JP3153625B2 - 平面度測定方法 - Google Patents
平面度測定方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、器材の平面度の超精密
測定及び超精密加工の評価において、測定結果の評価に
基づき詳細再測定を必要とする平面度測定方法に係わる
もので、再現性のある詳細再測定を可能とする平面度測
定方法に関する。
測定及び超精密加工の評価において、測定結果の評価に
基づき詳細再測定を必要とする平面度測定方法に係わる
もので、再現性のある詳細再測定を可能とする平面度測
定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】超精密測定では、測定物の測定を行なっ
た後その測定結果を詳細に評価し、結果によっては測定
物のある一部分をさらに詳細に調査検討する場合があ
る。その場合、 当該部分のデ−タを全体のデ−タか
ら抜き出して表示する。 当該部分を再設定し、詳細
再測定をする。上記の方法がある。の方法では、
デ−タの密度が全体の密度と同じなので、詳細な情報が
えられない。詳細な情報を得るためには膨大なデ−タ量
を必要とし、コンピュ−タの記憶容量及び処理能力が問
題になる。の方法では、再測定のための設定には複雑
で面倒な手続きが必要とされ、測定物の再度取り付けを
行なうため再現性が得られにくい問題がある。
た後その測定結果を詳細に評価し、結果によっては測定
物のある一部分をさらに詳細に調査検討する場合があ
る。その場合、 当該部分のデ−タを全体のデ−タか
ら抜き出して表示する。 当該部分を再設定し、詳細
再測定をする。上記の方法がある。の方法では、
デ−タの密度が全体の密度と同じなので、詳細な情報が
えられない。詳細な情報を得るためには膨大なデ−タ量
を必要とし、コンピュ−タの記憶容量及び処理能力が問
題になる。の方法では、再測定のための設定には複雑
で面倒な手続きが必要とされ、測定物の再度取り付けを
行なうため再現性が得られにくい問題がある。
【０００３】上記の詳細再測定の実施のためには、再
測定の設定に必要な複雑で面倒な手続きを皆無とし、且
つ再現性のある平面度測定器が必要とされるが、そのよ
うな性能を持つ測定器が最近本願出願人等により［ＵＰ
Ｆ−３３０］として発表されているので、該ＵＰＦ−３
３０について以下に従来の平面度測定器の性能と比較す
るなかで説明する。
測定の設定に必要な複雑で面倒な手続きを皆無とし、且
つ再現性のある平面度測定器が必要とされるが、そのよ
うな性能を持つ測定器が最近本願出願人等により［ＵＰ
Ｆ−３３０］として発表されているので、該ＵＰＦ−３
３０について以下に従来の平面度測定器の性能と比較す
るなかで説明する。
【０００４】従来使用されてきた平面度測定方法は、測
定物の大きさや要求精度によって異なる。即ち測定物の
大きさが１０ｍｍ□以上の精密加工部品に対する高精度
高分解能の測定方法は、光波干渉方式による測定方法
と高精度ガイドウエイと微小変位計とを組合せた方法
とがある。の光波干渉方式による方法は、オプチカル
フラットやプリズムレンズを用いたものである。この方
法は、測定時間は短時間で高精度であるが、レンズの大
きさや精度に限界があり一般では測定範囲は２５０ｍｍ
□以下で、且つ段差や溝のある不連続の平面を持つ測定
物の測定は困難である。の高精度ガイドウエイと微小
変位計との組合せによる方法には、高精度の運動精度を
持つエアガイドウエイと高分解能の測定ヘッドである微
小変位計とを組み合わせた高精度の方式として前記ＵＰ
Ｆ−３３０がある。
定物の大きさや要求精度によって異なる。即ち測定物の
大きさが１０ｍｍ□以上の精密加工部品に対する高精度
高分解能の測定方法は、光波干渉方式による測定方法
と高精度ガイドウエイと微小変位計とを組合せた方法
とがある。の光波干渉方式による方法は、オプチカル
フラットやプリズムレンズを用いたものである。この方
法は、測定時間は短時間で高精度であるが、レンズの大
きさや精度に限界があり一般では測定範囲は２５０ｍｍ
□以下で、且つ段差や溝のある不連続の平面を持つ測定
物の測定は困難である。の高精度ガイドウエイと微小
変位計との組合せによる方法には、高精度の運動精度を
持つエアガイドウエイと高分解能の測定ヘッドである微
小変位計とを組み合わせた高精度の方式として前記ＵＰ
Ｆ−３３０がある。
【０００５】上記の方法は測定範囲もさることながら
不連続な平面を持つ測定物には測定困難という欠点を持
っているため、本発明の詳細再測定には使用できない。
の測定方法は、測定物の再セットを不必要とするこ
と、それに由来する設定条件の再設定等の煩雑な手続き
を皆無とすることとにより再現性が充分に期待できる機
能を持つもので、その詳細について前記ＵＰＦ−３３０
をその例に取り以下に説明する。図４に示すように、Ｕ
ＰＦ−３３０は次の構造を持つ。定盤１上にＸ軸（左右
移動軸）とＹ軸とを設け、Ｘ軸の可動子（スライダ）２
に測定ヘッドである微小変位計３が設置され、Ｙ軸の可
動子４の上面にはアラインメント定盤５が設けられその
上に被測定物のワ−クが置かれるようにしてある。Ｘ軸
とＹ軸のスライダの運動で形成される平面によりこの測
定方法の基準面を形成させている。この基準面に対し前
記微小変位計で、前記ワ−クの平面度であるＺ軸方向の
値を測定するようにしてある。この装置における測定範
囲はＸ、Ｙ軸のスライダのストロ−クにより決定され、
総合精度は前記Ｘ，Ｙ軸のスライダの真直度により決ま
る運動精度と前記微小変位計の分解能により決定され
る。測定範囲は、上記のようにして決まるが通常光波干
渉方式よりも大きく、且つ測定ヘッドの選択により、段
差や溝等がある不連続な面の平面度の測定ができるよう
にしてある。但し前記段差の大きさや溝の深さは測定ヘ
ッドの高さ方向の測定範囲内であることは勿論である。
又、測定環境の影響因子のうち、温度に対しては低熱膨
張係数の器材を用い、外部振動に対しては定盤の材料に
振動に対し減衰特性のよい石（グラナイト）を用い、そ
の土台に振動を吸収するエアサスペンションを使用して
いる。上記構造により高い再現性がえられるようにして
ある。
不連続な平面を持つ測定物には測定困難という欠点を持
っているため、本発明の詳細再測定には使用できない。
の測定方法は、測定物の再セットを不必要とするこ
と、それに由来する設定条件の再設定等の煩雑な手続き
を皆無とすることとにより再現性が充分に期待できる機
能を持つもので、その詳細について前記ＵＰＦ−３３０
をその例に取り以下に説明する。図４に示すように、Ｕ
ＰＦ−３３０は次の構造を持つ。定盤１上にＸ軸（左右
移動軸）とＹ軸とを設け、Ｘ軸の可動子（スライダ）２
に測定ヘッドである微小変位計３が設置され、Ｙ軸の可
動子４の上面にはアラインメント定盤５が設けられその
上に被測定物のワ−クが置かれるようにしてある。Ｘ軸
とＹ軸のスライダの運動で形成される平面によりこの測
定方法の基準面を形成させている。この基準面に対し前
記微小変位計で、前記ワ−クの平面度であるＺ軸方向の
値を測定するようにしてある。この装置における測定範
囲はＸ、Ｙ軸のスライダのストロ−クにより決定され、
総合精度は前記Ｘ，Ｙ軸のスライダの真直度により決ま
る運動精度と前記微小変位計の分解能により決定され
る。測定範囲は、上記のようにして決まるが通常光波干
渉方式よりも大きく、且つ測定ヘッドの選択により、段
差や溝等がある不連続な面の平面度の測定ができるよう
にしてある。但し前記段差の大きさや溝の深さは測定ヘ
ッドの高さ方向の測定範囲内であることは勿論である。
又、測定環境の影響因子のうち、温度に対しては低熱膨
張係数の器材を用い、外部振動に対しては定盤の材料に
振動に対し減衰特性のよい石（グラナイト）を用い、そ
の土台に振動を吸収するエアサスペンションを使用して
いる。上記構造により高い再現性がえられるようにして
ある。
【０００６】尚、ＵＰＦ−３３０のデ−タ処理と表示機
能は、次の通りである。測定、デ−タ処理、結果の表示
など一連の動作はコンピュ−タにより制御され次のよう
な特徴を持つ構成にしてある。 鳥瞰図によるデ−タの３次元的表示 断面図によるデ−タの２次元表示 等高線図の表示 Ｚ軸スケ−ルの変更による形状の凹凸度合いの強弱 アラインメント（レベル調整）のソフトウエアアシ
スト 測定感度を自在に設定でき、各種の測定ヘッドに対
応できる 基準面の設定が変更できる
能は、次の通りである。測定、デ−タ処理、結果の表示
など一連の動作はコンピュ−タにより制御され次のよう
な特徴を持つ構成にしてある。 鳥瞰図によるデ−タの３次元的表示 断面図によるデ−タの２次元表示 等高線図の表示 Ｚ軸スケ−ルの変更による形状の凹凸度合いの強弱 アラインメント（レベル調整）のソフトウエアアシ
スト 測定感度を自在に設定でき、各種の測定ヘッドに対
応できる 基準面の設定が変更できる
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、詳細部
分の再測定に関連して次の問題がある。即ち、デ−タ数
の問題と再現性の問題に係わっているわけで、 この
デ−タ量を基に測定した場合、例えば１００ｍｍ□全体
を１万点で測定すると１ｍｍ□のデ−タ点数は１点であ
り、１ｍｍ□の部分情報を詳細に評価するすることが出
来ない。逆に１ｍｍ□の情報を詳細に得るために、その
部分のデ−タ点数を１万点にすると全体のデ−タ量は１
億点になり、コンピ−タのシステムに大きな負担がかか
りパソコン程度のＣＰＵではとても処理できかねる問題
がある。一方、測定したデ−タから詳細再測定をする
ための測定範囲を割り出し再測定する場合は、改めて設
定条件を決め直すため小範囲の測定範囲に高いデ−タ点
数を持つことが出来、例えば１ｍｍ□に１万点が測定で
き詳細な情報が得られる。然し再測定するためには、測
定条件の再設定や測定物の再度取り付けとその調整等、
超精密測定のための煩雑且つ困難な手続きをするための
二重の手間がかかる。又、測定物の再セットなどの手順
上、測定結果において再現性が得にくい問題がある。
分の再測定に関連して次の問題がある。即ち、デ−タ数
の問題と再現性の問題に係わっているわけで、 この
デ−タ量を基に測定した場合、例えば１００ｍｍ□全体
を１万点で測定すると１ｍｍ□のデ−タ点数は１点であ
り、１ｍｍ□の部分情報を詳細に評価するすることが出
来ない。逆に１ｍｍ□の情報を詳細に得るために、その
部分のデ−タ点数を１万点にすると全体のデ−タ量は１
億点になり、コンピ−タのシステムに大きな負担がかか
りパソコン程度のＣＰＵではとても処理できかねる問題
がある。一方、測定したデ−タから詳細再測定をする
ための測定範囲を割り出し再測定する場合は、改めて設
定条件を決め直すため小範囲の測定範囲に高いデ−タ点
数を持つことが出来、例えば１ｍｍ□に１万点が測定で
き詳細な情報が得られる。然し再測定するためには、測
定条件の再設定や測定物の再度取り付けとその調整等、
超精密測定のための煩雑且つ困難な手続きをするための
二重の手間がかかる。又、測定物の再セットなどの手順
上、測定結果において再現性が得にくい問題がある。
【０００８】本発明は、上記の場合の再測定実施のた
め、測定物の再度設定と再調整を皆無とし、且つ測定条
件の再設定等における煩雑な手続きを容易にし、且つ再
現性の得られる前記ＵＰＦ−３３０を使用して、詳細再
測定を可能とする平面度測定方法の提供を目的とする。
め、測定物の再度設定と再調整を皆無とし、且つ測定条
件の再設定等における煩雑な手続きを容易にし、且つ再
現性の得られる前記ＵＰＦ−３３０を使用して、詳細再
測定を可能とする平面度測定方法の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる技術的課
題を達成するために、 本発明は、詳細再測定に際
し、測定物の再セットの必要がない再現性のある平面度
測定装置（ＵＰＦ−３３０）を使用し、測定したデ−タ
から測定エリアを割り出し詳細再測定をする測定方法で
あること。その測定方法の手順は、、測定物の測定エ
リア全体にわたる全体測定を実施する第１ステップと前
記全体測定の測定結果の表示し、該表示した測定結果に
基づいて詳細再測定の要不要の判断を行った後、再測定
を必要とする場合の測定位置の割り出しをする第２ステ
ップと、前記測定結果の表示デ−タを基に詳細再測定の
測定エリアとデ−タ点数の設定を行なう第３ステップ
と、測定物がステップ１の測定状態と同じ状態を維持し
て詳細再測定を実施する第４ステップと、詳細再測定の
結果を表示する第５ステップとよりなることを特徴とす
る再現性のある詳細再測定を可能とする平面度測定方法
にある。
題を達成するために、 本発明は、詳細再測定に際
し、測定物の再セットの必要がない再現性のある平面度
測定装置（ＵＰＦ−３３０）を使用し、測定したデ−タ
から測定エリアを割り出し詳細再測定をする測定方法で
あること。その測定方法の手順は、、測定物の測定エ
リア全体にわたる全体測定を実施する第１ステップと前
記全体測定の測定結果の表示し、該表示した測定結果に
基づいて詳細再測定の要不要の判断を行った後、再測定
を必要とする場合の測定位置の割り出しをする第２ステ
ップと、前記測定結果の表示デ−タを基に詳細再測定の
測定エリアとデ−タ点数の設定を行なう第３ステップ
と、測定物がステップ１の測定状態と同じ状態を維持し
て詳細再測定を実施する第４ステップと、詳細再測定の
結果を表示する第５ステップとよりなることを特徴とす
る再現性のある詳細再測定を可能とする平面度測定方法
にある。
【００１０】
【作用】測定物を図４のアラインメント定盤５の上にセ
ットし、要求精度に応じて適当な微小変位計の選択取り
付けと感度調整をする。ついで第１ステップ１より第５
ステップ迄の手順を踏んで測定を実施することにより測
定物を再セットすることなく全体測定と詳細再測定を実
施すれば、再現性を低下させることなく全体の測定と全
く同じ状態で詳細再測定をすることが出来る。
ットし、要求精度に応じて適当な微小変位計の選択取り
付けと感度調整をする。ついで第１ステップ１より第５
ステップ迄の手順を踏んで測定を実施することにより測
定物を再セットすることなく全体測定と詳細再測定を実
施すれば、再現性を低下させることなく全体の測定と全
く同じ状態で詳細再測定をすることが出来る。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の好適な実施例
を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載され
ている構成部品の種類、材質、形状、その相対的配置等
は特に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲を
それに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎな
い。図１は、本発明の実施例に係わる平面度測定方法の
概略を示すフロ−チャ−トである。本発明は図１に示す
ように、ワ−クを平面度測定装置ＵＰＦ−３３０にセッ
トして測定を開始した後第１ステップ１から第５ステッ
プを経て測定終了に到るフロ−チャ−トにより測定を行
う平面度測定方法を示すものである。各ステップの構成
は下記の通りである。 第１ステップ −ａ 測定物の測定エリア全体にわたる全体測定のデ
−タ数や測定感度等のソフト面の準備をする。測定物の
取り付けと調整、及び測定ヘッドの選定、取り付け等の
ハ−ド面の準備及びレベル調整をする。 −ｂ 前項の操作の後、前記全体測定の実施をする。 第２ステップ −ａ 鳥瞰図によるデ−タの３次元的表示、断面図に
よるデ−タの２次元的表示、等高線図による表示のいず
れかの設定、及び形状の凹凸度合いの強弱の設定をする
等の表示の準備をする。 −ｂ 前項の操作の後、全体測定の結果を表示する。 −ｃ 前項による表示内容の検討をして、詳細再測定
をする必要があるかどうかを決定する。詳細再測定の必
要がある場合はその位置の割り出しをして次の第３ステ
ップに進み、詳細再測定の必要がない場合はＥｎｄに進
み測定は終了する。 第３ステップ 前項の決定による詳細再測定をする場合の測定エリアと
所要デ−タ点数を設定する。 第４ステップ −ａ 測定感度の設定とそれに対応する測定ヘッドの
選定と取り付け等ハ−ド面の準備をする。 −ｂ 前項の操作の後、詳細再測定を実施する。 第５ステップ −ａ 鳥瞰図による３次元的表示、断面図による２次
元的表示、等高線図による表示のいずれかの設定、及び
形状の凹凸度合いの強弱の設定をする等の準備をする。 −ｂ 前項の操作の後、詳細再測定の結果を表示す
る。 −ｃ 前項による表示内容を検討して、前記測定箇所
における再測定はこれで終わりとするか、又は充分でな
く詳細再測定を測定エリア、デ−タ点数等の何れか、又
はその両方を変えて再測定をする必要があるかを判断す
る。これで終わりとする場合は、次のステップ−ｄに
進む。再測定をする必要がある場合は、ステップ３に戻
り、詳細再測定を繰り返す。 −ｄ 詳細再測定の箇所は前記再測定で終わりかどう
かを判断する。終わりの場合は、Ｅｎｄへ進み詳細再測
定は終了する。終わりでなく別の場所にも詳細再測定を
する箇所がある場合は、ステップ−ｃへ戻り該測定の
位置を割り出し、詳細再測定を繰り返す。
を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載され
ている構成部品の種類、材質、形状、その相対的配置等
は特に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲を
それに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎな
い。図１は、本発明の実施例に係わる平面度測定方法の
概略を示すフロ−チャ−トである。本発明は図１に示す
ように、ワ−クを平面度測定装置ＵＰＦ−３３０にセッ
トして測定を開始した後第１ステップ１から第５ステッ
プを経て測定終了に到るフロ−チャ−トにより測定を行
う平面度測定方法を示すものである。各ステップの構成
は下記の通りである。 第１ステップ −ａ 測定物の測定エリア全体にわたる全体測定のデ
−タ数や測定感度等のソフト面の準備をする。測定物の
取り付けと調整、及び測定ヘッドの選定、取り付け等の
ハ−ド面の準備及びレベル調整をする。 −ｂ 前項の操作の後、前記全体測定の実施をする。 第２ステップ −ａ 鳥瞰図によるデ−タの３次元的表示、断面図に
よるデ−タの２次元的表示、等高線図による表示のいず
れかの設定、及び形状の凹凸度合いの強弱の設定をする
等の表示の準備をする。 −ｂ 前項の操作の後、全体測定の結果を表示する。 −ｃ 前項による表示内容の検討をして、詳細再測定
をする必要があるかどうかを決定する。詳細再測定の必
要がある場合はその位置の割り出しをして次の第３ステ
ップに進み、詳細再測定の必要がない場合はＥｎｄに進
み測定は終了する。 第３ステップ 前項の決定による詳細再測定をする場合の測定エリアと
所要デ−タ点数を設定する。 第４ステップ −ａ 測定感度の設定とそれに対応する測定ヘッドの
選定と取り付け等ハ−ド面の準備をする。 −ｂ 前項の操作の後、詳細再測定を実施する。 第５ステップ −ａ 鳥瞰図による３次元的表示、断面図による２次
元的表示、等高線図による表示のいずれかの設定、及び
形状の凹凸度合いの強弱の設定をする等の準備をする。 −ｂ 前項の操作の後、詳細再測定の結果を表示す
る。 −ｃ 前項による表示内容を検討して、前記測定箇所
における再測定はこれで終わりとするか、又は充分でな
く詳細再測定を測定エリア、デ−タ点数等の何れか、又
はその両方を変えて再測定をする必要があるかを判断す
る。これで終わりとする場合は、次のステップ−ｄに
進む。再測定をする必要がある場合は、ステップ３に戻
り、詳細再測定を繰り返す。 −ｄ 詳細再測定の箇所は前記再測定で終わりかどう
かを判断する。終わりの場合は、Ｅｎｄへ進み詳細再測
定は終了する。終わりでなく別の場所にも詳細再測定を
する箇所がある場合は、ステップ−ｃへ戻り該測定の
位置を割り出し、詳細再測定を繰り返す。
【００１２】斯かる手順における実施例によれば、第１
ステップにおいて実施された全体測定の結果は、第２ス
テップの−ａで予め設定された表示内容に基付き−
ｂでコンピュ−タのディスプレイ上に図２に示すように
表示される。（図示の場合は、断面図によるデ−タの２
次元的表示である。）ついで−ｃで前記表示内容につ
いて、詳細再測定の必要があるかどうかが判断され、こ
の場合はＹＥＳとなってその測定位置としては図２のＡ
部が割出されている。次に第３ステップで、前記Ａ部の
測定エリアと所要デ−タ点数が設定される。尚この測定
エリアは前記測定結果の表示内容により決定される詳細
再測定の測定箇所に応じ、その大きさは任意に変えるこ
とが出来ることは勿論である。又、ＬＴＶ評価において
ウエハのセルサイズが既に決まっているときは、当該セ
ルに指定することが出来るとともにその大きさも任意に
設定できる。ついで第４ステップで前記設定された測定
エリアの大きさと所要デ−タ点数を使用して、前記Ａ部
の詳細再測定が実施され、第５ステップでその測定結果
が図３に示すようにディスプレイ上に表示される。（こ
の場合は、断面図による２次元的表示である。）尚前記
第２ステップと第５ステップにおける測定結果の表示
は、ディスプレイ上で重ねあわせ比較表示が出来る。第
５ステップの−ｃにおいては、前記同じＡ部の測定で
も場合によっては、測定エリアの大きさとデ−タ点数の
何れか一方又はその両方を変えて、再測定できることを
示している。又、第５ステップの−ｄにおいては、前
記Ａ部以外にも詳細再測定箇所があるときは、何回でも
所要に応じて複数回の再測定ができることを示してい
る。
ステップにおいて実施された全体測定の結果は、第２ス
テップの−ａで予め設定された表示内容に基付き−
ｂでコンピュ−タのディスプレイ上に図２に示すように
表示される。（図示の場合は、断面図によるデ−タの２
次元的表示である。）ついで−ｃで前記表示内容につ
いて、詳細再測定の必要があるかどうかが判断され、こ
の場合はＹＥＳとなってその測定位置としては図２のＡ
部が割出されている。次に第３ステップで、前記Ａ部の
測定エリアと所要デ−タ点数が設定される。尚この測定
エリアは前記測定結果の表示内容により決定される詳細
再測定の測定箇所に応じ、その大きさは任意に変えるこ
とが出来ることは勿論である。又、ＬＴＶ評価において
ウエハのセルサイズが既に決まっているときは、当該セ
ルに指定することが出来るとともにその大きさも任意に
設定できる。ついで第４ステップで前記設定された測定
エリアの大きさと所要デ−タ点数を使用して、前記Ａ部
の詳細再測定が実施され、第５ステップでその測定結果
が図３に示すようにディスプレイ上に表示される。（こ
の場合は、断面図による２次元的表示である。）尚前記
第２ステップと第５ステップにおける測定結果の表示
は、ディスプレイ上で重ねあわせ比較表示が出来る。第
５ステップの−ｃにおいては、前記同じＡ部の測定で
も場合によっては、測定エリアの大きさとデ−タ点数の
何れか一方又はその両方を変えて、再測定できることを
示している。又、第５ステップの−ｄにおいては、前
記Ａ部以外にも詳細再測定箇所があるときは、何回でも
所要に応じて複数回の再測定ができることを示してい
る。
【００１３】
【発明の効果】以上記載した如く本発明によれば、下記
に記載する効果を奏する。超精密加工物の詳細再測定に
際し最大許容デ−タ点数を増やすことなしに、細部の詳
細デ−タが得られる。且つコンピュ−タの演算速度を早
くすることができ、その処理はパソコンを使用しても効
率的に処理できる。又、前回の測定デ−タを基にして、
同一のデ−タ処理用プログラム上で次に行なう測定の測
定範囲やデ−タ点数を設定できる。
に記載する効果を奏する。超精密加工物の詳細再測定に
際し最大許容デ−タ点数を増やすことなしに、細部の詳
細デ−タが得られる。且つコンピュ−タの演算速度を早
くすることができ、その処理はパソコンを使用しても効
率的に処理できる。又、前回の測定デ−タを基にして、
同一のデ−タ処理用プログラム上で次に行なう測定の測
定範囲やデ−タ点数を設定できる。
【図１】本発明の平面度測定方法の概略を示すフロ−チ
ャ−トである。
ャ−トである。
【図２】図１のステップ２における全体測定の測定結果
の表示図である。
の表示図である。
【図３】図１のステップ５における詳細再測定の測定結
果の表示図である。
果の表示図である。
【図４】ＵＰＦ−３３０の測定部の概略の構造図であ
る。
る。
１ 定盤 ２ Ｘ軸の可動子 ３ 微小変位計 ４ Ｙ軸の可動子 ５ アラインメント定盤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 21/00 - 21/32 G01N 21/84 - 21/958 H01L 21/64 - 21/66
Claims (6)
- 【請求項１】 詳細再測定に際し、測定物の再セットの
必要がない再現性のある平面度測定装置を使用し、測定
したデ−タから測定エリアを割り出し詳細再測定をする
測定方法であって、 測定物の測定エリア全体にわたる全体測定を実施する第
１ステップと前記全体測定の測定結果の表示し、該表示
した測定結果に基づいて詳細再測定の要不要の判断を行
った後、再測定を必要とする場合の測定位置の割り出し
をする第２ステップと、 前記測定結果の表示デ−タを基に詳細再測定の測定エリ
アとデ−タ点数の設定を行なう第３ステップと、 測定物がステップ１の測定状態と同じ状態を維持して詳
細再測定を実施する第４ステップと、 詳細再測定の結果を表示する第５ステップとよりなるこ
とを特徴とする再現性のある詳細再測定を可能とする平
面度測定方法。 - 【請求項２】 前記第３ステップにおける詳細再測定の
測定エリアは、ＬＴＶ評価においてウエハのセルサイズ
が決まっているときは、当該セルに指定することを特徴
とする請求項１記載の平面度測定方法。 - 【請求項３】 前記請求項２記載の当該セルは、その大
きさの任意設定を可能としたことを特徴とする請求項２
記載の平面度測定方法。 - 【請求項４】 前記第３ステップにおける詳細再測定の
測定エリアの大きさは、任意に変えることが出来ること
を特徴とする請求項１記載の平面度測定方法。 - 【請求項５】 前記第３ステップにおける詳細再測定の
測定エリアの設定は、複数回出来ることを特徴とする請
求項１記載の平面度測定方法。 - 【請求項６】 前記第２ステップと第５ステップの結果
の表示は、ＣＲＴ等のディスプレイ上に重ねて出力する
ことが出来ることを特徴とする請求項１記載の平面度測
定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13561492A JP3153625B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | 平面度測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13561492A JP3153625B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | 平面度測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05306927A JPH05306927A (ja) | 1993-11-19 |
| JP3153625B2 true JP3153625B2 (ja) | 2001-04-09 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13561492A Expired - Fee Related JP3153625B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | 平面度測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3153625B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2161262A1 (en) | 2002-09-23 | 2010-03-10 | GW Pharma Limited | THCV and THCV extracts derived from plant material |
-
1992
- 1992-04-30 JP JP13561492A patent/JP3153625B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2161262A1 (en) | 2002-09-23 | 2010-03-10 | GW Pharma Limited | THCV and THCV extracts derived from plant material |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05306927A (ja) | 1993-11-19 |
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