JP3076845B1 - Organosilicon polymer having functional group and method for producing the same - Google Patents
Organosilicon polymer having functional group and method for producing the sameInfo
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Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
【要約】
【課題】 低バンドギャップ値を示すポリマーとして、
官能基を有するケイ素ポリマーおよびその製造方法を提
供する。
【解決手段】 下記一般式(1)
【化1】
(式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基、また
はアリール基を表し、R 2は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アルコキシカルボニル基またはアシル基を表
す。また、R3はアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基またはアミノ基を表す。xおよびyは繰り返し単位
の組成比を示し、1≧y>0.01、x+y=1なる関
係を満たす。)で示される繰り返し単位を有する官能基
を持つケイ素ポリマー、および、下記一般式(2)
【化2】
(式中、R1、xおよびyは前記一般式(1)で定義し
たものと同義である)で示されるケイ素ポリマーおよ
び、下記一般式(3)
【化3】
(式中、R2およびR3は前記一般式(1)で定義した
ものと同義である)で示されるジアゾ化合物を、ロジウ
ム触媒またはロジウム金属塩の存在下、反応させること
を特徴とする請求項1記載の官能基を有するケイ素ポリ
マーの製造方法。【wrap up】
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer having a low band gap value,
Provided are a silicon polymer having a functional group and a method for producing the same.
Offer.
SOLUTION: The following general formula (1)
Embedded image
(Where R1Is a substituted or unsubstituted alkyl group,
Represents an aryl group; 2Represents a hydrogen atom, an alkyl group,
Represents a reel group, an alkoxycarbonyl group or an acyl group.
You. Also, R3Is an alkyl group, an aryl group, an alkoxy
Represents an amino group or an amino group. x and y are repeating units
And the relation of 1 ≧ y> 0.01 and x + y = 1
Meet the clerk. A) a functional group having a repeating unit represented by
A silicon polymer having the following general formula (2):
Embedded image
(Where R1, X and y are defined by the general formula (1).
And the silicon polymer represented by
And the following general formula (3)
Embedded image
(Where R2And R3Is defined by the general formula (1)
With a rhodium compound
Reaction in the presence of a catalyst or rhodium metal salt
The functional group-containing silicon poly according to claim 1,
Manufacturing method of mer.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、導電材料や光電変換材
料または発光材料として有用な、官能基を持つケイ素ポ
リマーおよびその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silicon polymer having a functional group, which is useful as a conductive material, a photoelectric conversion material or a light emitting material, and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】ケイ素原子からなる主鎖構造を有するポ
リマーとして、ポリシラン類が知られている[Chem. Re
v., 第89巻、1359頁(1989年)]。またケイ素原子を主
鎖とし、かつ架橋構造をもつポリマーとして、ポリシリ
ン類[J. Am. Chem. Soc., 第110巻、2342頁(1988
年);Macromolecules、第22巻、1697頁(1989年);Ma
cromolecules、第23巻、3423頁(1990年);Chem. Mate
r., 第5巻、245頁(1993年)]、および部分的に架橋構
造をもつものとしてポリ[シリレン-シリン]類[Macro
molecules、第29巻、7362頁(1996年);Journal of
Polymer Science:Part A:Polymer Chemistry、第3
3巻、771頁(1995年)]が知られている。これらの化合
物は、ケイ素鎖を主鎖にもつことに起因する有用な物性
を示し、導電材料や光電変換材料または発光材料として
の利用が期待されている。しかし、機能物性に大きく影
響するバンドギャップ値が、3.1 eV 以上と大きいた
め、光による励起効率、または電場による励起効率が低
く、実用的な材料への応用には至っていない。2. Description of the Related Art Polysilanes are known as polymers having a main chain structure composed of silicon atoms [Chem.
v., Vol. 89, p. 1359 (1989)]. As a polymer having a silicon atom as a main chain and having a crosslinked structure, polysilins [J. Am. Chem. Soc., Vol. 110, p. 2342 (1988
Year); Macromolecules, Vol. 22, 1697 (1989); Ma
cromolecules, 23, 3423 (1990); Chem. Mate
r., Vol. 5, p. 245 (1993)], and poly [silylene-cylin] s [Macro
molecules, 29, 7362 (1996); Journal of
Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Part 3
3, 771 (1995)]. These compounds exhibit useful physical properties due to having a silicon chain in the main chain, and are expected to be used as conductive materials, photoelectric conversion materials, or luminescent materials. However, since the band gap value that greatly affects the functional properties is as large as 3.1 eV or more, the excitation efficiency by light or the excitation efficiency by electric field is low, and it has not been applied to practical materials.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明はケイ素を主鎖
構造に含む高分子の側鎖に官能基を導入することによ
り、光・電子機能材料として工業的に有用性が高い、低
いバンドギャップ値を示すポリマーを得ようとするもの
である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention introduces a functional group into a side chain of a polymer containing silicon in its main chain structure, and thereby has a low band gap having high industrial utility as an optical / electronic functional material. It is intended to obtain a polymer having a value.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、カルボニ
ル基をケイ素ポリマーの側鎖に導入することにより、ポ
リマーの高次構造が変化するとともに、著しく低いバン
ドギャップ値を示すことを見い出し、本発明を完成した
ものである。Means for Solving the Problems The present inventors have found that the introduction of a carbonyl group into the side chain of a silicon polymer changes the tertiary structure of the polymer and exhibits a remarkably low band gap value. The present invention has been completed.
【0005】すなわち、本発明は、下記一般式(1)That is, the present invention provides the following general formula (1)
【化4】 (式中、R1は置換もしくは未置換のアルキル基、また
はアリール基を表し、R2は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アルコキシカルボニル基またはアシル基を表
す。また、R3はアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基またはアミノ基を表す。xおよびyは繰り返し単位
の組成比を示し、1≧y>0.01、x+y=1なる関
係を満たす。)で示される繰り返し単位を有する官能基
を持つケイ素ポリマー、好ましくは重量平均分子量が1
×103以上のポリマーを提供するものである。本発明
はさらに、下記一般式(2)Embedded image (Wherein, R 1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group. In addition, R 3 represents an alkyl group, Represents an aryl group, an alkoxyl group or an amino group, and x and y represent the composition ratio of the repeating unit, and satisfy the relationship of 1 ≧ y> 0.01 and x + y = 1. A silicon polymer, preferably having a weight average molecular weight of 1
× 10 3 or more polymers are provided. The present invention further provides the following general formula (2)
【化5】 (式中、R1、xおよびyは前記一般式(1)で定義し
たものと同義である)で示される繰り返し単位を有する
ケイ素ポリマーと、下記一般式(3)Embedded image (Wherein R 1 , x and y have the same meanings as defined in the above general formula (1)) and a silicon polymer having a repeating unit represented by the following general formula (3)
【化6】 (式中、R2およびR3は前記一般式(1)で定義した
ものと同義である)で示されるジアゾ化合物を、ロジウ
ム触媒またはロジウム金属塩の存在下、反応させること
を特徴とする前記一般式(1)で示される繰り返し単位
を有するポリマーの製造方法を提供する。Embedded image (Wherein R 2 and R 3 have the same meaning as defined in the above general formula (1)), wherein the diazo compound is reacted in the presence of a rhodium catalyst or a rhodium metal salt. Provided is a method for producing a polymer having a repeating unit represented by the general formula (1).
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明で反応原料として用いる前記一般式(2)で表さ
れる繰り返し単位を有するケイ素ポリマーは、第4族遷
移金属触媒を用いたトリヒドロシラン類の脱水素カップ
リング反応[J. Am. Ceram. Soc.、第74巻、630頁(199
1年);Organometallics、第16巻、2765頁(1997
年)],およびアルカリ金属を用いたジクロロヒドロシ
ラン類の縮重合反応[Macromolecules、第28巻、7235頁
(1995年)]により容易に合成することができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The silicon polymer having a repeating unit represented by the general formula (2) used as a reaction raw material in the present invention is obtained by a dehydrogenative coupling reaction of trihydrosilanes using a Group 4 transition metal catalyst [J. Am. Ceram. Soc., Vol. 74, p. 630 (199
1 year); Organometallics, Vol. 16, p. 2765 (1997)
)], And a polycondensation reaction of dichlorohydrosilanes using an alkali metal [Macromolecules, Vol. 28, p. 7235 (1995)].
【0007】一般式(2)中のR1は、置換もしくは未
置換のアルキル基またはアリール基を示す。アルキル基
は、好ましくは炭素数1〜10であり、直鎖、分岐、環
状のいずれであってもよい。これらのアルキル基は1個
以上の置換基を有してもよく、これらの置換基としては
本発明の反応を阻害するものでなければ特に制限はな
く、例えば、前記したアルキル基もしくはアリール基、
ハロゲン、アルコキシル基などが挙げることができる。
具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、イソブチル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、クロロメチル基、メトキシメチ
ル基等が挙げられる。また、置換もしくは未置換のアリ
ール基としては、炭素数6〜10の置換もしくは無置換
のフェニル基が好ましく、具体例としては、例えば、フ
ェニル基、トリル基、メトキシフェニル基等が挙げられ
る。一般式(2)中、xおよびyは繰り返し単位の組成
比を示し、1≧y>0.01、x+y=1なる関係を満
たす。好ましくは、1≧y>0.5の範囲である。[0007] R1 in the general formula (2) represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms and may be linear, branched or cyclic. These alkyl groups may have one or more substituents, and the substituents are not particularly limited as long as they do not inhibit the reaction of the present invention.
Examples thereof include a halogen and an alkoxyl group.
Specific examples include, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, isobutyl, cyclohexyl, benzyl, chloromethyl, methoxymethyl, and the like. The substituted or unsubstituted aryl group is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 10 carbon atoms, and specific examples include, for example, a phenyl group, a tolyl group, and a methoxyphenyl group. In the general formula (2), x and y indicate the composition ratio of the repeating unit, and satisfy the relationship of 1 ≧ y> 0.01 and x + y = 1. Preferably, 1 ≧ y> 0.5.
【0008】前記一般式(2)で表されるケイ素ポリマ
ーを具体的に例示すると、以下の通りである。ポリ(メ
チルシリレン)、ポリ(エチルシリレン)、ポリ(プロ
ピルシリレン)、ポリ(ヘキシルシリレン)、ポリ(シ
クロヘキシルシリレン)、ポリ(フェニルシリレン)、
ポリ(トリルシリレン)、ポリ(メトキシフェニルシリ
レン)、ポリ(メチルシリン-メチルシリレン)、ポリ
(エチルシリン-エチルシリレン)、ポリ(プロピルシ
リン-プロピルシリレン)、ポリ(ブチルシリン-ブチル
シリレン)、ポリ(ヘキシルシリン-ヘキシルシリレ
ン)、ポリ(イソブチルシリン-イソブチルシリレ
ン)、ポリ(シクロヘキシルシリン-シクロヘキシルシ
リレン)、ポリ(ベンジルシリン-ベンジルシリレ
ン)、ポリ(クロロメチルシリン-クロロメチルシリレ
ン)、ポリ(メトキシメチルシリン-メトキシメチルシ
リレン)等。Specific examples of the silicon polymer represented by the general formula (2) are as follows. Poly (methylsilylene), poly (ethylsilylene), poly (propylsilylene), poly (hexylsilylene), poly (cyclohexylsilylene), poly (phenylsilylene),
Poly (tolylsilylene), poly (methoxyphenylsilylene), poly (methylsilin-methylsilylene), poly (ethylsilin-ethylsilylene), poly (propylsilin-propylsilylene), poly (butylsilin-butylsilylene), poly (hexylcillin) -Hexylsilylene), poly (isobutylsiline-isobutylsilylene), poly (cyclohexylsilin-cyclohexylsilylene), poly (benzylsilin-benzylsilylene), poly (chloromethylsilin-chloromethylsilylene), poly (methoxymethylsilyl-methoxy) Methylsilylene) and the like.
【0009】本発明で用いる一般式(3)で表されるジ
アゾ化合物は、トシルアジドをはじめとする工業的に入
手可能な種々の原料から容易に合成される化合物である
[Chem. Rev.、第94巻、1091頁(1994年)]。一般式
(3)において、R2は水素原子、アルキル基、アリー
ル基、アルコキシカルボニル基またはアシル基を示す。
また、R3はアルキル基、アリール基、アルコキシル基
またはアミノ基を示し、アルコキシル基が特に好まし
い。The diazo compound represented by the general formula (3) used in the present invention is a compound easily synthesized from various industrially available raw materials such as tosyl azide [Chem. Rev., 94, 1091 (1994)]. In the general formula (3), R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group or an acyl group.
R 3 represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxyl group or an amino group, and an alkoxyl group is particularly preferred.
【0010】R2およびR3におけるアルキル基は、好
ましくは炭素数1〜10であり、直鎖、分岐、環状のい
ずれであってもよい。具体例としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、イ
ソブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げら
れる。また、R2およびR3におけるアリール基は、炭
素数6〜10の置換もしくは無置換のフェニル基が特に
好ましく、具体例としては、例えば、フェニル基、トリ
ル基、メトキシフェニル基、フルオロフェニル基等が挙
げられる。R2におけるアルコキシカルボニル基は好ま
しくは炭素数2〜9であり、具体的には、例えばメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、t-ブトキシ
カルボニル基が挙げられる。R3におけるアルコキシル
基は好ましくは炭素数1〜6であり、直鎖、分岐、環状
のいずれであってもよい。具体的には、例えばメトキシ
基、エトキシ基、t−ブトキシ基等が挙げられる。R3
におけるアミノ基は置換基を有してもよく、置換基とし
ては炭素数1〜10のアルキル基またはアリール基が好
ましく、具体的には、例えば、ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。R
2におけるアシル基は好ましくは炭素数2〜10であ
り、具体的には、例えば、アセチル基、プロパノイル
基、ベンゾイル基等が挙げられる。The alkyl group in R 2 and R 3 preferably has 1 to 10 carbon atoms and may be linear, branched or cyclic. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an isobutyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group, and the like. The aryl group in R 2 and R 3 is particularly preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 10 carbon atoms, and specific examples include, for example, a phenyl group, a tolyl group, a methoxyphenyl group, and a fluorophenyl group. Is mentioned. The alkoxycarbonyl group for R 2 preferably has 2 to 9 carbon atoms, and specific examples include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a t-butoxycarbonyl group. The alkoxyl group in R 3 preferably has 1 to 6 carbon atoms and may be linear, branched or cyclic. Specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a t-butoxy group and the like. R 3
May have a substituent, and the substituent is preferably an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically, for example, a dimethylamino group, a diethylamino group, a diphenylamino group and the like. No. R
The acyl group in 2 preferably has 2 to 10 carbon atoms, and specific examples include an acetyl group, a propanoyl group, and a benzoyl group.
【0011】前記一般式(3)で示されるジアゾ化合物
の具体例を示すと以下の通りである。ジアゾ酢酸エチ
ル、ジアゾ酢酸メチル、ジアゾ酢酸t-ブチル、ジアゾ
(フルオロフェニル)酢酸t-ブチル、ジアゾマロン酸
ジメチル、ジアゾマロン酸ジエチル、ジアゾマロン酸ジ
t-ブチル、ジアゾアセト酢酸エチル、ジアゾ-N,N-ジ
メチルアセトアミド、ジアゾ-N,N-ジエチルアセトア
ミド、ジアゾ-N,N-ジフェニルアセトアミド、2-ジア
ゾブタン酸エチル、2-ジアゾプロパン酸エチル、ジア
ゾベンゾイル酢酸エチル等。Specific examples of the diazo compound represented by the general formula (3) are as follows. Ethyl diazoacetate, methyl diazoacetate, t-butyl diazoacetate, t-butyl diazo (fluorophenyl) acetate, dimethyl diazomalonate, diethyl diazomalonate, di-t-butyl diazomalonate, ethyl diazoacetoacetate, diazo-N, N-dimethyl Acetamide, diazo-N, N-diethylacetamide, diazo-N, N-diphenylacetamide, ethyl 2-diazobutanoate, ethyl 2-diazopropanoate, ethyl diazobenzoyl acetate, and the like.
【0012】本発明で用いられるロジウムの金属錯体ま
たは金属塩は工業的に種々のものが入手容易であり、具
体的に例示すると、以下の通りである。酢酸ロジウム二
量体、トリフルオロ酢酸ロジウム二量体、オクタン酸ロ
ジウム二量体、安息香酸ロジウム二量体、ペンタフルオ
ロ安息香酸ロジウム二量体、ヘプタフルオロプロパン酸
ロジウム二量体、塩化ロジウム、ロジウムアセトアセト
ナト等。Various metal complexes or metal salts of rhodium used in the present invention are easily available industrially, and specific examples are as follows. Rhodium acetate dimer, rhodium trifluoroacetate dimer, rhodium octanoate dimer, rhodium benzoate dimer, rhodium pentafluorobenzoate dimer, rhodium heptafluoropropanoate dimer, rhodium chloride, rhodium Acetoacetonate and the like.
【0013】本発明の反応は溶媒中で行うことが反応効
率の点から望ましい。本発明で用いることができる溶媒
としては、例えば、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエ
タン、テトラクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素溶
媒、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ペン
タン、ヘキサン、デカン等の脂肪族炭化水素溶媒が挙げ
られる。反応は−50〜100℃の範囲で行うことがで
きるが、反応の効率の点から、室温〜100℃で行うこ
とが望ましい。また、ロジウムの金属錯体または金属塩
の使用量はいわゆる触媒量であり、一般式(3)で表さ
れる化合物1モル当り、0.001〜0.05モルの割合
にするのがよい。反応時間は通常1〜12時間である。
反応後の生成物の精製は、再沈殿法やゲルろ過クロマト
グラフィー等により容易に行うことができる。The reaction of the present invention is desirably performed in a solvent from the viewpoint of reaction efficiency. Examples of the solvent that can be used in the present invention include halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and tetrachloroethylene; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and benzene; and aliphatic solvents such as pentane, hexane, and decane. Hydrocarbon solvents are mentioned. The reaction can be carried out at a temperature in the range of -50 to 100 ° C, but is desirably carried out at room temperature to 100 ° C from the viewpoint of reaction efficiency. The amount of the rhodium metal complex or metal salt used is a so-called catalytic amount, and is preferably 0.001 to 0.05 mol per 1 mol of the compound represented by the general formula (3). The reaction time is usually 1 to 12 hours.
The product after the reaction can be easily purified by a reprecipitation method, gel filtration chromatography, or the like.
【0014】本発明によれば、前記一般式(1)で表さ
れる官能基を有するケイ素ポリマーが得られる。一般式
(1)中の R1、R2、R3、xおよびyについては一
般式(2)および(3)について示したものと同様であ
る。According to the present invention, a silicon polymer having a functional group represented by the general formula (1) is obtained. R 1 , R 2 , R 3 , x and y in the general formula (1) are the same as those shown in the general formulas (2) and (3).
【0015】前記一般式(1)で表される官能基を有す
る架橋ケイ素ポリマーを具体的に例示すると以下の通り
である。ポリ[メチル(エトキシカルボニルメチル)シ
リレン]、ポリ[エチル(エトキシカルボニルメチル)
シリレン]、ポリ[プロピル(メトキシカルボニルメチ
ル)シリレン]、ポリ[ヘキシル(メトキシカルボニル
メチル)シリレン]、ポリ[ベンジル(メトキシカルボ
ニルメチル)シリレン]、ポリ[フェニル(t-ブトキ
シカルボニルメチル)シリレン]、ポリ[トリル(メト
キシカルボニルメチル)シリレン]、ポリ[メトキシフ
ェニル(メトキシカルボニルメチル)シリレン]、ポリ
[メチル{(t-ブトキシカルボニル)フルオロフェニ
ルメチル}シリレン]、ポリ[メチルシリン-メチル
(メトキシカルボニルメチル)シリレン]、ポリ[メチ
ルシリン-メチル(エトキシカルボニルメチル)シリレ
ン]、ポリ[メチルシリン-メチル(t-ブトキシカルボ
ニルメチル)シリレン]、ポリ[メチルシリン-メチル
(ジメトキシカルボニルメチル)シリレン]、ポリ[メ
チルシリン-メチル(N,N-ジメチルアミノカルボニル
メチル)シリレン]、ポリ[メチルシリン-メチル(N,
N-ジフェニルアミノカルボニルメチル)シリレン]、
ポリ[メチルシリン-メチル(1-エトキシカルボニルプ
ロピル)シリレン]、ポリ[メチルシリン-メチル(1-
エトキシカルボニルエチル)シリレン]、ポリ[エチル
シリン-エチル(エトキシカルボニルメチル)シリレ
ン]、ポリ[プロピルシリン-プロピル(エトキシカル
ボニルメチル)シリレン]、ポリ[ブチルシリン-ブチ
ル(エトキシカルボニルメチル)シリレン]、ポリ[ヘ
キシルシリン-ヘキシル(エトキシカルボニルメチル)
シリレン]、ポリ[シクロヘキシルシリン-シクロヘキ
シル(エトキシカルボニルメチル)シリレン]、ポリ
[ベンジルシリン-ベンジル(エトキシカルボニルメチ
ル)シリレン]、ポリ[クロロメチルシリン-クロロメ
チル(エトキシカルボニルメチル)シリレン]、ポリ
[メトキシメチルシリン-メトキシメチル(エトキシカ
ルボニルメチル)シリレン]等。Specific examples of the crosslinked silicon polymer having a functional group represented by the general formula (1) are as follows. Poly [methyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [ethyl (ethoxycarbonylmethyl)
Silylene], poly [propyl (methoxycarbonylmethyl) silylene], poly [hexyl (methoxycarbonylmethyl) silylene], poly [benzyl (methoxycarbonylmethyl) silylene], poly [phenyl (t-butoxycarbonylmethyl) silylene], poly [Tolyl (methoxycarbonylmethyl) silylene], poly [methoxyphenyl (methoxycarbonylmethyl) silylene], poly [methyl {(t-butoxycarbonyl) fluorophenylmethyl} silylene], poly [methylsilin-methyl (methoxycarbonylmethyl) silylene] ], Poly [methylsilin-methyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [methylsilin-methyl (t-butoxycarbonylmethyl) silylene], poly [methylsilin-methyl (dimethoxycarbonylmethyl) L) silylene], poly [methylsilin-methyl (N, N-dimethylaminocarbonylmethyl) silylene], poly [methylsilin-methyl (N, N
N-diphenylaminocarbonylmethyl) silylene],
Poly [methylsilin-methyl (1-ethoxycarbonylpropyl) silylene], poly [methylsilin-methyl (1-
Ethoxycarbonylethyl) silylene], poly [ethylsilin-ethyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [propylsilin-propyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [butylsilin-butyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [hexyl Syrin-hexyl (ethoxycarbonylmethyl)
Silylene], poly [cyclohexylsilin-cyclohexyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [benzylsilin-benzyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [chloromethylsilin-chloromethyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene], poly [methoxy Methylsilin-methoxymethyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene] and the like.
【0016】[0016]
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるも
のではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0017】実施例1 この実施例における反応を次式で示す。Example 1 The reaction in this example is shown by the following formula.
【0018】[0018]
【化7】 Embedded image
【0019】窒素雰囲気下、486mgのポリ(メチル
シリン-メチルシリレン)(重量平均分子量4800、
分散率2.5、メチルシリン繰り返し単位とメチルシリ
レン繰り返し単位の組成比は0.14:0.86)、およ
び135mgの酢酸ロジウム(0.3mmol)を、あ
らかじめ水素化カルシウムにより乾燥したジクロロメタ
ン(8.6ml)に溶解した。この溶液に、室温下、6.
3gのジアゾ酢酸t-ブチル(44mmol)を5時間
にわたり滴下した。滴下終了後、セライトカラムにより
ロジウム触媒を除去した後、ジクロロメタンを減圧留去
した。得られた粗生成物を、溶離溶媒としてトルエンを
用いたゲルろ過クロマトグラフィーにより精製したとこ
ろ、813mgのポリ[メチルシリン-メチル(t-ブト
キシカルボニルメチル)シリレン]を黄色固体として得
た。このものはテトラヒドロフラン、メタノールおよび
クロロホルム等の有機溶媒に可溶であった。ポリマーの
分子量をゲルろ過クロマトグラフィーで測定したとこ
ろ、ポリスチレン換算で重量平均分子量10000、分
散率2.2であった。また、 1H NMRにおける各ピーク
の積分値の測定より、得られたポリマーにおけるメチル
シリン繰り返し単位とメチル(t-ブトキシカルボニ
ル)メチルシリレン繰り返し単位の組成比を求めたとこ
ろ0.14:0.86であった。Under a nitrogen atmosphere, 486 mg of poly (methylsilin-methylsilylene) (weight average molecular weight 4800,
Dispersion ratio 2.5, composition ratio of methylsilyl repeating unit to methylsilylene repeating unit is 0.14: 0.86), and 135 mg of rhodium acetate (0.3 mmol) were previously dried with calcium hydride in dichloromethane (8.3). 6 ml). Add 6.
3 g of t-butyl diazoacetate (44 mmol) were added dropwise over 5 hours. After completion of the dropping, the rhodium catalyst was removed with a celite column, and then dichloromethane was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by gel filtration chromatography using toluene as an elution solvent, to obtain 813 mg of poly [methylsilin-methyl (t-butoxycarbonylmethyl) silylene] as a yellow solid. This was soluble in organic solvents such as tetrahydrofuran, methanol and chloroform. When the molecular weight of the polymer was measured by gel filtration chromatography, the weight average molecular weight was 10,000 in terms of polystyrene, and the dispersity was 2.2. From the measurement of the integrated value of each peak in 1H NMR, the composition ratio of the repeating units of methylsilin and the repeating units of methyl (t-butoxycarbonyl) methylsilylene in the obtained polymer was 0.14: 0.86. Was.
【0020】1H NMR(300 MHz, C6D6):δ0.2-1.1 (b
r.s), 1.4 (s), 2.3(br.s); IR(KBr): 2980,1711,1396,
1371,1259,1152,1093,853,766 cm−1。1H NMR (300 MHz, C6D6): δ0.2-1.1 (b
rs), 1.4 (s), 2.3 (br.s); IR (KBr): 2980,1711,1396,
1371,1259,1152,1093,853,766 cm-1.
【0021】実施例2 この実施例における反応を次式で示す。Example 2 The reaction in this example is shown by the following formula.
【0022】[0022]
【化8】 Embedded image
【0023】窒素雰囲気下、62mgのポリ(メチルシ
リン-メチルシリレン)(重量平均分子量2100、分
散率5.0、メチルシリン繰り返し単位とメチルシリレ
ン繰り返し単位の組成比は0.20:0.80)、および
16mgの酢酸ロジウム(0.04mmol)を、あら
かじめ水素化カルシウムにより乾燥したジクロロメタン
(1ml)に溶解した。この溶液に、室温下、240m
gのジアゾ酢酸エチル(2.1mmol)を4時間にわ
たり滴下した。 滴下終了後、セライトカラムによりロ
ジウム触媒を除去した後、ジクロロメタンを減圧留去し
た。得られた粗生成物を、溶離溶媒としてトルエンを用
いたゲルろ過クロマトグラフィーにより精製したとこ
ろ、115mgのポリ[メチルシリン-メチル(エトキ
シカルボニルメチル)シリレン]を黄色固体として得
た。このものはテトラヒドロフラン、メタノールおよび
クロロホルム等の有機溶媒に可溶であった。ポリマーの
分子量をゲルろ過クロマトグラフィーで測定したとこ
ろ、ポリスチレン換算で重量平均分子量4000、分散
率1.7であった。また、 1H NMRにおける各ピークの
積分値の測定より、得られたポリマーにおけるメチルシ
リン繰り返し単位とメチル(エトキシカルボニル)メチ
ルシリレン繰り返し単位の組成比を求めたところ0.2
0:0.80であった。In a nitrogen atmosphere, 62 mg of poly (methylsilin-methylsilylene) (weight average molecular weight 2100, dispersity 5.0, composition ratio of methylsilyl repeating unit to methylsilylene repeating unit 0.20: 0.80), and 16 mg of rhodium acetate (0.04 mmol) were dissolved in dichloromethane (1 ml) which had been dried over calcium hydride. 240m at room temperature
g of ethyl diazoacetate (2.1 mmol) was added dropwise over 4 hours. After completion of the dropping, the rhodium catalyst was removed with a celite column, and then dichloromethane was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by gel filtration chromatography using toluene as an elution solvent, to obtain 115 mg of poly [methylsilin-methyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene] as a yellow solid. This was soluble in organic solvents such as tetrahydrofuran, methanol and chloroform. When the molecular weight of the polymer was measured by gel filtration chromatography, the weight average molecular weight was 4,000 in terms of polystyrene, and the dispersity was 1.7. From the measurement of the integrated value of each peak in 1H NMR, the composition ratio of the repeating unit of methylsilin and the repeating unit of methyl (ethoxycarbonyl) methylsilylene in the obtained polymer was determined to be 0.2.
0: 0.80.
【0024】1H NMR(300 MHz, C6D6):δ0.2-0.8(br.
s), 1.1(s), 2.2-2.8(br.s),3.8-4.42(br.s); IR(KBr):
3500,2928,2364,2086,1719,1406,1255,1096,1035,868,
772,660 cm−1。1H NMR (300 MHz, C6D6): δ0.2-0.8 (br.
s), 1.1 (s), 2.2-2.8 (br.s), 3.8-4.42 (br.s); IR (KBr):
3500,2928,2364,2086,1719,1406,1255,1096,1035,868,
772,660 cm-1.
【0025】実施例3 この実施例における反応を次式で示す。Example 3 The reaction in this example is shown by the following formula.
【0026】[0026]
【化9】 Embedded image
【0027】窒素雰囲気下、73mgのポリ(メチルシ
リレン)(重量平均分子量1900、分散率2.0)、
および16mgの酢酸ロジウム(0.04mmol)
を、あらかじめ水素化カルシウムにより乾燥したジクロ
ロメタン(1ml)に溶解した。この溶液に、室温下、
240mgのジアゾ酢酸エチル(2.1mmol)を4
時間にわたり滴下した。滴下終了後、セライトカラムに
よりロジウム触媒を除去した後、ジクロロメタンを減圧
留去した。得られた粗生成物を、溶離溶媒としてトルエ
ンを用いたゲルろ過クロマトグラフィーにより精製した
ところ、140mgのポリ[メチル(エトキシカルボニ
ルメチル)シリレン]を黄色固体として得た。このもの
はテトラヒドロフラン、メタノールおよびクロロホルム
等の有機溶媒に可溶であった。ポリマーの分子量をゲル
ろ過クロマトグラフィーで測定したところ、ポリスチレ
ン換算で重量平均分子量3500、分散率2.4であっ
た。Under a nitrogen atmosphere, 73 mg of poly (methylsilylene) (weight average molecular weight 1900, dispersity 2.0),
And 16 mg of rhodium acetate (0.04 mmol)
Was dissolved in dichloromethane (1 ml) previously dried with calcium hydride. Add this solution at room temperature
240 mg of ethyl diazoacetate (2.1 mmol) in 4
Dropped over time. After completion of the dropping, the rhodium catalyst was removed with a celite column, and then dichloromethane was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by gel filtration chromatography using toluene as an eluent, to give 140 mg of poly [methyl (ethoxycarbonylmethyl) silylene] as a yellow solid. This was soluble in organic solvents such as tetrahydrofuran, methanol and chloroform. When the molecular weight of the polymer was measured by gel filtration chromatography, the weight average molecular weight was 3500 and the dispersity was 2.4 in terms of polystyrene.
【0028】実施例4 この実施例における反応を次式で示す。Example 4 The reaction in this example is represented by the following formula.
【0029】[0029]
【化10】 Embedded image
【0030】窒素雰囲気下、63mgのポリ(フェニル
シリレン)(重量平均分子量2000、分散率1.
8)、および8mgの酢酸ロジウム(0.02mmo
l)を、あらかじめ水素化カルシウムにより乾燥したジ
クロロメタン(1ml)に溶解した。この溶液に、室温
下、259mgのジアゾ酢酸ブチル(1.8mmol)
を4時間にわたり滴下した。滴下終了後、セライトカラ
ムによりロジウム触媒を除去した後、ジクロロメタンを
減圧留去した。得られた粗生成物を、溶離溶媒としてト
ルエンを用いたゲルろ過クロマトグラフィーにより精製
したところ、132mgのポリ[フェニル(t-ブトキ
シカルボニルメチル)シリレン]を黄色固体として得
た。このものはテトラヒドロフラン、メタノールおよび
クロロホルム等の有機溶媒に可溶であった。ポリマーの
分子量をゲルろ過クロマトグラフィーで測定したとこ
ろ、ポリスチレン換算で重量平均分子量4400、分散
率1.7であった。Under a nitrogen atmosphere, 63 mg of poly (phenylsilylene) (weight average molecular weight: 2,000, dispersity: 1.
8), and 8 mg of rhodium acetate (0.02 mmol
l) was dissolved in dichloromethane (1 ml) previously dried over calcium hydride. To this solution, at room temperature, 259 mg of butyl diazoacetate (1.8 mmol)
Was added dropwise over 4 hours. After completion of the dropping, the rhodium catalyst was removed with a celite column, and then dichloromethane was distilled off under reduced pressure. The obtained crude product was purified by gel filtration chromatography using toluene as an elution solvent, to obtain 132 mg of poly [phenyl (t-butoxycarbonylmethyl) silylene] as a yellow solid. This was soluble in organic solvents such as tetrahydrofuran, methanol and chloroform. When the molecular weight of the polymer was measured by gel filtration chromatography, the weight average molecular weight was 4,400 in terms of polystyrene, and the dispersity was 1.7.
【0031】[0031]
【試験例】本発明による官能基を有するケイ素ポリマー
が、非官能性ケイ素ポリマーに較べて、より低いバンド
ギャップ値を有することを示すため、実施例1で得たポ
リ[メチルシリン-メチル(t-ブトキシカルボニルメチ
ル)シリレン](重量平均分子量10000、分散率
2.2)を石英板キャスト膜として、紫外線吸収スペク
トルを測定したところ、吸収端は500nm に達した。
得られた紫外線スペクトルを図1に示す。吸収端波長を
バンドギャップ値に換算すると2.48eV に相当する。
依って、本発明によって得られるポリマーが従来化合物
と比較して、より低いバンドギャップ値を有することが
示された。TEST EXAMPLE To show that the functionalized silicon polymer according to the invention has a lower bandgap value compared to the non-functional silicon polymer, the poly [methylsilin-methyl (t- [Butoxycarbonylmethyl) silylene] (weight average molecular weight 10,000, dispersion ratio 2.2) was used as a cast film on a quartz plate, and an ultraviolet absorption spectrum was measured. As a result, the absorption edge reached 500 nm.
FIG. 1 shows the obtained ultraviolet spectrum. When the absorption edge wavelength is converted into a band gap value, it corresponds to 2.48 eV.
Accordingly, it was shown that the polymer obtained according to the present invention has a lower band gap value as compared with the conventional compound.
【0032】[0032]
【発明の効果】本発明によれば、著しく低いバンドギャ
ップ値を示す、官能基を有するケイ素ポリマーおよびそ
の製造方法が提供される。このポリマーは導電材料や光
電変換材料または発光材料としての工業的価値が高い。According to the present invention, there is provided a silicon polymer having a functional group, which exhibits a remarkably low band gap value, and a method for producing the same. This polymer has high industrial value as a conductive material, a photoelectric conversion material, or a light emitting material.
【0033】[0033]
【図1】実施例1で得たポリ[メチルシリン-メチル
(t-ブトキシカルボニルメチル)シリレン]の石英板
キャスト膜の紫外線吸収スペクトル図。FIG. 1 is an ultraviolet absorption spectrum of a cast film of a quartz plate of poly [methylsilin-methyl (t-butoxycarbonylmethyl) silylene] obtained in Example 1.
フロントページの続き (56)参考文献 Vysokomol.Soedi n.,Ser.B(1970),Vol. 12,No.1,pp.6−10 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 77/00 - 77/62 C08L 83/00 - 83/16 REGISTRY(STN) CA(STN)Continuation of the front page (56) References Vysokomol. Soedin. , Ser. B (1970), Vol. 12, No. 1, pp. 6-10 (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C08G 77/00-77/62 C08L 83/00-83/16 REGISTRY (STN) CA (STN)
Claims (2)
はアリール基を表し、R2は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アルコキシカルボニル基またはアシル基を表
す。また、R3はアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基またはアミノ基を表す。xおよびyは繰り返し単位
の組成比を示し、1≧y>0.01、x+y=1なる関
係を満たす。)で示される繰り返し単位を有する官能基
を持つケイ素ポリマー。[Claim 1] The following general formula (1) (Wherein, R 1 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, or an acyl group. In addition, R 3 represents an alkyl group, Represents an aryl group, an alkoxyl group or an amino group, and x and y represent the composition ratio of the repeating unit, and satisfy the relationship of 1 ≧ y> 0.01 and x + y = 1. Having a silicon polymer.
たものと同義である)で示される繰り返し単位を有する
ケイ素ポリマーおよび、下記一般式(3) 【化3】 (式中、R2およびR3は前記一般式(1)で定義した
ものと同義である)で示されるジアゾ化合物を、ロジウ
ム触媒またはロジウム金属塩の存在下、反応させること
を特徴とする請求項1記載の官能基を持つケイ素ポリマ
ーの製造方法。2. A compound represented by the following general formula (2): (Wherein R 1 , x and y have the same meanings as defined in the general formula (1)), and a silicon polymer having a repeating unit represented by the following general formula (3): (Wherein R 2 and R 3 have the same meanings as defined in formula (1)) in the presence of a rhodium catalyst or a rhodium metal salt. Item 10. A method for producing a silicon polymer having a functional group according to Item 1.
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|---|---|---|---|
| JP11221439A JP3076845B1 (en) | 1999-08-04 | 1999-08-04 | Organosilicon polymer having functional group and method for producing the same |
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| JP5296961B2 (en) * | 2005-09-12 | 2013-09-25 | 大阪瓦斯株式会社 | Copolysilane and resin composition containing this copolysilane |
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1999
- 1999-08-04 JP JP11221439A patent/JP3076845B1/en not_active Expired - Lifetime
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