JP3178152B2 - Semiconductor laser device - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、レーザーダイオード
素子を樹脂封止して形成したモールドタイプの半導体レ
ーザー装置に関し、特にレーザーの照射に伴う照射位置
の変位を防止した半導体レーザー装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser device of a mold type in which a laser diode element is formed by resin sealing, and more particularly to a semiconductor laser device in which the irradiation position is prevented from being displaced by laser irradiation.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の半導体レーザー装置として、図6
に示すような、レーザーダイオード素子1をステム61
の放熱体62に半田付けし、ガラス窓64付のキャップ
63を溶接したキャンタイプのものが知られている。図
7に、この半導体レーザー装置の正面図(a)および
(a)をb−bでカットした断面図(b)を示してあ
る。この半導体レーザー装置においては、ステム61か
ら上方に突出した放熱体62に、放熱板としての役割も
果たすサブマウント層たるフォトダイオード23を介し
てレーザーダイオード素子1が取り付けられている。そ
して、放熱体62に取り付けられたレーザーダイオード
素子1を覆い、保護するように窓付のキャップ63がス
テム61に取付けられている。そして、これら放熱体6
2、フォトダイオード23の位置は、図7(a)に示す
ように、正面から見て円形の窓64の中心、すなわち、
図面での水平方向(放熱体62の主面に垂直方向)の中
心線25(以後、X軸方向)および垂直方向(放熱体6
2の主面に水平方向)の中心線26(以後、Y方向)の
交点27にレーザーダイオード素子1が設置されれるよ
うに調整されている。2. Description of the Related Art As a conventional semiconductor laser device, FIG.
The laser diode element 1 as shown in FIG.
A can type is known in which a cap 63 with a glass window 64 is welded to a heat radiator 62 by soldering. FIG. 7 shows a front view (a) of the semiconductor laser device and a sectional view (b) of (a) cut along line bb. In this semiconductor laser device, a laser diode element 1 is attached to a radiator 62 projecting upward from a stem 61 via a photodiode 23 which is a submount layer that also functions as a radiator plate. A cap 63 with a window is attached to the stem 61 so as to cover and protect the laser diode element 1 attached to the radiator 62. And these radiators 6
2. The position of the photodiode 23 is, as shown in FIG. 7A, the center of the circular window 64 when viewed from the front, that is,
The center line 25 (hereinafter, the X-axis direction) in the horizontal direction (perpendicular to the main surface of the radiator 62) and the vertical direction (radiator 6)
The laser diode element 1 is adjusted so that the laser diode element 1 is installed at an intersection 27 of a center line 26 (hereinafter, Y direction) of the main surface of the laser diode 2 (in the horizontal direction).
【0003】これに対し、近年、上記のキャンタイプに
比べ、製造コストが低く、形状の自由度の大きな半導体
レーザー装置である樹脂封止タイプ(モールドタイプ)
のものが開発されている。このモールドタイプの半導体
レーザー装置については、特開平2−125687号公
報を参照されたい。そこには以下に説明するような構造
が採用されている。この半導体レーザー装置は、図8の
斜視図に示すように、レーザーダイオード素子1をサブ
マウント層23の上に取り付け、周囲を透明なエポキシ
樹脂等の封止樹脂層11で封止したものであり、リード
フレーム20、金ワイヤー21を介して操作される。樹
脂封止タイプの装置は、LEDなどの単位面積当たりの
光密度が低い発光デバイスとしては従来から知られてい
るものである。On the other hand, in recent years, compared with the above-mentioned can type, a resin-sealed type (mold type) which is a semiconductor laser device having a lower manufacturing cost and a greater degree of freedom in shape.
Things are being developed. For the mold type semiconductor laser device, refer to JP-A-2-125687. The structure described below is employed therein. In this semiconductor laser device, as shown in a perspective view of FIG. 8, a laser diode element 1 is mounted on a submount layer 23, and the periphery is sealed with a sealing resin layer 11 such as a transparent epoxy resin. , The lead frame 20 and the gold wire 21. A resin-sealed type device is conventionally known as a light-emitting device having a low light density per unit area, such as an LED.
【0004】このような樹脂封止タイプの装置は製造コ
スト、形状の自由度という面で優れているタイプの装置
であり、また、光密度の高いレーザーダイオード素子に
採用する場合においても、端面破壊防止層を形成するこ
とにより、光損傷に伴う特性の劣化を防止することが可
能である。端面破壊防止層の形成されたレーザー装置に
ついては、本出願人により出願された特願平2−302
258に詳しいが、その一例を、図9ないし11に示し
てある。本図に示したレーザーダイオード素子1は、D
H構造(ダブルヘテロ接合構造)のレーザーダイオード
素子1であり、n型のGaAs基板2の上に、AlGa
As(アルミニウム−ガリウム−砒素)からなるn型ク
ラッド層3、活性層4、p型クラッド層5、及びGaA
s(ガリウム−砒素)からなるp型キャップ層6を積層
し、更にp型キャップ層6の開口部の表面側に選択的に
電極7を被着する一方、GaAs基板2の裏面側に背面
電極8を被着している。そして、レーザー光の照射され
る発光端面9に、レーザー光の波長帯において光の吸収
係数が低く、耐熱性の高い有機樹脂による端面破壊防止
層10を備えるようにしている。[0004] Such a resin-sealed type device is a type of device excellent in terms of manufacturing cost and freedom of shape. In addition, even when it is applied to a laser diode element having a high light density, the end face is destroyed. By forming the prevention layer, it is possible to prevent deterioration of characteristics due to optical damage. Regarding a laser device having an end surface destruction prevention layer formed thereon, Japanese Patent Application No. 2-302 filed by the present applicant has been disclosed.
258, an example of which is shown in FIGS. The laser diode element 1 shown in FIG.
An H structure (double heterojunction structure) laser diode element 1 having an n-type GaAs substrate 2 and an AlGa
N-type cladding layer 3 made of As (aluminum-gallium-arsenic), active layer 4, p-type cladding layer 5, and GaAs
A p-type cap layer 6 made of s (gallium-arsenic) is laminated, and an electrode 7 is selectively deposited on the surface side of the opening of the p-type cap layer 6, while a back electrode is formed on the back side of the GaAs substrate 2. 8 is attached. The light emitting end face 9 irradiated with the laser light is provided with an end face destruction prevention layer 10 made of an organic resin having a low light absorption coefficient and high heat resistance in the wavelength band of the laser light.
【0005】そして、図11に示すように、このレーザ
ーダイオード素子1が、3本のリードフレーム20のう
ち中央部のリードフレームの先端側に、サブマウント層
および放熱板として用いるフォトダイオード23を介し
て固着され、このフォトダイオード23およびp型キャ
ップ層6から金ワイヤ21などのボンディングワイヤが
各リードフレーム20に配線されている。さらに、これ
らリードフレーム20に固定されたレーザーダイオード
素子1等の周囲を透明なエポキシ樹脂など封止樹脂11
により封止し、半導体レーザー装置が形成されている。
このように、端面破壊防止層10の形成されたレーザー
ダイオード素子1を用いたモールドタイプの半導体レー
ザー装置により、低価格でありながら耐久性に優れた半
導体レーザー装置が実現されている。Then, as shown in FIG. 11, the laser diode element 1 is disposed on the leading end side of the lead frame at the center of the three lead frames 20 via a submount layer and a photodiode 23 used as a heat sink. A bonding wire such as a gold wire 21 is wired to each lead frame 20 from the photodiode 23 and the p-type cap layer 6. Further, the periphery of the laser diode element 1 and the like fixed to the lead frame 20 is sealed with a sealing resin 11 such as a transparent epoxy resin.
And a semiconductor laser device is formed.
As described above, a mold-type semiconductor laser device using the laser diode element 1 on which the end surface breakdown prevention layer 10 is formed realizes a semiconductor laser device which is inexpensive and has excellent durability.
【0006】このようなモールドタイプの半導体レーザ
ー装置において、図12(正面から見た断面を(a),
(a)のb−b断面を(b))に示すように、レーザー
ダイオード素子1の位置は、キャンタイプと同様に、モ
ールド樹脂層11の略中央、すなわち、X軸とY軸との
交点27に設置されている。リードフレーム20のセン
ター位置28は、レーザーダイオード素子1の厚み、フ
ォトダイオード23、およびリードフレーム20の厚み
からモールド樹脂層11の中心27と距離ΔXoff のオ
フセット29を備えている。[0006] In such a mold type semiconductor laser device, FIG.
As shown in (b)), the position of the laser diode element 1 is substantially at the center of the mold resin layer 11, that is, at the intersection of the X axis and the Y axis, as in the can type. 27. The center position 28 of the lead frame 20 has an offset 29 of a distance ΔX off from the center 27 of the mold resin layer 11 from the thickness of the laser diode element 1, the photodiode 23, and the thickness of the lead frame 20.
【0007】これら半導体レーザー装置は、各種の光シ
ステムに組み込まれて使用される。例えば光ディスク用
ピックアップの場合を図13(a)光ディスク用ピック
アップの光学系概念図に示す。光源であるレーザーダイ
オード素子1からのビームは回析格子51を通過後ハー
フミラー52で反射して向きを90°変え、対物レンズ
53を経てディスク54面上に集光される。ビームは回
析格子51の通過でメインビームとサブビームに分離さ
れる。サブビームはトラッキングサーボに使用される。
ディスク54からの反射光は再び同じ対物レンズ53を
通りハーフミラー52を通過して光検出器55に入射し
て電気信号に変換される。光検出器55内は図13
(b)に示すようにA〜Fの6個のフォトダイオードで
構成され、メインビームは中央のA〜Dの4分割フォト
ダイオードに入射する。ビームはハーフミラー52を通
過時に非点収差が生じており、メインビーム形状はフォ
トダイオードの位置により図13(b)の点線に示すよ
うに変化する。[0007] These semiconductor laser devices are used by being incorporated in various optical systems. For example, the case of an optical disk pickup is shown in the optical system conceptual diagram of FIG. The beam from the laser diode element 1 as a light source passes through a diffraction grating 51, is reflected by a half mirror 52, changes its direction by 90 °, and is condensed on the surface of a disk 54 via an objective lens 53. The beam is separated into a main beam and a sub beam by passing through the diffraction grating 51. The sub beam is used for tracking servo.
The reflected light from the disk 54 passes through the same objective lens 53 again, passes through the half mirror 52, enters the photodetector 55, and is converted into an electric signal. FIG. 13 shows the inside of the photodetector 55.
As shown in (b), the photodiode is composed of six photodiodes A to F, and the main beam is incident on the four photodiodes A to D at the center. The beam undergoes astigmatism when passing through the half mirror 52, and the shape of the main beam changes as shown by the dotted line in FIG. 13B depending on the position of the photodiode.
【0008】中央の4個のフォトダイオードの出力を
A、B、C、Dとすると、(A+C)−(B+D)を0
にするようにフォーカシングサーボ機構により対物レン
ズ53の位置が調整される。尚後述するフォトダイオー
ド上でのビームの重心とは、次のように定義される。 〔X、Y〕=〔((A+B)-(C+D))/(A+B+C+D) 、/((A+D)-(B+C))/(A+B+C+D) 〕Assuming that the outputs of the four central photodiodes are A, B, C, and D, (A + C)-(B + D) is 0.
The position of the objective lens 53 is adjusted by the focusing servo mechanism so that The center of gravity of a beam on a photodiode, which will be described later, is defined as follows. [X, Y] = [((A + B)-(C + D)) / (A + B + C + D), / ((A + D)-(B + C)) / (A + B + C + D))
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】このようなモールドタ
イプの半導体レーザー装置において、近年問題となって
いることに、レーザー装置を連続動作させた場合や使用
環境温度を変えた場合に、レーザー光が装置外部に照射
される原点である発光点が変位することがある。図14
にその様子を示してある。本図は、上述したようなモー
ルドタイプの半導体レーザー装置を室温下で、動作電流
50mAで動作させた時のX方向(リードフレーム面に
垂直な方向)の変位量を動作時間に対して示した図であ
る。本図にて判るように、レーザー点灯後、約2分間で
発光点が−X方向(X方向において、レーザーダイオー
ド側を+、リードフレーム側を−)、すなわちリードフ
レーム20側に0.5μm変位し、消灯後約2分間で点
灯前の位置に戻る。またこの半導体レーザー装置を前述
の光ピックアップに組み込んだ場合、フォトダイオード
上でのビームの重心が半導体レーザー装置の点灯または
環境温度の変化により大きく変動することが判明した。In such a mold type semiconductor laser device, a problem that has recently been raised is that when the laser device is operated continuously or when the operating environment temperature is changed, the laser light is emitted. The light emitting point which is the origin irradiated to the outside of the device may be displaced. FIG.
Shows the situation. This figure shows the amount of displacement in the X direction (the direction perpendicular to the lead frame surface) with respect to the operation time when the above-described mold type semiconductor laser device is operated at room temperature and with an operation current of 50 mA. FIG. As can be seen from this figure, the light-emitting point is displaced by 0.5 μm in the −X direction (+ in the X direction in the laser diode side and − in the lead frame side), that is, in the lead frame 20, in about 2 minutes after the laser is turned on. Then, the lamp returns to the position before lighting in about 2 minutes after the light is turned off. Further, when this semiconductor laser device was incorporated in the above-mentioned optical pickup, it was found that the center of gravity of the beam on the photodiode fluctuated greatly due to the lighting of the semiconductor laser device or a change in environmental temperature.
【0010】例えば−10〜60℃の環境下で光出力3
mWで実験した場合フォトダオード上でのビームの重心
は最大10μm以上の変動を示した。このように、多く
の優れた面を備えているモールドタイプの半導体レーザ
ー装置において、発光点の精度においても、キャンタイ
プのレーザー装置と同等の性能を得るためには、発光点
の変位を抑制することが重要である。For example, in an environment of -10 to 60 ° C., light output 3
When the experiment was conducted at mW, the center of gravity of the beam on the photo diode showed a fluctuation of 10 μm or more at the maximum. Thus, in the mold type semiconductor laser device having many excellent surfaces, the displacement of the light emitting point is suppressed in order to obtain the same performance as the can type laser device in terms of the accuracy of the light emitting point. This is very important.
【0011】図15に、例えば、半導体レーザー装置を
コンパクトディスクに用いた場合に、動作中の発光点の
変位が及ぼす影響についてシミュレートしたモデルを示
してある。図中左端のレーザーダイオードLD1から距
離d1にある凸レンズ79を経て、ディスク73に反射
したレーザー光を再び凸レンズ80を経てフォトダイオ
ードFD69に収束させる1次元系にてシミュレーショ
ンを行った。この際、この1次元系を2重フーリエ変換
光学系として扱い、フレネルの回折公式よりレーザーダ
イオード素子1における光強度分布U1が中心ΔX,幅
2μm の矩形状であるときの、凸レンズ79における光
強度分布U2、ディスク面73における光強度分布U
3、凸レンズ80における複素振幅U4、さらに、フォ
トダイオード69における光強度分布U5+Δを求め
た。ΔXは、レーザーダイオードの発光点変位量に対応
する。例えば前記計算パラメータを表1に示した場合の
結果を図16、に示す。FIG. 15 shows a model simulating the effect of displacement of a light emitting point during operation when a semiconductor laser device is used for a compact disk, for example. The simulation was performed using a one-dimensional system in which the laser beam reflected by the disk 73 via the convex lens 79 located at the distance d1 from the laser diode LD1 at the left end in the drawing was again converged on the photodiode FD69 via the convex lens 80. At this time, this one-dimensional system is treated as a double Fourier transform optical system, and the light intensity at the convex lens 79 when the light intensity distribution U1 in the laser diode element 1 is a rectangular shape having a center ΔX and a width of 2 μm according to the Fresnel diffraction formula. Distribution U2, light intensity distribution U on the disk surface 73
3. The complex amplitude U4 of the convex lens 80 and the light intensity distribution U5 + Δ of the photodiode 69 were obtained. ΔX corresponds to the displacement of the light emitting point of the laser diode. For example, FIG. 16 shows a result when the calculation parameters are shown in Table 1.
【0012】図16(a)は発光点の変位ΔXが0のと
き、図16(b)はΔXが1μm のときの各光強度分布
U1,U2,U3,U4,U5+Δを示す。また、フォ
トダイオード上での光強度分布(U5+Δ)からフォト
ダイオード上でのビームスポット重心が計算でき、例え
ば、発光点の変位量ΔXが1μm のとき、フォトダイオ
ード上でのビームスポット重心の移動量は−7.9μm
になる。また、異なるΔXでも同様の計算を行い、発光
点の変位量とフォトダイオード上でのビームスポット重
心の移動量の関係を求めた(図17)。つまり、このピ
ックアップ光学系においては、発光点の変位量ΔXは、
フォトダイオード上では7.9倍に拡大されていること
になる。この値を半導体レーザー素子とこのフォトダイ
オード間の結合倍率Mと定義する。結合倍率Mは光ピッ
クアップ装置の半導体レーザー素子の発光点と信号検出
用多分割フォトダイオード間のレンズ系倍率および光学
距離により決定される。従って、結合倍率Mは光ピック
アップの構成により異なる値をとる。FIG. 16A shows the light intensity distributions U1, U2, U3, U4, U5 + Δ when the displacement ΔX of the light emitting point is 0, and FIG. 16B shows the displacement when ΔX is 1 μm. Further, the center of the beam spot on the photodiode can be calculated from the light intensity distribution (U5 + Δ) on the photodiode. For example, when the displacement ΔX of the light emitting point is 1 μm, the amount of movement of the center of the beam spot on the photodiode is calculated. Is -7.9 μm
become. Similar calculations were also performed for different ΔX, and the relationship between the displacement of the light emitting point and the displacement of the center of gravity of the beam spot on the photodiode was determined (FIG. 17). That is, in this pickup optical system, the displacement ΔX of the light emitting point is
On the photodiode, it is enlarged by 7.9 times. This value is defined as a coupling magnification M between the semiconductor laser element and the photodiode. The coupling magnification M is determined by the magnification of the lens system and the optical distance between the light emitting point of the semiconductor laser element of the optical pickup device and the multi-division photodiode for signal detection. Therefore, the coupling magnification M takes a different value depending on the configuration of the optical pickup.
【0013】 ΔX 1.0μm d1 25.0mm f 3.9mm 記号は図15参照 d2 4.6mm レンズ径 4.0mm Δ 0.3mm 従来のモールドタイプの半導体レーザー装置では、この
フォトダイオード69上でのビームスポットの変動量が
許容値以上になるため、発光点の変位を調整する機構、
あるいはビームスポットの重心を追従可能な機構が必要
となる。このように、従来のモールドタイプの半導体レ
ーザー装置は低価格で、種々の形状のものが容易に製作
可能であるが、発光点の精度が要求される装置に使用す
る場合は、その精度によって余分な機構が必要となるた
め、モールドタイプの利点を活かすことが困難であっ
た。ΔX 1.0 μm d1 25.0 mm f 3.9 mm Symbol: see FIG. 15 d2 4.6 mm Lens diameter 4.0 mm Δ0.3 mm In the conventional mold type semiconductor laser device, A mechanism for adjusting the displacement of the light emitting point because the variation amount of the beam spot is equal to or larger than the allowable value,
Alternatively, a mechanism that can follow the center of gravity of the beam spot is required. As described above, the conventional mold-type semiconductor laser device is inexpensive and can be easily manufactured in various shapes. However, when used in a device that requires the accuracy of the light emitting point, extra accuracy is required depending on the accuracy. Therefore, it is difficult to utilize the advantages of the mold type.
【0014】この発明は前記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的はモールドタイプでありながら、
発光点の変位が少なく、その儘コンパクトディスクのピ
ックアップ部の光学系などの精度を必要とする装置に用
いることが可能な半導体レーザー装置を提供することに
ある。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to provide a mold type.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor laser device which has a small displacement of a light emitting point and can be used as it is in a device requiring high precision such as an optical system of a pickup section of a compact disc.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明によれば、レーザー光を外部に出射可能な
前方出射端面を少なくとも具備するレーザーダイオード
素子を支持基板を介して平板状の主要部面上に支持・制
御するリードフレームと、前記レーザー光の透過可能な
樹脂により少なくとも前記レーザーダイオード素子を前
記リードフレーム上に封止する封止樹脂層とを有する半
導体レーザー装置において;前記リードフレームに前記
前方出射端面と平行な前記主要部断面を想定し、さらに
このリードフレーム断面の長手方向を水平方向とし、そ
の断面の中心を規定する水平中心線と垂直方向の中心を
規定する垂直中心線とを想定した場合に、前記封止樹脂
層は前記リードフレーム断面内の水平中心線部分および
前記垂直中心線に対し対称に形成された対称型樹脂層で
あるものとする。According to the present invention, a laser diode element having at least a front emission end face capable of emitting laser light to the outside is formed in a flat plate-like shape via a support substrate. A semiconductor laser device having a lead frame supported and controlled on a main part surface of the semiconductor laser, and a sealing resin layer for sealing at least the laser diode element on the lead frame with the resin capable of transmitting the laser light; Assuming the main frame section parallel to the front emission end face in the lead frame, further defining the longitudinal direction of the cross section of the lead frame as a horizontal direction, a horizontal center line defining the center of the cross section, and a vertical axis defining a vertical center. When assuming a center line, the sealing resin layer is aligned with the horizontal center line portion and the vertical center line in the cross section of the lead frame. It was assumed to be symmetric resin layer formed symmetrically.
【0016】また、本発明によれば、レーザー光を外部
に出射可能な前方出射端面を少なくとも具備するレーザ
ーダイオード素子を支持基板を介して平板状の主要部面
上に支持・制御するリードフレームと、前記レーザー光
の透過可能な樹脂により少なくとも前記レーザーダイオ
ード素子を前記リードフレーム上に封止する封止樹脂層
とを有する半導体レーザー装置において;前記リードフ
レームに前記前方出射端面と平行な前記主要部断面を想
定し、さらにこのリードフレーム断面の長手方向を水平
方向とし、その断面の中心を規定する水平中心線と垂直
方向の中心を規定する垂直中心線とを想定した場合に、
前記封止樹脂層は前記水平中心線および前記垂直中心線
に対し対称に形成されており;前記封止樹脂層は、前記
リードフレームを対称の中心として形成された対称型樹
脂層であるものとする。Further, according to the present invention, there is provided a lead frame for supporting and controlling a laser diode element having at least a front emission end face capable of emitting laser light to the outside on a flat main surface via a support substrate. A sealing resin layer for sealing at least the laser diode element on the lead frame with the resin capable of transmitting the laser beam; the main part being parallel to the front emission end face of the lead frame. Assuming a cross-section, furthermore, assuming that the longitudinal direction of this lead frame cross-section is a horizontal direction, and a horizontal center line defining the center of the cross-section and a vertical center line defining a vertical center,
The sealing resin layer is formed symmetrically with respect to the horizontal center line and the vertical center line; the sealing resin layer is a symmetrical resin layer formed with the lead frame as a center of symmetry. I do.
【0017】また、本発明によれば、レーザー光を外部
に出射可能な前方出射端面を少なくとも具備するレーザ
ーダイオード素子を支持基板を介して平板状の主要部面
上に支持・制御するリードフレームと、前記レーザー光
の透過可能な樹脂により少なくとも前記レーザーダイオ
ード素子を前記リードフレーム上に封止する封止樹脂層
とを有する半導体レーザー装置において;外部基板へ装
着するリードフレーム部分を封止樹脂から露出させたも
のであり、前記レーザーダイオード素子の装着された素
子装着面側と対峙する側の部分のリードフレーム面を外
部基板への基板装着面とするために封止樹脂から露出さ
せ、半導体レーザー装置を前記外部基板に固定する手段
を有するものとする。ここで、半導体レーザー装置を前
記外部基板に固定する手段として封止樹脂から露出され
たリードフレーム部分に貫通穴が設けられていることが
良い。また、半導体レーザー装置を前記外部基板に固定
する手段が接着剤であることが良い。半導体レーザー装
置を前記外部基板に固定する手段が前記貫通穴を通る接
続手段を有することが良い。Further, according to the present invention, there is provided a lead frame for supporting and controlling a laser diode element having at least a front emission end face capable of emitting laser light to the outside on a flat main surface via a support substrate. A sealing resin layer for sealing at least the laser diode element on the lead frame with the resin capable of transmitting the laser light; a lead frame portion to be mounted on an external substrate is exposed from the sealing resin. A semiconductor laser device that exposes the lead frame surface on the side opposite to the element mounting surface side on which the laser diode element is mounted to a substrate mounting surface to an external substrate from a sealing resin; Is fixed to the external substrate. Here, it is good that the penetrations holes are provided in Ridofure over arm portions that are exposed from the sealing resin as a means for fixing the semiconductor laser device to the external substrate. Preferably, the means for fixing the semiconductor laser device to the external substrate is an adhesive. Preferably, the means for fixing the semiconductor laser device to the external substrate has a connection means passing through the through hole.
【0018】[0018]
【作用】この発明の課題であるレーザーダイオード素子
からの発光点の変位については、種々の原因が考えられ
るが、これら発明者は、レーザーダイオード素子の動作
時における発熱に起因する封止樹脂の熱膨張に着目し
た。そして、封止樹脂との関係にて、最も封止樹脂の熱
膨張の影響を受けやすいリードフレームに対し、封止樹
脂の熱膨張に伴うリードフレームの変位を最小限とする
ことにより発光点の変位を抑制するようにしている。Various causes can be considered for the displacement of the light emitting point from the laser diode element, which is the subject of the present invention. However, these inventors disclose the heat of the sealing resin caused by the heat generated during the operation of the laser diode element. Attention was paid to expansion. In relation to the sealing resin, the displacement of the lead frame due to the thermal expansion of the sealing resin is minimized with respect to the lead frame most susceptible to the thermal expansion of the sealing resin. The displacement is suppressed.
【0019】先ず、封止樹脂層としてリードフレームを
対称の中心とした対称型樹脂層を用いることにより、リ
ードフレームの前後、左右からかかる封止樹脂層の熱膨
張による応力を均一化できる。従って、熱膨張に係る熱
応力の差に起因するリードフレームの歪み等が抑制可能
であり、結果としてレーザーダイオード素子の発光点の
変位を抑制することが可能である。First, by using a symmetrical resin layer with the lead frame as the center of symmetry as the sealing resin layer, it is possible to equalize the stress caused by the thermal expansion of the sealing resin layer from before, after, and right and left of the lead frame. Therefore, distortion or the like of the lead frame due to a difference in thermal stress due to thermal expansion can be suppressed, and as a result, displacement of a light emitting point of the laser diode element can be suppressed.
【0020】また、リードフレーム自体を、外部基板に
固定することによっても、封止樹脂層の熱膨張の影響を
排除して発光点変位を抑制することが可能である。この
ようなリードフレーム固定手段としては、リードフレー
ムの露出面を基板装着面として外部基板に固定すること
を採用することができる。そして、この基板装着面がリ
ードフレームの露出面である場合は、レーザーダイオー
ド素子の稼働中に発生する熱をこの基板装着面から外部
基板に発散することができるため、封止樹脂層の熱膨張
を緩和することが可能であり、さらに、封止樹脂層の影
響を少なくすることが可能となる。Also, by fixing the lead frame itself to the external substrate, it is possible to eliminate the influence of the thermal expansion of the sealing resin layer and suppress the light emitting point displacement. As such a lead frame fixing means, fixing the exposed surface of the lead frame to an external substrate as a substrate mounting surface can be adopted. When the substrate mounting surface is an exposed surface of the lead frame, heat generated during operation of the laser diode element can be radiated from the substrate mounting surface to the external substrate, so that the thermal expansion of the sealing resin layer Can be reduced, and the influence of the sealing resin layer can be reduced.
【0021】さらに、リードフレーム固定手段として、
封止樹脂から露出したリードフレームに形成された少な
くとも1つの貫通穴を少なくとも備える貫通固定手段を
用い、この固定穴から熱膨張係数の小さな固体、あるい
は液体状の結合手段によってリードフレームと外部基板
とを固定する場合もレーザーダイオードの発光点の変位
を抑制することが可能である。Further, as a lead frame fixing means,
Using a through-fixing means having at least one through-hole formed in the lead frame exposed from the sealing resin, and connecting the lead frame and the external substrate with a solid or liquid coupling means having a small coefficient of thermal expansion from this fixing hole. Is fixed, the displacement of the light emitting point of the laser diode can be suppressed.
【0022】また、封止樹脂の熱膨張係数から、リード
フレームの移動量が許容範囲に収まるように、封止樹脂
層の厚み、すなわち、外部基板等からの距離である離間
距離を設定することによっても、発光点の変位を抑制す
ることができる。Further, the thickness of the sealing resin layer, that is, the separation distance that is a distance from an external substrate or the like is set so that the amount of movement of the lead frame falls within an allowable range based on the thermal expansion coefficient of the sealing resin. Accordingly, the displacement of the light emitting point can be suppressed.
【0023】[0023]
図1に、実施例1に係る半導体レーザー装置((a)は
X軸25における断面図、(b)は(a)のb−b断面
図)の構成を示してある。本例の装置は、先に、図12
に基づき説明したモールドタイプの半導体レーザー装置
に適用した例であり、図10に示すような端面破壊防止
層10の形成されたレーザーダイオード素子1が、サブ
マウント層および放熱板として用いるフォトダイオード
23を介して、これらのレーザーダイオード素子1およ
びフォトダイオード23を支持制御するリードフレーム
20に固着されている。そして、これらリードフレーム
20に固定されたレーザーダイオード素子1等の周囲
が、透明なエポキシ樹脂など封止樹脂11により封止さ
れている。従って、従来の装置と共通する部分において
は、同じ符号を付して説明を省略する。FIG. 1 illustrates a configuration of a semiconductor laser device according to the first embodiment ((a) is a cross-sectional view along the X axis 25, and (b) is a bb cross-sectional view of (a)). The apparatus of the present example is described first with reference to FIG.
This is an example in which the present invention is applied to the mold type semiconductor laser device described based on FIG. 10, in which the laser diode element 1 having the end face destruction prevention layer 10 as shown in FIG. The laser diode element 1 and the photodiode 23 are fixed to a lead frame 20 that supports and controls the laser diode element 1 and the photodiode 23. The periphery of the laser diode element 1 and the like fixed to the lead frame 20 is sealed with a sealing resin 11 such as a transparent epoxy resin. Therefore, the same reference numerals are given to the portions common to the conventional device, and the description is omitted.
【0024】本実施例において着目すべき点は、封止樹
脂層11の水平方向(リードフレーム面に垂直)の中心
線25(以後、X軸方向)および垂直方向(リードフレ
ーム面に平行)の中心線26(以後、Y方向)の交点2
7と、リードフレーム20のセンター位置28が一致し
ていることである。すなわち、従来の装置において存在
した封止樹脂層11の中心27と、リードフレーム20
のセンター位置28とのオフセット29が存在していな
い。さらに、詳しく説明すると、レーザーダイオード素
子1の端面破壊防止層10の形成された前方出射端面と
平行なリードフレーム20の断面b−bにおいて、垂直
方向を規定するY軸26と、水平方向を規定するX軸2
5が、封止樹脂層11の水平,垂直の中心軸と一致し、
このX軸25およびY軸26を対称に、封止樹脂層11
が形成されている。従って、本例の装置においては、リ
ードフレーム20の前後左右に存在する封止樹脂層11
の厚みは、対称である。このため、レーザー発光時に生
ずる熱によるこれらの封止樹脂層11からリードフレー
ム20への熱応力が釣合い、相対的にキャンセルされ
る。従って、リードフレーム20の位置の変動は、リー
ドフレーム20およびリードフレーム20に固定された
フォトダイオード23、レーザーダイオード1の形状等
に起因するものに限定できる。このため、リードフレー
ム20の変動は、従来の装置と比較し大幅に低減できる
ので、リードフレーム20に固着されたレーザーダイオ
ード1からの発光点の変位も抑制可能となる。なお、リ
ードフレーム20のセンター位置28を封止樹脂層11
の中心27と一致させたため、レーザーダイオード1の
位置は、封止樹脂層11の中心27から外れることとな
る。In this embodiment, it should be noted that the sealing resin layer 11 has a horizontal (perpendicular to the lead frame surface) center line 25 (hereinafter referred to as the X-axis direction) and a vertical direction (parallel to the lead frame surface). Intersection 2 of center line 26 (hereinafter, Y direction)
7 and the center position 28 of the lead frame 20 match. That is, the center 27 of the sealing resin layer 11 existing in the conventional device and the lead frame 20
Offset 29 from the center position 28 does not exist. More specifically, in the section bb of the lead frame 20 parallel to the front emission end face on which the end face destruction prevention layer 10 of the laser diode element 1 is formed, the Y axis 26 defining the vertical direction and the horizontal direction are defined. X axis 2
5 coincides with the horizontal and vertical center axes of the sealing resin layer 11,
The X-axis 25 and the Y-axis 26 are symmetrically set so that the sealing resin layer 11
Are formed. Therefore, in the device of this example, the sealing resin layers 11 existing on the front, rear,
Are symmetric. Therefore, the thermal stress from the sealing resin layer 11 to the lead frame 20 due to the heat generated at the time of laser emission is balanced and relatively canceled. Therefore, the change in the position of the lead frame 20 can be limited to the change caused by the shape of the lead frame 20, the photodiode 23 fixed to the lead frame 20, the laser diode 1, and the like. For this reason, the fluctuation of the lead frame 20 can be greatly reduced as compared with the conventional device, and the displacement of the light emitting point from the laser diode 1 fixed to the lead frame 20 can be suppressed. Note that the center position 28 of the lead frame 20 is
, The position of the laser diode 1 is deviated from the center 27 of the sealing resin layer 11.
【0025】しかしながら、封止樹脂層11の光学的性
質は、中心27とその周囲とで変化はないため、出射さ
れるレーザーの性能に変化はない。なお、前述のよう
に、発光点変位がレーザー発光時に生ずる熱による樹脂
とリードフレームとの熱膨張係数差に起因するものであ
るから、ここでいう対称形の封止樹脂層は実質的にリー
ドフレームに影響を及ぼす範囲の樹脂層の形であればよ
い。 例えばリードフレームへの影響が小さいと考えら
れるところの樹脂の外形までも対称形と限定するもので
はない。However, since the optical properties of the sealing resin layer 11 do not change between the center 27 and the periphery thereof, the performance of the emitted laser does not change. As described above, since the displacement of the light emitting point is caused by the difference in the thermal expansion coefficient between the resin and the lead frame due to the heat generated during the laser emission, the symmetrical sealing resin layer referred to here substantially corresponds to the lead. The shape of the resin layer may be in a range that affects the frame. For example, the outer shape of the resin, which is considered to have little effect on the lead frame, is not limited to the symmetrical shape.
【0026】図2に、本例の装置を用いてレーザー発光
点の変位を測定した結果を、従来のものと比較しながら
示してある。この測定においては、従来と同様に、本例
の半導体レーザー装置を室温下で、動作電流50mAで
動作させ、X方向の変位量を動作時間に対して示した。
本図にて判るように、従来の装置においては、レーザー
点灯後、約2分間で発光点が−X方向、すなわち、リー
ドフレーム20側に0.5μm変位しているが、本例の
装置においては、殆ど発光点の変位は見られず、0.0
5μm以下に収まっている。従って、本例の装置のよう
に、リードフレーム20のセンター位置28を封止樹脂
層11の中心27と一致させることにより、発光点の変
位が抑えられる。この実施例の素子を光ピックアップに
用いた場合は、図16(a)の例に示すように、フォト
ダイオード上でのビームスポットの移動が抑えられる。FIG. 2 shows the result of measuring the displacement of the laser emission point using the apparatus of this embodiment, in comparison with the conventional apparatus. In this measurement, as in the conventional case, the semiconductor laser device of this example was operated at room temperature at an operation current of 50 mA, and the displacement amount in the X direction was shown with respect to the operation time.
As can be seen from this figure, in the conventional device, the light emitting point is displaced by 0.5 μm in the −X direction, that is, toward the lead frame 20 side, in about 2 minutes after the laser is turned on. Shows almost no displacement of the light emitting point,
It is within 5 μm. Therefore, the displacement of the light emitting point is suppressed by aligning the center position 28 of the lead frame 20 with the center 27 of the sealing resin layer 11 as in the device of the present example. When the element of this embodiment is used for an optical pickup, the movement of the beam spot on the photodiode can be suppressed as shown in the example of FIG.
【0027】このように、リードフレーム20の中心線
25、26に対して対称な形状の封止樹脂層11を形成
することにより、リードフレーム20が受ける封止樹脂
層11の熱膨張に係る影響を排除することができ、レー
ザー光の発光点の変位を抑制することが可能である。な
お、本例においては、円筒形のモールドタイプの半導体
レーザー装置に基づき説明しているが、図3に示すよう
なフラット型などのモールドタイプの半導体レーザー装
置であっても、封止樹脂層11がリードフレーム20近
傍の発熱の影響を大きく受ける範囲で実質的に対して対
称な形状であれば、同様の効果を得ることができるの
は、勿論である。なお、図3に示すフラット型の半導体
レーザー装置においては、封止樹脂層11の形状以外、
前述した半導体レーザー装置と同様の構成であるので、
同じ符号を付して説明を省略する。As described above, by forming the sealing resin layer 11 having a shape symmetrical with respect to the center lines 25 and 26 of the lead frame 20, the influence on the thermal expansion of the sealing resin layer 11 received by the lead frame 20 is obtained. Can be eliminated, and the displacement of the light emitting point of the laser beam can be suppressed. Although the present embodiment is described based on a cylindrical mold type semiconductor laser device, a mold type semiconductor laser device such as a flat type as shown in FIG. Of course, if the shape is substantially symmetric with respect to the range that is greatly affected by the heat generation near the lead frame 20, the same effect can be obtained. In the flat-type semiconductor laser device shown in FIG. 3, except for the shape of the sealing resin layer 11,
Since it has the same configuration as the semiconductor laser device described above,
The same reference numerals are given and the description is omitted.
【0028】また、この実施例ではリードフレームの断
面形状が長方形の場合でのべているが、この発明の技術
思想に従うかぎり、他の形状でもよい。特に水平,垂直
中心線が厳密に規定できない場合でも実質的に主面に平
行で重心を通るような水平中心線とそれに垂直な中心線
であればよい。〔実施例2〕図4に、この発明の実施例
2に係る半導体レーザー装置の構成を示してある。本例
の装置も、実施例1と同様のモールドタイプの半導体レ
ーザー装置であり、端面破壊防止層の形成されたレーザ
ーダイオード素子1が、サブマウント層および放熱板と
して用いるフォトダイオード23を介して、これらのレ
ーザーダイオード素子1およびフォトダイオード23を
支持制御するリードフレーム20主面上に固着された構
成の装置である。そこで、実施例1の装置と共通する部
分においては、同じ符号を付して説明を省略する。Further, in this embodiment, the case where the cross-sectional shape of the lead frame is rectangular is described, but other shapes may be used as long as the technical idea of the present invention is followed. In particular, even when the horizontal and vertical centerlines cannot be strictly defined, a horizontal centerline substantially parallel to the main surface and passing through the center of gravity and a centerline perpendicular to the horizontal centerline may be used. Embodiment 2 FIG. 4 shows the structure of a semiconductor laser device according to Embodiment 2 of the present invention. The device of the present embodiment is also a mold type semiconductor laser device similar to that of the first embodiment, and the laser diode element 1 on which the end face destruction prevention layer is formed is connected via the photodiode 23 used as a submount layer and a heat sink. The laser diode element 1 and the photodiode 23 are supported on a lead frame 20 for supporting and controlling the device, and are fixed on the main surface. Therefore, portions common to those of the apparatus of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
【0029】この実施例において着目すべき点は、封止
樹脂層11がレーザーダイオード素子1の装着されたリ
ードフレーム20のレーザーダイオード素子装着面20
aと対峙する反対側の面20bが露出面となっているこ
とである。すなわち、本例の装置においては、リードフ
レーム20の装着面20aからレーザーダイオード素子
1およびフォトダイオード23を覆うように、封止樹脂
層11が形成されており、リードフレーム20の装着面
20aと対峙する反対側の面20bは封止樹脂層11が
形成されていない露出面となっている。従って、図4に
示すように、この露出面20bを用いて、半導体レーザ
ー装置を固定基板35に固着させることが可能である。
固着方法は露出面20bと固定基板35間に接着剤33
を塗布する方法、または実施例3で述べるようなリード
フレームの固定用貫通穴を用いる方法が考えられる。こ
のような装置においては、露出面20bが固定基板35
により固定されているので、固定基板35からの位置の
変動はない。The point to be noted in this embodiment is that the sealing resin layer 11 is provided on the laser diode element mounting surface 20 of the lead frame 20 on which the laser diode element 1 is mounted.
The surface 20b on the opposite side facing a is an exposed surface. That is, in the device of this example, the sealing resin layer 11 is formed so as to cover the laser diode element 1 and the photodiode 23 from the mounting surface 20a of the lead frame 20, and faces the mounting surface 20a of the lead frame 20. The opposite surface 20b is an exposed surface on which the sealing resin layer 11 is not formed. Therefore, as shown in FIG. 4, the semiconductor laser device can be fixed to the fixed substrate 35 using the exposed surface 20b.
The fixing method is such that an adhesive 33 is provided between the exposed surface 20b and the fixed substrate 35.
Or a method using a fixing through hole of a lead frame as described in the third embodiment. In such an apparatus, the exposed surface 20b is
Therefore, there is no change in the position from the fixed substrate 35.
【0030】また、封止樹脂層11もリードフレーム2
0の一方の面、すなわち、装着面20aにしか形成され
ていないので、リードフレーム20に対し、封止樹脂層
11の熱膨張がリードフレーム20に対し影響を与える
ことはない。従って、本例の装置においては、レーザー
光の発光中に封止樹脂層11の温度が上昇しても、リー
ドフレーム20が変動することはない。このため、リー
ドフレーム20に支持されているレーザーダイオード素
子1の発光点の変位も抑制できることとなる。この効果
は、実施例1と同様の条件下で測定されており、実施例
1において測定し図2に示したと同様の測定値が得られ
ている。Further, the sealing resin layer 11 is also formed on the lead frame 2.
0, that is, only on the mounting surface 20 a, the thermal expansion of the sealing resin layer 11 does not affect the lead frame 20. Therefore, in the device of this example, even if the temperature of the sealing resin layer 11 increases during emission of the laser beam, the lead frame 20 does not change. For this reason, displacement of the light emitting point of the laser diode element 1 supported by the lead frame 20 can also be suppressed. This effect was measured under the same conditions as in Example 1, and the same measured values as those measured in Example 1 and shown in FIG. 2 were obtained.
【0031】なお、本例においては、方形の封止樹脂層
11を備えたモールドタイプの半導体レーザー装置に基
づき説明しているが、リードフレームの露出面20bが
形成されておれば良く、封止樹脂層が半円形などの様々
な形をした半導体レーザー装置であっても、また図1
8,図22に示すように封止樹脂層11がレーザーダイ
オード素子1、フォトダイオード23の近傍のみを覆う
ような場合でもよい。いずれも外部固定基板35へは接
着剤33により行う。特に図22はレーザー装置を外部
基板へ接着により固定するためにリードフレームの一部
のみを樹脂から露出した構造であり、この点で実用性が
高いところに特徴がある。Although the present embodiment has been described based on a mold type semiconductor laser device having a rectangular sealing resin layer 11, it is sufficient that the exposed surface 20b of the lead frame is formed. Even in the case of a semiconductor laser device in which the resin layer has various shapes such as a semicircle, FIG.
8, the sealing resin layer 11 may cover only the vicinity of the laser diode element 1 and the photodiode 23 as shown in FIG. In any case, the bonding is performed to the external fixed substrate 35 with the adhesive 33. In particular, FIG. 22 shows a structure in which only a part of the lead frame is exposed from the resin in order to fix the laser device to the external substrate by bonding, and is characterized in that it is highly practical in this respect.
【0032】この斜視図を図23に示す。この場合の固
着方法は露出したリードフレームの面を利用して接着固
定する方法が考えられる。本例を含めてこの発明に掛か
る固定手段例を図19に示す。(a)はリードフレーム
20の主面上に同じ幅で樹脂封止し、タードフレーム反
対側の露出面20bを接着剤33により固定基板35上
に固着した例、(b)は同様にリードフレーム20の幅
を封止樹脂幅より大きくして接着面を広くした例、
(c)は(b)と同じレーザーダイオード装置を接着剤
と取り付け治具331を用いた例、(d)は封止樹脂か
ら露出したリードフレーム部分を利用して固定基板35
に接着剤33を用いて固着した例、(e)は(b),
(c)と同じ装置をリードフレーム20の露出部をそれ
に対応する固定基板35に設けた凹部に嵌め込んで取り
付けた例をそれぞれ示す。さらに、露出面20bから固
定基板35へ熱が伝わり易いように、熱伝導の良い露出
面20bおよび固定基板35を採用することにより、レ
ーザー発光時の熱を固定基板35側へ放散させることが
でき、封止樹脂層11の温度上昇を緩和し、発光点の変
位を一層抑制することも可能であるので望ましい。 〔実施例3〕 図20に、この発明の実施例3に係る半導体レーザー装
置の構成を示してある。本例の装置も、上記実施例と同
様のモールドタイプの半導体レーザー装置であり、端面
破壊防止層の形成されたレーザーダイオード素子1が、
フォトダイオード23を介して、これらのレーザーダイ
オード素子1およびフォトダイオード23を支持制御す
るリードフレーム20に固着され、その周囲を封止樹脂
層11により封止された装置である。そこで、実施例1
の装置と共通する部分においては、同じ符号を付して説
明を省略する。FIG. 23 shows this perspective view. The fixing method in this case may be a method of bonding and fixing using the exposed surface of the lead frame. FIG. 19 shows an example of fixing means according to the present invention including this example. (A) is an example in which the main surface of the lead frame 20 is resin-sealed with the same width, and the exposed surface 20b on the opposite side of the tard frame is fixed on the fixed substrate 35 with an adhesive 33. An example in which the width of 20 is larger than the width of the sealing resin to increase the bonding surface,
(C) is an example in which the same laser diode device as in (b) is used using an adhesive and a mounting jig 331, and (d) is a fixed substrate 35 using the lead frame portion exposed from the sealing resin.
(E) is fixed using an adhesive 33 to (b),
An example in which the same device as in (c) is mounted by fitting an exposed portion of the lead frame 20 into a corresponding recess provided in the fixed substrate 35 is shown. Furthermore, by using the exposed surface 20b and the fixed substrate 35 having good heat conduction so that heat is easily transmitted from the exposed surface 20b to the fixed substrate 35, heat during laser emission can be dissipated to the fixed substrate 35 side. It is desirable because the temperature rise of the sealing resin layer 11 can be reduced and the displacement of the light emitting point can be further suppressed. Third Embodiment FIG. 20 shows a configuration of a semiconductor laser device according to a third embodiment of the present invention. The device of the present embodiment is also a mold type semiconductor laser device similar to the above embodiment, and the laser diode element 1 on which the end face destruction prevention layer is formed is:
This device is fixed to a lead frame 20 that supports and controls the laser diode element 1 and the photodiode 23 via a photodiode 23, and the periphery thereof is sealed with a sealing resin layer 11. Therefore, the first embodiment
The same reference numerals are given to the same parts as those of the above-mentioned device, and the description is omitted.
【0033】本実施例において着目すべき点は、リード
フレーム20を固定するための貫通穴30が形成されて
いることである。本例の装置においては、この貫通穴3
0が、レーザーダイオード素子1の下方のリードフレー
ム20に、その両端を固定可能なように2つ形成されて
いる。この構造の固定手段例を図21の(a),(b)
に示す。本例においては、リードフレーム20をボルト
32により固定しているが、熱膨張率が相対的に低く、
熱伝導の良い半田などの流動性のある金属、樹脂などを
用いて固定することも勿論可能である。A point to be noted in this embodiment is that a through hole 30 for fixing the lead frame 20 is formed. In the device of the present example, this through hole 3
2 are formed on the lead frame 20 below the laser diode element 1 so that both ends thereof can be fixed. Examples of the fixing means having this structure are shown in FIGS.
Shown in In this example, the lead frame 20 is fixed by the bolts 32, but has a relatively low coefficient of thermal expansion.
Of course, it is also possible to fix using a fluid metal or resin such as solder having good heat conductivity.
【0034】本例の装置におけるレーザー光の発光点の
変位は、いずれも実施例1と同様の条件で測定されてお
り、先の実施例1において測定され図2に示した結果と
略同様の変位量に収まることが確認されている。なお、
前記例は、方形の封止樹脂層11を備えた半導体レーザ
ー装置に基づき説明しているが、本例においては、リー
ドフレーム20に、固定基板35に固定可能な貫通穴3
0が用意されておれば良く、封止樹脂層11の形状が非
対称な装置でも良い。 〔参考例〕 図5に、この発明の参考例に係る半導体レーザー装置の
構成を示してある。本例の装置も、前記実施例と同様の
モールドタイプの半導体レーザー装置であり、端面破壊
防止層の形成されたレーザーダイオード素子1が、フォ
トダイオード23を介して、これらのレーザーダイオー
ド素子1およびフォトダイオード23を支持制御するリ
ードフレーム20に固着され、その周囲を封止樹脂層1
1により封止された装置である。そこで、実施例1の装
置と共通する部分においては、同じ符号を付して説明を
省略する。The displacement of the light emitting point of the laser beam in the apparatus of this embodiment is measured under the same conditions as in the first embodiment, and is substantially the same as the result measured in the first embodiment and shown in FIG. It has been confirmed that the displacement is within the displacement. In addition,
Although the above example is described based on a semiconductor laser device having a rectangular sealing resin layer 11, in this example, the through holes 3 that can be fixed to the fixed substrate 35 are formed in the lead frame 20.
0 may be prepared, and a device in which the shape of the sealing resin layer 11 is asymmetric may be used. Reference Example FIG. 5 shows a configuration of a semiconductor laser device according to a reference example of the present invention. The device of this embodiment is also a semiconductor laser device of a mold type similar to that of the above-described embodiment, and the laser diode device 1 on which the end face destruction prevention layer is formed is connected to the laser diode device 1 and the photo diode via a photodiode 23. The diode 23 is fixed to a lead frame 20 for supporting and controlling the diode 23, and the periphery thereof is sealed with a sealing resin layer 1.
1 is a device sealed by the same. Therefore, portions common to those of the apparatus of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
【0035】本例の装置において着目すべき点は、封止
樹脂層11の外面の内、リードフレーム20にレーザー
ダイオード素子1の装着された装着面20aと反対側の
面20bを覆う樹脂外面40が、平面状の外部固定基板
へ接着剤33を介して固着される実装面40となってい
ることである。そして、この実装面40と面20bとの
間の離間距離ΔX1 が一定に保持されていることであ
る。A point to be noted in the apparatus of this embodiment is that, of the outer surface of the sealing resin layer 11, a resin outer surface 40 covering a surface 20b opposite to the mounting surface 20a on which the laser diode element 1 is mounted on the lead frame 20. Is a mounting surface 40 that is fixed to a planar external fixed substrate via an adhesive 33. Then, the separation distance ΔX 1 between the mounting surface 40 and the surface 20b is kept constant.
【0036】また前述の如く光ピックアップ光学系のシ
ュミレーションにおいて、図16に示すように発光点位
置が変位量ΔXを持つ場合にはフォトダイオード上でビ
ームスポットが大幅に変動し好ましくない。このため離
間距離をΔX1 mm、封止樹脂層の線膨張係数をα/
℃、レーザーダイオード素子の使用環境温度変化量をΔ
T℃としたときに、離間距離をΔX1mmは下記数式
(1)を満たす値に設定されている。As described above, in the simulation of the optical pickup optical system, when the light emitting point position has the displacement amount ΔX as shown in FIG. 16, the beam spot fluctuates largely on the photodiode, which is not preferable. Therefore, the separation distance is ΔX 1 mm, and the linear expansion coefficient of the sealing resin layer is α /
° C, the change in the operating environment temperature of the laser diode element is Δ
When T ° C., the separation distance ΔX 1 mm is set to a value that satisfies the following equation (1).
【0037】[0037]
【数1】 ΔL/M ΔX1 ≦ ─────── (1) α・ΔT 〔半導体レーザーを光ディスクシステムの再生用光源と
して使用する光ピックアップ装置の信号検出用多分割フ
ォトダイオード上でのビームスポット変動量の最大許容
量をΔLmm、光ピックアップ装置の半導体レーザー素
子の発光点と信号検出用多分割フォトダイオード間の少
なくとも一つ以上のレンズ系からなるレンズ系倍率およ
び半導体レーザー素子の発光点と信号検出用多分割フォ
トダイオード間の光学距離により定義される結像倍率を
Mとする〕またこの発明に係わる封止樹脂材料として
は、透明エポキシ樹脂を用いた場合、その線膨張係数α
は5〜7×10-5/℃である。例えば使用環境温度変化
ΔTが−10〜60℃でのビームスポット移動の許容量
ΔLが10μm、発光点とフォトダイオード間の結像倍
率Mが8倍、線膨張係数αが6×10-5/℃である場合
は、前記数式(1)よりΔX1 ≦0.2mmとする必要
がある。使用する光学系によりM、ΔLは変わる、使用
環境温度変化ΔTも規格により変わる、例えば車載用規
格では−15〜70℃である。しかし前記数式(1)に
よりΔX1 が決定されることは言うまでもない。ΔL / M ΔX 1 ≦ ─────── (1) α · ΔT [On a multi-segment photodiode for signal detection of an optical pickup device using a semiconductor laser as a light source for reproduction of an optical disk system. The maximum allowable amount of the beam spot variation is ΔLmm, the magnification of the lens system including at least one lens system between the light emitting point of the semiconductor laser element of the optical pickup device and the multi-division photodiode for signal detection, and the light emitting point of the semiconductor laser element. And M is the imaging magnification defined by the optical distance between the multi-segment photodiode for signal detection and the signal detection.] When a transparent epoxy resin is used as the sealing resin material according to the present invention, its linear expansion coefficient α
Is 5 to 7 × 10 −5 / ° C. For example, the allowable amount ΔL of the beam spot movement when the temperature change ΔT in the use environment is −10 to 60 ° C. is 10 μm, the imaging magnification M between the light emitting point and the photodiode is 8 times, and the linear expansion coefficient α is 6 × 10 −5 / In the case of ° C., it is necessary to satisfy ΔX 1 ≦ 0.2 mm from the above equation (1). M and ΔL change depending on the optical system used, and the use environment temperature change ΔT also changes depending on the standard. However, it goes without saying that ΔX 1 is determined by the above equation (1).
【0038】従って本例の装置を実装面40が固定基板
35と密着するように固定することにより、固定基板3
5からのリードフレーム20の変位を、離間距離ΔX1
にある封止樹脂層11による影響の範囲にとどめること
ができる。このように、前記実施例において説明した半
導体レーザー装置においては、いずれの装置であって
も、コンパクトディスクのピックアップとしてその儘採
用可能なフォトダイオード上のビームスポット移動量の
許容値を満足している。従って、前記のようなモールド
タイプの半導体レーザー装置により、低価格で、自由な
形状を容易に製造可能な半導体レーザー装置であって、
さらに、発光点の精度がキャンタイプと同程度以上に優
れた半導体レーザー装置を実現することができる。Therefore, by fixing the device of this embodiment so that the mounting surface 40 is in close contact with the fixed substrate 35, the fixed substrate 3
5, the displacement of the lead frame 20 from the distance ΔX 1
In the range of the effect of the sealing resin layer 11 described above. As described above, in any of the semiconductor laser devices described in the above embodiments, any of the devices satisfies the allowable value of the beam spot movement amount on the photodiode that can be used as it is as a pickup for a compact disk. . Therefore, by the mold type semiconductor laser device as described above, at low cost, a semiconductor laser device that can be easily manufactured in a free shape,
Further, it is possible to realize a semiconductor laser device in which the accuracy of the light emitting point is superior to that of the can type.
【0039】[0039]
【発明の効果】以上において説明したように、この発明
に係る半導体レーザー装置は、リードフレームに対称な
封止樹脂層、外部の固定基板などに固定可能なリードフ
レーム、封止樹脂層の厚みが規定された実装面といった
手段を用いることにより、封止樹脂層の熱膨張に起因す
るリードフレームの変位を抑制することができる。従っ
て、動作中におけるリードフレーム上に固定されたレー
ザーダイオード素子の変位を抑制することが可能とな
り、発光点の変位を大幅に減少させることが可能とな
る。このため、低価格で、様々な素子形状を容易に採用
することが可能なモールドタイプの半導体レーザー装置
において、発光点の変位が少なく精度の良い装置を実現
することができる。As described above, in the semiconductor laser device according to the present invention, the thickness of the sealing resin layer symmetrical to the lead frame, the lead frame that can be fixed to an external fixed substrate or the like, and the thickness of the sealing resin layer are reduced. By using means such as a specified mounting surface, displacement of the lead frame due to thermal expansion of the sealing resin layer can be suppressed. Therefore, the displacement of the laser diode element fixed on the lead frame during operation can be suppressed, and the displacement of the light emitting point can be greatly reduced. For this reason, in a mold-type semiconductor laser device that can easily adopt various element shapes at low cost, it is possible to realize a highly accurate device with little displacement of a light emitting point.
【0040】従って、この発明により、モールドタイプ
の半導体レーザー装置においても、コンパクトディスク
のピックアップなど、発光点の高精度の安定性が要求さ
れる装置に対して、位置の補償機構などの余分な機構を
抜きに、その儘採用可能な半導体レーザー装置を実現す
ることができる。本例のようなモールドタイプの半導体
レーザー装置は、低価格であり、様々な形状を容易に実
現できることから、近年様々な装置に採用されている。
そして、この発明により、発光点の位置精度の安定性が
非常に高い半導体レーザー装置とすることが可能とな
り、さらに、広い範囲の装置に用いることが可能とな
る。Therefore, according to the present invention, even in a semiconductor laser device of a mold type, an extra mechanism such as a position compensation mechanism is required for a device that requires high-precision stability of a light emitting point, such as a compact disk pickup. A semiconductor laser device that can be adopted as it is can be realized without using. A mold-type semiconductor laser device as in this example is inexpensive and can easily realize various shapes, and thus has been adopted in various devices in recent years.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor laser device having extremely high stability of positional accuracy of a light emitting point, and it is possible to use the semiconductor laser device in a wide range of devices.
【図1】この発明の実施例1に係る半導体レーザー装置
の構成を示す側面図(a)および(a)のb−b断面図
(b)である。1A is a side view showing a configuration of a semiconductor laser device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a sectional view taken along line bb of FIG.
【図2】図1に示す半導体レーザー装置の発光点の変位
の様子を、従来の半導体レーザー装置の発光点の変位と
共に示すグラフ図である。FIG. 2 is a graph showing a state of displacement of a light emitting point of the semiconductor laser device shown in FIG. 1 together with a displacement of a light emitting point of a conventional semiconductor laser device.
【図3】図1に示す半導体レーザー装置と同じ技術に基
づき製造された方形の外形を備えた半導体レーザー装置
の構成を示す透過斜視図である。FIG. 3 is a transparent perspective view showing a configuration of a semiconductor laser device having a rectangular outer shape manufactured based on the same technology as the semiconductor laser device shown in FIG. 1;
【図4】この発明の実施例2に係る半導体レーザー装置
の構成を示す側面図(a)および(a)のb−b断面図
(b)である。4A is a side view showing a configuration of a semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line bb of FIG.
【図5】この発明の参考例に係る半導体レーザー装置の
構成を示す側面図(a)および(a)のb−b断面図
(b)である。5A is a side view showing a configuration of a semiconductor laser device according to a reference example of the present invention, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line bb of FIG.
【図6】従来のキャンタイプの半導体レーザー装置の構
成を、一部欠いて示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of a conventional can-type semiconductor laser device with a part thereof being omitted.
【図7】図6に示す半導体レーザー装置の構成を示す正
面図(a)および(a)のb−b断面図(b)である。7A is a front view showing the configuration of the semiconductor laser device shown in FIG. 6, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line bb of FIG.
【図8】モールドタイプの半導体レーザー装置の構成を
透過して示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing the configuration of a semiconductor laser device of a mold type.
【図9】図8に示す半導体レーザー装置に用いられてる
レーザーダイオード素子の構成を示す斜視図である。9 is a perspective view showing a configuration of a laser diode element used in the semiconductor laser device shown in FIG.
【図10】図9に示すレーザーダイオード素子のa─a
断面図である。FIG. 10 shows a─a of the laser diode element shown in FIG.
It is sectional drawing.
【図11】モールドタイプの半導体レーザー装置の構成
を示す断面図である。FIG. 11 is a sectional view showing a configuration of a mold type semiconductor laser device.
【図12】図8に示す半導体レーザー装置の構成を示す
正面図(a)および(a)のb−b断面図(b)であ
る。12A is a front view showing the configuration of the semiconductor laser device shown in FIG. 8, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line bb of FIG.
【図13】光ディスク用ピックアップの光学系概念図と
光検出器の構成図である。FIG. 13 is a conceptual diagram of an optical system of an optical disk pickup and a configuration diagram of a photodetector.
【図14】図8に示す半導体レーザー装置における発光
点の変位のようすを示すグラフ図である。FIG. 14 is a graph showing a displacement of a light emitting point in the semiconductor laser device shown in FIG. 8;
【図15】コンパクトディスクのピックアップ装置にお
ける発光点の変位の影響を調べる1次元シミュレーショ
ンの概要を示す説明図である。FIG. 15 is an explanatory view showing an outline of a one-dimensional simulation for examining the effect of displacement of a light emitting point in a compact disk pickup device.
【図16】図15に示すシミュレーションの結果を示す
グラフ図である。FIG. 16 is a graph showing the results of the simulation shown in FIG.
【図17】図15に示すシミュレーションの結果を示す
グラフ図である。FIG. 17 is a graph showing the results of the simulation shown in FIG.
【図18】実施例2に係り封止樹脂層がレーザーダイオ
ード素子およびフォトダイオードの近傍のみを覆う場合
の構成を示す側面図(a)および(a)のb−b断面図
(b)である。FIGS. 18A and 18B are side views (a) and (b) a cross-sectional view (b) of FIG. 18 (a) illustrating a configuration in which the sealing resin layer covers only the vicinity of the laser diode element and the photodiode according to the second embodiment. .
【図19】図18に示す半導体レーザー装置を固定する
例を示す断面図(a),断面図(b),断面図(c),
断面図(d)および断面図(e)である。FIG. 19 is a sectional view (a), a sectional view (b), a sectional view (c), showing an example of fixing the semiconductor laser device shown in FIG.
It is sectional drawing (d) and sectional drawing (e).
【図20】実施例3に係り封止樹脂層がレーザーダイオ
ード素子およびフォトダイオードの近傍のみを覆う場合
の構成を示す側面図(a)および(a)のb−b断面図
(b)である。FIGS. 20A and 20B are side views (a) and (b) a cross-sectional view (b) showing a configuration in which the sealing resin layer covers only the vicinity of the laser diode element and the photodiode according to the third embodiment. .
【図21】図20の半導体レーザー装置を固定する例を
示す断面図(a),断面図(b)である。21A and 21B are a sectional view and a sectional view showing an example of fixing the semiconductor laser device of FIG.
【図22】実施例2に係りリードフレームが封止樹脂に
より露出している場合の構成を表す断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view illustrating a configuration when a lead frame is exposed by a sealing resin according to the second embodiment.
【図23】実施例2に係りリードフレームが封止樹脂に
より露出している場合の斜視図である。FIG. 23 is a perspective view of a case where the lead frame according to the second embodiment is exposed by a sealing resin.
1…レーザーダイオード素子、2…基板、3…n型クラ
ッド層、4…活性層、5…p型クラッド層、6…キャッ
プ層、7…電極、8…背面電極、9…発光端面、10…
端面破壊防止層、11…封止樹脂層、20…リードフレ
ーム、21…金ワイヤー、23…フォトダイオード(支
持基板)、25…水平方向の中心線(X軸方向)、26
…垂直方向の中心線(Y軸方向)、27…交点、28…
リードフレームのセンター、29…オフセット、30…
固定用穴、31…導通穴、32…ボルト、35…固定基
板、40…実装面、51…回折格子、52…ハーフミラ
ー、33…接着剤、53…対物レンズ、54…ディス
ク、55…光検出器、61…ステム、62…放熱体、6
3…キャップ、64…ガラス窓、69…フォトダイオー
ド、73…ディスク、79…凸レンズ、80…凸レンズDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laser diode element, 2 ... Substrate, 3 ... N-type cladding layer, 4 ... Active layer, 5 ... P-type cladding layer, 6 ... Cap layer, 7 ... Electrode, 8 ... Back electrode, 9 ... Light emitting end face, 10 ...
End face destruction prevention layer, 11: sealing resin layer, 20: lead frame, 21: gold wire, 23: photodiode (supporting substrate), 25: horizontal center line (X-axis direction), 26
... vertical center line (Y-axis direction), 27 ... intersection, 28 ...
Lead frame center, 29 ... offset, 30 ...
Fixing holes, 31: conduction holes, 32: bolts, 35: fixed substrate, 40: mounting surface, 51: diffraction grating, 52: half mirror, 33: adhesive, 53: objective lens, 54: disk, 55: light Detector, 61: Stem, 62: Heat radiator, 6
3 cap, 64 glass window, 69 photodiode, 73 disk, 79 convex lens, 80 convex lens
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−209786(JP,A) 特開 平5−129731(JP,A) 特開 昭64−28882(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01S 5/00 - 5/50 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-2-209786 (JP, A) JP-A-5-129731 (JP, A) JP-A-64-28882 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) H01S 5/00-5/50
Claims (6)
面を少なくとも具備するレーザーダイオード素子を支持
基板を介して平板状の主要部面上に支持・制御するリー
ドフレームと、前記レーザー光の透過可能な樹脂により
少なくとも前記レーザーダイオード素子を前記リードフ
レーム上に封止する封止樹脂層とを有する半導体レーザ
ー装置において; 前記リードフレームに前記前方出射端面と平行な前記主
要部断面を想定し、さらにこのリードフレーム断面の長
手方向を水平方向とし、その断面の中心を規定する水平
中心線と垂直方向の中心を規定する垂直中心線とを想定
した場合に、前記封止樹脂層は前記リードフレーム断面
内の水平中心線部分および前記垂直中心線に対し対称に
形成された対称型樹脂層であることを特徴とする半導体
レーザー装置。1. A lead frame for supporting and controlling a laser diode element having at least a front emission end face capable of emitting laser light to the outside on a flat main surface through a support substrate, and transmitting the laser light. A sealing resin layer for sealing at least the laser diode element on the lead frame with a possible resin; assuming the main part cross section parallel to the front emission end face in the lead frame; When the longitudinal direction of the cross section of the lead frame is the horizontal direction, and the horizontal center line defining the center of the cross section and the vertical center line defining the vertical center are assumed, the sealing resin layer is A symmetrical resin layer formed symmetrically with respect to the horizontal center line portion and the vertical center line in the semiconductor Laser equipment.
面を少なくとも具備するレーザーダイオード素子を支持
基板を介して平板状の主要部面上に支持・制御するリー
ドフレームと、前記レーザー光の透過可能な樹脂により
少なくとも前記レーザーダイオード素子を前記リードフ
レーム上に封止する封止樹脂層とを有する半導体レーザ
ー装置において; 前記リードフレームに前記前方出射端面と平行な前記主
要部断面を想定し、さらにこのリードフレーム断面の長
手方向を水平方向とし、その断面の中心を規定する水平
中心線と垂直方向の中心を規定する垂直中心線とを想定
した場合に、前記封止樹脂層は前記水平中心線および前
記垂直中心線に対し対称に形成されており; 前記封止樹脂層は、前記リードフレームを対称の中心と
して形成された対称型樹脂層であることを特徴とする半
導体レーザー装置。2. A lead frame for supporting and controlling a laser diode element having at least a front emission end face capable of emitting laser light to the outside on a flat main surface via a support substrate, and transmitting the laser light. A sealing resin layer for sealing at least the laser diode element on the lead frame with a possible resin; assuming the main part cross section parallel to the front emission end face in the lead frame; Assuming that the longitudinal direction of the lead frame cross section is the horizontal direction, and assuming a horizontal center line defining the center of the cross section and a vertical center line defining the vertical center, the sealing resin layer has the horizontal center line. And the sealing resin layer is formed symmetrically with respect to the vertical center line; The semiconductor laser device, characterized in that the a symmetric resin layer.
面を少なくとも具備するレーザーダイオード素子を支持
基板を介して平板状の主要部面上に支持・制御するリー
ドフレームと、前記レーザー光の透過可能な樹脂により
少なくとも前記レーザーダイオード素子を前記リードフ
レーム上に封止する封止樹脂層とを有する半導体レーザ
ー装置において; 外部基板へ装着するリードフレーム部分を封止樹脂から
露出させたものであり、前記レーザーダイオード素子の
装着された素子装着面側と対峙する側の部分のリードフ
レーム面を外部基板への基板装着面とするために封止樹
脂から露出させ、半導体レーザー装置を前記外部基板に
固定する手段を有することを特徴とする半導体レーザー
装置。3. A lead frame for supporting and controlling a laser diode element having at least a front emission end face capable of emitting laser light to the outside on a main surface of a flat plate via a support substrate, and transmitting the laser light. A sealing resin layer for sealing at least the laser diode element on the lead frame by a possible resin; a semiconductor device having a lead frame portion mounted on an external substrate exposed from the sealing resin; The semiconductor laser device is fixed to the external substrate by exposing the lead frame surface on the side opposite to the element mounting surface side on which the laser diode element is mounted to a substrate mounting surface to an external substrate from the sealing resin. 1. A semiconductor laser device comprising:
半導体レーザー装置を前記外部基板に固定する手段とし
て封止樹脂から露出されたリードフレーム部分に貫通穴
が設けられていることを特徴とする半導体レーザー装
置。4. The semiconductor laser device according to claim 3, wherein:
The semiconductor laser device, wherein a penetrations holes are provided a semiconductor laser device in the Ridofure over arm portions that are exposed from the sealing resin as a means for fixing the external substrate.
おいて;半導体レーザー装置を前記外部基板に固定する
手段が接着剤であることを特徴とする半導体レーザー装
置。5. The semiconductor laser device according to claim 3, wherein the means for fixing the semiconductor laser device to the external substrate is an adhesive.
半導体レーザー装置を前記外部基板に固定する手段が前
記貫通穴を通る接続手段を有することを特徴とする半導
体レーザー装置。6. The semiconductor laser device according to claim 4, wherein:
A semiconductor laser device, wherein the means for fixing the semiconductor laser device to the external substrate has a connection means passing through the through hole.
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