JP3167429B2 - Photosensitive composition - Google Patents
Photosensitive compositionInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、特に平版印刷版に適す
る感光性組成物に関する。さらに詳しくは、平版印刷版
用支持体との接着性を改良し、高感度で耐刷性に優れ、
しかも水性アルカリ現像液で現像可能な感光性組成物に
関する。The present invention relates to a photosensitive composition particularly suitable for a lithographic printing plate. More specifically, the adhesiveness with the lithographic printing plate support has been improved, with high sensitivity and excellent printing durability,
In addition, the present invention relates to a photosensitive composition developable with an aqueous alkaline developer.
【0002】[0002]
【従来の技術】環付加反応によって架橋する光架橋性材
料はよく知られており、これらは、感光性平版印刷版等
の製造に用いる感光性組成物の主要成分として、あるい
はフォトレジスト用画像形成材料として広く用いられて
いる。2. Description of the Related Art Photocrosslinkable materials which are crosslinked by a cycloaddition reaction are well known, and they are used as a main component of a photosensitive composition used for producing a photosensitive lithographic printing plate or the like, or for forming an image for a photoresist. Widely used as a material.
【0003】これらの光架橋性ポリマーは高感度であ
り、フォトレジストとして有用であるにもかかわらず、
支持体との接着性が良好でない。接着性が悪いと、現像
中のブラッシングなどにより画像が剥離したり、傷が生
じたりして十分な耐刷性を得られず、特に低露光時で
は、この傾向が著しいために結果的に感度が低くなる。[0003] Although these photocrosslinkable polymers are highly sensitive and useful as photoresists,
Adhesion with the support is not good. If the adhesiveness is poor, the image may be peeled off or scratched due to brushing during development, and sufficient printing durability may not be obtained. Becomes lower.
【0004】接着性を改良するために、感光層中へネガ
作用ジアゾ樹脂を添加する方法(特開昭62−7854
4号)が提案されている。しかしながら、ジアゾ樹脂を
感光層に添加すると、保存性が悪くなり、特に対湿性が
弱くなり、湿気に侵された部分は汚れやすくなる。ま
た、この感光層の現像には溶剤を含有した現像液を必要
とするので、廃水処理の際の公害防止の点からも好まし
くない。また、支持体との接着性を上げて、感光時間を
早くするため新規な増感剤(特開平2−131236
号、特開平2−157762号、特開平2−17364
6号、特開平2−236552号)が提案されている
が、上記問題を解決するほどには到っていない。In order to improve the adhesiveness, a method of adding a negative-working diazo resin into a photosensitive layer (Japanese Patent Laid-Open No. 62-7854)
No. 4) has been proposed. However, when the diazo resin is added to the photosensitive layer, the storage stability is deteriorated, and particularly, the moisture resistance is weakened, and the portion affected by moisture is easily stained. Further, since the developing of the photosensitive layer requires a developing solution containing a solvent, it is not preferable from the viewpoint of preventing pollution at the time of wastewater treatment. In addition, a novel sensitizer (JP-A-2-131236) is used to increase the adhesiveness to the support and shorten the exposure time.
JP-A-2-157762, JP-A-2-17364
No. 6, JP-A-2-236552) has been proposed, but it has not reached the level of solving the above problem.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、エチレン性
不飽和二重結合をもつ重合可能な化合物と、光重合開始
剤と、マレイミド基を有する光架橋可能な重合体とを併
用することにより、上記問題点を解決することができる
ことを見い出し、本発明に到達したものである。したが
って本発明の目的は、支持体との接着性を向上させ、高
感度で耐刷性においても優れ、さらに水性アルカリ現像
液で現像可能な感光性組成物を提供することにある。The present invention provides a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and a photocrosslinkable polymer having a maleimide group. The present inventors have found that the above problems can be solved, and have reached the present invention. Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive composition which has improved adhesiveness to a support, has high sensitivity and excellent printing durability, and can be developed with an aqueous alkaline developer.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、エチレン性不
飽和二重結合を2個以上有する重合可能な化合物、光重
合開始剤、およびマレイミド基を有する光架橋可能な重
合体を含有することを特徴とする感光性組成物を提供す
るものである。The present invention comprises a polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated double bonds, a photopolymerization initiator, and a photocrosslinkable polymer having a maleimide group. And a photosensitive composition characterized by the following.
【0007】上記のエチレン性不飽和二重結合を2個以
上有する重合可能な化合物(以下、本発明の重合性化合
物という。)としては、例えばエチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、トリエチレングリコールジメタアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチ
レングリコールジメタクリレート、ブチレングリコール
ジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、
ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルジオ
ールジアクリレート、ネオペンチルジオールジメタクリ
レート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、メ
トキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシ
テトラエチレングリコールメタクリレート、メトキシポ
リエチレングリコールメタクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが
挙げられる。The polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated double bonds (hereinafter referred to as the polymerizable compound of the present invention) includes, for example, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate. , Diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, butylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate,
Hexanediol dimethacrylate, neopentyldiol diacrylate, neopentyldiol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxytetraethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, penta Erythritol diacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate and the like.
【0008】本発明の重合性化合物の含有量は、本発明
の感光性組成物の全成分に対して5〜60重量%、特に
10〜50重量%が好ましい。[0008] The content of the polymerizable compound of the present invention is preferably 5 to 60% by weight, particularly preferably 10 to 50% by weight, based on all components of the photosensitive composition of the present invention.
【0009】本発明で使用する光重合開始剤としては、
従来使用されているものを適宜に用いることができ、そ
の例としてはビス(p−アミノフェニル−不飽和)ケト
ン、トリフェニルフォスフィンまたは第4フォスフォニ
ウム塩のような有機リン化合物、メルカプト誘導体、テ
トラゾニウム誘導体、イミダゾール類、カルボニル化合
物、過酸化物、ハロゲン化化合物、増感色素などが挙げ
られる。The photopolymerization initiator used in the present invention includes:
Conventionally used ones can be used as appropriate, examples of which include bis (p-aminophenyl-unsaturated) ketones, organic phosphorus compounds such as triphenylphosphine or quaternary phosphonium salts, and mercapto derivatives , Tetrazonium derivatives, imidazoles, carbonyl compounds, peroxides, halogenated compounds, sensitizing dyes and the like.
【0010】上記ビス(p−アミノフェニル−不飽和)
ケトンの例としては、2,6−ビス(4′−ジメチルア
ミノベンジリデン)シクロヘキサノン、2,5−ビス
(4′−ジメチルアミノベンジリデン)シクロペンタノ
ン、2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンジリデ
ン)シクロペンタノン、2,6−ビス(4′−ジエチル
アミノ−2′−メチルベンジリデン)シクロヘキサン、
2,5−ビス(4′−ジエチルアミノ−2′−メチルベ
ンジリデン)シクロペンタノン、2,5−ビス(4′−
ジメチルアミノシンナミィリデン)シクロペンタノンな
どが挙げられる。The above bis (p-aminophenyl-unsaturated)
Examples of ketones include 2,6-bis (4'-dimethylaminobenzylidene) cyclohexanone, 2,5-bis (4'-dimethylaminobenzylidene) cyclopentanone, and 2,5-bis (4'-diethylaminobenzylidene) Cyclopentanone, 2,6-bis (4'-diethylamino-2'-methylbenzylidene) cyclohexane,
2,5-bis (4'-diethylamino-2'-methylbenzylidene) cyclopentanone, 2,5-bis (4'-
Dimethylaminocinnamylidene) cyclopentanone and the like.
【0011】上記有機リン化合物の例としては、トリフ
ェニルフォスフィン、アリルトリフェニルフォスフォニ
ウムブロマイド、アリルトリフェニルフォスフォニウム
クロライド、n−アミルトリフェニルフォスフォニウム
クロライド、ベンジルトリフェニルフォスフォニウムク
ロライド、ブロモメチルトリフェニルフォスフォニウム
ブロマイド、n−ブチルトリフェニルフォスフォニウム
ブロマイドなどが挙げられる。上記メルカプト誘導体の
例としては、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオ
キサゾールなどが挙げられる。Examples of the above organic phosphorus compounds include triphenylphosphine, allyltriphenylphosphonium bromide, allyltriphenylphosphonium chloride, n-amyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium chloride. , Bromomethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide and the like. Examples of the mercapto derivative include 2-mercaptobenzimidazole and 2-mercaptobenzimidazole.
Mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole and the like can be mentioned.
【0012】上記テトラゾニウム誘導体の例としては、
2,3−ジフェニル−5−(p−ジフェニル)テトラゾ
リウムクロライド、2,5−ジフェニル−3−(p−ジ
フェニル)テトラゾリウムクロライド、2,3−ジフェ
ニル−5−エチルテトラゾリウムクロライド、2,3−
ジフェニル−5−(m−ヒドロキシフェニル)テトラゾ
リウムクロライド、2,3−ジフェニル−5−(p−メ
トキシフェニル)テトラゾリウムクロライド、2,3−
ジフェニル−5−メトキシテトラゾリウムクロライド、
2,5−ジフェニル−3−(4−ニトロ−1−ナフチ
ル)テトラゾリウムクロライド、2,5−ジフェニル−
3−(p−フェニルアゾフェニル)テトラゾリウムクロ
ライド、2,5−ジフェニル−3−(4−スチリルフェ
ニル)テトラゾリウムクロライド、2,3−ジフェニル
テトラゾリウムペルクロライド、2,3−ジフェニル−
5−チエニル−(2)−テトラゾリウムクロライド、
2,3−ジフェニル−5−(p−トリル)テトラゾリウ
ムクロライド、2,5−ジフェニル−3−(4−トリメ
チルアンモニウムインドール)フェニルテトラゾリウム
クロライド、2,3−ジ(p−トリル)−5−フェニル
テトラゾリウムクロライド、2,5−ジフェニル(p−
トリル)−3−フェニルテトラゾリウムクロライド、
2,5−ジフェニル−3−(p−(o−トリル)アゾ−
o−トリル)テトラゾリウムクロライド、2−(p−ヨ
ードフェニル)−3−(p−ニトロフェニル)−5−フ
ェニル−2H−テトラゾリウムクロライドなどが挙げら
れる。Examples of the above tetrazonium derivative include:
2,3-diphenyl-5- (p-diphenyl) tetrazolium chloride, 2,5-diphenyl-3- (p-diphenyl) tetrazolium chloride, 2,3-diphenyl-5-ethyltetrazolium chloride, 2,3-
Diphenyl-5- (m-hydroxyphenyl) tetrazolium chloride, 2,3-diphenyl-5- (p-methoxyphenyl) tetrazolium chloride, 2,3-
Diphenyl-5-methoxytetrazolium chloride,
2,5-diphenyl-3- (4-nitro-1-naphthyl) tetrazolium chloride, 2,5-diphenyl-
3- (p-phenylazophenyl) tetrazolium chloride, 2,5-diphenyl-3- (4-styrylphenyl) tetrazolium chloride, 2,3-diphenyltetrazolium perchloride, 2,3-diphenyl-
5-thienyl- (2) -tetrazolium chloride,
2,3-diphenyl-5- (p-tolyl) tetrazolium chloride, 2,5-diphenyl-3- (4-trimethylammonium indole) phenyltetrazolium chloride, 2,3-di (p-tolyl) -5-phenyltetrazolium Chloride, 2,5-diphenyl (p-
Tolyl) -3-phenyltetrazolium chloride,
2,5-diphenyl-3- (p- (o-tolyl) azo-
(O-tolyl) tetrazolium chloride, 2- (p-iodophenyl) -3- (p-nitrophenyl) -5-phenyl-2H-tetrazolium chloride and the like.
【0013】上記イミダゾール類の例として、2−クロ
ロフェニル−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、
2−(2,3−ジクロロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体などが挙げられる。上記カルボニ
ル化合物の例としては、ベンゾイン、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフ
ェノン、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェ
ノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2
−メチル−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モル
フォリノートプロパンなどが挙げられる。Examples of the above imidazoles include 2-chlorophenyl-4,5-diphenylimidazole dimer,
2- (2,3-dichlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer and the like. Examples of the carbonyl compound include benzoin, benzoin isopropyl ether, benzyldimethyl ketal, benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2
-Methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinatopropane and the like.
【0014】上記過酸化物の例としては、ジ−t−ブチ
ルパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、1,3−ジ(t
−ブチルジオキシカルボニル)ベンゼン、3,3′,
4,4′−テトラキス(t−ブチルオキシカルボニル)
ベンゾフェノンなどが挙げられる。上記ハロゲン化化合
物の例としては、2,4,6−トリ(トリクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ナフチル
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン
などが挙げられる。上記増感色素としては、キサンテン
系色素、メロシアニン系色素、クマリンあるいはケトク
マリン系色素などが挙げられる。Examples of the peroxide include di-t-butyl peroxide, benzoyl peroxide, 1,3-di (t
-Butyldioxycarbonyl) benzene, 3,3 ',
4,4'-tetrakis (t-butyloxycarbonyl)
Benzophenone and the like. Examples of the halogenated compound include 2,4,6-tri (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and 2-naphthyl-4,6. -Bis (trichloromethyl) -s-triazine and the like. Examples of the sensitizing dye include xanthene dyes, merocyanine dyes, coumarin and ketocoumarin dyes.
【0015】本発明における光重合開始剤の添加量は、
本発明の重合性化合物に対して、好ましくは0.1〜5
0重量%、より好ましくは1〜30重量%である。In the present invention, the amount of the photopolymerization initiator added is
Preferably 0.1 to 5 with respect to the polymerizable compound of the present invention.
0% by weight, more preferably 1 to 30% by weight.
【0016】本発明で使用するマレイミド基を有する光
架橋可能な重合体は、例えば特開昭52−988号やDi
e Angewandte Mackrolekulare Chemie 115(1983)の16
3〜181に記載されている。本発明では、これらのう
ち、下記一般式The photocrosslinkable polymer having a maleimide group used in the present invention is described in, for example, JP-A-52-988 and Di
e Angewandte Mackrolekulare Chemie 115 (1983) 16
3-181. In the present invention, among these, the following general formula
【化1】 (式中、R、R1 およびR2 は水素原子またはメチル基
を表わし、nは1〜6の整数を示す。)で表わされるモ
ノマーと分子中にアルカリ可溶性基を有するビニルモノ
マーを、例えば95/5〜30/70(モル比)、好ま
しくは90/10〜70/30(モル比)の割合で共重
合させる。Embedded image (Wherein R, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer of 1 to 6) and a vinyl monomer having an alkali-soluble group in the molecule, for example, 95 / 5 to 30/70 (molar ratio), preferably 90/10 to 70/30 (molar ratio).
【0017】上記共重合体の例としては、N−〔2−
(メタクリロイルオキシ)エチル〕−2,3−ジメチル
マレイミドまたはN−〔2−(メタクリロイルオキシ)
プロピル〕−2,3−ジメチルマレイミドとアクリル酸
および/またはメタクリル酸の共重合体が特に好まし
い。上記マレイミド基を有する共重合体の含有量は、本
発明の感光性組成物の全成分に対して好ましくは30〜
95重量%、さらに好ましくは40〜90重量%であ
る。Examples of the above copolymer include N- [2-
(Methacryloyloxy) ethyl] -2,3-dimethylmaleimide or N- [2- (methacryloyloxy)
[Propyl] -2,3-dimethylmaleimide and a copolymer of acrylic acid and / or methacrylic acid are particularly preferred. The content of the copolymer having a maleimide group is preferably from 30 to 30% based on all components of the photosensitive composition of the present invention.
It is 95% by weight, more preferably 40 to 90% by weight.
【0018】本発明においては必要に応じて光増感剤を
含有させることもできる。光増感剤としてはチオキサ
ン、チオキサントン誘導体、例えば2−クロルチオキサ
ントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサン
トンなどを挙げることができる。上記光増感剤の含有量
は、本発明の感光性組成物の全成分に対して、好ましく
は0.5〜20重量%、より好ましくは2〜15重量%
である。In the present invention, a photosensitizer can be contained as required. Examples of the photosensitizer include thioxane, thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone, dimethylthioxanthone, and diethylthioxanthone. The content of the photosensitizer is preferably 0.5 to 20% by weight, more preferably 2 to 15% by weight, based on all components of the photosensitive composition of the present invention.
It is.
【0019】本発明の感光性組成物には必要によりバイ
ンダー樹脂を含有させることができる。好ましいバイン
ダー樹脂としては、弱アルカリ性水溶液現像を可能とす
る、弱アルカリ性水溶液に可溶性または膨潤性である樹
脂が挙げられる。これらのバインダー樹脂としては、ア
クリル酸共重合体、メタクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、クロトン酸共重合体、メタクリル酸アルキル
とアクリルニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、スチ
レン等との共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートとアクリルニトリル、メチルメタクリレート等との
共重合体、2−ヒドロキシプロピルメタクリレートとア
クリルニトリル、メチルメタクリレートとの共重合体、
ポリビニルピロリドン、エチレン−ビニルアセテート共
重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体およびその
部分エステル化物、ポリヒドロキシスチレン、p−イソ
プロペニルフェノール共重合体、フェノールまたはクレ
ゾール樹脂、p−ヒドロキシマレイミド共重合体などを
挙げることができる。これらのバインダー樹脂の含有量
は、本発明の感光性組成物の全成分に対して、50重量
%以下が好ましい。The photosensitive composition of the present invention can contain a binder resin if necessary. Preferred binder resins include resins that are soluble or swellable in a weakly alkaline aqueous solution and that enable development of a weakly alkaline aqueous solution. These binder resins include acrylic acid copolymers, methacrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, copolymers of alkyl methacrylate with acrylonitrile, acrylic acid, methacrylic acid, styrene and the like. A copolymer of 2-hydroxyethyl methacrylate and acrylonitrile, a copolymer of methyl methacrylate and the like, a copolymer of 2-hydroxypropyl methacrylate and acrylonitrile, a copolymer of methyl methacrylate,
Polyvinyl pyrrolidone, ethylene-vinyl acetate copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer and its partial ester, polyhydroxystyrene, p-isopropenylphenol copolymer, phenol or cresol resin, p-hydroxymaleimide copolymer And the like. The content of these binder resins is preferably 50% by weight or less based on all components of the photosensitive composition of the present invention.
【0020】本発明においては、以上の他に、さらに必
要に応じて熱重合防止剤、着色剤(例えば染料、顔
料)、可塑剤、界面活性剤などを併用してもよく、これ
らを併用することにより所望の平版印刷版、フォトレジ
ストなどを調製することができる。上記熱重合防止剤
は、本発明の感光性組成物の製造中あるいは保存中にお
ける不要な熱重合を阻止するために少量を添加するもの
である。適当な熱重合防止剤としては、ハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ピロガロール、t−ブチ
ルカテコール、ジ−t−ブチル−p−クレゾールなどが
挙げられる。これらの熱重合防止剤の添加量は、本発明
の感光性組成物の全成分に対して0〜5重量%であり、
より好ましくは0.1〜3重量%である。In the present invention, in addition to the above, a thermal polymerization inhibitor, a colorant (eg, a dye or pigment), a plasticizer, a surfactant, and the like may be used in combination, if necessary. This makes it possible to prepare a desired lithographic printing plate, photoresist or the like. The thermal polymerization inhibitor is added in a small amount to prevent unnecessary thermal polymerization during production or storage of the photosensitive composition of the present invention. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, pyrogallol, t-butylcatechol, di-t-butyl-p-cresol, and the like. The addition amount of these thermal polymerization inhibitors is 0 to 5% by weight based on all components of the photosensitive composition of the present invention.
More preferably, it is 0.1 to 3% by weight.
【0021】上記染料あるいは顔料は、本発明の感光性
組成物の着色を目的として添加するものである。具体的
には、クリスタルバイオレット、マラカイドグリーン、
ビクトリアブルー、メチレンブルー、メチルバイオレッ
ト、エチルバイオレット、ローダミンB、ビクトリアピ
ュアーブルーBOH(保土谷化学工業株式会社製)、オ
イルブルー#613(オリエント化学工業株式会社
製)、パーマネントブルー#47(大同化学工業株式会
社製)などを挙げることができる。これら染料あるいは
顔料の含有量は、本発明の感光性組成物の全成分に対し
て、好ましくは0.1〜5.0重量%であり、より好ま
しくは0.5〜4.0重量%である。The above dye or pigment is added for the purpose of coloring the photosensitive composition of the present invention. Specifically, Crystal Violet, Malachide Green,
Victoria Blue, Methylene Blue, Methyl Violet, Ethyl Violet, Rhodamine B, Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), Oil Blue # 613 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Permanent Blue # 47 (Daido Chemical Industry Co., Ltd.) Manufactured by a company). The content of these dyes or pigments is preferably 0.1 to 5.0% by weight, more preferably 0.5 to 4.0% by weight, based on all components of the photosensitive composition of the present invention. is there.
【0022】上記染料と共に、露光後直ちに可視像が得
られるようにするために、光酸発生剤を加えることもで
きる。光酸発生剤としては、1,2−ナフトキノン−2
−ジアジド−4−スルホニルクロライド、2,4,6−
トリ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェ
ニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、9,10−ジメトキシアントラセン
−2−スルホン酸ヨードニウム塩などを挙げることがで
きる。その含有量は、好ましくは0.05〜1.5重量
%であり、より好ましくは0.1〜1.0重量%であ
る。In order to obtain a visible image immediately after exposure, a photoacid generator can be added together with the above dye. As the photoacid generator, 1,2-naphthoquinone-2
-Diazido-4-sulfonyl chloride, 2,4,6-
Tri (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine , 2- (p-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl)
-S-triazine, 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonic acid iodonium salt and the like. The content is preferably 0.05 to 1.5% by weight, more preferably 0.1 to 1.0% by weight.
【0023】本発明の感光性組成物を塗布するときに用
いる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、アセトン、メチレンクロライド、メチルエチルケ
トン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、N−N−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチル
セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、乳酸メチルなどが挙げられ、これらは単独
で、あるいは混合して使用することができる。Solvents used when applying the photosensitive composition of the present invention include methanol, ethanol, propanol, acetone, methylene chloride, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, tetrahydrofuran, N-N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, ethylene glycol Monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl lactate and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination.
【0024】本発明の感光性組成物を感光性平版印刷版
の感光層として用いる場合、その支持体としては、紙、
プラスチックフィルム、あるいは銅、亜鉛、アルミニウ
ム、ステンレスなどの金属板、さらにこれらを二種以上
組み合わせた複合材料を用いることができる。これらの
中で、特にブラシまたはボール研磨したアルミニウム
板、ブラシ研磨したのち陽極酸化処理を施したアルミニ
ウム板、電解研磨したのち陽極酸化を施したアルミニウ
ム板、あるいはこれらを組み合わせた処理を施したアル
ミニウム板が好ましい。When the photosensitive composition of the present invention is used as a photosensitive layer of a photosensitive lithographic printing plate, the support may be paper,
A plastic film, a metal plate of copper, zinc, aluminum, stainless steel, or the like, or a composite material of a combination of two or more thereof can be used. Among these, particularly, an aluminum plate polished with a brush or a ball, an aluminum plate polished with a brush and then subjected to anodization, an aluminum plate subjected to anodization after being polished electrolytically, or an aluminum plate treated with a combination thereof Is preferred.
【0025】このような前処理を施したアルミニウム板
に、さらにケイ酸アルカリ、リン酸ソーダ、フッ化ナト
リウム、フッ化ジルコニウム、アルキルチタネート、ト
リヒドロキシ安息香酸などの単独溶液あるいは混合溶液
による化成処理や、ベーマイト処理あるいは酢酸ストロ
ンチウム、酢酸亜鉛、酢酸マグネシウム、安息香酸カル
シウムなどの水溶液による被覆処理、ポリビニルピロリ
ドン、ポリアミンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、
ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ−2−ヒドロ
キシエチルアクリレートなどによる被覆処理を後処理と
して行うこともできる。The aluminum plate subjected to such a pretreatment is further subjected to a chemical conversion treatment using a single solution or a mixed solution of alkali silicate, sodium phosphate, sodium fluoride, zirconium fluoride, alkyl titanate, trihydroxybenzoic acid, or the like. , Boehmite treatment or coating treatment with an aqueous solution such as strontium acetate, zinc acetate, magnesium acetate, calcium benzoate, polyvinyl pyrrolidone, polyamine sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid,
Coating treatment with polyacrylic acid, polymethacrylic acid, poly-2-hydroxyethyl acrylate, or the like can also be performed as a post-treatment.
【0026】本発明の感光性組成物によって形成された
感光層上には、感光速度を早めたり、あるいは保存安定
性の劣化などを防止するために、感光層上に剥離可能な
透明カバーシートを設けたり、酸素透過性が少なく、し
かも現像時に除去可能なポリマー、例えばポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、水
溶性ナイロン、セルロース化合物などによる被覆層を設
けることもできる。また、上記の感光層上には、フィル
ムとの真空密着性を良くさせる目的で、マット層を設け
ることもできる。On the photosensitive layer formed by the photosensitive composition of the present invention, a transparent cover sheet that can be peeled off from the photosensitive layer is used in order to increase the photosensitive speed or prevent deterioration of storage stability. It is also possible to provide a coating layer of a polymer having a low oxygen permeability and being removable at the time of development, such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, water-soluble nylon, and a cellulose compound. Further, a mat layer may be provided on the photosensitive layer for the purpose of improving the vacuum adhesion to the film.
【0027】本発明の感光性組成物に活性光線を照射す
るための光源としては、水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク
灯、アルゴンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザ
ー、エキシマレーザーなどを用いることができる。As a light source for irradiating the photosensitive composition of the present invention with actinic rays, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, an argon laser, a helium / cadmium laser, an excimer laser or the like is used. be able to.
【0028】本発明の感光性組成物に対する現像液とし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナト
リウム、メタケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸ナトリウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、オ
クタン酸ナトリウム塩、モノエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルア
ンモニウムハイドロオキサイドなどのアルカリ性化合物
の水溶液が挙げられる。上記のアルカリ性水溶液には、
必要に応じて活性剤を添加することができる。活性剤と
しては陰イオン界面活性剤あるいは両性界面活性剤を使
用することができる。Examples of the developer for the photosensitive composition of the present invention include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium silicate, sodium metasilicate, sodium orthosilicate, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate and octanoic acid. An aqueous solution of an alkaline compound such as sodium salt, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, and tetramethylammonium hydroxide can be used. In the above alkaline aqueous solution,
Activators can be added as needed. As the surfactant, an anionic surfactant or an amphoteric surfactant can be used.
【0029】[0029]
【作 用】本発明方法により得られる感光性組成物によ
り、支持体との接着性は改良され、高感度と十分な耐刷
性を得ることができ、保存性、特に対湿性も損なわれる
ことがないため、湿気を帯びても汚れにくい。また、本
発明による感光性組成物は、水性アルカリ性現像液での
現像が可能である。The photosensitive composition obtained by the method of the present invention improves the adhesion to a support, provides high sensitivity and sufficient printing durability, and also impairs the storage stability, especially the moisture resistance. Because there is no, it is hard to get dirty even if it gets wet. The photosensitive composition according to the present invention can be developed with an aqueous alkaline developer.
【0030】[0030]
【実施例】以下、実施例に基づき本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれにより限定されるものではな
い。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.
【0031】実施例1、2、3:比較例 実施例1 厚さ0.24mm、幅1000mmのアルミニウム板
(材質1050)をアルカリ脱脂したのち、珪石パウダ
ーの水懸濁液をかけながらナイロンブラシで表面を研磨
し、その後よく水洗した。次いで70℃、20重量%の
カセイソーダ液を5秒間かけ流し、表面を3g/m2 エ
ッチングしたのち、流水で水洗し、塩酸(35g/
l)、ホウ酸(20g/l)およびアルミニウムイオン
(20g/l)からなる電解液中25℃で30A/dm
2 の電流密度で30秒間電解研磨し、水洗した。次に、
70℃、20%重量のカセイソーダ液をかけ流して表面
をエッチングし、さらに水洗を行ない、次いで30℃の
10重量%硫酸水溶液中で陽極酸化処理を行って、2.
0g/m2 の酸化被膜を形成させた。次いで、5重量%
リン酸一ナトリウムと0.2重量%フッ化ナトリウムの
混合溶液に70℃で15秒間浸漬し、水洗し、乾燥し
た。Examples 1, 2, and 3: Comparative Examples Example 1 An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.24 mm and a width of 1000 mm was degreased with an alkali, and then sprinkled with an aqueous suspension of silica powder using a nylon brush. The surface was polished and then washed well with water. Next, a 20% by weight caustic soda solution was poured at 70 ° C. for 5 seconds, the surface was etched at 3 g / m 2 , then washed with running water, and hydrochloric acid (35 g / m 2).
l), boric acid (20 g / l) and aluminum ion (20 g / l) in an electrolyte at 25 ° C. and 30 A / dm.
It was electropolished at a current density of 2 for 30 seconds and washed with water. next,
1. The surface is etched by pouring a 20% by weight caustic soda solution at 70 ° C., followed by washing with water, and then anodizing in a 10% by weight sulfuric acid aqueous solution at 30 ° C.
An oxide film of 0 g / m 2 was formed. Next, 5% by weight
It was immersed in a mixed solution of monosodium phosphate and 0.2% by weight of sodium fluoride at 70 ° C. for 15 seconds, washed with water, and dried.
【0032】このようにして得られたアルミニウム板上
に下記組成の感光性組成物(感光液1)を乾燥後の塗膜
重量が1.0g/m2 になるように塗布して、乾燥し、
感光性印刷版1を製造した。 感光液1 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 5g 光重合開始剤;N, N′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 0.15g ケトクマリン 0.15g 2,4,6−トリス(トリクロロメチル)− S−トリアジン 0.15g N−〔2−(メタクリロイルオキシ)エチル〕−2,3− ジメチルマレイミド/メタクリル酸=80/20(モル比)共重合体 6g 光増感剤;2,4−ジエチルチオキサントン 1g クリスタルバイオレット 0.15g プロピレングリコールモノメチルエーテル 70g エチレングリコールモノメチルエーテル 70gThe thus obtained photosensitive composition (photosensitive solution 1) was applied onto the aluminum plate so as to obtain a coating film weight of 1.0 g / m 2 after drying, and dried. ,
A photosensitive printing plate 1 was manufactured. Photosensitive solution 1 Pentaerythritol tetraacrylate 5 g Photopolymerization initiator; N, N'-bis (diethylamino) benzophenone 0.15 g Ketocoumarin 0.15 g 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine 0.15 g N- [2- (methacryloyloxy) ethyl] -2,3-dimethylmaleimide / methacrylic acid = 80/20 (molar ratio) copolymer 6 g Photosensitizer; 2,4-diethylthioxanthone 1 g Crystal violet 0.15 g Propylene glycol Monomethyl ether 70g Ethylene glycol monomethyl ether 70g
【0033】実施例2 実施例1と同じようにアルミニウム支持体を作り、下記
組成の感光液2を乾燥後の塗膜重量が1.0g/m2 に
なるように塗布し、乾燥し、感光性印刷版2を製造し
た。 感光液2 ペンタエリスリトールトリアクリレート 4g 光重合開始剤;2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンジリデン) シクロペンタノン 0.15g 2−メルカプトベンゾチアゾール 0.15g 2−クロロフェニル−4,5−ジフェニルイミダゾール 二量体 0.15g N−〔2−(メタクリロイルオキシ)エチル〕−2,3− ジメチルマレイミド/メタクリル酸=80/20(モル比)共重合体 6g 光増感剤;2,4−ジエチルチオキサントン 1g オイルブルー#613(オリエント化学工業株式会社製) 0.20g プロピレングリコールモノメチルエーテル 70g エチレングリコールモノメチルエーテル 70gExample 2 An aluminum support was prepared in the same manner as in Example 1, and a photosensitive solution 2 having the following composition was applied so that the coating weight after drying was 1.0 g / m 2 , dried, and dried. Printing plate 2 was produced. Photosensitive solution 2 Pentaerythritol triacrylate 4 g Photopolymerization initiator; 2,5-bis (4'-diethylaminobenzylidene) cyclopentanone 0.15 g 2-mercaptobenzothiazole 0.15 g 2-chlorophenyl-4,5-diphenylimidazole 2 0.15 g N- [2- (methacryloyloxy) ethyl] -2,3-dimethylmaleimide / methacrylic acid = 80/20 (molar ratio) copolymer 6 g Photosensitizer; 2,4-diethylthioxanthone 1 g Oil Blue # 613 (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) 0.20 g Propylene glycol monomethyl ether 70 g Ethylene glycol monomethyl ether 70 g
【0034】実施例3 実施例2で製造した感光性印刷版2の感光層上にポリビ
ニルアルコール(日本合成化学工業社製 GL−05
F)の3%水溶液を乾燥塗布重量が1.0g/m 2 とな
るように塗布し、乾燥し、感光性印刷版3を製造した。Example 3 The photosensitive printing plate 2 produced in Example 2
Nyl alcohol (GL-05 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
A 3% aqueous solution of F) has a dry coating weight of 1.0 g / m TwoTona
And dried to produce a photosensitive printing plate 3.
【0035】比較例 比較例として、実施例1と同じように作ったアルミニウ
ム支持体に、下記組成の感光液3を乾燥後の塗膜重量が
1.0g/m2 になるように塗布し、乾燥し、感光性印
刷版4を製造した。 感光液3 N−〔2−(メタクリロイルオキシ)エチル〕−2,3− ジメチルマレイミド/メタクリル酸=80/20(モル比)共重合体 6g 光増感剤;2,4−ジエチルチオキサントン 1g クリスタルバイオレット 0.15g プロピレングリコールモノメチルエーテル 60g エチレングリコールモノメチルエーテル 60gComparative Example As a comparative example, a photosensitive solution 3 having the following composition was applied to an aluminum support prepared in the same manner as in Example 1 so that the coating weight after drying was 1.0 g / m 2 . It dried and the photosensitive printing plate 4 was manufactured. Photosensitive solution 3 N- [2- (methacryloyloxy) ethyl] -2,3-dimethylmaleimide / methacrylic acid = 80/20 (molar ratio) copolymer 6 g Photosensitizer; 2,4-diethylthioxanthone 1 g Crystal violet 0.15 g Propylene glycol monomethyl ether 60 g Ethylene glycol monomethyl ether 60 g
【0036】このようにして得られた感光性平版印刷版
に、ネガフィルム及びコダック社製ステップタブレット
No.2を真空密着し、2KW高圧水銀灯を用いて、距
離1mで20秒間紫外線を照射し、下記組成の現像液中
25℃、30秒間浸漬して現像し、平版印刷版試料を得
た。 現像液組成 JIS3号ケイ酸ナトリウム 20g 水酸化カリウム 12g アモーゲンK(第一工業製薬株式会社製) 0.8g 水 1kgTo the photosensitive lithographic printing plate thus obtained, a negative film and Step Tablet No. 2 was vacuum-adhered, irradiated with ultraviolet rays at a distance of 1 m for 20 seconds using a 2 KW high-pressure mercury lamp, immersed in a developer having the following composition at 25 ° C. for 30 seconds, and developed to obtain a planographic printing plate sample. Developer composition JIS No. 3 sodium silicate 20 g Potassium hydroxide 12 g Amogen K (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 0.8 g Water 1 kg
【0037】続いて次のテストを行った。 (1)感度 ステップタブレットのベタ段数を読む。 (2)こすりテスト(接着力テスト) 現像後、画像部分をコスリ、画像のハガレおよび傷の付
き具合をみる。 (3)耐刷力テスト 各印刷版をオフセット印刷機にかけ、良好な印刷物が得
られた枚数を調べる。これらの結果を表1に示す。Subsequently, the following test was performed. (1) Sensitivity Read the solid number of steps on the step tablet. (2) Rubbing test (adhesion test) After development, the image portion is inspected for damage, image peeling, and damage. (3) Printing durability test Each printing plate is set on an offset printing press to check the number of sheets on which a good printed matter is obtained. Table 1 shows the results.
【0038】[0038]
【表1】 [Table 1]
【0039】表1に示す結果から明かなように、実施例
1,2および3で得られた平版印刷版は、比較例で得ら
れた印刷版よりも、感度、接着力および耐刷力のいずれ
においても優れた版である。As is evident from the results shown in Table 1, the planographic printing plates obtained in Examples 1, 2 and 3 have higher sensitivity, adhesive strength and printing durability than the printing plates obtained in Comparative Examples. Both are excellent versions.
【0040】[0040]
【発明の効果】本発明の感光性組成物は高感度でかつア
ルカリ水溶液で現像出来、印刷版として用いた場合に
は、接着性に優れた高耐刷性のある平版印刷版を与える
ことができる。The photosensitive composition of the present invention has high sensitivity and can be developed with an aqueous alkali solution, and when used as a printing plate, gives a planographic printing plate having excellent adhesion and high printing durability. it can.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/038 G03F 7/027 G03F 7/028 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 7/038 G03F 7/027 G03F 7/028
Claims (2)
する重合可能な化合物、光重合開始剤、および下記一般
式で表されるモノマーと、分子中にアルカリ可溶性基を
有するビニルモノマーとを共重合させたマレイミド基を
有する光架橋可能な重合体を含有することを特徴とする
感光性組成物。 【化1】 (上式中、R、R 1 およびR 2 は水素原子またはメチル基
を表し、nは1〜6の整数を示す。) 1. A ethylenically unsaturated double bond polymerizable compound having two or more photopolymerization initiators, and the following general
A monomer represented by the formula and an alkali-soluble group in the molecule
A photosensitive composition comprising a photo-crosslinkable polymer having a maleimide group copolymerized with a vinyl monomer having the same. Embedded image (Wherein R, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or a methyl group
And n represents an integer of 1 to 6. )
能な化合物を該感光性組成物全成分に対し5〜60重量
%、光重合開始剤をこの重合可能な化合物に対して0.
1〜50重量%、およびマレイミド基を有する光架橋可
能な重合体を該感光性組成物全成分に対し30〜95重
量%を含有することを特徴とする感光性組成物。2. A polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond in an amount of 5 to 60% by weight based on the total weight of the photosensitive composition, and a photopolymerization initiator in an amount of 0.
A photosensitive composition comprising 1 to 50% by weight, and 30 to 95% by weight of a photocrosslinkable polymer having a maleimide group based on all components of the photosensitive composition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18213392A JP3167429B2 (en) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | Photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18213392A JP3167429B2 (en) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | Photosensitive composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0627659A JPH0627659A (en) | 1994-02-04 |
| JP3167429B2 true JP3167429B2 (en) | 2001-05-21 |
Family
ID=16112916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18213392A Expired - Fee Related JP3167429B2 (en) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | Photosensitive composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3167429B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6329443B1 (en) | 1997-06-20 | 2001-12-11 | Toagosei Co, Ltd. | Acrylates and actinic radiation-curable compositions containing them |
| KR100876990B1 (en) * | 2004-07-26 | 2009-01-07 | 인텔 코포레이션 | Conditioning Assembly and Method for Polishing Semiconductor Wafers |
| CN102037346B (en) * | 2008-04-16 | 2013-04-10 | 明智全像公司 | Photopolymerizable compositions |
-
1992
- 1992-07-09 JP JP18213392A patent/JP3167429B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0627659A (en) | 1994-02-04 |
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