula (N) In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a hydrazino group, mosquitoes Rubamoi <br/> group or Represents an oxycarbonyl group, G 1 is a —CO— group,
A -SO 2 -group, -SO- group, -PO (R 2 )-group, -CO-CO- group, thiocarbonyl group or iminomethylene group, wherein A 1 and A 2 are both hydrogen atoms or one of them is hydrogen. The other atom is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
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