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JP3030795B2 - Work cleaning equipment - Google Patents

Work cleaning equipment

Info

Publication number
JP3030795B2
JP3030795B2 JP4177625A JP17762592A JP3030795B2 JP 3030795 B2 JP3030795 B2 JP 3030795B2 JP 4177625 A JP4177625 A JP 4177625A JP 17762592 A JP17762592 A JP 17762592A JP 3030795 B2 JP3030795 B2 JP 3030795B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
work
cleaning liquid
liquid
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4177625A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05345170A (en
Inventor
徳雄 新井田
陵二 小林
紀彦 佐賀
裕次 江角
昭彦 原間井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Astemo Ltd
Original Assignee
Keihin Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Keihin Corp filed Critical Keihin Corp
Priority to JP4177625A priority Critical patent/JP3030795B2/en
Publication of JPH05345170A publication Critical patent/JPH05345170A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3030795B2 publication Critical patent/JP3030795B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、機械加工等によって形
成される物品の加工時における切粉,加工時に使用され
る切削油,研磨材、等の異物を除去する洗浄方法及び該
洗浄方法を実施する為の洗浄装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning method and a cleaning method for removing foreign matter such as cutting chips, cutting oil and abrasives used in processing of an article formed by machining or the like. The present invention relates to a cleaning device for performing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の洗浄装置の一例として特開平3−
139832号公報がある。これによると、ワークとし
てのウエハをチャックの上に保持し、該チャックを回転
し且つノズルから前記ウエハ上に高圧水を噴射してウエ
ハの面を洗浄する洗浄装置において、ウエハ,チャッ
ク,ノズルを収容する構造体を水密に構成してその内側
に水を内蔵し、前記ウエハとそれを保持するチャックと
高圧水を噴射するノズルの出口とを水面より下側に配置
したものであり、ノズルから噴射される高圧水は静水中
を通ってウエハ面に到達するが、この間の高圧水噴流と
静水との間で摩擦が起こり、キャビテーション気泡が発
生し、このキャビテーション気泡はウエハ面に達すると
破壊して大きな衝撃圧を発生し、この衝撃圧によってウ
エハ面上の汚れが除去したものである。
2. Description of the Related Art As an example of a conventional cleaning apparatus, Japanese Patent Laid-Open Publication No.
No. 139832. According to this, in a cleaning apparatus for holding a wafer as a work on a chuck, rotating the chuck, and spraying high-pressure water onto the wafer from the nozzle to wash the surface of the wafer, the wafer, the chuck, and the nozzle are cleaned. The structure to be housed is made watertight and water is built in the inside thereof, and the wafer, the chuck holding it and the outlet of the nozzle for jetting high-pressure water are arranged below the water surface, The injected high-pressure water reaches the wafer surface through the still water, but friction occurs between the high-pressure water jet and the still water during this time, cavitation bubbles are generated, and the cavitation bubbles are destroyed when they reach the wafer surface. Thus, a large impact pressure is generated, and dirt on the wafer surface is removed by the impact pressure.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】かかる従来の洗浄装置
によると、洗浄槽内に配置されたワークに付着した異物
がキャビテーション気泡の破壊作用によって除去された
としても、洗浄槽内の洗浄液中には除去された異物が混
入して存在する。これは洗浄槽の上部より給水口を介し
て水が供給され、洗浄槽の下部の排水口より水が排出さ
れるもので異物を含んだ洗浄液が比較的小径の排水口よ
り制限されて排出されることによる。いいかえるならば
異物を含んだ洗浄液を充分に排出できない。以上によれ
ば、洗浄槽内においてワークを洗浄した後に洗浄槽より
ワークを取り出す際、洗浄液に混入される異物が再びワ
ークに付着する恐れがあり洗浄効果が阻害される。
According to such a conventional cleaning apparatus, even if the foreign matter adhering to the work placed in the cleaning tank is removed by the destruction of the cavitation bubbles, the cleaning liquid in the cleaning tank remains in the cleaning liquid. The removed foreign matter is mixed and present. In this method, water is supplied from the upper part of the cleaning tank through a water supply port, and water is discharged from the lower part of the cleaning tank.The cleaning liquid containing foreign substances is restricted and discharged from a relatively small-diameter drain port. It depends. In other words, the cleaning solution containing foreign substances cannot be sufficiently discharged. According to the above, when the work is taken out of the cleaning tank after cleaning the work in the cleaning tank, foreign substances mixed in the cleaning liquid may adhere to the work again, and the cleaning effect is hindered.

【0004】本発明は前記課題に鑑みなされたもので、
ワークの洗浄効果の高い洗浄装置を提供することにあ
る。
[0004] The present invention has been made in view of the above problems,
An object of the present invention is to provide a cleaning device having a high cleaning effect on a workpiece.

【0005】[0005]

【課題を解決する為の手段】本発明になるワークの洗浄
装置は前記目的達成の為に、ワークを固定的に取着し、
ワークに対して回転と直線方向の往復動を付与するワー
ク支持体と、内部に洗浄液が貯溜される洗浄槽と、洗浄
槽の上部にある洗浄液を洗浄槽外へ溢流させるオーバー
フロー手段と、ワークに向かって対応し、洗浄槽内にあ
るワークあるいは洗浄槽外にあるワークに向けて直線方
向の往復動が許容されるとともに液体ポンプにて加圧さ
れた貯液槽内の洗浄液が供給され、該洗浄液を対向する
ワークに向けて噴射する噴射ノズルとを備えることを特
徴とする。
According to the present invention, there is provided an apparatus for cleaning a work, comprising:
A work support for imparting rotation and linear reciprocation to the work, a washing tank in which the washing liquid is stored, an overflow means for overflowing the washing liquid at the top of the washing tank out of the washing tank, , The reciprocating movement in the linear direction is allowed toward the work in the cleaning tank or the work outside the cleaning tank, and the cleaning liquid in the storage tank pressurized by the liquid pump is supplied, And a spray nozzle for spraying the cleaning liquid toward the opposing work.

【0006】[0006]

【作用】第1洗浄工程において、洗浄槽外に回転状態に
配置されたワークに向けて噴射ノズルより洗浄液が噴射
され、これによってワークの荒洗浄が行なわれる。第2
洗浄工程において、ワークは洗浄槽内にある噴射ノズル
に回転状態で対向して配置され、噴射ノズルより洗浄槽
内に噴射される洗浄液のキャビテーション作用によって
ワークの中洗浄が行なわれる。第3洗浄工程において、
再び洗浄槽外に回転状態に配置されたワークに向けて噴
射ノズルより洗浄液が噴射され、これによってワークの
仕上洗浄が行なわれる。而してワークの洗浄が三工程に
よって行なわれるので洗浄効果を高めることができる。
In the first cleaning step, the cleaning liquid is sprayed from the spray nozzle toward the work arranged in a rotating state outside the cleaning tank, whereby the work is roughly cleaned. Second
In the cleaning process, the work is arranged in a rotating state so as to face an injection nozzle in the cleaning tank, and the inside of the work is cleaned by cavitation action of the cleaning liquid injected into the cleaning tank from the injection nozzle. In the third washing step,
The cleaning liquid is again sprayed from the spray nozzle toward the work arranged in a rotating state outside the cleaning tank, whereby finish cleaning of the work is performed. Since the cleaning of the work is performed in three steps, the cleaning effect can be enhanced.

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明の第一の実施例について図1,
図2により説明する。1は内部に洗浄液Wを貯溜するこ
とのできる上部が開口した有底状の洗浄槽であり、貯液
槽2内の洗浄液Wが液体ポンプ3によって供給され、洗
浄槽1内には洗浄液Wが貯溜される。具体的に液体ポン
プ3の吸入路3Aは貯液槽2内に配置されたフィルター
4に連絡され、吐出路3Bは洗浄液供給路5、後述する
噴射ノズル6に連絡される。本実施例における噴射ノズ
ル6は三本よりなり、第一本の噴射ノズル6は洗浄槽1
の中心部にあって上方に向かって噴孔が開口し、第二,
第三本の噴射ノズル6は第一本の噴射ノズル6の中心に
対して互いに対向して配置されるとともに中心部に向か
う複数の噴孔が上下方向に開口される。これら噴射ノズ
ル6は噴射ノズル支持体7に固定されるとともに各噴射
ノズル6は洗浄液供給路5に連絡される。又、前記噴射
ノズル支持体7は図において上下方向の往復動が許容さ
れるもので、これら往復動は例えば空圧シリンダー、油
圧シリンダー(図示せず)によって行なわれる。8は洗
浄槽1の上部より洗浄液Wを洗浄槽外へ排出する為のオ
ーバーフロー手段であり、本実施例にあっては洗浄槽1
の上部開口1Aの近傍外周を囲繞するオーバーフロー室
8Aとオーバーフロー室8Aの底部と貯液槽2とを連絡
するオーバーフロー通路8Bとよりなり、オーバーフロ
ー通路8Bを流れる洗浄液の量は液体ポンプ3より洗浄
槽1内へ供給される洗浄液の量より大流量とする。9は
洗浄すべきワークであり、ワーク9は洗浄槽1内への直
線方向の往復動(図おいて上下方向)と回転運動を行な
うことのできるワーク支持体10に固定され噴射ノズル
6に対向しうる。直線方向の往復動は例えば油,空圧シ
リンダーにて行なわれ、回転運動はモーターにて行なわ
れる。(共に図示せず)
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. Reference numeral 1 denotes a bottomed cleaning tank having an open upper part capable of storing the cleaning liquid W therein. The cleaning liquid W in a storage tank 2 is supplied by a liquid pump 3, and the cleaning liquid W is stored in the cleaning tank 1. It is stored. Specifically, the suction path 3A of the liquid pump 3 is connected to a filter 4 arranged in the liquid storage tank 2, and the discharge path 3B is connected to a cleaning liquid supply path 5 and an injection nozzle 6 described later. The injection nozzle 6 in the present embodiment is composed of three nozzles, and the first injection nozzle 6 is the cleaning tank 1.
In the center of the nozzle, the injection hole opens upward,
The third injection nozzles 6 are arranged to face each other with respect to the center of the first injection nozzle 6, and a plurality of injection holes toward the center are vertically opened. These injection nozzles 6 are fixed to the injection nozzle support 7 and each injection nozzle 6 is connected to the cleaning liquid supply path 5. The injection nozzle support 7 is allowed to reciprocate vertically in the drawing, and these reciprocations are performed by, for example, a pneumatic cylinder or a hydraulic cylinder (not shown). Reference numeral 8 denotes overflow means for discharging the cleaning liquid W from the upper portion of the cleaning tank 1 to the outside of the cleaning tank.
An overflow chamber 8A surrounding the outer periphery in the vicinity of the upper opening 1A and an overflow passage 8B connecting the bottom of the overflow chamber 8A and the liquid storage tank 2. The amount of the washing liquid flowing through the overflow passage 8B is determined by the liquid pump 3 from the washing tank. The flow rate is set to be larger than the amount of the cleaning liquid supplied to the inside of the apparatus. Reference numeral 9 denotes a work to be cleaned. The work 9 is fixed to a work support 10 capable of performing a linear reciprocating movement (vertical direction in the drawing) and a rotating movement into the cleaning tank 1 and facing the spray nozzle 6. Can. The reciprocation in the linear direction is performed by, for example, an oil or pneumatic cylinder, and the rotation is performed by a motor. (Both not shown)

【0008】次にワーク9の洗浄について説明する。ワ
ーク9の洗浄は、第1洗浄工程、第2洗浄工程、第3洗
浄工程、とによって行なわれる。第1洗浄工程は以下に
より、図1によって説明される。噴射ノズル6は洗浄槽
1の上部開口1Aより上方に配置(具体的にはオーバー
フロー室8A)され、一方、ワーク支持体10にて回転
状態にあるワーク9は前記噴射ノズル6の噴孔に対向し
て配置される。かかる状態において、液体ポンプ3が駆
動して、貯液槽2内の洗浄液Wが洗浄液供給路5及び噴
射ノズル6に供給されると、洗浄液Wは噴射ノズル6の
噴孔よりワーク9に向けて噴射される。これによると、
ワーク9は洗浄液Wの物理的な直射力によって異物は除
去されるとともにワーク9の回転によって全周に渡って
異物が除去しうる。尚ワーク9に向かって噴射された洗
浄液Wは回転するワーク9によって飛散し、オーバーフ
ロー室8A、オーバーフロー通路8Bよりそのほとんど
が貯液槽2内へ還流する。かかる第1洗浄工程を荒洗浄
と呼ぶことができる。
Next, the cleaning of the work 9 will be described. The cleaning of the work 9 is performed in a first cleaning step, a second cleaning step, and a third cleaning step. The first cleaning step is described below with reference to FIG. The spray nozzle 6 is disposed above the upper opening 1A of the cleaning tank 1 (specifically, an overflow chamber 8A), while the work 9 in a rotating state on the work support 10 faces the spray hole of the spray nozzle 6. Placed. In this state, when the liquid pump 3 is driven and the cleaning liquid W in the liquid storage tank 2 is supplied to the cleaning liquid supply path 5 and the injection nozzle 6, the cleaning liquid W is directed from the injection hole of the injection nozzle 6 toward the work 9. It is injected. according to this,
The foreign material can be removed from the work 9 by the physical direct injection force of the cleaning liquid W, and the foreign material can be removed over the entire circumference by the rotation of the work 9. Note that the cleaning liquid W sprayed toward the work 9 is scattered by the rotating work 9, and most of the cleaning liquid W is returned to the liquid storage tank 2 from the overflow chamber 8 </ b> A and the overflow passage 8 </ b> B. Such a first cleaning step can be called rough cleaning.

【0009】第2洗浄工程は以下により行なわれ、図2
に示される。第2洗浄に当たり、噴射ノズル支持体7を
下方へ移動させ、噴射ノズル6を洗浄槽1の洗浄液W内
に没入し、一方ワーク9もまた噴射ノズル6と同期して
ワーク支持体10によって下方へ移動させる。すなわ
ち、ワーク9は洗浄槽1の洗浄液W内に回転状態であっ
て、洗浄液W内にある噴射ノズル6の噴孔に対向して配
置されることになる。かかる状態において、液体ポンプ
3が駆動して、貯液槽2内の洗浄液Wが洗浄液供給路
5、噴射ノズル6を介して洗浄槽1内に噴射供給される
と、洗浄液Wは洗浄槽1内を満たすとともにワーク9に
向けて噴射される。これによると、噴射ノズル6の各噴
孔から噴射される洗浄液Wは、洗浄槽1内の洗浄液Wを
通ってワーク9に達するが、この間において摩擦により
キャビテーション気泡を発生する。このキャビテーショ
ン気泡は、噴孔より一定の距離において破壊して大きな
衝撃圧を発生するもので、この衝撃圧と噴射された洗浄
液Wとの物理的な直射力とによってワーク9の異物は除
去される。かかる第2洗浄工程を中洗浄と呼ぶことがで
きる。かかる洗浄時において除去された異物は洗浄液W
内に混入されるが、洗浄槽1内には噴射ノズル6より洗
浄液Wが供給され、且つキャビテーション作用後に残留
する気泡とともに上方向へ流れが指向し、洗浄槽1の上
部開口1Aよりオーバーフロー室8A内へ排出されオー
バーフロー通路8Bより洗浄槽2内へ還流される。
The second cleaning step is performed as follows.
Is shown in In the second cleaning, the spray nozzle support 7 is moved downward, and the spray nozzle 6 is immersed in the cleaning liquid W of the cleaning tank 1, while the work 9 is also moved downward by the work support 10 in synchronization with the spray nozzle 6. Move. That is, the work 9 is in a rotating state in the cleaning liquid W of the cleaning tank 1 and is arranged to face the injection hole of the injection nozzle 6 in the cleaning liquid W. In such a state, when the liquid pump 3 is driven and the cleaning liquid W in the liquid storage tank 2 is jetted and supplied into the cleaning tank 1 through the cleaning liquid supply path 5 and the jet nozzle 6, the cleaning liquid W is stored in the cleaning tank 1. And is sprayed toward the work 9. According to this, the cleaning liquid W injected from each injection hole of the injection nozzle 6 reaches the work 9 through the cleaning liquid W in the cleaning tank 1, and cavitation bubbles are generated by friction during this. The cavitation bubbles are broken at a certain distance from the injection hole and generate a large impact pressure. Foreign matter on the workpiece 9 is removed by the impact pressure and the physical direct force of the jetted cleaning liquid W. . Such a second cleaning step can be referred to as intermediate cleaning. The foreign matter removed during such cleaning is the cleaning liquid W
The cleaning liquid W is supplied from the injection nozzle 6 into the cleaning tank 1, and the flow is directed upward together with the bubbles remaining after the cavitation action, so that the overflow chamber 8A flows from the upper opening 1A of the cleaning tank 1. The water is discharged into the washing tank 2 through the overflow passage 8B.

【0010】第3洗浄工程は以下により行なわれ、図1
に示される。第3洗浄に当たり、噴射ノズル6は前記第
2洗浄工程の状態より再び噴射ノズル支持体7を上動
し、噴射ノズル6を洗浄槽1の洗浄液Wより上方位置に
配置し、一方ワーク9もまた噴射ノズル6と同期してワ
ーク支持体10によって上方へ移動させる。すなわち、
ワーク9は洗浄槽1の洗浄液Wより上方位置にある噴射
ノズル6の噴孔に対向して配置される。いいかえるなら
ワーク9及び噴射ノズル6は再び第1洗浄工程を行なう
状態に復帰したことになる。かかる状態において、液体
ポンプ3が駆動して、貯液槽2内の洗浄液Wが洗浄液供
給路5及び噴射ノズル6に供給されると、洗浄液Wは噴
射ノズル6よりワーク9に向けて噴射される。これによ
ると、第2洗浄工程において、異物が取れきれない状
態、あるいは洗浄液中の異物が付着してワーク9に仮に
異物が残存した状態にあったとしてもかかる第3洗浄工
程において完全に異物を除去することができる。かかる
第3洗浄工程を仕上洗浄と呼ぶことができる。以上をも
ってワーク9の洗浄は終了する。
The third cleaning step is performed as follows, and FIG.
Is shown in In the third cleaning, the injection nozzle 6 moves up the injection nozzle support 7 again from the state of the second cleaning step, and arranges the injection nozzle 6 at a position higher than the cleaning liquid W in the cleaning tank 1 while the work 9 is also moved. It is moved upward by the work support 10 in synchronization with the injection nozzle 6. That is,
The work 9 is disposed to face the injection hole of the injection nozzle 6 located above the cleaning liquid W in the cleaning tank 1. In other words, the work 9 and the injection nozzle 6 have returned to the state where the first cleaning step is performed. In this state, when the liquid pump 3 is driven and the cleaning liquid W in the liquid storage tank 2 is supplied to the cleaning liquid supply path 5 and the injection nozzle 6, the cleaning liquid W is injected from the injection nozzle 6 toward the work 9. . According to this, even in a state where the foreign matter cannot be removed in the second cleaning step, or even if the foreign matter in the cleaning liquid adheres and the foreign matter remains on the work 9, the foreign matter is completely removed in the third cleaning step. Can be removed. Such a third cleaning step can be called finish cleaning. Thus, the cleaning of the work 9 is completed.

【0011】次に本発明の第二の実施例を図3,図4,
図5によって説明する。(尚、図1との構造の相違部分
についてのみ説明する。)20は空気ポンプ21を備え
た加圧空気供給路であり、切換弁22を介して洗浄液供
給路5に連なり、切換弁22は次の切換え動作を行な
う。すなわち、液体ポンプ3と噴射ノズル6とを洗浄液
供給路5を介して連通した際において、洗浄液供給路5
と加圧空気供給路20とを遮断して空気ポンプ21と噴
射ノズル6とを遮断し、液体ポンプ3と噴射ノズル6と
を結ぶ洗浄液供給路5を遮断することによって液体ポン
プ5と噴射ノズル6とを遮断した際において、加圧空気
供給路20と洗浄液供給路5とを連通して空気ポンプ2
1と噴射ノズル6とを連通させる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. (Note that only the differences in structure from FIG. 1 will be described.) Reference numeral 20 denotes a pressurized air supply path provided with an air pump 21, which is connected to the cleaning liquid supply path 5 via a switching valve 22. The following switching operation is performed. That is, when the liquid pump 3 and the injection nozzle 6 are communicated via the cleaning liquid supply path 5, the cleaning liquid supply path 5
And the pressurized air supply path 20 to shut off the air pump 21 and the injection nozzle 6, and the cleaning liquid supply path 5 connecting the liquid pump 3 and the injection nozzle 6 to shut off the liquid pump 5 and the injection nozzle 6. When the air pump 2 is shut off, the pressurized air supply path 20
1 and the injection nozzle 6 are communicated.

【0012】洗浄は、第1洗浄工程,第2洗浄工程、第
3洗浄工程、乾燥工程、とによって行なわれる。第1洗
浄工程は以下により、図3によって説明される。切換弁
22は洗浄液供給路5を連通状態として液体ポンプ3と
噴射ノズル6とを連通し、加圧空気供給路20と洗浄液
供給路5とを遮断状態として空気ポンプ21と噴射ノズ
ル6とを遮断する。一方、噴射ノズル6は洗浄槽1の上
部開口1Aより上方に配置(具体的にはオーバーフロー
室8A)され、一方、ワーク支持体10にて回転状態に
あるワーク9は前記噴射ノズル6の噴孔に対向して配置
される。かかる状態において、液体ポンプ3が駆動し
て、貯液槽2内の洗浄液Wが洗浄液供給路5及び噴射ノ
ズル6に供給されると、洗浄液Wは噴射ノズル6よりワ
ーク9に向けて噴射されるもので第1の実施例の第1洗
浄工程と同様の洗浄作用となる。
The cleaning is performed by a first cleaning step, a second cleaning step, a third cleaning step, and a drying step. The first cleaning step is described below with reference to FIG. The switching valve 22 communicates the cleaning liquid supply path 5 with the liquid pump 3 and the injection nozzle 6, and shuts off the pressurized air supply path 20 and the cleaning liquid supply path 5 to shut off the air pump 21 and the injection nozzle 6. I do. On the other hand, the spray nozzle 6 is disposed above the upper opening 1A of the cleaning tank 1 (specifically, an overflow chamber 8A), while the work 9 which is rotating in the work support 10 is formed by the spray hole of the spray nozzle 6. Are arranged opposite to each other. In this state, when the liquid pump 3 is driven and the cleaning liquid W in the liquid storage tank 2 is supplied to the cleaning liquid supply path 5 and the injection nozzle 6, the cleaning liquid W is injected from the injection nozzle 6 toward the work 9. Thus, the cleaning action is the same as that of the first cleaning step of the first embodiment.

【0013】第2洗浄工程は以下により行なわれ、図4
に示される。第2洗浄に当たり、噴射ノズル支持体7を
下方へ移動させ、噴射ノズル6を洗浄槽1の洗浄液W内
に没入し、一方ワーク9もまた噴射ノズル6と同期して
ワーク支持体10によって下方へ移動させる。一方、切
換弁22は前記第1洗浄工程と同状態にあって、洗浄液
供給路5を連通状態として液体ポンプ3と噴射ノズル6
とを連通し、加圧空気供給路20と洗浄液供給路5とを
遮断状態として空気ポンプ21と噴射ノズル6とを遮断
する。かかる状態において、液体ポンプ3が駆動して、
貯液槽2内の洗浄液Wが洗浄液供給路5、噴射ノズル6
を介して洗浄槽1内に噴射供給されると、洗浄液Wは洗
浄槽1内を満たすとともにワーク9に向けて噴射される
もので、第1の実施例の第2洗浄工程と同様の洗浄作用
を成す。
The second cleaning step is performed as follows, and FIG.
Is shown in In the second cleaning, the spray nozzle support 7 is moved downward, and the spray nozzle 6 is immersed in the cleaning liquid W of the cleaning tank 1, while the work 9 is also moved downward by the work support 10 in synchronization with the spray nozzle 6. Move. On the other hand, the switching valve 22 is in the same state as in the first cleaning step, and makes the cleaning liquid supply path 5 in communication with the liquid pump 3 and the injection nozzle 6.
And the pressurized air supply path 20 and the cleaning liquid supply path 5 are shut off to shut off the air pump 21 and the injection nozzle 6. In such a state, the liquid pump 3 is driven,
The cleaning liquid W in the liquid storage tank 2 is supplied to the cleaning liquid supply path 5 and the injection nozzle 6.
When the cleaning liquid W is sprayed and supplied into the cleaning tank 1 through the cleaning tank 1, the cleaning liquid W fills the cleaning tank 1 and is sprayed toward the work 9, and has the same cleaning effect as the second cleaning step of the first embodiment. Make

【0014】第3洗浄工程は以下により行なわれ、図3
に示される。第3洗浄に当たり、噴射ノズル6は前記第
2洗浄工程の状態より再び噴射ノズル支持体7を上動
し、噴射ノズル6を洗浄槽1の洗浄液Wより上方位置に
配置し、一方ワーク9もまた噴射ノズル6と同期してワ
ーク支持体10によって上方へ移動させる。すなわち、
ワーク9は洗浄槽1の洗浄液Wより上方位置にある噴射
ノズル6の噴孔に対向して配置される。いいかえるなら
ワーク9及び噴射ノズル6は再び第1洗浄工程を行なう
状態に復帰したことになる。かかる状態において、液体
ポンプ3が駆動して、貯液槽2内の洗浄液Wが洗浄液供
給路5及び噴射ノズル6に供給されると、洗浄液Wは噴
射ノズル6よりワーク9に向けて噴射されるもので、第
1の実施例の第3洗浄工程と同様の洗浄作用をなす。
The third cleaning step is performed as follows, and FIG.
Is shown in In the third cleaning, the injection nozzle 6 moves up the injection nozzle support 7 again from the state of the second cleaning step, and arranges the injection nozzle 6 at a position higher than the cleaning liquid W in the cleaning tank 1 while the work 9 is also moved. It is moved upward by the work support 10 in synchronization with the injection nozzle 6. That is,
The work 9 is disposed to face the injection hole of the injection nozzle 6 located above the cleaning liquid W in the cleaning tank 1. In other words, the work 9 and the injection nozzle 6 have returned to the state where the first cleaning step is performed. In this state, when the liquid pump 3 is driven and the cleaning liquid W in the liquid storage tank 2 is supplied to the cleaning liquid supply path 5 and the injection nozzle 6, the cleaning liquid W is injected from the injection nozzle 6 toward the work 9. The cleaning action is the same as that of the third cleaning step of the first embodiment.

【0015】乾燥工程は以下により行なわれ、図5に示
される。噴射ノズル6及びワーク9は前記第3洗浄工程
の状態にある。(噴射ノズル6、ワーク9が洗浄槽1の
洗浄液Wより上方位置にある)一方、切換弁22は、図
3の位置より90度反時計方向に回転される。これによ
ると、洗浄液供給路5は遮断されて液体ポンプ3と噴射
ノズル6とが遮断され、洗浄液供給路5と加圧空気供給
路20とが連通されて、空気ポンプ21と噴射ノズル6
とが連通する。ここで、空気ポンプ21を駆動すると、
空気ポンプ21にて加圧された圧縮空気は、加圧空気通
路20、洗浄液供給路5を介して噴射ノズル6に達し、
噴射ノズル6より回転状態にあるワーク9に向けて圧縮
空気が噴射される。而して、第3洗浄工程が終了して未
だ洗浄液Wが付着した状態にあるワーク9は圧縮空気の
噴射を受けて洗浄液Wが飛散し、即座にワーク9の乾燥
を行ない得るもので、ワーク9より完全に洗浄液を除去
した状態においてワーク9の乾燥を行なうことができた
ものである。以上をもってワークの洗浄,乾燥が終了す
る。
The drying step is performed as follows and is shown in FIG. The injection nozzle 6 and the work 9 are in the state of the third cleaning step. (The injection nozzle 6 and the work 9 are located above the cleaning liquid W in the cleaning tank 1.) On the other hand, the switching valve 22 is rotated counterclockwise by 90 degrees from the position shown in FIG. According to this, the cleaning liquid supply path 5 is shut off, the liquid pump 3 and the injection nozzle 6 are shut off, the cleaning liquid supply path 5 and the pressurized air supply path 20 are communicated, and the air pump 21 and the injection nozzle 6 are connected.
Communicates with Here, when the air pump 21 is driven,
The compressed air pressurized by the air pump 21 reaches the injection nozzle 6 via the pressurized air passage 20 and the cleaning liquid supply passage 5,
Compressed air is injected from the injection nozzle 6 toward the rotating work 9. Thus, the work 9 in which the cleaning liquid W is still adhered after the third cleaning step is completed is subjected to the jet of the compressed air and the cleaning liquid W is scattered, so that the work 9 can be dried immediately. The work 9 can be dried while the cleaning liquid is completely removed from the work 9. Thus, the washing and drying of the work are completed.

【0016】又、前述した噴射ノズル6とタンク9との
直線方向の往復動を同期させて行なったことによると、
噴射ノズル6とタンク9との関係位置を常に同一状態に
保持でき、ワーク9に対して良好なる洗浄、乾燥を行な
えるもので、この実施は噴射ノズル支持体7、ワーク支
持体10を駆動するシリンダー(図示せず)を同期的に
動作させることによって達成される。
Further, according to the above-mentioned linear reciprocation of the injection nozzle 6 and the tank 9 in synchronization with each other,
The position of the relationship between the spray nozzle 6 and the tank 9 can always be maintained in the same state, so that the work 9 can be favorably washed and dried. In this embodiment, the spray nozzle support 7 and the work support 10 are driven. This is achieved by operating cylinders (not shown) synchronously.

【0017】更に噴射ノズル6又は噴射ノズルに穿設さ
れる噴孔を複数設けることによってもワークに対して均
等にして且つ全周にくまなく洗浄液又は空気を噴射でき
る。
Further, by providing the spray nozzle 6 or a plurality of spray holes formed in the spray nozzle, the cleaning liquid or air can be sprayed uniformly on the work and all over the work.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上の如く本発明のワークの洗浄装置に
よると、ワークを固定的に取着し、ワークに対して回転
と直線方向の往復動を付与するワーク支持体と、内部に
洗浄液が貯溜される洗浄槽と、洗浄槽の上部にある洗浄
液を洗浄槽外へ溢流させるオーバーフロー手段と、ワー
クに向かって対応し、洗浄槽内にあるワークあるいは洗
浄槽外にあるワークに向けて直線方向の往復動が許容さ
れるとともに液体ポンプにて加圧された貯液槽内の洗浄
液が供給され、該洗浄液を対向するワークに向けて噴射
する噴射ノズルとによって洗浄装置を構成したので、第
1洗浄工程において、洗浄液外にあって回転状態にある
ワークに向けて噴射ノズルより洗浄液を噴射させること
ができるので、ワークに付着せる大部分の異物を除去す
ることができる。又、第2工程において、洗浄液内にあ
って回転状態にあるワークに向けて洗浄液内に配置され
る噴射ノズルより洗浄液を噴射させることができるの
で、キャビテーション作用を利用したすぐれたワークの
洗浄を行なうことができるとともに洗浄槽内にある除去
された異物は洗浄槽の上部よりオーバーフロー手段を介
して洗浄槽外へ排出される。更に第3洗浄工程におい
て、洗浄液外の空中にあって回転状態にあるワークに向
けて噴射ノズルより洗浄液を噴射させることができるの
で、第2洗浄工程において仮に除去できなかった異物、
あるいは洗浄液中をワークを引上げる際に付着した異物
を洗浄液が乾燥する前に完全に除去することが可能とな
ったもので洗浄効果を著しく向上できた。
As described above, according to the workpiece cleaning apparatus of the present invention, the workpiece is fixedly attached to the workpiece, the workpiece support for imparting rotation and linear reciprocation to the workpiece, and the cleaning liquid is contained inside. The washing tank to be stored, overflow means for overflowing the washing liquid at the top of the washing tank to the outside of the washing tank, and corresponding to the work, a straight line toward the work in the washing tank or the work outside the washing tank. Since the cleaning liquid in the liquid storage tank pressurized by the liquid pump is supplied while the reciprocating movement in the direction is allowed, and the cleaning nozzle is configured to spray the cleaning liquid toward the opposing work, the cleaning apparatus is configured. In one cleaning step, since the cleaning liquid can be sprayed from the spray nozzle toward the rotating work outside the cleaning liquid, most foreign substances adhering to the work can be removed. Further, in the second step, since the cleaning liquid can be sprayed from the spray nozzle arranged in the cleaning liquid toward the rotating work in the cleaning liquid, the excellent work using the cavitation action is performed. The removed foreign matter in the cleaning tank can be discharged from the upper part of the cleaning tank through the overflow means to the outside of the cleaning tank. Further, in the third cleaning step, the cleaning liquid can be sprayed from the spray nozzle toward the rotating workpiece in the air outside the cleaning liquid.
Alternatively, it is possible to completely remove foreign substances adhering when the work is pulled up in the cleaning liquid before the cleaning liquid is dried, so that the cleaning effect can be remarkably improved.

【0019】又、ワークを固定的に取着し、ワークに対
して回転と直線方向の往復動を付与するワーク支持体
と、内部に洗浄液が貯溜される洗浄槽と、洗浄槽の上部
にある洗浄液を洗浄槽外へ溢流させるオーバーフロー手
段と、ワークに向かって対応し、洗浄槽内にあるワーク
あるいは洗浄槽外にあるワークに向けて直線方向の往復
動が許容されるとともに液体ポンプにて加圧された貯液
槽内の洗浄液が洗浄液供給路を介して供給され、該洗浄
液を対向するワークに向けて噴射する噴射ノズルと、洗
浄液供給路に向けて空気ポンプにて加圧された空気を供
給する加圧空気供給路と、液体ポンプと噴射ノズルとを
洗浄液供給路を介して連通した際において、洗浄液供給
路と加圧空気供給路とを遮断して空気ポンプと噴射ノズ
ルとを遮断し、液体ポンプと噴射ノズルとを結ぶ洗浄液
供給路を遮断することによって液体ポンプと噴射ノズル
とを遮断した際において、加圧空気供給路と洗浄液供給
路とを連通して空気ポンプと噴射ノズルとを連通させる
切換弁とによりワークの洗浄装置を構成したことによる
と、前記第3洗浄工程が終了するや、即座にワークに向
けて加圧された空気を噴射ノズルより噴射供給すること
ができるので、洗浄液がワークにこびりつくことなくワ
ークより完全に洗浄液を飛散させた状態においてワーク
の乾燥を行なうことができたので洗浄効果を高めること
ができた。
A work support fixedly attached to the work and providing reciprocation of rotation and linear movement to the work, a washing tank in which a washing liquid is stored, and an upper part of the washing tank. An overflow means for overflowing the cleaning liquid to the outside of the cleaning tank, and corresponding to the work, a linear reciprocating motion is allowed for the work in the cleaning tank or the work outside the cleaning tank, and the liquid pump is used. A cleaning liquid in a pressurized storage tank is supplied via a cleaning liquid supply path, and an injection nozzle for injecting the cleaning liquid toward an opposing work, and air pressurized by an air pump toward the cleaning liquid supply path When the pressurized air supply path for supplying air, the liquid pump and the injection nozzle are communicated via the cleaning liquid supply path, the cleaning liquid supply path and the pressurized air supply path are shut off to shut off the air pump and the injection nozzle. And liquid When the liquid pump and the injection nozzle are shut off by shutting off the cleaning liquid supply path connecting the pump and the injection nozzle, the pressurized air supply path and the cleaning liquid supply path are connected to connect the air pump and the injection nozzle. According to the configuration of the work cleaning device including the switching valve, when the third cleaning process is completed, the air pressurized toward the work can be immediately injected and supplied from the injection nozzle. Since the work could be dried in a state where the cleaning liquid was completely scattered from the work without sticking to the work, the cleaning effect could be enhanced.

【0020】又、ワーク支持体の直線方向の往復動と噴
射ノズルの直線方向の往復動を同期させたことによる
と、噴射ノズルとタンクとの関係位置を常に同一状態に
保持でき、ワークに対して良好なる洗浄、乾燥を行なえ
る。
Further, by synchronizing the linear reciprocating motion of the work support and the linear reciprocating motion of the injection nozzle, the relative position between the injection nozzle and the tank can always be maintained in the same state, and Good cleaning and drying.

【0021】更に、噴射ノズル又は噴射ノズルの噴孔を
複数設けたことは、洗浄液及び空気をワークの全周にく
まなく均等に衝突でき、洗浄及び乾燥ムラを排除でき
る。
Furthermore, the provision of a plurality of injection nozzles or injection holes of the injection nozzles allows the cleaning liquid and air to impinge uniformly on the entire circumference of the workpiece, thereby eliminating unevenness in cleaning and drying.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明になるワークの洗浄装置の第一の実施例
を示す全体構成図であり、第1、第3洗浄工程状態をあ
らわす。
FIG. 1 is an overall configuration diagram showing a first embodiment of a work cleaning apparatus according to the present invention, showing first and third cleaning process states.

【図2】第一の実施例における第2洗浄工程状態をあら
わす全体構成図である。
FIG. 2 is an overall configuration diagram showing a state of a second cleaning step in the first embodiment.

【図3】本発明の第二の実施例を示す全体構成図であ
り、第1、第3洗浄工程状態をあらわす。
FIG. 3 is an overall configuration diagram showing a second embodiment of the present invention, showing first and third cleaning process states.

【図4】第二の実施例における第2洗浄工程状態をあら
わす全体構成図である。
FIG. 4 is an overall configuration diagram showing a state of a second cleaning step in the second embodiment.

【図5】第二の実施例における乾燥工程状態をあらわす
全体構成図である。
FIG. 5 is an overall configuration diagram showing a drying process state in a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 洗浄槽 2 貯液槽 3 液体ポンプ 5 洗浄液供給路 6 噴射ノズル 8 オーバーフロー手段 9 ワーク W 洗浄液 20 加圧空気供給路 21 空気ポンプ 22 切換弁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning tank 2 Storage tank 3 Liquid pump 5 Cleaning liquid supply path 6 Injection nozzle 8 Overflow means 9 Work W Cleaning liquid 20 Pressurized air supply path 21 Air pump 22 Switching valve

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−67569(JP,A) 特開 昭63−42130(JP,A) 実開 昭58−40837(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B08B 3/00 - 3/14 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-56-67569 (JP, A) JP-A-63-42130 (JP, A) Real opening Sho-58-40837 (JP, U) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) B08B 3/00-3/14

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ワークを固定的に取着し、ワークに対し
て回転と直線方向の往復動を付与するワーク支持体と、
内部に洗浄液が貯溜される洗浄槽と、洗浄槽の上部にあ
る洗浄液を洗浄槽外へ溢流させるオーバーフロー手段
と、ワークに向かって対応し、洗浄槽内にあるワークあ
るいは洗浄槽外にあるワークに向けて直線方向の往復動
が許容されるとともに液体ポンプにて加圧された貯液槽
内の洗浄液が供給され、該洗浄液を対向するワークに向
けて噴射する噴射ノズルとを備えてなるワークの洗浄装
置。
1. A work supporter which fixedly attaches a work, and imparts rotation and linear reciprocation to the work,
A cleaning tank in which the cleaning liquid is stored, an overflow means for overflowing the cleaning liquid at the top of the cleaning tank to the outside of the cleaning tank, and a work corresponding to the work and located in the cleaning tank or outside the cleaning tank. A cleaning liquid in a liquid storage tank pressurized by a liquid pump is supplied while a reciprocating movement in a linear direction is allowed toward the workpiece, and an injection nozzle for injecting the cleaning liquid toward an opposing workpiece is provided. Cleaning equipment.
【請求項2】 ワークを固定的に取着し、ワークに対し
て回転と直線方向の往復動を付与するワーク支持体と、
内部に洗浄液が貯溜される洗浄槽と、洗浄槽の上部にあ
る洗浄液を洗浄槽外へ溢流させるオーバーフロー手段
と、ワークに向かって対応し、洗浄槽内にあるワークあ
るいは洗浄槽外にあるワークに向けて直線方向の往復動
が許容されるとともに液体ポンプにて加圧された貯液槽
内の洗浄液が洗浄液供給路を介して供給され、該洗浄液
を対向するワークに向けて噴射する噴射ノズルと、洗浄
液供給路に向けて空気ポンプにて加圧された空気を供給
する加圧空気供給路と、液体ポンプと噴射ノズルとを洗
浄液供給路を介して連通した際において、洗浄液供給路
と加圧空気供給路とを遮断して空気ポンプと噴射ノズル
とを遮断し、液体ポンプと噴射ノズルとを結ぶ洗浄液供
給路を遮断することによって液体ポンプと噴射ノズルと
を遮断した際において、加圧空気供給路と洗浄液供給路
とを連通して空気ポンプと噴射ノズルとを連通させる切
換弁とを備えてなるワークの洗浄装置。
2. A work supporter which fixedly attaches a work and imparts rotation and linear reciprocation to the work;
A cleaning tank in which the cleaning liquid is stored, an overflow means for overflowing the cleaning liquid at the top of the cleaning tank to the outside of the cleaning tank, and a work corresponding to the work and located in the cleaning tank or outside the cleaning tank. The nozzle is allowed to reciprocate in a linear direction toward the nozzle, and a cleaning liquid in a storage tank pressurized by a liquid pump is supplied through a cleaning liquid supply path, and the cleaning nozzle injects the cleaning liquid toward an opposite work. A pressurized air supply path for supplying air pressurized by an air pump toward the cleaning liquid supply path, and a cleaning liquid supply path when the liquid pump and the injection nozzle are connected via the cleaning liquid supply path. When the liquid pump and the injection nozzle are shut off by shutting off the compressed air supply path to shut off the air pump and the injection nozzle, and by shutting off the cleaning liquid supply path connecting the liquid pump and the injection nozzle. , Pressurized air supply passage and the cleaning liquid supply passage and the cleaning device of a work formed by a switching valve for communicating the injection nozzle and the air pump in communication with.
【請求項3】 ワーク支持体の直線方向の往復動と噴射
ノズルの直線方向の往復動を同期させてなる請求項1項
又は請求項2項記載のワークの洗浄装置。
3. The apparatus for cleaning a workpiece according to claim 1, wherein the linear reciprocating motion of the workpiece support and the linear reciprocating motion of the injection nozzle are synchronized.
【請求項4】 前記、噴射ノズル又は噴射ノズルに穿設
される噴孔を複数設けてなる請求項1又は請求項2記載
のワークの洗浄装置。
4. The apparatus for cleaning a workpiece according to claim 1, wherein a plurality of the injection nozzles or injection holes formed in the injection nozzles are provided.
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