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JP3037883B2 - Aluminum nitride sintered body, method for manufacturing the same and apparatus for manufacturing semiconductor - Google Patents

Aluminum nitride sintered body, method for manufacturing the same and apparatus for manufacturing semiconductor

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Publication number
JP3037883B2
JP3037883B2 JP7218158A JP21815895A JP3037883B2 JP 3037883 B2 JP3037883 B2 JP 3037883B2 JP 7218158 A JP7218158 A JP 7218158A JP 21815895 A JP21815895 A JP 21815895A JP 3037883 B2 JP3037883 B2 JP 3037883B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sintered body
aluminum nitride
nitride sintered
ppm
carbon
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP7218158A
Other languages
Japanese (ja)
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JPH0948668A (en
Inventor
小林  廣道
裕樹 別所
行正 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Priority to JP7218158A priority Critical patent/JP3037883B2/en
Application filed by NGK Insulators Ltd filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to EP99124534A priority patent/EP0992470B1/en
Priority to DE69635908T priority patent/DE69635908T2/en
Priority to EP96305580A priority patent/EP0757023B1/en
Priority to DE69610673T priority patent/DE69610673T2/en
Priority to US08/691,915 priority patent/US5728635A/en
Priority to KR1019960032318A priority patent/KR0185528B1/en
Publication of JPH0948668A publication Critical patent/JPH0948668A/en
Priority to US08/922,023 priority patent/US5908799A/en
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の技術分野】本発明は、窒化アルミニウム焼結体
およびその製造方法に関するものであり、またこうした
窒化アルミニウム焼結体を基材として利用した半導体製
造用装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum nitride sintered body and a method for producing the same, and also relates to a semiconductor manufacturing apparatus using such an aluminum nitride sintered body as a base material.

【0002】[0002]

【従来の技術】エッチング装置、化学的気相成長装置等
の半導体装置においては、いわゆるステンレスヒーター
や、間接加熱方式のヒーターが一般的であった。しか
し、これらの熱源を用いると、ハロゲン系腐食性ガスの
作用によってパーティクルが発生することがあり、また
熱効率が悪かった。こうした問題を解決するため、本出
願人は、緻密質セラミックス基材の内部に、高融点金属
からなるワイヤーを埋設したセラミックスヒーターを開
示した(特開平3−261131号公報)。このワイヤ
ーは、円盤状基材の内部で螺旋状に巻回されており、か
つこのワイヤーの両端に端子を接続する。こうしたセラ
ミックスヒーターは、特に半導体製造用として優れた特
性を有していることが判った。
2. Description of the Related Art In semiconductor devices such as an etching device and a chemical vapor deposition device, a so-called stainless steel heater and a heater of an indirect heating system are generally used. However, when these heat sources are used, particles may be generated by the action of the halogen-based corrosive gas, and the heat efficiency is poor. In order to solve such a problem, the present applicant has disclosed a ceramic heater in which a wire made of a high melting point metal is embedded in a dense ceramic base material (Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-261131). The wire is spirally wound inside the disc-shaped substrate, and terminals are connected to both ends of the wire. It has been found that such a ceramic heater has excellent characteristics especially for semiconductor production.

【0003】セラミックスヒーターの基体を構成するセ
ラミックスとしては、窒化珪素、窒化アルミニウム、サ
イアロン等の窒化物系セラミックスが好ましいと考えら
れている。また、セラミックスヒーター上にサセプター
を設置し、このサセプターの上に半導体ウエハーを設置
して、半導体ウエハーを加熱する場合がある。本出願人
は、こうしたセラミックスヒーターやサセプターの基材
として、窒化アルミニウムが好ましいことを開示した
(特開平5−101871号公報)。特に半導体製造装
置においては、エッチングガスやクリーニングガスとし
て、CF3 等のハロゲン系腐食性ガスを多用するが、こ
れらのハロゲン系腐食性ガスに対する耐蝕性の点で、窒
化アルミニウムがきわめて高度の耐食性を有しているこ
とが確認されたからである。
[0003] It is considered that nitride ceramics such as silicon nitride, aluminum nitride, and sialon are preferable as ceramics constituting the base of the ceramic heater. In some cases, a susceptor is installed on a ceramic heater, and a semiconductor wafer is installed on the susceptor to heat the semiconductor wafer. The present applicant has disclosed that aluminum nitride is preferable as the base material of such a ceramic heater or susceptor (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-101873). In particular, in a semiconductor manufacturing apparatus, a halogen-based corrosive gas such as CF 3 is frequently used as an etching gas and a cleaning gas. In terms of corrosion resistance to these halogen-based corrosive gases, aluminum nitride has a very high corrosion resistance. This is because it was confirmed that they had.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、窒化アルミニ
ウム焼結体自体は、一般的に白色又は灰白色を呈すると
いう特徴がある。しかし、前記のようなヒーター、サセ
プターとして使用される基材は、黒色であることが望ま
れる。黒色の基材の方が、白色の基材よりも輻射熱量が
多く、加熱特性が優れているからである。また、こうし
た種類の製品においては、白色や灰色の基材を使用する
と、製品の表面に色ムラが出やすいという欠点があり、
改善が要求されていた。更に、顧客の嗜好という点で、
白色や灰色の基材よりも、黒色、黒褐色、黒灰色等の黒
色度の高い、明度の小さな基材が望まれている。しか
も、白色や灰色の基材は、輻射特性が劣っている。
However, the aluminum nitride sintered body itself is generally characterized by exhibiting white or grayish white. However, it is desired that the substrate used as the above-described heater or susceptor be black. This is because a black base material has a larger amount of radiant heat and a better heating characteristic than a white base material. In addition, the use of white or gray substrates in these types of products has the disadvantage that color unevenness tends to appear on the product surface.
Improvement was required. Furthermore, in terms of customer preferences,
There is a demand for a base material having a higher blackness, such as black, black-brown, or black-gray, and a lower brightness than a white or gray base material. Moreover, white or gray substrates have poor radiation characteristics.

【0005】窒化アルミニウム焼結体を黒色にするため
には、原料粉末中に適切な金属元素(黒色化剤)を添加
し、これを焼成して、黒色の窒化アルミニウム焼結体を
製造することが知られている(特公平5−64697号
公報)。この添加物としては、タングステン、酸化チタ
ン、ニッケル、パラジウム等が知られている。
In order to make the aluminum nitride sintered body black, a suitable metal element (blackening agent) is added to the raw material powder, and the resultant is fired to produce a black aluminum nitride sintered body. Is known (Japanese Patent Publication No. 5-64697). As this additive, tungsten, titanium oxide, nickel, palladium and the like are known.

【0006】しかし、このように、金属元素を黒色化剤
として窒化アルミニウム焼結体中に添加すると、この添
加物の影響により、当然、窒化アルミニウム焼結体中の
金属不純物の含有量が大きくなる。特に、半導体製造プ
ロセスにおいては、窒化アルミニウム焼結体中に、Ia
族元素、IIa族元素、遷移金属元素が存在している
と、たとえその存在量が微量であっても、半導体ウエハ
ーや装置自体に対して、重大な悪影響を与えうる(例え
ば、半導体の欠陥等の原因となりうる)。このため、上
記のような黒色化剤を添加することなく、窒化アルミニ
ウム焼結体の明度を小さくすることが求められている。
However, when the metal element is added to the aluminum nitride sintered body as a blackening agent as described above, the content of metal impurities in the aluminum nitride sintered body naturally increases due to the effect of the additive. . In particular, in a semiconductor manufacturing process, Ia is contained in an aluminum nitride sintered body.
The presence of a group III element, a group IIa element, or a transition metal element can have a serious adverse effect on a semiconductor wafer or the device itself (for example, a defect of a semiconductor) Which can cause Therefore, it is required to reduce the brightness of the aluminum nitride sintered body without adding the above-described blackening agent.

【0007】本発明の課題は、窒化アルミニウム焼結体
に焼結助剤や黒色化剤のような金属化合物、特に重金属
化合物を添加することなく、窒化アルミニウム焼結体の
明度をN4以下にすることである。
An object of the present invention is to reduce the brightness of an aluminum nitride sintered body to N4 or less without adding a metal compound such as a sintering aid or a blackening agent, particularly a heavy metal compound, to the aluminum nitride sintered body. That is.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、窒化アルミニ
ウム焼結体であって、窒化アルミニウム焼結体に含有さ
れているアルミニウム以外の金属元素の含有量が100
ppm以下であり、窒化アルミニウム焼結体に含有され
ている炭素原子の割合が500ppm〜5000ppm
であり、窒化アルミニウムからなる主結晶相とALON
からなる副結晶相とカーボン相とからなり、(AlN)
x (Al2OC)1-x 相を実質的に含有せず、窒化アル
ミニウム焼結体のX線回折チャートにおいてX線回折角
度2θ=44°〜45°にカーボンのピークが検出さ
れ、カーボンのc軸面に対応するピークが検出されず、
JIS Z 8721に規定する明度がN4以下である
ことを特徴とする。
The present invention relates to an aluminum nitride sintered body, wherein the content of metal elements other than aluminum contained in the aluminum nitride sintered body is 100.
ppm or less, and the ratio of carbon atoms contained in the aluminum nitride sintered body is 500 ppm to 5000 ppm.
And the main crystal phase composed of aluminum nitride and ALON
(AlN) consisting of a sub-crystal phase consisting of
x (Al 2 OC) 1-x phase is not substantially contained, and a carbon peak is detected at an X-ray diffraction angle 2θ = 44 ° to 45 ° in an X-ray diffraction chart of the aluminum nitride sintered body. No peak corresponding to the c-axis plane is detected,
The brightness defined in JIS Z 8721 is not more than N4.

【0009】また、本発明は、半導体製造用装置におい
て、前記窒化アルミニウム焼結体を基材として使用して
いることを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that in the semiconductor manufacturing apparatus, the aluminum nitride sintered body is used as a base material.

【0010】本発明者は、窒化アルミニウム焼結体を研
究する過程で、アルミニウム以外には黒色化剤等の金属
元素をほとんど含有しておらず、しかも、特に好ましく
はJIS Z 8721に規定する明度がN4以下の黒
色を呈する、きわめて明度の低い黒灰色ないし黒褐色の
窒化アルミニウム焼結体を製造することに成功した。
In the course of researching an aluminum nitride sintered body, the present inventor hardly contained a metal element such as a blackening agent other than aluminum, and more preferably, a lightness defined in JIS Z 8721. Has succeeded in producing a black-gray or black-brown aluminum nitride sintered body having extremely low brightness, which exhibits a black color of N4 or less.

【0011】こうした窒化アルミニウム焼結体によれ
ば、好適な態様においては、JIS Z 8721に規
定する明度がN4以下の黒色を呈しているので、輻射熱
量が大きく、加熱特性が優れている。従って、セラミッ
クスヒーター、サセプター等の発熱材を構成する基材と
して、好適である。しかも、アルミニウムを除く金属元
素の含有量を非常に少なくすることができるので、半導
体汚染等を起こすおそれがない。特に、半導体製造プロ
セスにおいて、半導体ウエハーや装置自体に対して悪影
響を与えるおそれがない。しかも、本発明の窒化アルミ
ニウム焼結体の表面では、色ムラがほとんど目立つこと
はなく、窒化アルミニウム焼結体の外観がきわめて良好
となるし、しかも黒色度が高いことから、著しく商品価
値が向上した。
According to such an aluminum nitride sintered body, in a preferred embodiment, since the brightness specified in JIS Z 8721 is black, which is N4 or less, the amount of radiant heat is large and the heating characteristics are excellent. Therefore, it is suitable as a base material constituting a heating material such as a ceramic heater and a susceptor. In addition, since the content of metal elements other than aluminum can be extremely reduced, there is no possibility of causing semiconductor contamination or the like. In particular, in the semiconductor manufacturing process, there is no possibility that the semiconductor wafer or the device itself will be adversely affected. Moreover, on the surface of the aluminum nitride sintered body of the present invention, color unevenness is hardly conspicuous, the appearance of the aluminum nitride sintered body is extremely excellent, and the blackness is high, so that the commercial value is significantly improved. did.

【0012】具体的に説明すると、本発明者は、アルミ
ニウム以外の金属元素の含有量が100ppm以下であ
り、炭素含有量が500ppm〜5000ppmである
一種類の窒化アルミニウム粉末のみからなる原料粉末
を、1730℃以上、1920℃以下の温度および80
kg/cm2 以上の圧力で焼結させることによって、J
IS Z 8721に規定する明度がN4以下である、
黒褐色や黒灰色の窒化アルミニウム基材を製造すること
に成功した。
More specifically, the present inventor has determined that a raw material powder consisting of only one type of aluminum nitride powder having a content of a metal element other than aluminum of 100 ppm or less and a carbon content of 500 ppm to 5000 ppm, Temperature between 1730 ° C and 1920 ° C and 80
By sintering at a pressure of over kg / cm 2 ,
The brightness specified in IS Z 8721 is N4 or less;
We succeeded in producing black-brown and black-grey aluminum nitride substrates.

【0013】また、原料粉末は次のものでもよい。 (1)アルミニウム以外の金属元素の含有量が100p
pm以下である窒化アルミニウム粉末と有機樹脂とを湿
式混合して原料粉末を得、この際原料粉末の炭素含有量
が500ppm〜5000ppmとなるようにする。 (2)炭素含有量が異なる複数種の窒化アルミニウム粉
末を混合することによって原料粉末を得、この際原料粉
末中のアルミニウム以外の金属元素の含有量が100p
pm以下になり、炭素含有量が500ppm〜5000
ppmとなるようにする。この際には、3種類以上の窒
化アルミニウム粉末を混合することができる。しかし、
好適例では、炭素含有量が相対的に少ない第一の窒化ア
ルミニウム粉末と、炭素含有量が相対的に多い第二の窒
化アルミニウム粉末とを混合する。
Further, the raw material powder may be as follows. (1) The content of metal elements other than aluminum is 100p
pm or less of aluminum nitride powder and an organic resin are wet-mixed to obtain a raw material powder, and the carbon content of the raw material powder is adjusted to 500 ppm to 5000 ppm. (2) A raw material powder is obtained by mixing a plurality of types of aluminum nitride powders having different carbon contents. In this case, the content of metal elements other than aluminum in the raw material powder is 100 p.
pm or less and the carbon content is 500 ppm to 5000 ppm.
ppm. In this case, three or more kinds of aluminum nitride powders can be mixed. But,
In a preferred example, a first aluminum nitride powder having a relatively low carbon content and a second aluminum nitride powder having a relatively high carbon content are mixed.

【0014】このように、所定割合の炭素を含有する窒
化アルミニウム粉末を、高い圧力と所定範囲の温度下と
において焼結させることによって、明度の低い窒化アル
ミニウム焼結体を安定して製造することに成功した。こ
こで、炭素の割合が500ppm未満であると、焼結体
の明度が大きくなり、また5000ppmを越えると、
窒化アルミニウム焼結体の相対密度が低くなり、92%
未満となり、その色調が灰色になった。
Thus, by sintering aluminum nitride powder containing a predetermined ratio of carbon under a high pressure and a temperature in a predetermined range, it is possible to stably produce an aluminum nitride sintered body having low brightness. succeeded in. Here, when the proportion of carbon is less than 500 ppm, the brightness of the sintered body increases, and when the proportion exceeds 5000 ppm,
Relative density of aluminum nitride sintered body is low, 92%
, And its color became gray.

【0015】また、焼成温度が1730℃未満である
と、焼結体の緻密化が十分ではなく、窒化アルミニウム
焼結体が白色となり、明度も7以上にまで上昇すること
が判った。上記粉末の焼成温度が1920℃を越える
と、やはりポリタイプ相が発生し、窒化アルミニウム焼
結体の明度が上昇した。この焼成温度が1750〜19
00℃の範囲で、特に窒化アルミニウム焼結体の明度が
減少した。
When the firing temperature is lower than 1730 ° C., it was found that the compact was not sufficiently densified, the aluminum nitride sintered body became white, and the brightness increased to 7 or more. When the firing temperature of the powder exceeded 1920 ° C., a polytype phase was also generated, and the brightness of the aluminum nitride sintered body was increased. This firing temperature is 1750-19
In the range of 00 ° C., particularly the brightness of the aluminum nitride sintered body was reduced.

【0016】また、焼成時の圧力が80kg/cm2
満となると、AlN−Al2 CO結晶相が発生したり、
AlN結晶相以外にポリタイプ相が生成したりして、窒
化アルミニウム焼結体の明度が上昇することがわかっ
た。この圧力は、後述する理由から、150kg/cm
2 以上とすることが好ましく、200kg/cm2 以上
とすることが一層好ましい。ただし、この圧力は、実際
の装置の能力から見ると、0.5ton/cm2 以下と
することが好ましい。
When the pressure during firing is less than 80 kg / cm 2 , an AlN—Al 2 CO crystal phase is generated,
It was found that the brightness of the aluminum nitride sintered body was increased due to the formation of a polytype phase other than the AlN crystal phase. This pressure is 150 kg / cm for a reason described later.
It is preferably at least 2, more preferably at least 200 kg / cm 2 . However, this pressure is preferably set to 0.5 ton / cm 2 or less in view of the capability of the actual apparatus.

【0017】窒化アルミニウム焼結体は、JIS Z
8721に規定する明度がN3以下の黒色を呈している
ことが、更に好ましい。
The aluminum nitride sintered body is JIS Z
It is more preferable that the brightness specified in 8721 is black with N3 or less.

【0018】窒化アルミニウム粉末におけるアルミニウ
ム以外の金属元素は、100ppm以下とする。ここで
「アルミニウム以外の金属元素」とは、周期律表のIa
〜VIIa、VIII、Ib、IIbに属する金属元素
およびIIIb、IVbに属する元素の一部(Si、G
a、Ge等)をいう。
The content of metal elements other than aluminum in the aluminum nitride powder is 100 ppm or less. Here, “metal elements other than aluminum” refers to Ia in the periodic table.
To VIIa, VIII, Ib, IIb and some of the elements belonging to IIIb, IVb (Si, G
a, Ge, etc.).

【0019】ここで、明度(lightness )について説明
する。物体の表面色は、色知覚の3属性である色相、明
度および彩度によって表示されている。このうち明度と
は、物体表面の反射率が大きいか、小さいかを判定する
視覚の属性を示す尺度である。これらの3属性の尺度の
表示方法は、「JIS Z 8721」に規定されてい
る。明度Vは、無彩色を基準としており、理想的な黒の
明度を0とし、理想的な白の明度を10とする。理想的
な黒と理想的な白との間で、その色の明るさの知覚が等
歩度となるように各色を10分割し、N0〜N10の記
号で表示する。実際の窒化アルミニウム焼結体の明度を
測定する際には、N0〜N10に対応する各標準色票
と、窒化アルミニウム焼結体の表面色とを比較し、窒化
アルミニウム焼結体の明度を決定する。この際、原則と
して小数点一位まで明度を決定し、かつ小数点一位の値
は0または5とする。
Here, the lightness will be described. The surface color of the object is represented by three attributes of color perception, hue, lightness, and saturation. The lightness is a scale indicating a visual attribute for determining whether the reflectance of the object surface is large or small. The display method of these three attribute scales is defined in "JIS Z 8721". The lightness V is based on an achromatic color, and the ideal black lightness is 0 and the ideal white lightness is 10. Between the ideal black and the ideal white, each color is divided into ten so that the perception of the brightness of the color becomes equal, and the symbols are indicated by symbols N0 to N10. When measuring the brightness of an actual aluminum nitride sintered body, each standard color chart corresponding to N0 to N10 is compared with the surface color of the aluminum nitride sintered body to determine the brightness of the aluminum nitride sintered body. I do. At this time, the brightness is determined to one decimal place in principle, and the value of one decimal place is set to 0 or 5.

【0020】窒化アルミニウム焼結体の相対密度とは、
〔相対密度=嵩密度/理論密度〕の式によって定義され
る値であり、その単位は「%」である。
The relative density of the aluminum nitride sintered body is as follows:
It is a value defined by the formula [relative density = bulk density / theoretical density], and its unit is “%”.

【0021】更に、本発明者は、上記と同様の条件下
で、ホットアイソスタティックプレス法を使用した場合
でも、前述した温度および圧力と同じ温度及び圧力条件
下であれば、明度N4以下の高純度窒化アルミニウム焼
結体を製造できることを確認した。
Further, the inventor of the present invention has concluded that, even when the hot isostatic pressing method is used under the same conditions as described above, if the temperature and pressure are the same as the above-mentioned temperature and pressure, the brightness is not higher than N4. It was confirmed that a high-purity aluminum nitride sintered body could be manufactured.

【0022】本発明者は、上記のようにして得られた窒
化アルミニウム焼結体について、その黒色化が高く、明
度が低くなっている理由について研究した。この結果、
次の事実を見いだし、本発明を完成するに至った。
The present inventors have studied the reason why the aluminum nitride sintered body obtained as described above has high blackening and low brightness. As a result,
The following facts have been found, and the present invention has been completed.

【0023】即ち、明度が4以下の黒褐色または黒灰色
となっている試料については、主結晶相はAlNである
が、副結晶相としてALONが生成しており、他の結晶
相は見いだすことはできなかった。これについて、X線
回折分析を行った結果、例えば図1に示すように、明確
にカーボンのピークが現れることが判明した。これは、
上記の主要なAlN結晶相およびALON結晶相の他
に、カーボン相が生成していることを示している。
That is, in a sample whose brightness is 4 or less, which is black-brown or black-gray, the main crystal phase is AlN, but ALON is formed as a sub-crystal phase, and other crystal phases cannot be found. could not. As a result of X-ray diffraction analysis, it was found that a carbon peak clearly appeared, for example, as shown in FIG. this is,
This shows that a carbon phase is generated in addition to the above-mentioned main AlN crystal phase and ALON crystal phase.

【0024】また、このX線回折分析チャートからは、
c軸面に対応するピークは検出されなかった。これは、
炭素原子からなる層状に積層する平面的構造が、僅か数
層程度しか存在しておらず、このためにカーボンの厚さ
がきわめて薄いことを意味している。このカーボンは、
AlN結晶層の粒界近辺に存在するものと考えられる。
From the X-ray diffraction analysis chart,
No peak corresponding to the c-axis plane was detected. this is,
There are only a few layers of a planar structure stacked in layers of carbon atoms, which means that the thickness of carbon is extremely thin. This carbon is
It is considered that it exists near the grain boundary of the AlN crystal layer.

【0025】こうした明度の低い試料を,窒素雰囲気下
で、例えば1850℃で熱処理すると、図2に示すX線
回折チャートから判るように、AlN結晶相は残留する
が、AlON相およびカーボンのピークは消滅し、検出
されなくなった。これは、AlON相の酸素やカーボン
がAlN結晶粒に雇用したものと考えられる。例えば、
Nサイトに酸素原子が置換し、これが短波長の光を吸収
する色中心を生成している。
When such a low-brightness sample is heat-treated in a nitrogen atmosphere, for example, at 1850 ° C., as can be seen from the X-ray diffraction chart shown in FIG. 2, the AlN crystal phase remains, but the peaks of the AlON phase and carbon are reduced. It has disappeared and is no longer detected. This is presumably because oxygen and carbon in the AlON phase employed the AlN crystal grains. For example,
An oxygen atom is substituted for the N site, which generates a color center that absorbs light of a short wavelength.

【0026】また、上記の本発明の窒化アルミニウム焼
結体の微構造を図3に示す。図3に示すように、AlN
結晶粒内に微小なAlON結晶が存在しており、各結晶
相の間にはほとんど粒界が見られず、また各結晶が接触
する境界部分は緻密で隙間のない状態になっている。図
4は、本発明の範囲内の窒化アルミニウム焼結体につい
て、AlNからなる結晶の粒界部分を拡大して示す電子
顕微鏡写真であり、図5は、黄白色の試料について、A
lNからなる結晶の粒界部分を拡大して示す電子顕微鏡
写真である。AlN結晶の間には、異相は見られない。
FIG. 3 shows the microstructure of the aluminum nitride sintered body of the present invention. As shown in FIG.
Fine AlON crystals are present in the crystal grains, almost no grain boundaries are seen between the crystal phases, and the boundaries where the crystals are in contact are dense and have no gaps. FIG. 4 is an electron micrograph showing, on an enlarged scale, a grain boundary portion of a crystal made of AlN for the aluminum nitride sintered body within the scope of the present invention. FIG.
4 is an electron micrograph showing an enlarged grain boundary portion of a crystal made of 1N. No foreign phase is found between the AlN crystals.

【0027】窒化アルミニウム粉末の製造方法として
は、還元窒化法と直接窒化法とが知られている。本願発
明においては、いずれの方法で作成した原料粉末を使用
した場合にも、明度の低い窒化アルミニウム焼結体を製
造できる。各方法で採用する化学式を、以下に列挙す
る。 還元窒化法:Al2 3 +3C+N2 →2AlN+3C
O 直接窒化法:Al(C2 5 3 +NH3 →AlN+3
2 6 (気相法) 2Al+N2 →2AlN
As a method for producing aluminum nitride powder, a reduction nitriding method and a direct nitriding method are known. In the present invention, a low-brightness aluminum nitride sintered body can be manufactured using any of the raw material powders prepared by any of the methods. The chemical formulas used in each method are listed below. Reduction nitriding: Al 2 O 3 + 3C + N 2 → 2AlN + 3C
O Direct nitriding method: Al (C 2 H 5 ) 3 + NH 3 → AlN + 3
C 2 H 6 (vapor phase method) 2Al + N 2 → 2AlN

【0028】窒化アルミニウム粉末を焼結させる際に
は、所定割合のカーボンを添加し、これを高い圧力下で
加熱し、焼結させるが、この際に、添加されたカーボン
によって窒化アルミニウム粉末の表面付近に存在するA
2 3 の還元が生じ、AlNが生成する。この還元が
下記の式(1)、(2)、(3)によって進行する過程
で、AlN粒子の表面に、広い範囲の可視光を連続的に
吸収するバンドが生成し、明度の低下を生ずるものと考
えられる。ただし、この時点ではまだカーボン相が粒界
付近に残存していなければならない。焼成温度が195
0℃を越えて高くなると、(Al2 O+C→Al2 OC
の反応によってAl2 OC相の生成が進行し、カーボン
相が減少し、式(1)、(2)、(3)によって生成す
る相対的に不安定なAlN粒子表面のバンドが減少した
ものと考えられる。また、保持時間が長すぎる場合も、
同様にカーボンの減少が生ずるものと考えられる。
When sintering the aluminum nitride powder, a predetermined ratio of carbon is added and heated under a high pressure to sinter the powder. A exists near
Reduction of l 2 O 3 occurs and AlN is formed. In the course of this reduction proceeding according to the following formulas (1), (2), and (3), a band that continuously absorbs a wide range of visible light is formed on the surface of the AlN particles, and the brightness is reduced. It is considered something. However, at this point, the carbon phase must still remain near the grain boundaries. Firing temperature 195
When the temperature rises above 0 ° C., (Al 2 O + C → Al 2 OC
The formation of the Al 2 OC phase progresses due to the reaction of (1), the carbon phase decreases, and the relatively unstable AlN particle surface band generated by the formulas (1), (2) and (3) decreases. Conceivable. Also, if the retention time is too long,
It is considered that a decrease in carbon occurs similarly.

【0029】(1)Al2 3 +C→Al2 2 +CO (2)Al2 3 +2C→Al2 O+2CO (3)Al2 3 +3C→Al2 +3CO(1) Al 2 O 3 + C → Al 2 O 2 + CO (2) Al 2 O 3 + 2C → Al 2 O + 2CO (3) Al 2 O 3 + 3C → Al 2 + 3CO

【0030】本発明の窒化アルミニウム焼結体は、Al
Nからなる主結晶相と、ALONからなる副結晶相と、
カーボン相からなり、(AlN)x (Al2 OC)1-x
相を実質的に含有せず、JIS Z 8721に規定す
る明度がN4以下である。
The aluminum nitride sintered body of the present invention is
A main crystal phase composed of N, a sub-crystal phase composed of ALON,
Consisting of carbon phase, (AlN) x (Al 2 OC) 1-x
It does not substantially contain a phase and has a brightness of N4 or less as defined in JIS Z 8721.

【0031】即ち、80〜100kg/cm2 程度の圧
力で窒化アルミニウム粉末を焼結させると、明度4〜5
の灰色の窒化アルミニウム焼結体が生成することがあ
る。この結晶相のX線回折分析結果および他のスペクト
ルによる分析結果からは、このマトリックスは基本的に
AlNからなる主結晶相と、ALONからなる副結晶相
と、カーボン相とを備えていた。一方、150kg/c
2 以上の圧力を採用すると、一層焼結体の明度が低下
し、N4以下のものが安定して得られた。
That is, when the aluminum nitride powder is sintered at a pressure of about 80 to 100 kg / cm 2 , the brightness becomes 4 to 5
Gray aluminum nitride sintered body may be formed. According to the results of X-ray diffraction analysis and other spectrum analysis of this crystal phase, this matrix was basically provided with a main crystal phase composed of AlN, a sub-crystal phase composed of ALON, and a carbon phase. On the other hand, 150kg / c
When a pressure of m 2 or more was employed, the brightness of the sintered body further decreased, and a sintered body of N 4 or less was obtained stably.

【0032】そして、上記の両者の間の基本的なマトリ
ックスの微構造等の間には相違は見られなかった。しか
し、図6および図7の各電子顕微鏡写真に示すように、
灰色品については(AlN)x (Al2 OC)1-x 相が
若干生成していることが判明した。この相の周辺では、
AlN結晶相との間に微小な隙間が生成しており、この
隙間で光が散乱し、この散乱光が明度の上昇の原因とな
っていた。従って、このような(AlN)x (Al2
C)1-x 相が生成しないようにすることで、窒化アルミ
ニウム焼結体の明度を4以下、更には3.5以下へと一
層低下させることができる。
There was no difference in the basic matrix microstructure between the two. However, as shown in the electron micrographs of FIGS. 6 and 7,
It was found that the (AlN) x (Al 2 OC) 1-x phase was slightly formed in the gray product. Around this phase,
A minute gap is formed between the AlN crystal phase and the gap, light is scattered in the gap, and the scattered light causes an increase in brightness. Therefore, such (AlN) x (Al 2 O
C) By preventing the formation of the 1-x phase, the brightness of the aluminum nitride sintered body can be further reduced to 4 or less, and further to 3.5 or less.

【0033】窒化アルミニウム粉末に対して添加する有
機樹脂としては、例えばフェノール樹脂がある。
As an organic resin to be added to the aluminum nitride powder, for example, there is a phenol resin.

【0034】窒化アルミニウム粉末と有機樹脂とは、有
機溶剤を使用した湿式混合を利用して混合する。
The aluminum nitride powder and the organic resin are mixed by wet mixing using an organic solvent.

【0035】本発明の窒化アルミニウム焼結体は、輻射
熱量が大きく、加熱特性が優れている。また、表面の色
ムラがほとんど目立たず、黒褐色や黒灰色をしているの
で、商品価値が高い。このため、各種の加熱用装置に対
して特に好適に利用できる。また、本窒化アルミニウム
焼結体は、アルミニウムを除く金属元素の供給源となる
焼結助剤や黒色化剤を使用せず、アルミニウム以外の金
属原子の含有量を、いずれも100ppm以下にできる
ので、汚染を起こすおそれがない。従って、高純度プロ
セス用の材料として最適である。特に、半導体製造プロ
セスにおいて、半導体ウエハーや装置自体に対して、重
大な悪影響を与えるおそれがない。
The aluminum nitride sintered body of the present invention has a large amount of radiant heat and excellent heating characteristics. In addition, since the color unevenness on the surface is hardly conspicuous and is blackish brown or blackish gray, the commercial value is high. Therefore, it can be particularly suitably used for various types of heating devices. In addition, since the present aluminum nitride sintered body does not use a sintering aid or a blackening agent as a supply source of a metal element except aluminum, and can reduce the content of metal atoms other than aluminum to 100 ppm or less. There is no risk of contamination. Therefore, it is optimal as a material for a high-purity process. In particular, in the semiconductor manufacturing process, there is no possibility that the semiconductor wafer or the device itself is seriously affected.

【0036】本発明の窒化アルミニウム焼結体を基材と
して使用する半導体製造用装置としては、窒化アルミニ
ウム基材中に抵抗発熱体を埋設したセラミックスヒータ
ー、基材中に静電チャック用電極を埋設したセラミック
静電チャック、基材中に抵抗発熱体と静電チャック用電
極を埋設した静電チャック付きヒーター、基材中にプラ
ズマ発生用電極を埋設した高周波発生用電極装置のよう
な能動型装置を例示することができる。
The semiconductor manufacturing apparatus using the aluminum nitride sintered body of the present invention as a base material includes a ceramic heater having a resistance heating element embedded in an aluminum nitride base material, and an electrostatic chuck electrode embedded in the base material. Active devices such as a ceramic electrostatic chuck, a heater with an electrostatic chuck in which a resistance heating element and an electrode for an electrostatic chuck are embedded in a substrate, and a high-frequency generation electrode device in which a plasma generation electrode is embedded in a substrate. Can be exemplified.

【0037】更に、半導体ウエハーを設置するためのサ
セプター、ダミーウエハー、シャドーリング、高周波プ
ラズマを発生させるためのチューブ、高周波プラズマを
発生させるためのドーム、高周波透過窓、赤外線透過
窓、半導体ウエハーを支持するためのリフトピン、シャ
ワー板等の各半導体製造用装置を例示することができ
る。
Furthermore, a susceptor for mounting a semiconductor wafer, a dummy wafer, a shadow ring, a tube for generating high-frequency plasma, a dome for generating high-frequency plasma, a high-frequency transmission window, an infrared transmission window, and a semiconductor wafer are supported. For manufacturing semiconductors, such as a lift pin and a shower plate for performing the operation.

【0038】窒化アルミニウム焼結体の熱伝導率は、特
に、セラミックスヒーター、静電チャック付きヒータ
ー、半導体ウエハー保持用サセプター等の加熱用部材の
基材としての用途において、90W/m・K以上とする
ことが好ましい。
The thermal conductivity of the aluminum nitride sintered body is particularly 90 W / m · K or more when used as a base material of a heating member such as a ceramic heater, a heater with an electrostatic chuck, and a susceptor for holding a semiconductor wafer. Is preferred.

【0039】[0039]

【実施例】(実験A) 以下のようにして、実際に、表1および表2の実験A1
〜A12の各窒化アルミニウム焼結体を製造した。窒化
アルミニウム原料としては、還元窒化法または直接窒化
法によって製造した高純度粉末を使用した。各粉末にお
いて、Si、Fe、Ca、Mg、K、Na、Cr、M
n、Ni、Cu、Zn、W、B、Yの含有量はそれぞれ
100ppm以下であり、アルミニウム以外の金属は、
これら以外は検出されなかった。各実験例について、カ
ーボン含有量を、表1、表2に示す。
EXAMPLES (Experiment A) Experiment A1 in Tables 1 and 2 was actually performed as follows.
To A12 were manufactured. As the aluminum nitride raw material, a high-purity powder produced by a reduction nitriding method or a direct nitriding method was used. In each powder, Si, Fe, Ca, Mg, K, Na, Cr, M
The content of each of n, Ni, Cu, Zn, W, B, and Y is 100 ppm or less.
Other than these were not detected. Tables 1 and 2 show the carbon content of each experimental example.

【0040】各原料粉末を一軸加圧成形することによっ
て、円盤形状の予備成形体を製造し、これを密封状態で
ホットプレス焼成した。この焼成段階における焼成温
度、各焼成温度での保持時間、圧力を、表1、表2に示
すように変更した。各例の窒化アルミニウム焼結体につ
いて、焼結体の主結晶相、その他の結晶相をX線回折分
析によって測定した。また、焼結体の相対密度は、嵩密
度/理論密度から算出し、この嵩密度をアルキメデス法
によって測定した。焼結体の理論密度は、密度が大きな
焼結助剤を含有していないことから、3.26g/cc
である。焼結体中のカーボン量を元素分析によって測定
した。焼結体の色調は目視によって測定し、明度は、前
述のように測定した。
Each raw material powder was uniaxially pressed to produce a disc-shaped preform, which was hot-pressed in a sealed state. The firing temperature, the holding time at each firing temperature, and the pressure in this firing step were changed as shown in Tables 1 and 2. For the aluminum nitride sintered body of each example, the main crystal phase and other crystal phases of the sintered body were measured by X-ray diffraction analysis. The relative density of the sintered body was calculated from bulk density / theoretical density, and the bulk density was measured by the Archimedes method. The theoretical density of the sintered body is 3.26 g / cc because it does not contain a sintering agent having a large density.
It is. The amount of carbon in the sintered body was measured by elemental analysis. The color tone of the sintered body was measured visually, and the lightness was measured as described above.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】[0042]

【表2】 [Table 2]

【0043】本発明外の実験A1においては、カーボン
の量を150ppmとし、焼成温度を1800℃とし、
圧力を200kg/cm2 とした。得られた焼結体にお
いて、AlN結晶相以外の結晶相はAlONのみであ
り、カーボン相はX線回折分析によって検出されなかっ
た。この色調は灰色であった。本発明の範囲内の実験A
2においては、カーボンの量を500ppmとし、焼成
温度を1800℃とし、圧力を100kg/cm2 とし
た。得られた焼結体において、AlON結晶相およびカ
ーボン相が検出された。この焼結体の色調は黒灰色であ
り、明度はN3.5であった。本発明外の実験A3にお
いては、カーボンの量を750ppmとし、焼成温度を
1700℃とし、圧力を200kg/cm2 とした。得
られた焼結体においては、カーボン相は検出されなかっ
た。この焼結体の色調は白色であった。
In Experiment A1 outside the present invention, the amount of carbon was set to 150 ppm, the firing temperature was set to 1800 ° C.,
The pressure was 200 kg / cm 2 . In the obtained sintered body, the crystal phase other than the AlN crystal phase was only AlON, and the carbon phase was not detected by X-ray diffraction analysis. This color was gray. Experiment A within the scope of the present invention
In No. 2, the amount of carbon was 500 ppm, the firing temperature was 1800 ° C., and the pressure was 100 kg / cm 2 . In the obtained sintered body, an AlON crystal phase and a carbon phase were detected. The color tone of this sintered body was black gray, and the lightness was N3.5. In Experiment A3 outside the present invention, the amount of carbon was 750 ppm, the firing temperature was 1700 ° C., and the pressure was 200 kg / cm 2 . No carbon phase was detected in the obtained sintered body. The color tone of this sintered body was white.

【0044】本発明内の実験A4では、カーボンの量を
750ppmとし、焼成温度を1750℃とし、圧力を
150kg/cm2 とした。得られた焼結体において、
AlON結晶相およびカーボン相が検出された。この焼
結体の色調は黒灰色であり、明度はN4であった。本発
明内の実験A5では、カーボンの量を750ppmと
し、焼成温度を1850℃とし、圧力を50kg/cm
2 とした。得られた焼結体において、AlON結晶相、
カーボン相の他に、(AlN)x (Al2 OC)1-x
が検出された。このために、焼結体の色調は灰色になっ
ていたが、前述したように、マトリックスの黒色化は顕
著に進行していることを確認した。本発明内の実験A
6、A7でも良好な結果が得られた。
In Experiment A4 of the present invention, the amount of carbon was 750 ppm, the firing temperature was 1750 ° C., and the pressure was 150 kg / cm 2 . In the obtained sintered body,
An AlON crystal phase and a carbon phase were detected. The color tone of this sintered body was black gray, and the brightness was N4. In experiment A5 within the present invention, the amount of carbon was 750 ppm, the firing temperature was 1850 ° C., and the pressure was 50 kg / cm.
And 2 . In the obtained sintered body, AlON crystal phase,
In addition to the carbon phase, an (AlN) x (Al 2 OC) 1-x phase was detected. For this reason, the color tone of the sintered body was gray, but as described above, it was confirmed that the blackening of the matrix was significantly advanced. Experiment A within the present invention
6 and A7 also gave good results.

【0045】本発明外の実験A8では、カーボンの量を
750ppmとし、焼成温度を1950℃とし、圧力を
150kg/cm2 とした。得られた焼結体において、
AlN結晶相以外はポリタイプになっていた。この焼結
体の色調は乳白色であり、明度はN8であった。本発明
内の実験A9、実験A10、実験A11では、良好な結
果が得られた。本発明内の実験A12では、カーボンの
量を10000ppmとし、焼成温度を1800℃と
し、圧力を200kg/cm2 とした。得られた焼結体
において、カーボン相は生成しており、マトリックスの
黒色化は顕著に進行していた。しかし、気孔率が増大し
たことから、その分、焼結体全体の明度はN5になって
いた。
In Experiment A8 outside the present invention, the amount of carbon was 750 ppm, the firing temperature was 1950 ° C., and the pressure was 150 kg / cm 2 . In the obtained sintered body,
Except for the AlN crystal phase, it was polytype. The color tone of this sintered body was milky white, and the brightness was N8. In Experiments A9, A10, and A11 in the present invention, good results were obtained. In Experiment A12 within the present invention, the amount of carbon was 10,000 ppm, the firing temperature was 1800 ° C., and the pressure was 200 kg / cm 2 . In the obtained sintered body, the carbon phase was generated, and the blackening of the matrix was significantly advanced. However, since the porosity increased, the brightness of the entire sintered body was N5.

【0046】このうち、実験A6の焼結体のX線回折チ
ャートを図1に示す。AlN、AlNOおよびカーボン
相を示す各ピークが確認される。また、実験A6の焼結
体のセラミックス組織を示す顕微鏡写真を図3に示し、
この粒界付近のセラミックス組織を図4に示す。実験A
2、実験A4、実験A7、実験A9、実験A10、実験
A11の焼結体についても、同様のX線回折チャートお
よび結晶組織が確認された。
FIG. 1 shows an X-ray diffraction chart of the sintered body of Experiment A6. Peaks indicating AlN, AlNO and a carbon phase are confirmed. FIG. 3 is a micrograph showing the ceramic structure of the sintered body of Experiment A6,
FIG. 4 shows the ceramic structure near the grain boundaries. Experiment A
2. Similar X-ray diffraction charts and crystal structures were confirmed for the sintered bodies of Experiment A4, Experiment A7, Experiment A9, Experiment A10, and Experiment A11.

【0047】実験A5の焼結体のセラミックス組織を図
6に示し、図7にこの拡大図を示す。この組織中におい
て、マトリックス部分のX線回折分析結果、および可視
光の吸収スペクトルの分析結果は、実験A6のものと同
様であった。しかし、このマトリックス中に、黒く見え
る(AlN)x (Al2 OC)1-x 相が存在しており、
この結晶粒子とAlN結晶相との間に僅かな空隙が存在
し、この空隙において光が散乱され、白く光っている。
この焼結体のマトリックスの組織は、基本的には、本願
発明の窒化アルミニウム焼結体のものであり、黒色化は
相対的に見て進行している。しかし、前記の散乱光によ
って焼結体の明度がN5まで上昇している。
FIG. 6 shows the ceramic structure of the sintered body of Experiment A5, and FIG. 7 is an enlarged view of FIG. In this tissue, the results of the X-ray diffraction analysis of the matrix portion and the results of the analysis of the absorption spectrum of visible light were the same as those in Experiment A6. However, a black (AlN) x (Al 2 OC) 1-x phase is present in this matrix,
There is a slight gap between the crystal grains and the AlN crystal phase, and light is scattered in the gap and glows white.
The structure of the matrix of the sintered body is basically that of the aluminum nitride sintered body of the present invention, and the blackening is relatively advanced. However, the brightness of the sintered body has increased to N5 due to the scattered light.

【0048】次いで、前記の実験A6の焼結体を窒素雰
囲気中で熱処理する実験を行った。この焼結体を185
0℃で2時間熱処理すると、焼結体の外周部分のみが黄
白色に変化し、中心部分の色調および明度は変化しなか
った。黄白色に変色した部分のX線回折分析結果から、
この主結晶相はAlN結晶相であり、AlON相および
カーボンのピークは消滅し、検出されなくなった。相対
密度および格子定数比には変化は見られなかった。
Next, an experiment was conducted in which the sintered body of Experiment A6 was heat-treated in a nitrogen atmosphere. This sintered body is 185
After heat treatment at 0 ° C. for 2 hours, only the outer peripheral portion of the sintered body turned yellowish white, and the color tone and brightness of the central portion did not change. From the result of X-ray diffraction analysis of the portion that turned yellowish white,
This main crystal phase was an AlN crystal phase, and the peaks of the AlON phase and carbon disappeared and were no longer detected. No change was observed in the relative density and the lattice constant ratio.

【0049】実験A6の焼結体の表面付近では、窒素雰
囲気中の酸素やAlON相の酸素、さらにカーボンがA
lN結晶粒に固溶したものと考えられる。焼結体の内部
では、こうした反応の進行が遅いものと考えられる。
In the vicinity of the surface of the sintered body in experiment A6, oxygen in the nitrogen atmosphere, oxygen in the AlON phase, and carbon
It is considered that they dissolved in 1N crystal grains. It is considered that such a reaction progresses slowly inside the sintered body.

【0050】(実験B)実験Aと同様にして、実際に、
表3、表4、表5の実験B1〜B15の各窒化アルミニ
ウム焼結体を製造した。窒化アルミニウム原料として
は、還元窒化法または直接窒化法によって製造した高純
度粉末を使用した。各粉末において、Si、Fe、C
a、Mg、K、Na、Cr、Mn、Ni、Cu、Zn、
W、B、Yの含有量は、それぞれ100ppm以下であ
り、アルミニウム以外の金属は、これら以外は検出され
なかった。
(Experiment B) As in Experiment A,
The aluminum nitride sintered bodies of Experiments B1 to B15 in Tables 3, 4, and 5 were manufactured. As the aluminum nitride raw material, a high-purity powder produced by a reduction nitriding method or a direct nitriding method was used. In each powder, Si, Fe, C
a, Mg, K, Na, Cr, Mn, Ni, Cu, Zn,
The contents of W, B, and Y were each 100 ppm or less, and no metals other than aluminum were detected.

【0051】実験B1においては、還元窒化法によって
得られた窒化アルミニウム粉末(カーボン量500pp
m)を使用した。他の実験においては、各カーボン含有
量の窒化アルミニウム粉末に対して、カーボン含有量の
相対的に多い添加物を添加した。この添加物としては、
一部の実験例では樹脂を使用し、他の実験例では、カー
ボン含有量の相対的に多い窒化アルミニウム粉末を使用
した。前記の樹脂としては、フェノール樹脂の粉末を使
用し、その添加量を表示した。前記の窒化アルミニウム
粉末としては、還元窒化法によって得られたものを使用
し、そのカーボン含有量および添加量を表示した。ま
た、混合後の原料粉末の総カーボン量(ppm)を表示
した。
In the experiment B1, the aluminum nitride powder (carbon amount 500 pp) obtained by the reduction nitriding method was used.
m) was used. In other experiments, relatively high carbon content additives were added to each carbon content aluminum nitride powder. As this additive,
In some examples, a resin was used, and in other examples, aluminum nitride powder having a relatively high carbon content was used. A phenol resin powder was used as the resin, and the amount of addition was indicated. As the above-mentioned aluminum nitride powder, a powder obtained by a reduction nitriding method was used, and the carbon content and the addition amount were indicated. Also, the total carbon content (ppm) of the raw material powder after mixing is indicated.

【0052】各原料粉末を一軸加圧成形することによっ
て、円盤形状の予備成形体を製造し、これを密封状態で
ホットプレス焼成した。この焼成段階における焼成温
度、各焼成温度での保持時間、圧力を、表3、表4、表
5に示すように変更した。各例の窒化アルミニウム焼結
体について、焼結体の主結晶相、その他の結晶相をX線
回折分析によって測定した。また、焼結体の相対密度、
色調、明度を、実験Aと同様の方法で測定した。
Each raw material powder was uniaxially pressed to produce a disk-shaped preform, which was hot-pressed in a sealed state. The firing temperature, the holding time at each firing temperature, and the pressure in this firing step were changed as shown in Tables 3, 4, and 5. For the aluminum nitride sintered body of each example, the main crystal phase and other crystal phases of the sintered body were measured by X-ray diffraction analysis. Also, the relative density of the sintered body,
The color tone and lightness were measured in the same manner as in Experiment A.

【0053】[0053]

【表3】 [Table 3]

【0054】[0054]

【表4】 [Table 4]

【0055】[0055]

【表5】 [Table 5]

【0056】本発明内の実験B1では黒灰色の窒化アル
ミニウム焼結体が得られた。本発明内の実験B2、B
3、B4、B5、B6では、いずれも黒灰色の色調を有
する窒化アルミニウム焼結体が得られた。本発明外の実
験B7では、焼成温度が1650℃と低いために、焼結
体の緻密化が進行せず、かつカーボン相が生成しないた
めに、焼結体の色調が白色になった。本発明内の実験B
8、B9では黒灰色の焼結体が得られた。本発明内の実
験B10では、圧力が70kg/cm2 であるが、得ら
れた焼結体において、カーボン相は生成しており、マト
リックスの黒色化は進行していたが、焼結体全体の明度
は上昇していた。この焼結体のセラミックス組織は、実
験A5の焼結体と同様に、マトリックスの間に、黒く見
える(AlN)x (Al2 OC)1-x 相が存在してお
り、この結晶粒子とAlN結晶相との間に僅かな空隙が
存在し、この空隙において光が散乱され、白く光ってい
た。
In Experiment B1 of the present invention, a black-gray aluminum nitride sintered body was obtained. Experiments B2 and B within the present invention
In each of 3, B4, B5, and B6, an aluminum nitride sintered body having a black-gray color tone was obtained. In Experiment B7 outside the present invention, since the firing temperature was as low as 1650 ° C., the densification of the sintered body did not proceed, and the color tone of the sintered body became white because no carbon phase was generated. Experiment B within the present invention
In 8 and B9, a black-gray sintered body was obtained. In Experiment B10 within the present invention, the pressure was 70 kg / cm 2 , but in the obtained sintered body, a carbon phase was generated, and the blackening of the matrix was progressing. The brightness was rising. In the ceramic structure of this sintered body, the (AlN) x (Al 2 OC) 1-x phase appears black between the matrices, similarly to the sintered body of Experiment A5. There was a slight gap between the crystal phase and the gap, and light was scattered in the gap and glowed white.

【0057】本発明外の実験B11においては、焼成温
度が高すぎるために、AlN結晶相以外はポリタイプと
なり、焼結体の色調は乳白色になった。本発明内の実験
B12、B13、B14においては、黒灰色の色調を有
する窒化アルミニウム焼結体が得られた。本発明内の実
験B15においては、窒化アルミニウム原料粉末の全体
の総カーボン量が7600ppmであり、AlN結晶相
以外の結晶相としてはAlON結晶相とカーボン相とが
生成していた。しかし、焼結体の焼結が進行せず、相対
密度が88.0%に止まっているために、明度はN5で
あった。
In the experiment B11 outside the present invention, the firing temperature was too high, so that the sintered body was polytype except for the AlN crystal phase, and the color tone of the sintered body became milky white. In Experiments B12, B13, and B14 within the present invention, an aluminum nitride sintered body having a black-gray color tone was obtained. In Experiment B15 of the present invention, the total carbon content of the aluminum nitride raw material powder was 7,600 ppm, and an AlON crystal phase and a carbon phase were generated as crystal phases other than the AlN crystal phase. However, since the sintering of the sintered body did not proceed and the relative density remained at 88.0%, the brightness was N5.

【0058】(ウエハーの加熱実験)本発明の実験A6
によって製造した窒化アルミニウム焼結体によって、直
径210mm、厚さ10mmのプレートを用意し、この
プレートを、赤外線ランプによる加熱機構を備えた真空
チャンバー内に設置した。このプレートの上に直径8イ
ンチのシリコンウエハーを乗せ、プレートとシリコンウ
エハーとの各温度を同時に測定するための熱電対を取り
付けた。この赤外線ランプとしては、500Wの波長1
μm前後に赤外線のピークを有するものを、アルミニウ
ム製の反射板に20本取り付け、この反射板および各ラ
ンプを真空チャンバーの外側に設置した。
(Wafer Heating Experiment) Experiment A6 of the Present Invention
A plate having a diameter of 210 mm and a thickness of 10 mm was prepared from the aluminum nitride sintered body manufactured by the above-mentioned method, and this plate was placed in a vacuum chamber equipped with a heating mechanism using an infrared lamp. An 8-inch diameter silicon wafer was placed on the plate, and a thermocouple for simultaneously measuring the temperatures of the plate and the silicon wafer was attached. This infrared lamp has a wavelength of 500 W
Twenty of those having an infrared peak around μm were attached to an aluminum reflector, and the reflector and each lamp were placed outside the vacuum chamber.

【0059】各赤外線ランプより放射される赤外線は、
直接に、または反射板によって反射された後に、真空チ
ャンバーに設けられた円形の石英窓(直径250mm、
厚さ5mm)を通過し、窒化アルミニウムプレートに到
達し、このプレートを加熱する。
The infrared radiation emitted from each infrared lamp is
A circular quartz window (250 mm in diameter, provided in a vacuum chamber, directly or after being reflected by a reflector)
(Thickness 5 mm) and reaches the aluminum nitride plate, which is heated.

【0060】この加熱装置において、各赤外線ランプを
発熱させ、室温から700℃まで11分間でプレートの
温度を上昇させ、700℃で1時間保持し、この後に赤
外線ランプを停止し、プレートを徐々に冷却させた。こ
の結果、赤外線ランプの消費電力は、最大8600Wで
あり、安定した温度コントロールが可能であった。ま
た、シリコンウエハーの温度を測定したところ、プレー
トの温度を700℃に保持しているときには、シリコン
ウエハーの温度は611℃であった。
In this heating apparatus, each infrared lamp is heated, the temperature of the plate is raised from room temperature to 700 ° C. in 11 minutes, and the temperature is maintained at 700 ° C. for 1 hour. Thereafter, the infrared lamp is stopped and the plate is gradually cooled. Allow to cool. As a result, the power consumption of the infrared lamp was 8600 W at the maximum, and stable temperature control was possible. When the temperature of the silicon wafer was measured, the temperature of the silicon wafer was 611 ° C. when the temperature of the plate was maintained at 700 ° C.

【0061】また、実験A2、A9、A10、A11の
窒化アルミニウム焼結体について同様の実験を行ったと
ころ、上記と同様の結果を得た。
Similar experiments were performed on the aluminum nitride sintered bodies of Experiments A2, A9, A10 and A11, and the same results as described above were obtained.

【0062】(比較例による加熱実験)次に、還元窒化
法によって得た、カーボン含有量が750ppmの窒化
アルミニウム粉末を使用し、この粉末をコールドアイソ
スタティックプレス法によって3トン/cm2 の圧力下
で加圧して円盤形状の成形体を製造し、この成形体を1
900℃で2時間焼成し、密度が99.4%の白色窒化
アルミニウム焼結体を製造した。この焼結体を使用し、
上記と同様にしてシリコンウエハーの加熱実験を行っ
た。
(Heating Experiment by Comparative Example) Next, aluminum nitride powder having a carbon content of 750 ppm obtained by the reduction nitriding method was used, and this powder was subjected to a cold isostatic pressing method under a pressure of 3 ton / cm 2 . To produce a disk-shaped molded body,
It was fired at 900 ° C. for 2 hours to produce a white aluminum nitride sintered body having a density of 99.4%. Using this sintered body,
A heating experiment on a silicon wafer was performed in the same manner as described above.

【0063】この結果、消費電力は最大10kWとな
り、温度上昇時間にも2分間程度の遅れが見られた。ま
た、上記のようにして、室温と700℃との間での温度
上昇および下降の熱サイクルを繰り返したところ、赤外
線ランプの断線が生じやすかった。 また、シリコンウ
エハーの温度を測定したところ、プレートの温度を70
0℃に保持しているときには、シリコンウエハーの温度
は593℃であり、上記の本発明例と比較すると、シリ
コンウエハーの温度も低下していることが判明した。
As a result, the power consumption reached a maximum of 10 kW, and a delay of about 2 minutes was observed in the temperature rise time. Further, as described above, when the thermal cycle of the temperature rise and fall between room temperature and 700 ° C. was repeated, disconnection of the infrared lamp was easily caused. When the temperature of the silicon wafer was measured, the temperature of the plate was reduced to 70
When the temperature was maintained at 0 ° C., the temperature of the silicon wafer was 593 ° C., and it was found that the temperature of the silicon wafer was also lower than that of the above-described example of the present invention.

【0064】(電極および抵抗発熱体の埋設実験)本発
明の実験A6と同様に、還元窒化法によって製造したカ
ーボン含有量750ppmの窒化アルミニウム粉末を使
用し、この粉末の中に、モリブデン製の直径0.5mm
のワイヤーからなるコイル(抵抗発熱線)を埋設し、か
つこのコイルに直径5mm、長さ10mmの円柱形状の
モリブデン製の電極を接続し、埋設した。この埋設体を
一軸加圧成形し、円盤形状の成形体を得た。この際、成
形体中に埋設されたコイルの平面的形状を渦巻き形状と
した。
(Embedding Experiment of Electrodes and Resistance Heating Element) As in Experiment A6 of the present invention, aluminum nitride powder having a carbon content of 750 ppm produced by the reduction nitriding method was used, and a molybdenum diameter was included in the powder. 0.5mm
A coil (resistance heating wire) made of the above-mentioned wire was embedded, and a cylindrical electrode made of molybdenum having a diameter of 5 mm and a length of 10 mm was connected to the coil and embedded. The embedded body was subjected to uniaxial pressure molding to obtain a disk-shaped molded body. At this time, the planar shape of the coil embedded in the molded body was a spiral shape.

【0065】円盤形状の成形体を、ホットプレス法によ
って、1800℃で3時間、200kg/cm2 の圧力
下で保持することによって、窒化アルミニウム焼結体を
得た。この窒化アルミニウム焼結体中には、前記の抵抗
発熱体とモリブデン電極とが埋設されている。このモリ
ブデン電極は、静電チャック電極として使用でき、また
高周波用電極として使用できる。
An aluminum nitride sintered body was obtained by holding the disc-shaped compact by hot pressing at 1800 ° C. for 3 hours under a pressure of 200 kg / cm 2 . The resistance heating element and the molybdenum electrode are embedded in the aluminum nitride sintered body. This molybdenum electrode can be used as an electrostatic chuck electrode and as a high frequency electrode.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、窒
化アルミニウムに焼結助剤や黒色化剤のような金属化合
物、特に重金属化合物を添加することなく、窒化アルミ
ニウム焼結体の明度を小さくし、その色を黒色に近づけ
ることができる。
As described above, according to the present invention, the brightness of an aluminum nitride sintered body can be improved without adding a metal compound such as a sintering aid or a blackening agent, particularly a heavy metal compound, to aluminum nitride. And make the color closer to black.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に係る窒化アルミニウム焼結体
のX線回折分析の結果を示すチャートである。
FIG. 1 is a chart showing a result of an X-ray diffraction analysis of an aluminum nitride sintered body according to an example of the present invention.

【図2】比較例に係る窒化アルミニウム焼結体のX線回
折分析の結果を示すチャートである。
FIG. 2 is a chart showing a result of an X-ray diffraction analysis of an aluminum nitride sintered body according to a comparative example.

【図3】本発明の実施例に係る窒化アルミニウム焼結体
のセラミックス組織を示す電子顕微鏡写真である。
FIG. 3 is an electron micrograph showing a ceramic structure of an aluminum nitride sintered body according to an example of the present invention.

【図4】本発明の実施例に係る窒化アルミニウム焼結体
において、AlN結晶相の粒子の粒界の周辺のセラミッ
クス組織を示す電子顕微鏡写真である。
FIG. 4 is an electron micrograph showing a ceramic structure around a grain boundary of AlN crystal phase particles in an aluminum nitride sintered body according to an example of the present invention.

【図5】比較例に係る窒化アルミニウム焼結体におい
て、AlN結晶相の粒子の粒界の周辺のセラミックス組
織を示す電子顕微鏡写真である。
FIG. 5 is an electron micrograph showing a ceramic structure around a grain boundary of AlN crystal phase particles in an aluminum nitride sintered body according to a comparative example.

【図6】AlN結晶相の粒子からなるマトリックス間に
(AlN)x (Al2 OC)1-x 相の粒子が生成してい
る状態のセラミックス組織を示す電子顕微鏡写真であ
る。
FIG. 6 is an electron micrograph showing a ceramic structure in a state where (AlN) x (Al 2 OC) 1-x phase particles are generated between a matrix composed of AlN crystal phase particles.

【図7】図6のマトリックスおよび(AlN)x (Al
2 OC)1-x 相の粒子を拡大して示す、セラミックス組
織の電子顕微鏡写真である。
FIG. 7 shows the matrix of FIG. 6 and (AlN) x (Al
2 OC) showing an enlarged of 1-x phase particles is an electron microscope photograph of a ceramic tissue.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05B 3/02 C04B 35/58 104R 3/20 356 104U H01L 21/302 G (56)参考文献 特開 昭60−186479(JP,A) 特開 平5−330809(JP,A) 特開 平5−101871(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C04B 35/581 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H05B 3/02 C04B 35/58 104R 3/20 356 104U H01L 21/302 G (56) References JP-A-5-330809 (JP, A) JP-A-5-101187 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C04B 35/581

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】窒化アルミニウム焼結体であって、窒化ア
ルミニウム焼結体に含有されているアルミニウム以外の
金属元素の含有量が100ppm以下であり、窒化アル
ミニウム焼結体に含有されている炭素原子の割合が50
0ppm〜5000ppmであり、窒化アルミニウムか
らなる主結晶相とALONからなる副結晶相とカーボン
相とからなり、(AlN)x (Al2 OC)1-x 相を実
質的に含有せず、窒化アルミニウム焼結体のX線回折チ
ャートにおいてX線回折角度2θ=44°〜45°にカ
ーボンのピークが検出され、カーボンのc軸面に対応す
るピークが検出されず、JIS Z 8721に規定す
る明度がN4以下であることを特徴とする、窒化アルミ
ニウム焼結体。
1. An aluminum nitride sintered body, wherein the content of metal elements other than aluminum contained in the aluminum nitride sintered body is 100 ppm or less, and the carbon atoms contained in the aluminum nitride sintered body are Is 50
0 ppm to 5000 ppm, comprising a main crystal phase composed of aluminum nitride, a sub-crystal phase composed of ALON, and a carbon phase, containing substantially no (AlN) x (Al 2 OC) 1-x phase; In the X-ray diffraction chart of the sintered body, a peak of carbon is detected at an X-ray diffraction angle 2θ = 44 ° to 45 °, a peak corresponding to the c-axis plane of carbon is not detected, and the brightness specified in JIS Z 8721 is reduced. An aluminum nitride sintered body characterized by being N4 or less.
【請求項2】請求項1記載の窒化アルミニウム焼結体を
基材として使用していることを特徴とする、半導体製造
用装置。
2. An apparatus for manufacturing a semiconductor, comprising using the aluminum nitride sintered body according to claim 1 as a base material.
【請求項3】JIS Z 8721に規定する明度がN
4以下である窒化アルミニウム焼結体を製造する方法で
あって、 アルミニウム以外の金属元素の含有量が100ppm以
下であり、炭素含有量が500ppm〜5000ppm
である一種類の窒化アルミニウム粉末のみからなる原料
粉末を、1730℃以上、1920℃以下の温度および
80kg/cm2 以上の圧力で焼結させることによって
窒化アルミニウム焼結体を得ることを特徴とする、窒化
アルミニウム焼結体の製造方法。
3. The brightness specified in JIS Z 8721 is N
A method for producing an aluminum nitride sintered body that is 4 or less, wherein the content of metal elements other than aluminum is 100 ppm or less, and the carbon content is 500 ppm to 5000 ppm.
Is obtained by sintering a raw material powder consisting of only one kind of aluminum nitride powder at a temperature of 1730 ° C. or more and 1920 ° C. or less and a pressure of 80 kg / cm 2 or more to obtain an aluminum nitride sintered body. And a method for producing an aluminum nitride sintered body.
【請求項4】JIS Z 8721に規定する明度がN
4以下である窒化アルミニウム焼結体を製造する方法で
あって、 アルミニウム以外の金属元素の含有量が100ppm以
下である窒化アルミニウム粉末と有機樹脂とを有機溶剤
中で湿式混合して原料粉末を得、この際前記原料粉末の
炭素含有量が500ppm〜5000ppmとなるよう
にし、この原料粉末を、1730℃以上、1920℃以
下の温度および80kg/cm2 以上の圧力で焼結させ
ることによって窒化アルミニウム焼結体を得ることを特
徴とする、窒化アルミニウム焼結体の製造方法。
4. The brightness defined in JIS Z 8721 is N
A method for producing an aluminum nitride sintered body having a content of metal elements other than aluminum of 100 ppm or less and an organic resin by wet mixing in an organic solvent to obtain a raw material powder. At this time, the carbon content of the raw material powder is adjusted to 500 ppm to 5000 ppm, and the raw material powder is sintered at a temperature of 1730 ° C. or more and 1920 ° C. or less and a pressure of 80 kg / cm 2 or more, so that aluminum nitride is sintered. A method for producing an aluminum nitride sintered body, comprising obtaining a sintered body.
【請求項5】JIS Z 8721に規定する明度がN
4以下である窒化アルミニウム焼結体を製造する方法で
あって、 炭素含有量が異なる複数種の窒化アルミニウム粉末のみ
を混合することによって原料粉末を得、この際原料粉末
中の炭素含有量が500ppm〜5000ppmとなる
ようにし、かつアルミニウム以外の金属元素の含有量が
100ppm以下となるようにし、この原料粉末を、1
730℃以上、1920℃以下の温度および80kg/
cm2 以上の圧力で焼結させることによって窒化アルミ
ニウム焼結体を得ることを特徴とする、窒化アルミニウ
ム焼結体の製造方法。
5. The brightness defined in JIS Z 8721 is N
A method for producing an aluminum nitride sintered body having a carbon content of 4 or less, wherein a raw material powder is obtained by mixing only a plurality of types of aluminum nitride powders having different carbon contents, wherein the carbon content in the raw material powder is 500 ppm To 5000 ppm, and the content of metal elements other than aluminum to 100 ppm or less.
730 ° C or higher and 1920 ° C or lower and 80 kg /
A method for producing an aluminum nitride sintered body, characterized in that an aluminum nitride sintered body is obtained by sintering at a pressure of 2 cm 2 or more.
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