JP3033111B2 - 磁気センサ - Google Patents
磁気センサInfo
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- JP3033111B2 JP3033111B2 JP2057678A JP5767890A JP3033111B2 JP 3033111 B2 JP3033111 B2 JP 3033111B2 JP 2057678 A JP2057678 A JP 2057678A JP 5767890 A JP5767890 A JP 5767890A JP 3033111 B2 JP3033111 B2 JP 3033111B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、測長ないし測角用の磁気エンコーダ等に
好適な、磁気センサに関する。
好適な、磁気センサに関する。
[発明の概要] この発明は、正弦波信号出力部及び余弦波信号出力部
を有する磁気センサにおいて、各信号出力部を形成する
複数の磁気抵抗素子を同数ずつ交互に配列することによ
り、両信号出力部を空間的に接近させて、各信号間の位
相差の精度を向上させ、レベル差を低減すると共に、セ
ンサの形状を小型化するようにしたものである。
を有する磁気センサにおいて、各信号出力部を形成する
複数の磁気抵抗素子を同数ずつ交互に配列することによ
り、両信号出力部を空間的に接近させて、各信号間の位
相差の精度を向上させ、レベル差を低減すると共に、セ
ンサの形状を小型化するようにしたものである。
[従来の技術] 従来、測長ないし測角用の磁気エンコーダとして、第
5図に示すように、記録波長がλの磁気スケール(1)
に対向して、サイン波信号発生用及びコサイン波信号発
生用の磁気センサブロック(10)及び(20)を配置した
磁気センサが知られている。
5図に示すように、記録波長がλの磁気スケール(1)
に対向して、サイン波信号発生用及びコサイン波信号発
生用の磁気センサブロック(10)及び(20)を配置した
磁気センサが知られている。
磁気センサブロック(10),(20)は、図示を省略し
たガラス等の絶縁基板上に、複数の磁気抵抗効果素子
(Magneto−Resistive Effect Element)が所定の距離
で配設されて構成される。このMR素子は、例えばNi−F
e,Ni−Co等の強磁性体薄膜から形成される。
たガラス等の絶縁基板上に、複数の磁気抵抗効果素子
(Magneto−Resistive Effect Element)が所定の距離
で配設されて構成される。このMR素子は、例えばNi−F
e,Ni−Co等の強磁性体薄膜から形成される。
この従来例では、磁気センサブロック(10),(20)
の各8個のMR素子(11)〜(18),(21)〜(28)が第
6図,第7図に示すように配置され、接続される。
の各8個のMR素子(11)〜(18),(21)〜(28)が第
6図,第7図に示すように配置され、接続される。
即ち、磁気センサブロック(10)では、それぞれλ/2
間隔のMR素子(11),(12);(17),(18)が2個ず
つU字状に接続される。第2,第3及び第6,第7のMR素子
(12),(13)及び(16),(17)は、間隔がそれぞれ
λ/4の奇数倍に設定されると共に、それぞれの他端がU
字状に接続される。また、第1,第5のMR素子(11),
(15)の間隔もλ/4の奇数倍に設定される。
間隔のMR素子(11),(12);(17),(18)が2個ず
つU字状に接続される。第2,第3及び第6,第7のMR素子
(12),(13)及び(16),(17)は、間隔がそれぞれ
λ/4の奇数倍に設定されると共に、それぞれの他端がU
字状に接続される。また、第1,第5のMR素子(11),
(15)の間隔もλ/4の奇数倍に設定される。
第1,第5のMR素子(11),(15)の他端が電源端子V
に接続され、第4,第8のMR素子(14),(18)の他端が
接地端子Eに接続される。第2,第3及び第6,第7のMR素
子(12),(13)及び(16),(17)の各接続中点が信
号端子(10a),(10b)にそれぞれ接続される。
に接続され、第4,第8のMR素子(14),(18)の他端が
接地端子Eに接続される。第2,第3及び第6,第7のMR素
子(12),(13)及び(16),(17)の各接続中点が信
号端子(10a),(10b)にそれぞれ接続される。
第7図に示すように、磁気センサブロック(10)の第
1〜第4のMR端子(11)〜(14)と、第5〜第8のMR素
子(15)〜(18)とが、電源端子Vと接地端子Eの間に
ブリッジ接続され、信号端子(10a),(10b)に作動増
幅器(19)が接続される。
1〜第4のMR端子(11)〜(14)と、第5〜第8のMR素
子(15)〜(18)とが、電源端子Vと接地端子Eの間に
ブリッジ接続され、信号端子(10a),(10b)に作動増
幅器(19)が接続される。
他方の磁気センサブロック(20)も上述と同様に構成
され、両磁気センサブロック(10),(20)の各第1の
MR素子(11),(21)の距離D0はλ/8の奇数倍に設定さ
れる。
され、両磁気センサブロック(10),(20)の各第1の
MR素子(11),(21)の距離D0はλ/8の奇数倍に設定さ
れる。
磁気スケール(1)から、次の(1)式で表される磁
場がMR素子に印加されると、ゼロバイアスで動作するMR
素子の抵抗値が印加磁場の2乗に比例して減少し、次の
(2)式で表される出力信号成分が得られる。
場がMR素子に印加されると、ゼロバイアスで動作するMR
素子の抵抗値が印加磁場の2乗に比例して減少し、次の
(2)式で表される出力信号成分が得られる。
H=Ha・sinθm ‥‥(1) R=(ΔR/2)(Ha/Hs)2・cos2θm ‥‥(2) Hs:飽和磁場 磁気スケール(1)と磁気センサブロック(10)の相
対位置が第5図に示すようであるとき、スケール(1)
の磁場が印加されるMR素子(13),(14);(15),
(16)の抵抗値が減少して、磁場が印加されないMR素子
(11),(12);(17),(18)の抵抗値は変化しな
い。
対位置が第5図に示すようであるとき、スケール(1)
の磁場が印加されるMR素子(13),(14);(15),
(16)の抵抗値が減少して、磁場が印加されないMR素子
(11),(12);(17),(18)の抵抗値は変化しな
い。
上述の従来例では、内挿分割の技法により、磁気セン
サブロック(10),(20)が発生するサイン波信号及び
コサイン波信号から、相互に位相が異なる複数の信号を
合成し、各合成信号のゼロクロス点を検出することによ
り、所要の分解能を有する検出パルス列を得ている。
サブロック(10),(20)が発生するサイン波信号及び
コサイン波信号から、相互に位相が異なる複数の信号を
合成し、各合成信号のゼロクロス点を検出することによ
り、所要の分解能を有する検出パルス列を得ている。
そして、各MR素子をブリッジ接続することにより、低
周波の減衰、偶数次高調波・温度特性の相殺等で、信号
歪みが低減され、また、差動接続することにより、直流
成分・同相ノイズが除去される。
周波の減衰、偶数次高調波・温度特性の相殺等で、信号
歪みが低減され、また、差動接続することにより、直流
成分・同相ノイズが除去される。
[発明が解決しようとする課題] ところが、従来の磁気センサでは、前述のように、各
磁気センサブロック(10),(20)が、所定の位相関係
を満足する位置に配設された一団のMR素子(11)〜(1
8),(21)〜(28)からそれぞれ構成されているた
め、両センサブロック(10),(20)が空間的に離れて
しまう。
磁気センサブロック(10),(20)が、所定の位相関係
を満足する位置に配設された一団のMR素子(11)〜(1
8),(21)〜(28)からそれぞれ構成されているた
め、両センサブロック(10),(20)が空間的に離れて
しまう。
例えば、λ=80μmの場合、両センサブロック(1
0),(20)の各第1のMR素子(11),(21)の距離
が、D0=730μmにもなる。
0),(20)の各第1のMR素子(11),(21)の距離
が、D0=730μmにもなる。
両センサブロック(10),(20)が空間的に離れる
と、磁気センサの形状を小型化することが困難であると
共に、MR素子蒸着用のマスクの加工精度,熱膨張,スケ
ール・センサ間のアジマス等により、各センサブロック
(10),(20)から出力される、サイン波信号及びコサ
イン波信号間の位相差の精度が低下するという問題があ
った。
と、磁気センサの形状を小型化することが困難であると
共に、MR素子蒸着用のマスクの加工精度,熱膨張,スケ
ール・センサ間のアジマス等により、各センサブロック
(10),(20)から出力される、サイン波信号及びコサ
イン波信号間の位相差の精度が低下するという問題があ
った。
また、磁気スケールの記録むらにより、サイン波信号
及びコサイン波信号間に、非定常的なレベル差が発生し
て、内挿分割時のパルス列の分解能が低下するという問
題があった。
及びコサイン波信号間に、非定常的なレベル差が発生し
て、内挿分割時のパルス列の分解能が低下するという問
題があった。
かかる点に鑑み、この発明の目的は、両磁気センサブ
ロックを空間的に接近させて、各信号間の位相差の精度
を向上させ、レベル差を低減すると共に、形状を小型化
した磁気センサを提供するところにある。
ロックを空間的に接近させて、各信号間の位相差の精度
を向上させ、レベル差を低減すると共に、形状を小型化
した磁気センサを提供するところにある。
[課題を解決するための手段] この発明の磁気センサは、基盤上にそれぞれ所定の間
隔で配列された複数の磁気抵抗素子の内、それぞれ所定
数の磁気抵抗素子がサイン波センサブロック(10)およ
びコサイン波センサブロック(20)を形成するようにな
された磁気センサにおいて、上記サイン波センサブロッ
クを形成する磁気抵抗素子の第1及び第2の各ペア(1
1)〜(14)と、上記コサイン波センサブロックを形成
する磁気抵抗素子の第1及び第2の各ペア(21)〜(2
4)と、上記サイン波センサブロックを形成する磁気抵
抗素子の第3及び第4の各ペア(15)〜(18)と、上記
コサイン波センサブロックを形成する磁気抵抗素子の第
3及び第4の各ペア(25)〜(28)とをそれぞれ直列に
接続して4グループを形成し、1/2波長間隔に接続され
た上記各グループの各ペア間を所定の距離として、1つ
のグループの各ペア間に他のグループの各ペアが介挿配
置され、上記サイン波センサブロックの第1のペアと上
記コサイン波センサブロックの第1のペアとの距離は1/
8波長の奇数倍に設定され、同一グループの第1のペア
と、第2のペアとの間隔はそれぞれ1/4波長の奇数倍に
設定され、同一センサブロックの第1のペア、第3のペ
アとの間隔はそれぞれ1/4波長の奇数倍に設定され、上
記サイン波センサブロックの各ペアと、上記コサイン波
センサブロックの各ペアとを同数ずつ交互に配列したも
のである。
隔で配列された複数の磁気抵抗素子の内、それぞれ所定
数の磁気抵抗素子がサイン波センサブロック(10)およ
びコサイン波センサブロック(20)を形成するようにな
された磁気センサにおいて、上記サイン波センサブロッ
クを形成する磁気抵抗素子の第1及び第2の各ペア(1
1)〜(14)と、上記コサイン波センサブロックを形成
する磁気抵抗素子の第1及び第2の各ペア(21)〜(2
4)と、上記サイン波センサブロックを形成する磁気抵
抗素子の第3及び第4の各ペア(15)〜(18)と、上記
コサイン波センサブロックを形成する磁気抵抗素子の第
3及び第4の各ペア(25)〜(28)とをそれぞれ直列に
接続して4グループを形成し、1/2波長間隔に接続され
た上記各グループの各ペア間を所定の距離として、1つ
のグループの各ペア間に他のグループの各ペアが介挿配
置され、上記サイン波センサブロックの第1のペアと上
記コサイン波センサブロックの第1のペアとの距離は1/
8波長の奇数倍に設定され、同一グループの第1のペア
と、第2のペアとの間隔はそれぞれ1/4波長の奇数倍に
設定され、同一センサブロックの第1のペア、第3のペ
アとの間隔はそれぞれ1/4波長の奇数倍に設定され、上
記サイン波センサブロックの各ペアと、上記コサイン波
センサブロックの各ペアとを同数ずつ交互に配列したも
のである。
[作用] かかる構成によれば、両信号出力部が空間的に接近し
て、各信号間の位相差の精度が向上し、レベル差が低減
すると共に、センサの形状が小型化される。
て、各信号間の位相差の精度が向上し、レベル差が低減
すると共に、センサの形状が小型化される。
[実施例] 以下、第1図を参照しながら、この発明による磁気セ
ンサの一実施例の前提について説明する。
ンサの一実施例の前提について説明する。
この発明の一実施例の前提の構成を第1図に示す。こ
の第1図において、前出第6図に対応する部分には同一
の符号を付ける。
の第1図において、前出第6図に対応する部分には同一
の符号を付ける。
第1図においては、両磁気センサブロック(10)及び
(20)の各第1〜第4のMR素子(11)〜(14)及び(2
1)〜(24)と、第5〜第8のMR素子(15)〜(18)及
び(25)〜(28)とが、前出第6図と同様にそれぞれ直
列に接続される。各直列グループの4個のMR素子、例え
ば(11)〜(14)の相対配置は前出第6図と同様であ
る。
(20)の各第1〜第4のMR素子(11)〜(14)及び(2
1)〜(24)と、第5〜第8のMR素子(15)〜(18)及
び(25)〜(28)とが、前出第6図と同様にそれぞれ直
列に接続される。各直列グループの4個のMR素子、例え
ば(11)〜(14)の相対配置は前出第6図と同様であ
る。
第1図では、サイン波用センサブロック(10)の第2
グループのMR素子(15)〜(18)と、コサイン波用セン
サブロック(20)の第1グループのMR素子(21)〜(2
4)とが、前出第6図の従来例とほぼ入れ替わって配設
されて、両センサブロック(10)及び(20)の各第1の
MR素子(11)及び(21)の距離D1が、従来例と同様に、
λ/8の奇数倍に設定される。
グループのMR素子(15)〜(18)と、コサイン波用セン
サブロック(20)の第1グループのMR素子(21)〜(2
4)とが、前出第6図の従来例とほぼ入れ替わって配設
されて、両センサブロック(10)及び(20)の各第1の
MR素子(11)及び(21)の距離D1が、従来例と同様に、
λ/8の奇数倍に設定される。
また、同一センサブロックの第1,第5のMR素子、例え
ば(11),(15)の間隔はλ/4の奇数倍に設定される。
ば(11),(15)の間隔はλ/4の奇数倍に設定される。
上述のように、両センサブロック(10),(20)の各
第1,第2のグループが交互に配設されて、両センサブロ
ック(10),(20)の各第1のMR素子(11),(21)の
距離D1は、従来例の対応する距離D0に比べて半減し、サ
イン波信号及びコサイン波信号間の位相差の精度が向上
すると共に、レベル差が低減する。
第1,第2のグループが交互に配設されて、両センサブロ
ック(10),(20)の各第1のMR素子(11),(21)の
距離D1は、従来例の対応する距離D0に比べて半減し、サ
イン波信号及びコサイン波信号間の位相差の精度が向上
すると共に、レベル差が低減する。
次に、第2図を参照しながら、この発明の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
この発明の実施例の構成を第2図示す。この第2図に
おいて、前出第1図,第6図に対応する部分には同一の
符号を付ける。
おいて、前出第1図,第6図に対応する部分には同一の
符号を付ける。
第2図の実施例においては、両磁気センサブロック
(10)及び(20)の各第1〜第4のMR素子(11)〜(1
4)及び(21)〜(24)と、第5〜第8のMR素子(15)
〜(18)及び(25)〜(28)とが、それぞれ直列に接続
されて、4グループが形成される。
(10)及び(20)の各第1〜第4のMR素子(11)〜(1
4)及び(21)〜(24)と、第5〜第8のMR素子(15)
〜(18)及び(25)〜(28)とが、それぞれ直列に接続
されて、4グループが形成される。
第2図の実施例では、λ/2間隔でU字状に接続された
各グループのペアのMR素子が、各ペア間の距離を拡大さ
れて、一つのグループのペア間に他のグループのペアが
介挿配置される。この場合、両センサブロック(10)及
び(20)の各第1のMR素子(11)及び(21)の距離D2
は、従来例と同様に、λ/8の奇数倍に設定される。
各グループのペアのMR素子が、各ペア間の距離を拡大さ
れて、一つのグループのペア間に他のグループのペアが
介挿配置される。この場合、両センサブロック(10)及
び(20)の各第1のMR素子(11)及び(21)の距離D2
は、従来例と同様に、λ/8の奇数倍に設定される。
また、同一グループの第1,第3のMR素子、例えば(1
1),(13);(21),(23)の間隔はそれぞれλ/4の
奇数倍に設定され、同一センサブロックの第1,第5のMR
素子、例えば(11),(15)の間隔もλ/4の奇数倍に設
定される。
1),(13);(21),(23)の間隔はそれぞれλ/4の
奇数倍に設定され、同一センサブロックの第1,第5のMR
素子、例えば(11),(15)の間隔もλ/4の奇数倍に設
定される。
上述のように、この実施例では、サイン波用センサブ
ロック(10)とコサイン波用センサブロック(20)との
各MR素子ペア、例えば(11),(12);(13),(14)
と(21),(22);(23),(24)とが交互に配設され
て、両センサブロック(10),(20)の各第1のMR素子
(11),(21)の距離D2は、第1図の実施例の対応距離
D1に比べても半減し、サイン波信号及びコサイン波信号
間の位相差の精度が更に向上すると共に、レベル差が更
に低減する。
ロック(10)とコサイン波用センサブロック(20)との
各MR素子ペア、例えば(11),(12);(13),(14)
と(21),(22);(23),(24)とが交互に配設され
て、両センサブロック(10),(20)の各第1のMR素子
(11),(21)の距離D2は、第1図の実施例の対応距離
D1に比べても半減し、サイン波信号及びコサイン波信号
間の位相差の精度が更に向上すると共に、レベル差が更
に低減する。
第1図及び第2図の実施例では、同一グループのペア
のMR素子、例えば(11),(12);(13),(14)が相
互に離れて配設されている。両図に示すように、同一グ
ループの第1,第3のMR素子、例えば(11),(13)の間
隔はλ/4の奇数倍に設定されればよいのであるから、n
=0として、最小間隔のλ/4とすることができる。
のMR素子、例えば(11),(12);(13),(14)が相
互に離れて配設されている。両図に示すように、同一グ
ループの第1,第3のMR素子、例えば(11),(13)の間
隔はλ/4の奇数倍に設定されればよいのであるから、n
=0として、最小間隔のλ/4とすることができる。
一方、ペアのMR素子、例えば(11),(12)の間隔
は、前述のようにλ/2であるから、同一グループの第1,
第3のMR素子の間隔をλ/4の最小倍に設定することによ
り、第3図に示すように、同一グループのペアのMR素
子、例えば(11),(12);(13),(14)を交互に配
設することができて、4個のMR素子からなる各グループ
の占有長が縮小され、磁気センサの形状を一層小型化す
ることができる。
は、前述のようにλ/2であるから、同一グループの第1,
第3のMR素子の間隔をλ/4の最小倍に設定することによ
り、第3図に示すように、同一グループのペアのMR素
子、例えば(11),(12);(13),(14)を交互に配
設することができて、4個のMR素子からなる各グループ
の占有長が縮小され、磁気センサの形状を一層小型化す
ることができる。
なお、この場合は、MR素子層とは別に、接続用の配線
層を設けることが必要となる。
層を設けることが必要となる。
次に、第4図を参照しながら、他の磁気センサについ
て説明する。
て説明する。
他の磁気センサの構成を第4図に示す。この第4図に
おいて、前出第1図〜第3図,第6図に対応する部分に
は同一の符号を付ける。
おいて、前出第1図〜第3図,第6図に対応する部分に
は同一の符号を付ける。
第4図においては、サイン波用とコサイン波用の両磁
気センサブロック(10),(20)の各第1のMR素子(1
1),(21)の距離Dがλ/8の奇数倍に設定されること
に着目して、両センサブロック(10),(20)の各第1
のMR素子(11),(21)の距離D3を、第3図と同様、λ
/8の最小倍に設定する。
気センサブロック(10),(20)の各第1のMR素子(1
1),(21)の距離Dがλ/8の奇数倍に設定されること
に着目して、両センサブロック(10),(20)の各第1
のMR素子(11),(21)の距離D3を、第3図と同様、λ
/8の最小倍に設定する。
また、同一グループの第1,第3のMR素子、例えば(1
1),(13);(21),(23)の間隔はそれぞれλ/4の
奇数倍に設定され、同一センサブロックの第1,第5のMR
素子、例えば(11),(15)の間隔もλ/4の奇数倍に設
定される。
1),(13);(21),(23)の間隔はそれぞれλ/4の
奇数倍に設定され、同一センサブロックの第1,第5のMR
素子、例えば(11),(15)の間隔もλ/4の奇数倍に設
定される。
これにより、第4図では、両センサブロック(10),
(20)の、それぞれλ/2間隔の、各ペアのMR素子、例え
ば(11),(12);(21),(22)を交互に配設するこ
とができて、8個のMR素子からなる各センサブロック
(10),(20)の占有長が短縮されると共に、各センサ
ブロック(10),(20)が殆ど重なり合って、磁気セン
サの形状を格段に小型化することができる。
(20)の、それぞれλ/2間隔の、各ペアのMR素子、例え
ば(11),(12);(21),(22)を交互に配設するこ
とができて、8個のMR素子からなる各センサブロック
(10),(20)の占有長が短縮されると共に、各センサ
ブロック(10),(20)が殆ど重なり合って、磁気セン
サの形状を格段に小型化することができる。
例えば、λ=80μmの場合、磁気センサの全長が、L
=230μmにも短縮されると共に、各センサブロック(1
0),(20)間の距離が、D3=10μmにも短縮される。
=230μmにも短縮されると共に、各センサブロック(1
0),(20)間の距離が、D3=10μmにも短縮される。
また、サイン波信号及びコサイン波信号間の位相差の
精度が更に向上すると共に、レベル差が更に低減する。
精度が更に向上すると共に、レベル差が更に低減する。
なお、この場合も、MR素子層とは別に、接続用の配線
層を設けることが必要である。
層を設けることが必要である。
[発明の効果] この発明によれば、両センサブロックの第1のペアの
距離を短くすることができ、サイン波信号及びコサイン
波信号間の位相差の精度を向上させると共に、レベル差
を低減させることにより、形状が小型の磁気センサを得
ることができるという効果を奏する。
距離を短くすることができ、サイン波信号及びコサイン
波信号間の位相差の精度を向上させると共に、レベル差
を低減させることにより、形状が小型の磁気センサを得
ることができるという効果を奏する。
第1図はこの発明による磁気センサの一実施例の前提の
構成を示す略線平面図、第2図はこの発明の実施例の構
成を示す略線平面図、第3図は他の磁気センサの要部の
構成を示す略線平面図、第4図は他の磁気センサの構成
を示す略線平面図、第5図及び第6図は従来の磁気セン
サの構成例を示す略線概念図及び略線平面図、第7図は
この発明の説明のための結線図である。 (10)は正弦波信号出力部、(20)は余弦波信号出力
部、(11)〜(18),(21)〜(28)は磁気抵抗素子で
ある。
構成を示す略線平面図、第2図はこの発明の実施例の構
成を示す略線平面図、第3図は他の磁気センサの要部の
構成を示す略線平面図、第4図は他の磁気センサの構成
を示す略線平面図、第5図及び第6図は従来の磁気セン
サの構成例を示す略線概念図及び略線平面図、第7図は
この発明の説明のための結線図である。 (10)は正弦波信号出力部、(20)は余弦波信号出力
部、(11)〜(18),(21)〜(28)は磁気抵抗素子で
ある。
Claims (1)
- 【請求項1】基盤上にそれぞれ所定の間隔で配列された
複数の磁気抵抗素子の内、それぞれ所定数の磁気抵抗素
子がサイン波センサブロックおよびコサイン波センサブ
ロックを形成するようになされた磁気センサにおいて、 上記サイン波センサブロックを形成する磁気抵抗素子の
第1及び第2の各ペアと、上記コサイン波センサブロッ
クを形成する磁気抵抗素子の第1及び第2の各ペアと、
上記サイン波センサブロックを形成する磁気抵抗素子の
第3及び第4の各ペアと、上記コサイン波センサブロッ
クを形成する磁気抵抗素子の第3及び第4の各ペアとを
それぞれ直列に接続して4グループを形成し、 1/2波長間隔に接続された上記各グループの各ペア間を
所定の距離として、1つのグループの各ペア間に他のグ
ループの各ペアが介挿配置され、 上記サイン波センサブロックの第1のペアと上記コサイ
ン波センサブロックの第1のペアとの距離は1/8波長の
奇数倍に設定され、 同一グループの第1のペアと、第2のペアとの間隔はそ
れぞれ1/4波長の奇数倍に設定され、同一センサブロッ
クの第1のペア、第3のペアとの間隔はそれぞれ1/4波
長の奇数倍に設定され、 上記サイン波センサブロックの各ペアと、上記コサイン
波センサブロックの各ペアとを同数ずつ交互に配列した
ことを特徴とする磁気センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2057678A JP3033111B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 磁気センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2057678A JP3033111B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 磁気センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03257326A JPH03257326A (ja) | 1991-11-15 |
| JP3033111B2 true JP3033111B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=13062588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2057678A Expired - Fee Related JP3033111B2 (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 磁気センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3033111B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4203073C2 (de) * | 1992-02-04 | 1994-12-15 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmeßeinrichtung |
| TWI393867B (zh) | 2007-04-20 | 2013-04-21 | Mitsubishi Electric Corp | 磁性式旋轉角檢測器 |
| JP7452562B2 (ja) * | 2022-03-01 | 2024-03-19 | Tdk株式会社 | 磁気センサ、磁気式エンコーダ、レンズ位置検出装置および測距装置ならびに磁気センサの製造方法 |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP2057678A patent/JP3033111B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03257326A (ja) | 1991-11-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |