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JP3005050B2 - 残留物の少ないヒドロトロープを含む硬質表面洗浄剤 - Google Patents

残留物の少ないヒドロトロープを含む硬質表面洗浄剤

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JP3005050B2
JP3005050B2 JP9529427A JP52942797A JP3005050B2 JP 3005050 B2 JP3005050 B2 JP 3005050B2 JP 9529427 A JP9529427 A JP 9529427A JP 52942797 A JP52942797 A JP 52942797A JP 3005050 B2 JP3005050 B2 JP 3005050B2
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alkyl
hydrotrope
carbon atoms
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weight
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ステパン カンパニー
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 発明の分野 本発明は、光沢があるか又は滑らかな硬質表面、例え
ばガラス窓等に用いるのに特に適した、濯ぎの必要がな
い等方性硬質表面洗浄剤に関する。この洗浄剤は、付着
した汚れを除去する一方で、除去されていない汚れ、洗
浄剤、又はこれらの組合わせから生じる残留物の量を有
意に減少させるものである。より特定すれば本発明は、
ヒドロトロープ化合物を含む硬質表面洗浄用組成物、及
びこの組成物の製造方法に関する。この発明はさらに、
かなりの量のビルダーを含む硬質表面洗浄用組成物にも
関する。
発明の背景 ガラスやセラミックタイルのような表面に付着した汚
れを除去するために、典型的な方法は、アルカリ性のア
ンモニウムをベースとした水性洗浄剤、又は界面活性剤
とのその他の洗浄用添加剤との様々な混合物を含む、そ
の他の水性洗浄剤を用いることであった。あいにく、ア
ンモニアベースの洗浄剤の多くは、あまり汚れを除去す
る能力がなく、一方、界面活性剤ベースの洗浄剤では、
このような硬質で光沢のある表面にかなり多量の残留物
を残す。この残留物は、縞形成現象として見られ、この
現象において、汚れ、洗浄剤又はその両方は、ばらばら
に表面から滲み出て被膜となるので、現状では、残留物
の薄い層が、洗浄したいと望む表面にこびり付いてい
る。
次のような硬質表面用の水性洗浄用組成物が開示され
ている。すなわち、被膜形成や縞形成を減らしつつ、妥
当な洗浄性能を得るために、洗浄剤の性能を補助すると
言われている様々な特別な成分を含む組成物である。
米国特許第4,606,842号は、ポリアクリル樹脂を含
む、ガラス及び同等の光沢硬質表面の洗浄用組成物を開
示している。このポリアクリル樹脂は、ポリアクリル酸
又はポリアクリル酸混合物、及び水性組成物中において
ビルダーとして用いられる部分を含むホスホネート又は
硫黄とのアクリルポリマー錯体から成っていてもよく、
これはまた、有機溶媒系及び少なくとも１つの洗浄剤界
面活性剤をも含んでいる。
米国特許第4,690,779号は、共に硬質表面洗浄剤とし
て機能する、ある種の非イオン性界面活性剤と組合わさ
れたポリアクリル酸の硬質表面洗浄剤組成物鎖ポリマー
を開示している。
米国特許第5,126,068号は、ある種のエチレンオキシ
ド／プロピレンオキシドポリマー界面活性剤、及び被膜
形成／縞形成性が減少した硬質表面洗浄剤における洗浄
成分としての、ある種のポリカルボキシルビルダーと組
合わされた有機界面活性剤の使用について開示してい
る。
米国特許第4,343,725号は、ガラスの鏡及び反射表面
用の水性ベース洗浄剤を開示している。これは、洗浄剤
ビルダー及び有機溶媒を含まず、分子量300,000〜4,00
0,000の水溶性非イオン性ポリオキシエチレングリコー
ルポリマーを含むものである。
米国特許第4,943,392号は、一般的な目的に使用され
る家庭用洗浄剤組成物又は硬質表面に適した水性洗浄剤
組成物を開示している。この洗浄剤の主成分はブトキシ
プロパノールである。
米国特許第5,252,245号は、残留物の除去が改善さ
れ、被膜形成／縞形成が減少した、水性硬質表面洗浄剤
を開示している。この洗浄剤は、C1-6アルカノール、C
3-24アルキレングリコールエーテルから成る群から選ば
れる溶媒、両性及びアニオン性界面活性剤、緩衝系及び
香料を含んでいる。
先行技術の水性洗浄剤組成物には欠点がある。これら
は洗浄剤又はビルダー塩をほとんど又はまったく含まな
いことが多く、従って洗浄性能が低いという傾向が見ら
れる。
洗浄性能を高めるために、硬質表面洗浄剤に高レベル
のビルダー及び界面活性剤を組み込む必要がある。その
一方で、被膜形成／縞形成を低いレベルに維持しなけれ
ばならない。
発明の概要 ヒドロトロープは、広い温度範囲に亙って、製品の安
定性又は均質性を維持するために、硬質表面洗浄剤に用
いられてきた。使用される量は、洗浄剤に必要な安定性
又は均質性を得るのに要する最小量である。安定した洗
浄剤を提供するのに必要な最小量より過剰な量のヒドロ
トロープを用いることに関連した、実際的利点も経済的
利点もない。
好ましくは水性ベースの硬質表面洗浄剤にヒドロトロ
ープ化合物を組み込むと、意外にも、洗浄された表面へ
の被膜形成又は縞形成を減少させることが発見された。
これは、ヒドロトロープ化合物を、その他の固形分に対
して特別な割合で組成物中に組み込んだ場合である。
従って１つの側面として、本発明は、様々な界面活性
剤、ビルダー、場合によっては溶媒等、及びヒドロトロ
ープ化合物を、残りの固形分重量の合計量に対するヒド
ロトロープ化合物重量の比が、少なくとも約1:3.5であ
るように含んでいる、硬質表面洗浄剤を提供する。
もう１つの側面として、本発明はまた、洗浄剤ベース
及びヒドロトロープ化合物を含む改良硬質表面洗浄剤を
も提供する。この場合、洗浄剤ベース中のビルダー重量
に対するヒドロトロープ化合物重量比は、少なくとも約
1:1.8である。
本発明の組成物は、乾燥状態、すなわち粉末であって
もよく、あるいは液体すなわち水性又は有機溶媒ベース
のものであってもよい。乾燥組成物は、硬質表面の洗浄
に用いる前に、水又はその他の液体に入れなければなら
ないのはもちろんである。
本発明の硬質表面洗浄剤の洗浄剤ベースは、洗浄剤界
面活性剤及び洗浄剤ビルダーを含んでいる。場合によっ
て添加される成分には、溶媒、アルカノールアミン、セ
ッケン、並びに香料、着色料、光沢剤等がある。
もう１つの側面として、本発明はまた、可視残留物を
残さずに硬質表面の優れた洗浄が可能な硬質表面洗浄剤
の製造方法をも包含する。これらの方法には、表面への
被膜形成又は縞形成を妨げる効果がある量のヒドロトロ
ープを添加することが含まれる。
本発明は、洗浄される対象の硬質表面に残っている洗
浄剤の残留物、汚れ、又はその両方から生じる被膜形成
の減少させる方法及び組成物を提供する。
従ってこの発明は、硬質表面洗浄剤の残留物の可視
性、つまり被膜形成及び縞形成を減少させるのに効果が
ある量のヒドロトロープを、硬質表面洗浄剤へ添加する
ことによって、全体的な洗浄性能を改善する。
本発明はさらに、事実上被膜形成も縞形成もない、ガ
ラス及びその他の硬質光沢表面用の洗浄剤を提供する。
もう１つの側面として、本発明は、抗菌性又は抗菌性
四級アンモニウム化合物を含む硬質表面洗浄剤を提供す
る。このような組成物は、硬質表面を洗浄しうると同時
にバクテリアを除去又は殺菌する。これらの組成物は、
硬質表面の優れた洗浄及び殺菌作用を提供する一方で、
可視残留物も縞も残さない。
図面の簡単な説明 図１は、種々の界面活性剤物質をベースとした様々な
水性硬質表面洗浄剤調合物へ、発明量のヒドロトロープ
を添加して生じる改善を示す、１組の棒グラフである。
白い棒部分は、被膜形成及び縞形成を妨げるのに必要
な、本発明による有効量のヒドロトロープを含む組成物
を表わす。黒い棒部分は、このような量のヒドロトロー
プを含まない調合物を表わす。数字が大きいほど、１〜
10のレベルで表わされた被膜形成を少なさを表わす。
発明の詳細な説明 硬質表面洗浄剤、好ましくは水性ベースの硬質表面洗
浄剤に十分な量のヒドロトロープ化合物を組み込むと、
意外にも、洗浄された表面に、被膜形成及び縞形成が減
少することが発見された。本発明の組成物において、ヒ
ドロトロープ化合物は、ヒドロトロープ化合物重量対ヒ
ドロトロープ以外のすべての固形分重量比、約1:3.5〜
4:1で組み込まれる。さらに、いくつかの組成物におい
て、ヒドロトロープ対ビルダー比は、約1:1.8〜4:1であ
る。
本発明のより好ましい実施態様において、ヒドロトロ
ープ対その他の固形分比は、約1:2.5〜2.5:1である。本
発明の特に好ましい実施態様において、ヒドロトロープ
対その他の固形分比は、約1:2〜2:1である。
組成物が抗菌組成物である場合、組成物は好ましく
は、四級アンモニウム殺菌剤、アルキルポリグリコシ
ド、及びC8-16アミンオキシドを含んでいる。より好ま
しくはこのような組成物は、４級アンモニウム殺菌剤0.
01〜５重量％、アルキルポリグルコシド0.5〜５重量
％、及びC8-16アミンオキシド0.5〜５重量％を含む。最
も好ましくはこのような化合物はまた、エチレンジアミ
ンテトラアセテートをも含む。
ここで用いられている「ヒドロトロープ」及び「ヒド
ロトロープ化合物」という用語は、ベンゼンスルホネー
ト、ナフタレンスルホネート、短鎖（C1-11）アルキル
ベンゼンスルホネート、中鎖（C6-11）アルキルスルホ
ネート、中鎖（C6-11）アルキルスルフェート、アルキ
ルポリグルコシド、中鎖（C6-11）アルキルジメチルア
ミンオキシド、アルキルジフェニルオキシドジスルホネ
ート、ホスフェートエステルヒドロトロープ、及び中鎖
（C6-11）アルキルエーテル（エチレンオキシド10モル
まで）スルフェートのことを言う。本発明のヒドロトロ
ープ化合物のカチオンには、アルカリ金属、アンモニウ
ム、及びトリエタノールアンモニウムカチオンがある。
従ってこれらの用語には、親水性置換基及び１つ又はそ
れ以上の疎水性ヒドロカルビル置換基を含む短鎖水溶性
界面活性剤が含まれる。ここにおいて、前記ヒドロカル
ビル置換基のどれかの最大鎖長は約C11である。
短鎖（C1-4）アルキルベンゼンスルホネートには、例
えばイソプロピルベンゼンスルホネート、キシレンスル
ホネート、トルエンスルホネート、クメンスルホネー
ト、及びこれらの混合物がある。中鎖（C6-8）アルキル
スルホネートの非限定的な代表例は、ヘキシルスルホネ
ート、オクチルスルホネート、及びヘキシル／オクチル
スルホネート、及びこれらの混合物である。その他のヒ
ドロトロープには、ナフタレンスルホネートがある。
「ヒドロトロープ」及び「ヒドロトロープ化合物」と
いう用語はまた、アルキル多糖類、例えばアルキルポリ
グリコシド、ポリマーヒドロトロープ、C8-10アミンオ
キシド、アルキルジフェニルオキシドスルホネート、及
び例えばイソプロパノールアルキルホスフェートエステ
ルのようなホスフェートエステル等、その他のことを言
う。
本発明に用いられる好ましいヒドロトロープは、キシ
レンスルホネート、クメンスルホネート、アルキル部分
に平均約６〜８個の炭素原子を有するアルキルスルホネ
ート、及びアルキル部分に平均約10個の炭素原子を有す
るアルキルポリグリコシドである。好ましいアルキルポ
リグリコシドは、アルキルポリグルコシドである。
適切なアルキル多糖類、例えば米国特許第4,565,647
号に開示されているものは、非イオン性界面活性剤であ
り、疎水基及び多糖類、例えばポリグルコシド、糖類単
位約1.3〜約10、好ましくは約1.3〜約３、最も好ましく
は約1.3〜約2.7を含む親水基を有するものが含まれる。
５又は６個の炭素原子を有する還元性糖類はすべて用い
ることができる。例えばグルコース、ガラクトースであ
り、ガラクトシル部分は、グルコシル部分と置換されて
いてもよい。（場合によっては疎水性基が、２−、３
−、４−位等に結合しており、従ってグルコシド又はガ
ラクトシドに対してグルコース又はガラクトースを生じ
る。）糖類間結合は、例えば追加糖類単位の１つの位置
と、先行糖類単位の２−、３−、４−及び／又は６−位
との間にあってもよい。
適切なポリマーヒドロトロープは、欧州特許公告第06
366687A2号に記載されており、この特許の開示はこの明
細書に全体を組み込む。ここで用いるのに適したポリマ
ーヒドロトロープは、下記式で表わされるものである： ここで、 Ｅは親水性官能基であり； ＲはＨ又はC1-10アルキル又は親水性官能基であり； R1は低級アルキル基又は芳香族基であり；及び R2はＨ又は環式、アルキル又は芳香族基である。
従って本発明は、次の液体洗浄剤組成物を提供する。
すなわちこの組成物は、優れた光沢性能を与えると同時
に、脂性、油性の汚れ及び無機微粒子汚れの両方に、改
善された洗浄特性を与え、洗浄された表面に被膜形成も
縞形成をも引起こす傾向がほとんど無いものである。
水性液体洗浄剤は、原液として用いても、あるいは広
い範囲の硬質表面を洗浄するために、消費者がさらに水
で希釈して用いてもよい。
このような洗浄液の用途はあまりに数多く、完全に特
定することはできないが、このような組成物は、例えば
水と組合わせることができ、ペンキ塗りされた表面、
壁、床、器具の外部表面、テーブル、いす、窓、鏡等の
洗浄に用いることができる。この組成物は、通常、すべ
ての非水性成分の重量として計算して、水中濃度がおよ
そ１％〜約20％に調合される。このような組成物は、硬
質表面洗浄剤のここでの定義の中に含まれる。本発明の
組成物は一般に次の成分及び割合を含む。
第一に、このような液体洗浄剤は、適切な界面活性剤
を0.05％〜20％含んでいる。さらには界面活性剤のさら
に好ましい含有範囲は、界面活性剤１％〜10％であり、
そして界面活性剤２％〜５％である。広義には、硬質表
面洗浄剤の調合物に用いうる界面活性剤は、下記の幅広
い界面活性剤の開示に見られるものである。
本発明の洗浄剤、好ましくは水性液体洗浄剤に必要な
もう一つの成分は、ビルダー塩0.01％〜20％である。下
記のビルダー又は無機塩はどれも、ビルダーとしてここ
で用いることができる。
本発明の硬質表面洗浄剤、好ましくは水性洗浄剤は、
場合によっては非常に様々な成分を含んでいてもよい。
これについては次により詳しく記載する。
水性系において、組成物の残り（１〜99％）は水であ
り、好ましくは金属イオン封鎖ビルダーへの当初負荷を
最小限にするために軟水である。
液体洗浄剤の要求事項及び調合物についてのこれ以外
の議論は、次のような特許に見られる。1972年７月25日
にAubertらに許可された米国特許第3,679,608号、及び1
976年７月20日にClaybaughに許可された米国特許第3,97
0,594号である。これらの２つの特許をここに引用とし
て組み込む。
洗浄剤界面活性剤 本発明による液体洗浄剤は、適切な洗浄剤界面活性剤
を約0.1％〜40％含んでいる。さらには、より好ましい
界面活性剤の含有範囲は、界面活性剤約１％〜約10％で
あり、界面活性剤約２％〜約５％である。広義には、水
性液体洗浄剤の調合物に用いうる界面活性剤は、硬質表
面洗浄剤に通常用いられているものである。特別な界面
活性剤には、1981年９月１日に許可されたSiklosiの米
国特許第4,287,020号に開示された広い範囲の界面活性
剤がある。この特許もここに全体として引用として組み
込む。
洗浄剤界面活性剤は、次の種類のものである。アニオ
ン性、カチオン性、非イオン性、双性イオン性及び両性
界面活性剤、及びこれらの混合物である。カチオン性、
双性イオン、非イオン性及び両性界面活性剤は、この技
術においてよく知られている。このような界面活性剤の
例は、前記のように引用として明細書に組み込まれる、
Siklosiの米国特許第4,287,080号に記載されている。
このような洗浄剤に用いるのに適した界面活性剤は、
例えば次の１つ又はそれ以上のものである：ナトリウム
直鎖状アルキルベンゼンスルホネート（LAS）、特にC
12-14LAS;エチレンオキシド３モルを含むココナツアル
キルエーテルスルフェートのナトリウム塩；アルキル鎖
長の範囲が炭素原子数11〜15であり、エチレンオキシド
部分が平均２〜12である１級、２級、及び３級アルコー
ルのアダクト体；ココナツ脂肪酸のナトリウム及びカリ
ウム塩類（ココナツセッケン）；炭素原子数約８〜約16
であり、平均炭素鎖長が約８〜約12である直鎖又は枝分
れ鎖アルコールと、アルコール１モルあたり約２〜約８
モルのエチレンオキシドとの縮合生成物；下記の好まし
い式のうち１つで表わされるアミドである： ここで、Ｒは、炭素原子数約７〜約15、平均炭素鎖長
約９〜約13の直鎖アルキル基であり、各R1は、炭素原子
数約１〜約３のヒドロキシアルキル基であるか、又は約
６モルまでのエチレンオキシドでエトキシル化されたヒ
ドロキシアルキル基；前記開示の広い範囲の界面活性剤
における好ましい式の１つで表わされる双性イオン性界
面活性剤；又は半極性非イオン性界面活性剤の広い範囲
の開示における好ましい式のうちの１つで表わされるホ
スフィンオキシド界面活性剤である。もう１つの好まし
い種類の界面活性剤は、フルオロカーボン界面活性剤で
ある。例えば、FC−129、すなわちカリウムフッ化アル
キルカルボキシレート、及びFC−170−Ｃ、すなわちフ
ッ化アルキルポリオキシエチレンエタノールの混合物で
あり、これらはどちらも3M社（3M Corporation）から販
売されている。同様に、デュポン社（DuPont Corporat
ion）から販売されているゾニルフルオロ界面活性剤（Z
onyl fluorosurfactant）もある。様々な界面活性剤の
混合物を用いることができると考えられる。
本発明に用いられる界面活性剤の適切な例には、α−
スルホン化アルキルエステルもある。これらの物質は、
純粋なアルキルエステルであってもよく、又は（１）エ
ステルを形成するアルキル部分が炭素原子数１〜６の直
鎖、又は枝分れ鎖アルキルである炭素原子数８〜20の脂
肪酸のα−スルホン化アルキルエステルのモノ塩と、
（２）α−スルホン化脂肪酸のジ塩とのブレンドであっ
て、ジ塩に対するモノ塩の比が少なくとも約2:1である
ものであってもよい。本発明に用いるのに適したα−ス
ルホン化アルキルエステルは一般に、脂肪酸のアルキル
エステルを、スルホン化剤例えばSO3でスルホン化する
ことによって調製される。α−スルホン化アルキルエス
テルは、このようにして調製された場合、通常、エステ
ルの加水分解の結果生じたα−スルホン化脂肪酸のジ塩
の過半量以下、すなわち33重量％を超えない量で含んで
いる。好ましいα−スルホン化アルキルエステルは、対
応α−スルホン化脂肪酸のジ塩を約10重量％より少ない
量で含んでいる。
α−スルホン化アルキルエステル、すなわちアルキル
エステルスルホネート界面活性剤は、C8-20カルボン酸
（すなわち脂肪酸）の直鎖状エステルを含んでいる。こ
れらは、“The Journal of American Oil Chemists Soc
iety"52巻（1975年）、323〜329ページによれば、気体S
O3でスルホン化されるものである。適切な出発材料は、
牛脂、ヤシ油、ココナツ等に由来する天然の脂肪物質な
どであろう。
好ましいアルキルエステルスルホネート界面活性剤
は、次の構造式のアルキルエステルスルホネート界面活
性剤から成る： ここで、R3は、C8−C20ヒドロカルビル基、好ましく
はアルキル、又はこれらの組合わせであり、R4は、直鎖
又は枝分れ鎖C1−C6ヒドロカルビル、好ましくはアルキ
ル、又はこれらの組合わせであり、Ｍはカチオンであ
り、これはアルキルエステルスルホネートと共に水溶性
塩を形成する。適切な塩形成カチオンには、金属、例え
ばカルシウム、マグネシウム、ナトリウム、カリウム、
及びリチウムがあり、置換又は非置換アンモニウムカチ
オン、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン及びトリエタノールアミンがある。好ましくはR3は、
C10−C16アルキルであり、R4はメチル、エチル又はイソ
プロピルである。より好ましくは、平均炭素原子数12〜
16の脂肪酸の混合物のα−スルホン化メチルエステルで
ある。最も好ましくは、平均炭素原子数12〜14の脂肪酸
の混合物のα−スルホン化メチル及びエチルエステルで
ある。特に好ましい混合物は、脂肪酸部分に平均約13.6
個の炭素原子を有する。
多くの用途に対して合成（例えば非セッケン）洗浄剤
界面活性剤が望ましい。適切な合成界面活性剤は、米国
特許第4,287,080号に記載されている。この特許はここ
に全体が組み込まれる。
両性電解質洗浄剤及び両性洗浄剤もここで用いること
ができる。両性電解質合成洗浄剤は、広義には脂肪族ア
ミンの誘導体として記載されうる。これらは、炭素原子
数約８〜18の長鎖、及びアニオン性水溶性化基、例えば
カルボキシ、スルホ及びスルファト基を含んでいる。こ
の定義の中に入る化合物の例には、ナトリウム−３−ド
デシルアミノ−プロピオネート、ナトリウム−３−ドデ
シルアミノ−プロパンスルホネート、及びドデシルジメ
チルアンモニウムヘキサノエートがある。その他の両性
電解質界面活性剤及び両性界面活性剤の例は、1967年５
月９日にCunninghamに許可された米国特許第3,318,817
号に記載されている。この特許はここに引用として組み
込まれる。
この組成物において用いうる双性イオン性界面活性剤
は、広義には脂肪族４級アンモニウム、ホスホニウム及
び３級スルホニウム化合物の内部中和誘導体として記載
されている。これらの化合物において、脂肪族基は、直
鎖又は枝分れ鎖であってもよく、脂肪族置換基の１つ
は、約８〜18個の炭素原子を有し、あるものはアニオン
性水溶性化基、例えばカルボキシ、スルホ、スルファ
ト、ホスファト又はホスホノ基を含んでいる。これらの
双性イオン界面活性剤のいくつかは、米国特許第2,129,
264号、第2,178,353号、第2,774,786号、第2,813,898
号、及び第2,828,332号に記載されている。約８〜約21
個の炭素原子を有するアンモニオ−プロパンスルホネー
トは、比較的低いカルシウムイオン（硬度）感受性のた
めに、ここでは好ましい界面活性剤化合物の１種であ
る。
双性イオン性界面活性剤の特に好ましい例は、次の式
で表わされるものである： ここで、R2は、約８〜約16個の炭素原子を有し、平均
約10〜約13個の炭素原子を有し、各R3は、炭素原子数１
〜約３のアルキル及びヒドロキシアルキル基から成る群
から選ばれ、R4は炭素原子数２〜約５の飽和アルキレン
又はヒドロキシアルキレン基であり、前記ヒドロキシア
ルキレン基におけるヒドロキシ基は、少なくとも１つの
メチレン基によって窒素原子から離されている炭素原子
に結合している。
水溶性ベタイン界面活性剤は、ここで用いうる双性イ
オン性界面活性剤のもう１つの例である。これらの物質
は、下記一般式で表される： ここで、R1は、炭素原子数約８〜18のアルキル基であ
り;R2及びR3は各々、炭素原子数約１〜４の低級アルキ
ル基であり、R4は、メチレン、プロピレン、ブチレン及
びペンチレンから成る群から選ばれるアルキレン基であ
る。
この種類の適切なベタイン化合物の例には、ドデシル
ジメチルアンモニウムアセテート、テトラデシルジメチ
ルアンモニウムアセテート、ヘキサデシルジメチルアン
モニウムアセテート、長さ平均が炭素原子約14.8である
アルキル基を有するアルキルジメチルアンモニウムアセ
テート、ドデシルジメチルアンモニウムブタノエート、
テトラデシル−ジメチルアンモニウムブタノエート、ヘ
キサデシルジメチルアンモニウムブタノエート、ドデシ
ルジメチルアンモニウムヘキサノエート、ヘキサデシル
−ジメチル−アンモニウムヘキサノエート、テトラデシ
ルジメチルアンモニウムペンタノエート及びテトラ−デ
シルジプロピルアンモニウムペンタノエートがある。特
に好ましいベタイン界面活性剤には、ドデシルジメチル
アンモニウムアセテート、ドデシルジメチルアンモニウ
ムヘキサノエート、ヘキサデシルジメチルアンモニウム
アセテート、及びヘキサデシルジメチルアンモニウムヘ
キサノエートがある。
適切なカチオン性洗浄剤は、式RN（R2）３“X"で表わ
されるものである。この式中、Ｒは炭素原子数約８〜約
20のアルキル鎖であり、各R2は炭素原子数１〜４のアル
キル、アルカノール基およびベンジル基から成る群から
選ばれる。ここにあるベンジル基は、通常の１つのベン
ジル基にすぎない。２つの基R2は、炭素−炭素エーテル
か、又はイミノ結合のどちらかによって結合して環構造
を形成してもよい。Ｘはハロゲン原子、スルフェート
基、ニトレート基、又はとの他の擬似ハロゲン基を表わ
す。特別な例としては、ココナツアルキルトリメチルア
ミンクロライド、ドデシルジメチルベンジルブロマイ
ド、及びドデシルメチルモルホリノクロライドがある。
洗剤ビルダー 洗剤ビルダー、即ちビルダー塩は、本明細書に記載し
た水性クレンザーに必須であり、組成物の約0.01重量％
〜約30重量％、好ましくは１重量％〜約20重量％、更に
好ましくは水性組成物の約５重量％〜約20重量％を構成
する。適当なビルダーは、実際に水溶性又は水分散性で
あり、有機塩及び無機塩を含む。有機塩と無機塩との混
合物を使用することができる。
単独で又は混合物で本発明に於いて使用することがで
きる適当な無機アルカリ性ビルダーには、アルカリ金属
の炭酸塩、ホウ酸塩、ピロリン酸塩、オルトリン酸塩、
ポリリン酸塩、ホスホン酸塩、重炭酸塩、ポリ酢酸塩、
カルボン酸塩、ポリカルボン酸塩、ポリアセチルカルボ
ン酸塩、カルボキシメチルオキシコハク酸塩、カルボキ
シメチルオキシマロン酸塩、エチレンジアミン−N,N−
ジコハク酸塩、ポリエポキシコハク酸塩、、オキシジ酢
酸塩、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸塩、Ｎ−アル
キルイミノジ酢酸塩又はジプロピオン酸塩、α−スルホ
脂肪酸塩、ジピコリン酸塩、酸化多糖類、ポリヒドロキ
シスルホン酸塩、ケイ酸塩及びこれらの混合物が含まれ
る。ビルダーの特別の例には、トリポリリン酸、リン酸
及びヘキサメタリン酸のナトリウム塩及びカリウム塩が
含まれる。これらの物質のアンモニウム塩又は置換アン
モニウム塩、例えば、トリエタノールアンモニウム塩も
使用することができる。適当な塩の他の特別の例は、セ
スキ炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリ
ウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、重
炭酸ナトリウム及び重炭酸カリウムである。本発明によ
る好ましいアルカリ性ビルダーは、アルカリ金属のリン
酸塩、炭酸塩、ケイ酸塩、ポリリン酸塩及びセスキ炭酸
塩である。トリポリリン酸ナトリウム、リン酸三ナトリ
ウム、セスキ炭酸ナトリウム及びこれらの混合物が最も
好ましい。
（単独で又は混合物で）本発明で使用される適当な有
機アルカリ性ビルダー塩は、アミノカルボン酸のアルカ
リ金属塩、アンモニウム塩又は置換アンモニウム塩、例
えば、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム及びカリウ
ム、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン
三酢酸ナトリウム及びカリウム、ニトリロ三酢酸ナトリ
ウム及びカリウム、並びにＮ−（２−ヒドロキシエチ
ル）−ニトリロ二酢酸ナトリウム、カリウム及びトリエ
チルアンモニウムである。クエン酸のアルカリ金属塩、
アンモニウム塩及びアルカノールアンモニウム塩を、適
当に使用することできる。フィチン酸のアルカリ金属
塩、例えば、そのナトリウム塩も、有機アルカリ金属イ
オン封鎖剤ビルダー塩として適している。
特に、エタン−１−ヒドロキシ−1,1−シホスホン酸
のナトリウム塩及びカリウム塩、メチレンジホスホン酸
のナトリウム塩及びカリウム塩並びにエタン−1,1−２
−トリホスホン酸のナトリウム塩及びカリウム塩を含む
ポリリン酸塩も、本発明に関して価値のあるビルダーで
ある。他の例には、エタン−２−カルボキシ−1,1−ジ
ホスホン酸、ヒドロキシメタンジホスホン酸、カルボニ
ルジホスホン酸、エタン−１−ヒドロキシ−1,1,2−ト
リホスホン酸、エタン−１−ヒドロキシ−1,1,2−トリ
ホスホン酸、プロパン−1,1,3,3−テトラホスホン酸、
プロパン−1,1,2,3−テトラホスホン酸及びプロパン−
1,2,2,3−テトラホスホン酸のアルカリ金属塩が含まれ
る。
汚染物除去の観点からリン酸塩含有組成物が好ましい
が、有用なビルダーは、リン酸塩含有又はリン酸塩非含
有クリーニング組成物を与えるように配合することがで
きる。
適当なアルカリ性洗剤性ビルダーの他の例には、米国
特許第3,309,319号、第４欄第44行〜第５欄第９行に記
載されているものが含まれる。この特許の開示を、引用
して本明細書に組み込む。
任意の成分 本発明の配合物には、例えば、ココナツ脂肪酸のモノ
又はジエタノールアンモニウム、ナトリウム及びカリウ
ム塩のような脂肪酸のアンモニウム塩及びアルカリ金属
塩が含有されていてよい。
使用することができる共溶媒には、C1-6アルコール
や、例えば、ブトキシプロポキシプロパノール、ブチル
ジグリコール（ブチルカルビトール（Butyl Carbito
l ））、ヘキシルジグリコール（ヘキシルカルビトー
ル（Hexyl Carbitol ））、ブチルトリグリコールのよ
うな、C3-24アルキレングリコールエーテル及びこれら
の混合物が含まれる。共溶媒のレベルは、典型的に約0.
2％〜約20％、好ましくは約１％〜約15％、更に好まし
くは約２％〜約10％である。
一般的に、本発明で使用するために適している溶媒
は、芳香族部分に約６〜12個の炭素原子を有する芳香族
炭化水素、約10〜11個の炭素原子を有する直鎖又は分枝
鎖の炭化水素、約２〜６個の炭素原子を有するアルキレ
ングリコール、直鎖又は枝鎖の低級アルキルアルコー
ル、グリセリン、炭酸プロピレン、アルキレングリコー
ルモノアルキルエーテル（但し、アルキレン部分は約２
〜６個の炭素原子を有し、アルキル部分は約１〜６個の
炭素原子を有する）、ポリアルキレングリコールモノア
ルキルエーテル（但し、各アルキレン部分は約２〜６個
の炭素原子を有し、アルキル部分は約１〜６個の炭素原
子を有する）、酢酸アルキル（但し、アルキル部分は約
１〜６個の炭素原子を有する）、松根油、テルペン類及
びこれらの混合物からなる群から選択することができ
る。このような溶媒の例は、下記のものである。
ドデカン 炭酸プロピレン トルエン エチレングリコールモノエチルエーテル ナフタレン ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエ
ーテル イソプロピルアルコール 酢酸ブチル グリセリン 松根油 ヘキシレングリコール オレンジテルペン クリーナーが浴室タイルをクリーニングするようなあ
る種の用途のために意図されるとき、殺菌剤を本発明の
組成物に含有させることができる。代表的な殺菌剤は、
米国特許第3,882,038号に記載されている。
抗菌性又は殺菌性配合物に於いて、４級アンモニウム
殺菌剤と目的は、例えば、台所環境で遭遇するグラム陽
性生物及びグラム陰性生物の生殖速度を低下させるか又
はこれらに接触して殺すことである。これらの殺菌剤は
また、カビ、酵母及び菌類を殺す上で有用で有効であ
る。有用なこのような殺菌剤には、イリノイ州、Northf
ieldのステパン社（Stepan Company）から市販されてい
る、Ｎ−アルキル（C14が50％、C12が40％、C16が10
％）ジメチルベンジルアンモニウムクロライドであるBT
C8358が含まれる。他の４級アンモニウム化合物は、
式： ［ただし、式中、基R1、R2、R3及びR4（「Ｒ基」）の少
なくとも１個は、炭素数６〜26の疎水性の脂肪族基、ア
リール脂肪族基又は脂肪族アリール基であり、分子のカ
チオン部分全体は少なくとも165の分子量を有し、そし
て残りのＲ基は炭素数６〜26の疎水性の脂肪族基、アリ
ール脂肪族基又は脂肪族アリール基である。］によって
特徴付けられる４級アンモニウム殺菌剤の公知の種類の
何れであってもよい。疎水性の基は、実際に、長鎖アル
キル、長鎖アルコキシアリール、長鎖アルキルアリー
ル、ハロゲン置換長鎖アルキルアリール、長鎖アルキル
フェノキシアルキル、アリールアルキル等あってよい。
疎水性基以外の窒素原子上の残りの基は、普通合計で12
個以下の炭素原子を含有する炭化水素構造の置換基であ
る。上記の式中の基Ｘは、どのような塩形成アニオン性
基であってもよい。
上記内の適当な４級アンモニウム化合物には、セチル
トリメチルアンモニウムブロミドのようなアルキルアン
モニウムハライド、オクタデシルジメチルベンジルアン
モニウムブロミドのようなアルキルアリールアンモニウ
ムハライド、Ｎ−セチルピリジニウムブロミドのような
Ｎ−アルキルピリジニウムハライド等が含まれる。他の
適当な種類の４級アンモニウム塩には、オクチルフェノ
キシエトキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロ
ライド、Ｎ−（ラウリルココアミノホルミルメチル）−
ピリジニウムクロライド等のような、分子にアミド又は
エステル結合が含有されているものが含まれる。他の非
常に有効な種類の４級アンモニウム殺菌剤は、ラウリル
オキシフェニルトリメチルアンモニウムクロライド、セ
チルアミノフェニルトリメチルアンモニウムメトサルフ
ェート、ドデシルフェニル−トリメチルアンモニウムメ
トサルフェート、ドデシルベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、塩素化ドデシルベンジルトリメチルア
ンモニウムクロライド等の場合のような、疎水性基が置
換芳香核によって特徴付けられるものである。
上記の一般的な種類の好ましい４級アンモニウム殺菌
剤は、長鎖アルキルジメチルベンジル４級アンモニウム
塩、アルキルフェノキシアルコキシアルキルジメチルベ
ンジル４級アンモニウム塩、Ｎ−（アシルココアミノホ
ルミルメチル）ピリジニウムハライド、長鎖アルキルト
リメチルアンモニウムハライド、長鎖アルキルベンジル
ジメチルアンモニウムハライド及び長鎖アルキルベンジ
ルジエチルエタノールアンモニウムハライド（但し、ア
ルキル基は８〜18個の炭素原子を含有する）である。
適当な４級アンモニウム殺菌剤の更に他の例は、ジオ
クチルジメチルアンモニウムクロライド、オクチルデシ
ルジメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチル
アンモニウムクロライド、（C12-18）ｎ−アルキルジメ
チルベンジルアンモニウムクロライド、（C12-18）ｎ−
アルキルジメチルエチルベンジルアンモニウムクロライ
ド及び（C12-18）ｎ−アルキルジメチルベンジルアンモ
ニウムサッカリナートである。これは網羅的なリストで
はなく、殺菌活性を有するその他の４級アンモニウム塩
が満足されるであろう。本発明に於ける４級アンモニウ
ムは単独で存在する必要はなく、２種又は３種以上の４
級アンモニウムの混合物であってもよい。単一の存在又
は混合されているものとして、この４級アンモニウム塩
の、重量パーセントでの量は、典型的に約0.1％〜2.0％
である。好ましい４級アンモニウム殺菌剤は、約34重量
％のC12及び16重量％のC14のｎ−アルキルジメチルエチ
ルベンジルアンモニウムクロライドと約30重量％の
C14、15重量％のC16、2.5重量％のC12及び2.5重量％のC
18のｎ−アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロラ
イドとの混合物である。
他の任意の成分には、約0.01〜10重量％の、１〜４個
の炭素原子を有するモノアルキルアミン、各アルキルに
１〜４個の炭素原子を有するジアルキルアミン、各アル
キル基に１〜４個の炭素原子を有するトリアルキルアミ
ン、各アルキル基に２〜４個の炭素原子を有するモノ
−、ジ−及びトリアルカノールアミン、シクロアルキル
アミン及びモルホリンが含まれる。
多くの適用に於いて、任意の成分として石鹸水泡抑制
剤を本発明の水性液体洗浄剤の中に含有させることが非
常に望ましいであろう。この成分の目的は、界面活性剤
の全ての可視痕跡を除去するためにそれを洗浄した後、
表面を別々に濯ぐ必要性を除くことである。それを使用
する場合には、この組成物には約１〜３％の石鹸水泡抑
制剤を含有させるべきである。適当な石鹸水泡抑制剤の
一つの例は、炭素数約11〜約15の鎖長を有し、炭素数約
12〜約15の平均長を有する直鎖ランダム２級アルコール
と約０〜約３モルのエチレンオキシドとの縮合生成物で
ある界面活性剤である。主界面活性剤の量と使用すべき
石鹸水泡抑制剤の量との間の明確な関係が存在してい
る。組成物中に約１％〜約３％、好ましくは約１％〜約
２％の石鹸水泡抑制剤が存在し、主界面活性剤の石鹸水
泡抑制剤に対する比は、約4:1〜約0.7:1、好ましくは約
2:1〜約1:1、最も好ましくは約1.5:1〜約1:1の範囲内で
ある。
上記に又は下記に引用する全ての文書、例えば、特許
及び雑誌論文を、その全部を引用して本明細書に組み込
む。
当業者は、本発明の精神及び範囲から逸脱することな
く、本発明に於いて修正を行うことができることを認め
るであろう。本発明を下記の実施例によって更に説明す
るが、実施例は、本発明又は本明細書に記載した特別の
方法の範囲を限定するものとして解釈すべきではない。
下記の実施例に於いて、全ての量は他に示さない限り
活性物質の重量パーセントで示す。
本明細書の或る実施例に於いて、配合物の成分を規定
するために下記の名称を使用する。
Ninol 11−CM 変性ココジエタノールアミド Bio−Terge PAS−8S オクタンスルホン酸ナトリウム Na4EDTA エチレンジアミン四酢酸ナトリウム Amidox C−５ エトキシル化ココモノエタノールアミド
（5EO） Stepanate SXS キシレンスルホン酸ナトリウム Polystep B−29 オクチル硫酸ナトリウム SME MC−48 α−スルホン化メチルココ酸（cocoate）
のナトリウム塩 Ninol 1301 エトキシル化アルカノールアミド（5EO） BTC885 イリノイ州、NorthfieldのStepan Companyから
販売されている４級アンモニウム化合物 製造方法 組成物は、室温で成分の全てを、任意に適当量の水と
一緒にすることによって単純に製造される。この組成物
は乾燥粉末、水性系であってよく又は有機溶媒中で配合
してもよい。
薄膜形成及び縞形成として可視残留物の定量分析 評価する配合物（約２〜４個形分重量％の濃度）の10
滴を、4.5×4.5インチの寸法の黒色セラミックタイルの
上に置く。柔らかいティッシュペーパーを使用して手
で、10回の擦りサイクルを実施する。このタイルを10分
間乾燥させる。次いで、タイルの上の全ての可視残留物
を、１（多い薄膜形成及び／又は縞形成）から10（可視
薄膜形成及び／又は縞形成無し）までの等級を使用し
て、目で見て評価する。
種々の界面活性剤系と共に有効量の本発明によるヒド
ロトロープによって提供される改良を、図１に示す。水
性硬質表面洗浄剤配合物は、十分なヒドロトロープ（キ
シレンスルホン酸ナトリウム）の有り又は無しで、配合
物の重量基準で、1.54％の有機グリコールエーテル溶
媒、1.03％の洗剤界面活性剤、0.5％の洗剤ビルダー
（クエン酸ナトリウム）を含有するように製造した。こ
れらの配合物を、前記のようにして目で見て評価した。
配合物Ａ及びＢを前記のようにして評価した。両配合
物は厳しい薄膜形成／縞形成をもたらし、それぞれで１
より小さい値が得られた。続いて、これらの配合物のそ
れぞれを脱イオン水で1:10に希釈し、評価した。それ
で、配合物Ａは3.37の固形分重量％に希釈し、配合物Ｂ
は3.32の固形分重量％に希釈した。希釈した後、配合Ａ
及びＢは、それぞれ３及び４の薄膜形成／縞形成値をも
たらした。
配合物Ａ及びＢのそれぞれに、追加の３重量％のクメ
ンスルホン酸ナトリウム（SCS）を添加し、得られた配
合物（下記の表のＣ及びＤ）を脱イオン水で1:10に希釈
し、評価した。３％の追加のSCSを含有する配合物Ａ
（配合物Ｃ）は薄膜形成／縞形成試験で７の値をもたら
し、一方、３％の追加のSCSを含有する配合物Ｂ（配合
物Ｄ）は８の値をもたらした。
上記のことから、本発明の特別の態様を例示の目的の
ために本明細書に記載したけれども、本発明の精神及び
範囲から逸脱することなく、種々の修正を行うことがで
きることが認められるであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−331300（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−132199（ＪＰ，Ａ) 米国特許3933671（ＵＳ，Ａ) 米国特許3679608（ＵＳ，Ａ) 米国特許3294693（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C11D 3/34,3/22

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】少なくとも１種の界面活性剤と、洗浄後の
    表面の縞形成あるいは薄膜形成の抑制に有効な量のヒド
    ロトロープとを含有する硬質表面洗浄用の組成物であっ
    て、前記ヒドロトロープの重量比が、他の固形分の重量
    に対して少なくとも約1:3.5であり、かつ、ビルダーの
    重量に対し約1:1.8〜約4:1であることを特徴とする組成
    物。
  2. 【請求項２】前記ヒドロトロープの重量比が、ビルダー
    を除く全固形分の重量に対し約1:3.5〜約4:1である請求
    項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】前記ヒドロトロープが、ベンゼンスルホン
    酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、短鎖アルキルベンゼン
    スルホン酸塩、中間鎖（C6-8）アルキルスルホン酸塩、
    アルキルポリグリコシド、中間鎖（C6-10）アルキルジ
    メチルアミンオキシド、アルキルジフェニルオキシドジ
    スルホン酸塩、およびリン酸エステルヒドロトロープ類
    からなる群から選択されるものである請求項１または２
    に記載の組成物。
  4. 【請求項４】前記ヒドロトロープが、キシレンスルホン
    酸塩、アルキル部分に平均約６〜８個の炭素原子を有す
    るアルキルスルホン酸塩、またはアルキル部分に平均約
    10個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシドである
    請求項１〜３のいずれか一に記載の組成物。
  5. 【請求項５】前記ヒドロトロープが、アルキル部分に平
    均約10個の炭素原子を有するアルキルポリグルコシドで
    ある請求項１〜３のいずれか一に記載の組成物。
  6. 【請求項６】約0.01〜５重量％の４級アンモニウム殺菌
    剤、約0.5〜５重量％のアルキルポリグルコシド、およ
    び約0.5〜５重量％のC8-16アミンオキシドが含まれてい
    る請求項１〜５のいずれか一に記載の組成物。
  7. 【請求項７】さらにエチレンジアミン四酢酸塩が含まれ
    ている請求項１〜６のいずれか一に記載の組成物。
  8. 【請求項８】組成物が乾燥した粉末状形態である請求項
    １〜７のいずれか一に記載の組成物。
  9. 【請求項９】組成物が水性系である請求項１〜７のいず
    れか一に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】組成物が有機溶媒で調整されている請求
    項１〜７のいずれか一に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】可視残留物を与えることなく硬質表面を
    洗浄しうる硬質表面洗浄組成物の製造方法であって、以
    下の工程： （ａ）少なくとも１種の界面活性剤を含む水性ベースを
    調製する工程；および （ｂ）前記水性ベースに、表面洗浄後の硬質表面上の薄
    膜状あるいは縞状可視残留物を防止するために有効な量
    のヒドロトロープを添加する工程、 を含み、前記ヒドロトロープの重量比が、他の固形分の
    重量に対し少なくとも約1:3.5であり、かつ、ビルダー
    の重量に対し約1:1.8〜約4:1であることを特徴とする硬
    質表面洗浄組成物の製造方法。
  12. 【請求項１２】薄膜状あるいは縞状の可視残留物を実質
    的に与えることなく硬質表面を洗浄しうる硬質表面洗浄
    組成物の製造方法であって、以下の工程： （ａ）少なくとも１種の界面活性剤と少なくとも１種の
    ビルダーを含む水性ベースを調製する工程；および （ｂ）前記水性ベースに、他の固形分の重量に対する重
    量比が少なくとも約1:3.5である量のヒドロトロープを
    添加する工程、 を含み、かつ、前記ヒドロトロープの重量比が、ビルダ
    ーの重量に対し約1:1.8〜約4:1であることを特徴とする
    硬質表面洗浄組成物の製造方法。
  13. 【請求項１３】前記ヒドロトロープが、キシレンスルホ
    ン酸塩、アルキル部分に平均約６〜８個の炭素原子を有
    するアルキルスルホン酸塩、またはアルキル部分に平均
    約10個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシドであ
    る請求項11または12に記載の製造方法。
  14. 【請求項１４】前記ヒドロトロープが、アルキル部分に
    平均約10個の炭素原子を有するアルキルポリグリコシド
    である請求項11または12に記載の製造方法。
  15. 【請求項１５】界面活性剤が、直鎖状アルキルベンゼン
    スルホン酸塩；エチレンオキシド３モルを含むココナツ
    アルキルエーテル硫酸エステル塩；脂肪酸のα−スルホ
    ン化アルキルエステルのモノ塩；脂肪酸のα−スルホン
    化アルキルエステルのジ塩；アルキル鎖長が炭素原子数
    11〜15でありエチレンオキシド部分が平均２〜12である
    １級、２級、および３級アルコールのアダクト体；ココ
    ナツ脂肪酸のナトリウム塩およびカリウム塩；炭素原子
    数が約８〜約16であり平均炭素鎖長が約８〜約12である
    直鎖または枝分れ鎖のアルコールと、アルコール１モル
    あたり約２〜約８モルのエチレンオキシドとの縮合生成
    物；下記式で表わされるアミド： （式中、Ｒは、炭素原子数約７〜約15、平均炭素鎖長約
    ９〜約13の直鎖アルキル基であり、各R1は、炭素原子数
    約１〜約３のヒドロキシアルキル基であるか、または約
    ６モルまでのエチレンオキシドでエトキシル化されたヒ
    ドロキシアルキル基である。）；双性イオン性界面活性
    剤；ベタイン界面活性剤；スルホベタイン界面活性剤；
    半極性非イオン性界面活性剤；アミンオキシド；フルオ
    ロカーボン界面活性剤；およびホスフィンオキシド界面
    活性剤；およびこれらの混合物、からなる群から選択さ
    れるものである請求項１〜７のいずれか一に記載の組成
    物。
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