JP2927685B2 - 有機金属化合物の精製方法 - Google Patents
有機金属化合物の精製方法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F3/06—Zinc compounds
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F5/06—Aluminium compounds
- C07F5/061—Aluminium compounds with C-aluminium linkage
- C07F5/062—Al linked exclusively to C
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、化合物半導体を製造す
るＭＯＣＶＤ法（有機金属化合物化学吸着法）によるエ
ピタキシャル成長用材料として有用な有機金属化合物に
不純物として含まれている酸素含有化合物を除去して、
有機金属化合物を精製する方法に関するものである。
るＭＯＣＶＤ法（有機金属化合物化学吸着法）によるエ
ピタキシャル成長用材料として有用な有機金属化合物に
不純物として含まれている酸素含有化合物を除去して、
有機金属化合物を精製する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、III - Ｖ族およびII−VI族の化合
物半導体は、半導体発光素子やマイクロ波トランジスタ
等の広い分野に用いられ、それらの優れた特性を利用し
て、高速コンピューター用集積回路、オプトエレクトロ
ニクス用集積回路でも使用されるようになってきた。こ
のような化合物半導体は、有機金属化合物をＭＯＣＶＤ
法等でエピタキシャル成長させて製造される。
物半導体は、半導体発光素子やマイクロ波トランジスタ
等の広い分野に用いられ、それらの優れた特性を利用し
て、高速コンピューター用集積回路、オプトエレクトロ
ニクス用集積回路でも使用されるようになってきた。こ
のような化合物半導体は、有機金属化合物をＭＯＣＶＤ
法等でエピタキシャル成長させて製造される。
【０００３】ＭＯＣＶＤ法とは、化合物あるいは混晶半
導体のエピタキシャル薄膜を形成する場合に多く用いら
れる結晶成長法のひとつである。トリメチルアルミニウ
ム、トリメチルガリウム、ジメチル亜鉛等の有機金属化
合物を原料とし、その熱分解反応を利用して薄膜の結晶
成長を行う。
導体のエピタキシャル薄膜を形成する場合に多く用いら
れる結晶成長法のひとつである。トリメチルアルミニウ
ム、トリメチルガリウム、ジメチル亜鉛等の有機金属化
合物を原料とし、その熱分解反応を利用して薄膜の結晶
成長を行う。
【０００４】有機金属化合物をエピタキシャル成長させ
て得られる化合物半導体は、原料である有機金属化合物
の純度に大きく左右される。有機金属化合物中に含まれ
ている酸素が半導体の電気的特性および光学的特性に著
しく悪影響を及ぼすからである。
て得られる化合物半導体は、原料である有機金属化合物
の純度に大きく左右される。有機金属化合物中に含まれ
ている酸素が半導体の電気的特性および光学的特性に著
しく悪影響を及ぼすからである。
【０００５】Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｒｙｓｔａｌ
Ｇｒｏｕｔｈ，１５７（１９８４）には、エピタキシャ
ル薄膜中に酸素原子が存在すると半導体の特性が著しく
低下することが記載されている。酸素原子と、エピタキ
シャル薄膜の原料である有機金属化合物とが反応して酸
素含有化合物が生じ、半導体の特性を低下させるからで
ある。
Ｇｒｏｕｔｈ，１５７（１９８４）には、エピタキシャ
ル薄膜中に酸素原子が存在すると半導体の特性が著しく
低下することが記載されている。酸素原子と、エピタキ
シャル薄膜の原料である有機金属化合物とが反応して酸
素含有化合物が生じ、半導体の特性を低下させるからで
ある。
【０００６】有機金属化合物には、トリメチルアルミニ
ウム、トリエチルアルミニウム、トリメチルガリウム、
トリエチルガリウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛等が
挙げられるが、特に酸素を含みやすい有機金属化合物は
トリメチルアルミニウムである。トリメチルアルミニウ
ムと酸素とが反応して生成するジメチルモノメトキシア
ルミニウムは不純物となり、半導体の特性を低下させ
る。このため、特にトリメチルアルミニウム中に不純物
として含まれているジメチルモノメトキシアルミニウム
を低減する方法が行われてきた。
ウム、トリエチルアルミニウム、トリメチルガリウム、
トリエチルガリウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛等が
挙げられるが、特に酸素を含みやすい有機金属化合物は
トリメチルアルミニウムである。トリメチルアルミニウ
ムと酸素とが反応して生成するジメチルモノメトキシア
ルミニウムは不純物となり、半導体の特性を低下させ
る。このため、特にトリメチルアルミニウム中に不純物
として含まれているジメチルモノメトキシアルミニウム
を低減する方法が行われてきた。
【０００７】Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ
ｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ５，３１９（１９９１）
には、有機金属化合物中に不純物として酸素含有化合物
を含んだ粗製物を、アルミニウムトリハライドの存在下
で蒸留する方法が記載されている。特公平５−２９３７
１号公報には、水素化金属化合物等の還元剤を添加する
方法が記載されている。
ｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ５，３１９（１９９１）
には、有機金属化合物中に不純物として酸素含有化合物
を含んだ粗製物を、アルミニウムトリハライドの存在下
で蒸留する方法が記載されている。特公平５−２９３７
１号公報には、水素化金属化合物等の還元剤を添加する
方法が記載されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アルミ
ニウムトリハライドの存在下で粗製物を蒸留する方法で
は、添加するアルミニウムトリハライドが酸化されやす
く、一度酸化されたアルミニウムトリハライドは精製さ
れにくいことから、実際にアルミニウムトリハライドを
用いて精製を行った場合、得られる精製物の酸素濃度は
５０ｐｐｍ以上となってしまう。
ニウムトリハライドの存在下で粗製物を蒸留する方法で
は、添加するアルミニウムトリハライドが酸化されやす
く、一度酸化されたアルミニウムトリハライドは精製さ
れにくいことから、実際にアルミニウムトリハライドを
用いて精製を行った場合、得られる精製物の酸素濃度は
５０ｐｐｍ以上となってしまう。
【０００９】水素化金属化合物を添加する方法は、水素
化金属化合物が高価であるためコスト高となり、工業的
には不向きである。さらに、添加する水素化金属化合物
中の金属と、精製される有機金属化合物中の金属とが異
なる場合、水素化金属化合物が不純物として残存してし
まう。
化金属化合物が高価であるためコスト高となり、工業的
には不向きである。さらに、添加する水素化金属化合物
中の金属と、精製される有機金属化合物中の金属とが異
なる場合、水素化金属化合物が不純物として残存してし
まう。
【００１０】本発明は前記の課題を解決するためなされ
たもので、有機金属化合物中に含まれる酸素含有化合物
を除去して、有機金属化合物を精製する方法を提供する
ことを目的とする。
たもので、有機金属化合物中に含まれる酸素含有化合物
を除去して、有機金属化合物を精製する方法を提供する
ことを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めになされた本発明の有機金属化合物の精製方法は、下
記式
めになされた本発明の有機金属化合物の精製方法は、下
記式
【００１２】
【化３】
【００１３】で示される有機金属化合物であり、不純物
としてＲ3-nＭ1（ＯＲ）nまたはＲ2-mＭ2（ＯＲ）mで示
される酸素含有化合物を含む粗製物と、Ｘ6-qＡｌ2Ｒq
で示されるアルキルアルミニウムクロライドとを混合し
た後、蒸留する方法である。式中のＲは同一または異な
る炭素数１から３のアルキル基であり、Ｍ1は３価の金
属元素、Ｍ2は２価の金属元素である。ｎは１、２また
は３、ｍは１または２、ｑは１から５の整数、Ｘは塩素
原子である。
としてＲ3-nＭ1（ＯＲ）nまたはＲ2-mＭ2（ＯＲ）mで示
される酸素含有化合物を含む粗製物と、Ｘ6-qＡｌ2Ｒq
で示されるアルキルアルミニウムクロライドとを混合し
た後、蒸留する方法である。式中のＲは同一または異な
る炭素数１から３のアルキル基であり、Ｍ1は３価の金
属元素、Ｍ2は２価の金属元素である。ｎは１、２また
は３、ｍは１または２、ｑは１から５の整数、Ｘは塩素
原子である。
【００１４】有機金属化合物の精製方法は、具体的に以
下の通りである。蒸留塔を備えたガラス製やステンレス
製の容器に粗製物を入れる。次いで、アルキルアルミニ
ウムクロライドを添加し加熱して、有機金属化合物に含
まれている酸素含有化合物を除去する。特に撹拌する必
要はない。粗製物１００重量部に対して、アルキルアル
ミニウムクロライドを０．１〜２０重量部混合すること
が望ましい。０．１重量部未満の場合には、十分な精製
が行われない。２０重量部を越えた場合には、多く添加
した分の効果が得られない。
下の通りである。蒸留塔を備えたガラス製やステンレス
製の容器に粗製物を入れる。次いで、アルキルアルミニ
ウムクロライドを添加し加熱して、有機金属化合物に含
まれている酸素含有化合物を除去する。特に撹拌する必
要はない。粗製物１００重量部に対して、アルキルアル
ミニウムクロライドを０．１〜２０重量部混合すること
が望ましい。０．１重量部未満の場合には、十分な精製
が行われない。２０重量部を越えた場合には、多く添加
した分の効果が得られない。
【００１５】アルキルアルミニウムクロライドは、メチ
ルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウム
セスキクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、
エチルアルミニウムジクロライドおよびジメチルアルミ
ニウムクロライドから選ばれる少なくとも１種類であ
る。
ルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウム
セスキクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、
エチルアルミニウムジクロライドおよびジメチルアルミ
ニウムクロライドから選ばれる少なくとも１種類であ
る。
【００１６】精製された有機金属化合物は、下記式
【００１７】
【化４】
【００１８】で示され、酸素含有量は５０ｐｐｍ以下と
なる。式中のＲ、Ｍ1 、Ｍ2 は既に述べられたものと同
一である。この有機金属化合物には、トリメチルアルミ
ニウム等が挙げられる。
なる。式中のＲ、Ｍ1 、Ｍ2 は既に述べられたものと同
一である。この有機金属化合物には、トリメチルアルミ
ニウム等が挙げられる。
【００１９】
【作用】アルキルアルミニウムクロライドは、アルミニ
ウムトリハライド等と比較して表面が酸化されにくい。
有機金属化合物に不純物として酸素含有化合物を含む粗
製物と、アルキルアルミニウムクロライドとを混合して
蒸留する場合には、新たな酸素含有化合物ができる可能
性が低くなる。このため純度が高い有機金属化合物を得
ることができる。
ウムトリハライド等と比較して表面が酸化されにくい。
有機金属化合物に不純物として酸素含有化合物を含む粗
製物と、アルキルアルミニウムクロライドとを混合して
蒸留する場合には、新たな酸素含有化合物ができる可能
性が低くなる。このため純度が高い有機金属化合物を得
ることができる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
【００２１】有機金属化合物の精製方法は以下の通りで
ある。有機金属化合物に不純物として酸素含有化合物を
含んでいる粗製物を、蒸留塔を備えている容器に入れ
る。容器はガラス製またはステンレス製である。粗製物
とアルキルアルミニウムクロライドとを混合した後、蒸
留して有機化合物の精製を行う。
ある。有機金属化合物に不純物として酸素含有化合物を
含んでいる粗製物を、蒸留塔を備えている容器に入れ
る。容器はガラス製またはステンレス製である。粗製物
とアルキルアルミニウムクロライドとを混合した後、蒸
留して有機化合物の精製を行う。
【００２２】精製の程度は、粗製物の核磁気共鳴（以
下、ＮＭＲ）スペクトルとその精製物のＮＭＲスペクト
ルとを測定して酸素濃度を算出し、２つの酸素濃度を比
較して判別される。
下、ＮＭＲ）スペクトルとその精製物のＮＭＲスペクト
ルとを測定して酸素濃度を算出し、２つの酸素濃度を比
較して判別される。
【００２３】例えばトリメチルアルミニウム（CH3 ）3
Al中に不純物としてジメチルモノメトキシアルミニウム
（CH3 ）2 Al（OCH3) を含む粗製物または精製物のＮＭ
Ｒスペクトルを測定した場合、理論的に酸素濃度は 酸素濃度＝酸素量／（トリメチルアルミニウムの量＋ジ
メチルモノメトキシアルミニウムの量） となる。
Al中に不純物としてジメチルモノメトキシアルミニウム
（CH3 ）2 Al（OCH3) を含む粗製物または精製物のＮＭ
Ｒスペクトルを測定した場合、理論的に酸素濃度は 酸素濃度＝酸素量／（トリメチルアルミニウムの量＋ジ
メチルモノメトキシアルミニウムの量） となる。
【００２４】ＮＭＲスペクトルで、−ＣＨ3 基のピーク
面積をＡ、−ＯＣＨ3 基のピーク面積をＢとする。トリ
メチルアルミニウムの分子量は７２、ジメチルモノメト
キシアルミニウムの分子量は８８、酸素の原子量は１６
だから トリメチルアルミニウムの量＝７２×（Ａ−６／３×
Ｂ）／９ ジメチルモノメトキシアルミニウムの量＝８８×Ｂ／３ 酸素量＝１６×Ｂ／３ という式がなりたつ。トリメチルアルミニウムの量、ジ
メチルモノメトキシアルミニウムの量および酸素の量を
それぞれ計算し、 酸素濃度＝酸素量／（トリメチルアルミニウムの量＋ジ
メチルモノメトキシアルミニウムの量） の式に代入して、有機金属化合物中の酸素濃度を測定す
る。粗製物およびその精製物のＮＭＲスペクトルを測定
して、それぞれの酸素濃度を比較して、精製の程度を確
認する。
面積をＡ、−ＯＣＨ3 基のピーク面積をＢとする。トリ
メチルアルミニウムの分子量は７２、ジメチルモノメト
キシアルミニウムの分子量は８８、酸素の原子量は１６
だから トリメチルアルミニウムの量＝７２×（Ａ−６／３×
Ｂ）／９ ジメチルモノメトキシアルミニウムの量＝８８×Ｂ／３ 酸素量＝１６×Ｂ／３ という式がなりたつ。トリメチルアルミニウムの量、ジ
メチルモノメトキシアルミニウムの量および酸素の量を
それぞれ計算し、 酸素濃度＝酸素量／（トリメチルアルミニウムの量＋ジ
メチルモノメトキシアルミニウムの量） の式に代入して、有機金属化合物中の酸素濃度を測定す
る。粗製物およびその精製物のＮＭＲスペクトルを測定
して、それぞれの酸素濃度を比較して、精製の程度を確
認する。
【００２５】実施例１ 外径２５ｍｍ、長さ３００ｍｍのガラスの蒸留塔を備え
た１０００ｍｌのガラスフラスコに空気と接触させない
で、メチルアルミニウムセスキクロライド（Ａｌｄｒｉ
ｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ製）を２０ｇ
加えた。次いで、トリメチルアルミニウムに含まれてい
る酸素の濃度が１５０ｐｐｍの粗製物を４００ｇ添加し
て混合した後、加熱して蒸留した。留出温度１２６℃で
３７５ｇの精製物が得られた。
た１０００ｍｌのガラスフラスコに空気と接触させない
で、メチルアルミニウムセスキクロライド（Ａｌｄｒｉ
ｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ製）を２０ｇ
加えた。次いで、トリメチルアルミニウムに含まれてい
る酸素の濃度が１５０ｐｐｍの粗製物を４００ｇ添加し
て混合した後、加熱して蒸留した。留出温度１２６℃で
３７５ｇの精製物が得られた。
【００２６】精製の程度を判別するには、粗製物および
精製物のＮＭＲスペクトルを測定して、それぞれの酸素
濃度を比較する。粗製物のＮＭＲスペクトルの測定方法
は、具体的に以下の通りである。
精製物のＮＭＲスペクトルを測定して、それぞれの酸素
濃度を比較する。粗製物のＮＭＲスペクトルの測定方法
は、具体的に以下の通りである。
【００２７】外径８ｍｍのガラス管の上部に、トリメチ
ルアルミニウム中に不純物として酸素含有化合物を含ん
でいる粗製物の入った容器を取り付ける。ガラス管内部
を５×１０-4ｔｏｒｒまで減圧した後、ガラス管内に粗
製物を充填した。充填終了後、液体窒素で粗製物を冷却
し、ガスバーナーの炎をあててガラス管を封管した。封
管したガラス管を、内径９ｍｍの別のガラス製の試験管
内におさめて二重管とした。
ルアルミニウム中に不純物として酸素含有化合物を含ん
でいる粗製物の入った容器を取り付ける。ガラス管内部
を５×１０-4ｔｏｒｒまで減圧した後、ガラス管内に粗
製物を充填した。充填終了後、液体窒素で粗製物を冷却
し、ガスバーナーの炎をあててガラス管を封管した。封
管したガラス管を、内径９ｍｍの別のガラス製の試験管
内におさめて二重管とした。
【００２８】ＮＭＲ分析機器（日本電子（株）製ＧＳＸ
−２７０）により、前記の二重管内の粗製物のＮＭＲス
ペクトルを測定した。図１は粗製物のＮＭＲスペクト
ル、積分曲線および吸収積分強度を示す図である。純粋
なトリメチルアルニミニウムのＮＭＲスペクトルは０．
１ｐｐｍに検出され、不純物であるジメチルモノメトキ
シアルミニウムのＮＭＲスペクトルは３．８９ｐｐｍに
検出された。得られた積分強度より酸素濃度を計算する
と、酸素濃度は１５１ｐｐｍとなった。
−２７０）により、前記の二重管内の粗製物のＮＭＲス
ペクトルを測定した。図１は粗製物のＮＭＲスペクト
ル、積分曲線および吸収積分強度を示す図である。純粋
なトリメチルアルニミニウムのＮＭＲスペクトルは０．
１ｐｐｍに検出され、不純物であるジメチルモノメトキ
シアルミニウムのＮＭＲスペクトルは３．８９ｐｐｍに
検出された。得られた積分強度より酸素濃度を計算する
と、酸素濃度は１５１ｐｐｍとなった。
【００２９】精製物のＮＭＲスペクトルも同様にして測
定する。その結果、酸素濃度は４８ｐｐｍであった。
定する。その結果、酸素濃度は４８ｐｐｍであった。
【００３０】実施例２ メチルアルミニウムセスキクロライドの添加量を１０ｇ
にしたことを除いて、実施例１と同様の方法で、蒸留お
よび酸素濃度測定を行った。精製物の酸素濃度は４２ｐ
ｐｍであった。
にしたことを除いて、実施例１と同様の方法で、蒸留お
よび酸素濃度測定を行った。精製物の酸素濃度は４２ｐ
ｐｍであった。
【００３１】実施例３ メチルアルミニウムセスキクロライドに換えてエチルア
ルミニウムセスキクロライドを使用したことを除いて、
実施例１と同様の方法で、蒸留および酸素濃度測定を行
った。精製物の酸素濃度は４５ｐｐｍであった。
ルミニウムセスキクロライドを使用したことを除いて、
実施例１と同様の方法で、蒸留および酸素濃度測定を行
った。精製物の酸素濃度は４５ｐｐｍであった。
【００３２】実施例４ トリメチルアルミニウム中に不純物として酸素含有化合
物を含んでいる粗製物の代わりに、トリメチルガリウム
中に不純物として酸素含有化合物を含んでいる粗製物を
使用したことを除いて、実施例１と同様の方法で、蒸留
および酸素濃度測定を行った。精製物の酸素濃度は２９
ｐｐｍであった。
物を含んでいる粗製物の代わりに、トリメチルガリウム
中に不純物として酸素含有化合物を含んでいる粗製物を
使用したことを除いて、実施例１と同様の方法で、蒸留
および酸素濃度測定を行った。精製物の酸素濃度は２９
ｐｐｍであった。
【００３３】比較例１ メチルアルミニウムセスキクロライドに換えトリクロロ
アルミニウムを使用したことを除いて、実施例１と同様
の方法で、蒸留および酸素濃度測定を行った。３６８ｇ
の留出分が得られ、留出分の酸素濃度は９８ｐｐｍとな
り、５０ｐｐｍをこえてしまった。
アルミニウムを使用したことを除いて、実施例１と同様
の方法で、蒸留および酸素濃度測定を行った。３６８ｇ
の留出分が得られ、留出分の酸素濃度は９８ｐｐｍとな
り、５０ｐｐｍをこえてしまった。
【００３４】比較例２ メチルアルミニウムセスキクロライドに換えリチウムア
ルミニウムハイドライドを使用したことを除いて、実施
例１と同様の方法で、蒸留および酸素濃度測定を行っ
た。留出分が得られ、留出分の酸素濃度は１１０ｐｐｍ
となり、５０ｐｐｍをこえてしまった。
ルミニウムハイドライドを使用したことを除いて、実施
例１と同様の方法で、蒸留および酸素濃度測定を行っ
た。留出分が得られ、留出分の酸素濃度は１１０ｐｐｍ
となり、５０ｐｐｍをこえてしまった。
【００３５】
【発明の効果】本発明の有機化合物の精製方法による
と、有機金属化合物中に酸素含有化合物を不純物として
含んでいる粗製物の酸素濃度を５０ｐｐｍ以下にするこ
とができる。純粋な有機金属化合物を多く含む精製物を
エピタキシャル成長させると、高性能な半導体を製造す
ることができる。
と、有機金属化合物中に酸素含有化合物を不純物として
含んでいる粗製物の酸素濃度を５０ｐｐｍ以下にするこ
とができる。純粋な有機金属化合物を多く含む精製物を
エピタキシャル成長させると、高性能な半導体を製造す
ることができる。
【図１】トリメチルアルミニウム中に不純物として酸素
含有化合物を含んだ粗製物のＮＭＲスペクトル、積分曲
線および積分強度を示す図である。
含有化合物を含んだ粗製物のＮＭＲスペクトル、積分曲
線および積分強度を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 朝倉 和之 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地 の１ 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (72)発明者 金子 功 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地 の１ 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (72)発明者 佐藤 幸平 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地 の１ 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (56)参考文献 特開 平２−67230（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−112991（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−202067（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−12678（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 5/06 C07F 3/06 C07F 5/00 C07B 63/04
Claims (3)
- 【請求項１】 下記式 【化１】 （式中のＲは同一または異なる炭素数１から３のアルキ
ル基、Ｍ1は３価の金属元素、Ｍ2は２価の金属元素）で
示される有機金属化合物であり、不純物としてＲ3-nＭ1
（ＯＲ）n（ｎは１、２または３）またはＲ2-mＭ2（Ｏ
Ｒ）m（ｍは１または２）で示される酸素含有化合物を
含んでいる粗製物と、Ｘ6-qＡｌ2Ｒq（ｑは１から５の
整数、Ｘは塩素原子）で示されるアルキルアルミニウム
クロライドとを混合した後、蒸留することを特徴とする
有機金属化合物の精製方法。 - 【請求項２】 前記粗製物１００重量部に対して、前記
アルキルアルミニウムクロライドを０．１〜２０重量部
混合することを特徴とする請求項１に記載の有機金属化
合物の精製方法。 - 【請求項３】 前記アルキルアルミニウムクロライドが
メチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニ
ウムセスキクロライド、ジエチルアルミニウムクロライ
ド、エチルアルミニウムジクロライドおよびジメチルア
ルミニウムクロライドから選ばれる少なくとも１種類で
あることを特徴とする請求項１または２に記載の有機金
属化合物の精製方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6195470A JP2927685B2 (ja) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | 有機金属化合物の精製方法 |
| US08/517,093 US5783717A (en) | 1994-08-19 | 1995-08-21 | Method for purifying organometal compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6195470A JP2927685B2 (ja) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | 有機金属化合物の精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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