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JP2567099Y2 - ガス供給装置 - Google Patents

ガス供給装置

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JP2567099Y2
JP2567099Y2 JP1991042683U JP4268391U JP2567099Y2 JP 2567099 Y2 JP2567099 Y2 JP 2567099Y2 JP 1991042683 U JP1991042683 U JP 1991042683U JP 4268391 U JP4268391 U JP 4268391U JP 2567099 Y2 JP2567099 Y2 JP 2567099Y2
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gas supply
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敦 伊藤
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山形日本電気株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、ガス供給装置に関し、
特に真空排気された真空容器に大気圧より蒸気圧の低い
ガスを供給するガス供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来の一例におけるガス供給装置
を説明するための配管系統図である。従来のガス供給装
置は、図３に示すように、ガスが充填されるボンベ１
と、ガスの供給・遮断を行う元バルブ２と、真空装置９
と接続する配管７と、配管７及び元バルブ７を加熱する
ヒータ１３とを有していた。そして、このガス供給装置
６は、真空装置９における所定の圧力，例えば、０．０
５気圧に減圧された真空容器１０にマスフローコントロ
ーラ４を介してガスを供給している。
【０００３】また、この真空装置９をガス供給装置とは
通常塵埃グレートの部屋で隔離されているので、大気圧
よりも蒸気圧の低い液化ガスをその蒸気圧で真空装置９
まで供給する配管７は長くなっている。このため、配管
７の温度変化及び温度分布に注意する必要がある。すな
わち、マスフローコントローラ４までの配管７の圧力は
比較的高いことと、ボンベ１内温度より配管７の内の温
度が低いので、ガスが液化し、配管７内が液体で満たさ
れ、ガス供給が困難になるからである。これを防止する
ためにボンベ１の出口から真空装置本体９内にあるマス
フローコントローラ４部までヒータ１３を巻きボンベ１
内温度より配管７内温度を高くし一定にするか、又はガ
スボンベ１を含めて周囲温度より高くかつ一定にする必
要があった。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】この従来のガス供給装
置では、ガス配管施工時及びメンテナンスに下記の問題
を生じていた。
【０００５】（１）ガス供給装置から真空装置本体まで
のガス配管全てにヒータ線を巻きつける必要があり、施
工コスト，保守コストが高くなる。
【０００６】（２）長い配管を常に一定温度に温調する
必要があり、温度異常監視システムを取り付けたり、日
常管理が煩雑になる。
【０００７】本考案の目的は、かかる問題を解消すべく
日常管理をより簡単で、安価な施工コストで済むガス供
給装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本考案のガス供給装置
は、所定の真空度に真空排気される真空容器に大気圧よ
りも小さい蒸気圧の液化ガスを長い配管を介して供給す
るガス供給装置において、前記液化ガスを貯えるボンベ
と接続されるとともに気化される前記ガスの流量を調節
するマスフローコントローラと、ガスの供給及び遮断を
行うバルブと、前記マスフローコントローラ及びバルブ
を含み、これらを接続する配管を加熱する手段とを備
え、前記長い配管に低い圧力で気化される前記ガスを送
ることを特徴としている。
【０００９】
【実施例】次に本考案について図を参照して説明する。
【００１０】図１は本考案の一実施例におけるガス供給
装置を説明するための配管系統図である。このガス供給
装置６ａは、図１に示すように、元バルブ２以降にバル
ブ３及びバルブ５と、供給するガス流量を自動調節する
マスフローコントローラ４ａと、バルブ３，元バルブ２
及びマスフローコントローラ４ａを含み、接続する配管
を加熱するヒータ１３ａとを設けたことである。
【００１１】図２は大気圧より低い液化ガスの蒸気圧曲
線を示すグラフである。次に、このガス供給装置の動作
及び作用について説明する。いま、ボンベ内に図２に示
す蒸気圧曲線の性質をもつ液化ガスが充填され、ガスが
真空ポンプ１２で排気されている真空容器に流れている
状態であるとする。そして周囲温度及びボンベ１内温度
が２５℃とすると、図２に示すように、この時のボンベ
１からマスフローコントローラ４ａまでのガスの圧力
は、Ａ→Ｂ→Ｃとなり、０．２気圧である。この状態で
ヒータ１３ａで３０℃に温調しているとすると、元バル
ブ２からマスフローコントローラ４までのガス状態は、
ほぼＢ１点に移動するため気液同伴状態から完全気体状
態に移行する。次に、ガスが流れている状態では、マス
フローコントローラ４ａの出口側圧力は入口側圧力より
低くなっている。従って、真空装置９側の圧力が０．０
５気圧であったとすると、この状態でガスが液化し始め
る温度を見ると、図２に示すように、Ｄ→Ｅ→Ｆとな
り、１０℃以下にならないと液化しないことになる。す
なわち、マスフローコントローラ４ａ以降、真空容器１
０までの配管は完全気体状態となり、特に加熱する必要
がなくなる。このことは配管の施工に際しては、一般の
高圧ガス配管と同様の配管施工及び管理ですむことにな
る。
【００１２】また、図面には示さないが、ボンベ１から
マスフローコントローラ４ａまでの配管を下から上へ上
がる配管に施工すれば、ヒータ１３を除くことも考えら
れる。この場合、万が一液化しても液体はガスボンベ１
に自重で流れていき、配管をふさぐ可能性は極端に低く
なる。
【００１３】このように、流量調節するマスフローコン
トローラ４ａをガス供給装置側に設け、これらバルブ及
びマスフローコントローラ４ａより供給するガスの温度
を常温にすれば、マスフローコントローラ４ａ以降の真
空容器１６と接続する配管７内の圧力は真空容器１０の
圧力に近い低い圧力であり、配管内の温度が下ってもガ
スは液化することはない。なお、この実施例では、加熱
手段としてヒータを巻きつけているが、このガス供給装
置の周囲温度を常温に維持するために、ガス供給装置を
収容する室に空調設備を設けてもよい。
【００１４】
【考案の効果】以上説明したように本考案は、ガス供給
用のボンベ側に流量調節するマスフローコントローラを
接続し、長い配管にガスを低い圧力で送ることが出来る
ので、配管内の温度が下ってもガスは液化しない。従っ
て、長い配管にヒータを巻き付ける必要はなく、日常管
理が簡単で、施工費が安いガス供給装置が得られるとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案の一実施例におけるガス供給装置を説明
するための配管系統図である。
【図２】大気圧より低い液化ガスの蒸気圧曲線を示すグ
ラフである。
【図３】従来の一例におけるガス供給装置を説明するた
めの配管系統図である。
【符号の説明】 １ ボンベ ２ 元バルブ ３，５ バルブ ４，４ａ マスフローコントローラ ６，６ａ ガス供給装置 ７ 配管 ９ 真空装置 １０ 真空容器 １３，１３ａ ヒータ

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】 所定の真空度に真空排気される真空容器
    に大気圧よりも低い蒸気圧の液化ガスを配管を介して供
    給するガス供給装置において、前記液化ガスを貯えるボ
    ンベと大気圧よりも低い圧力のガスの供給及び遮断を行
    うバルブを介して接続され大気圧よりも低い圧力で気化
    した前記ガスを前記配管に更に低い圧力で供給する流量
    を調節するマスフローコントローラと、前記マスフロー
    コントローラ、バルブ及びこれらを接続する配管を加熱
    して大気圧よりも低い圧力で気化したガスを所定温度に
    設定する手段とを備え、前記マスフローコントローラか
    ら前記配管に気化した前記ガスを送ることを特徴とする
    ガス供給装置。
JP1991042683U 1991-06-07 1991-06-07 ガス供給装置 Expired - Lifetime JP2567099Y2 (ja)

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JPH0525099U JPH0525099U (ja) 1993-04-02
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