JP2018138519A - Method for producing 2-hydroxyester - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、2−ヒドロキシエステルの工業的に好適な製造方法に関する。 The present invention relates to an industrially suitable production method of 2-hydroxyester.
2−ヒドロキシエステルは、医薬品、化粧品、農薬、及びそれらの中間体として重要な化合物である。例えば、2−ヒドロキシエステルから容易に誘導される2−ヒドロキシ−9−(Z)−オクタデセン酸は抗がん剤として臨床試験に付されている。また2−ヒドロキシエステルから誘導される炭素数が10以上の2−ヒドロキシ脂肪酸類は、セラミドの構成成分として化粧品原料として利用されている。 2-Hydroxyesters are important compounds as pharmaceuticals, cosmetics, agricultural chemicals, and intermediates thereof. For example, 2-hydroxy-9- (Z) -octadecenoic acid that is easily derived from 2-hydroxyesters has been subjected to clinical trials as an anticancer agent. Further, 2-hydroxy fatty acids having 10 or more carbon atoms derived from 2-hydroxyester are used as a cosmetic raw material as a constituent of ceramide.
2−ヒドロキシエステルの製造法としては例えば、アルデヒドと青酸からシアンヒドリンを製造してシアノ基をエステルに変換する方法、2−ケトエステルを還元する方法、エステルのα位をハロゲン化した後に水酸基に変換する方法などが知られている。中でも、グリニャール試薬と銅塩から調製したキュープラートとグリシド酸エステルを反応させる方法も有効な製造法の一つに挙げられる。 Examples of the method for producing 2-hydroxyester include a method for producing cyanohydrin from aldehyde and hydrocyanic acid to convert a cyano group to an ester, a method for reducing 2-ketoester, and a method for converting an α-position of an ester to a hydroxyl group after halogenation. Methods are known. Among them, a method of reacting a cuprate prepared from a Grignard reagent and a copper salt with a glycidic acid ester is also one of effective production methods.
この方法の具体例として特許文献1では、CuI(3mmol)とメチルマグネシウムブロミド(60mmol)を15℃で混合し、混合溶液を−78℃に冷却した後、(S)−グリシド酸n−ブチル(21mmol)を加えることにより、(S)−2−ヒドロキシブタン酸n−ブチル(21mmol)を生成物として得ている。 As a specific example of this method, in Patent Document 1, CuI (3 mmol) and methylmagnesium bromide (60 mmol) are mixed at 15 ° C., the mixed solution is cooled to −78 ° C., and then (S) -n-butyl glycidate ( 21 mmol) is added to obtain n-butyl (S) -2-hydroxybutanoate (21 mmol) as a product.
特許文献2では、Li2CuCl4(25mmol)とシクロペンチルマグネシウムブロミド(270mmol)を50℃で混合し、混合溶液をー78℃に冷却した後、(R)−グリシド酸メチル(245mmol)を加えることにより、(R)−2−ヒドロキシ−3−シクロペンチルプロピオン酸n−ブチル(159〜172mmol)を生成物として得ている。 In Patent Document 2, Li 2 CuCl 4 (25 mmol) and cyclopentylmagnesium bromide (270 mmol) are mixed at 50 ° C., and after the mixed solution is cooled to −78 ° C., methyl (R) -glycidate (245 mmol) is added. Gave n-butyl (159-172 mmol) (R) -2-hydroxy-3-cyclopentylpropionate as the product.
特許文献3では、CuBr2・SMe2錯体(51mmol)とn−ブチルマグネシウムクロリド(97mmol)を−78℃で混合し、(R)−グリシド酸ベンジル(47mmol)を加えることにより、(R)−ヒドロキシヘプタン酸ベンジル(47mmol)を生成物として得ている。 In Patent Document 3, CuBr 2 · SMe 2 complex (51 mmol) and n-butylmagnesium chloride (97 mmol) are mixed at −78 ° C., and (R) -benzyl glycidate (47 mmol) is added, thereby (R) — Benzyl hydroxyheptanoate (47 mmol) is obtained as product.
以上のグリニャール試薬と銅塩から調製したキュープラートとグリシド酸エステルを反応させる先行技術は、いずれもグリシド酸エステルに対してグリニャール試薬を過剰量用いており、グリシド酸エステルを基準にした収率は高いが、グリニャール試薬を基準とした収率は、特許文献1では35%、特許文献2では59〜64%、特許文献3では48%にすぎず、最高でも64%(特許文献2)である。一般にグリニャール試薬は高価なので、グリニャール試薬を基準とした収率において、いずれの先行技術も十分な収率を達成しているとは言い難い。またいずれの先行技術も、−78℃といった極端な低温条件を必要としており、超低温設備が必要となるため工業的規模での実施には適さない。 The prior arts for reacting cuprates prepared from the above Grignard reagents and copper salts with glycidic acid esters use excess amounts of Grignard reagents relative to the glycidic acid esters, and the yield based on the glycidic acid ester is Although it is high, the yield based on the Grignard reagent is 35% in Patent Document 1, 59 to 64% in Patent Document 2, 48% in Patent Document 3, and 64% at maximum (Patent Document 2). . In general, since Grignard reagents are expensive, it is difficult to say that any prior art has achieved a sufficient yield in terms of yield based on Grignard reagents. In addition, any of the prior arts requires an extremely low temperature condition such as −78 ° C., and an ultra-low temperature facility is required, which is not suitable for implementation on an industrial scale.
上記先行技術に対し本発明者らが解決しようとする課題は、2−ヒドロキシエステルの製造に用いられるグリシド酸エステルとグリニャール試薬の反応において、工業的規模の実施に際し障害となる低温条件を回避することにある。また、グリシド酸エステルとグリニャール試薬の反応において、グリニャール試薬を基準とした収率を向上させることにある。 The problem to be solved by the present inventors with respect to the above prior art is to avoid low-temperature conditions that hinder the implementation of the industrial scale in the reaction of glycidic acid ester and Grignard reagent used in the production of 2-hydroxyester. There is. Another object is to improve the yield based on the Grignard reagent in the reaction between the glycidic acid ester and the Grignard reagent.
本発明者らは、グリシド酸エステルとグリニャール試薬の反応に関して鋭意検討を行った結果、先行技術とは異なる試剤の添加順序を採用することにより、グリニャール試薬を基準とした収率を向上させることに成功し、同時に工業的規模で実施容易な温度領域での反応制御も達成した。これにより、効率的な2−ヒドロキシエステルの製造方法を確立するに至った。
即ち本発明は、下記式(1);
As a result of intensive studies on the reaction between the glycidic acid ester and the Grignard reagent, the present inventors have improved the yield based on the Grignard reagent by adopting a reagent addition order different from that of the prior art. At the same time, reaction control in the temperature range, which is easy to implement on an industrial scale, was achieved. Thereby, it came to establish the manufacturing method of efficient 2-hydroxyester.
That is, the present invention provides the following formula (1):
(式中、R1は、置換基を有しても良い炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜15のアルケニル基、置換基を有しても良い炭素数6〜15のアリール基、置換基を有しても良い炭素数7〜15のアラルキル基、又は置換基を有しても良い炭素数3〜15のシクロアルキル基を表す。)で表されるグリシド酸エステルと銅塩からなる混合物に、−20℃以上の温度で、下記式(2); (In the formula, R 1, an optionally substituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, which may have a substituent alkenyl group having 2 to 15 carbon atoms, which may have a substituent An aryl group having 6 to 15 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent, or a cycloalkyl group having 3 to 15 carbon atoms which may have a substituent. The mixture of glycidic acid ester and copper salt is subjected to the following formula (2) at a temperature of −20 ° C. or higher;
(式中、R2は、置換基を有しても良い炭素数1〜30のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜30のアルケニル基、置換基を有しても良い炭素数2〜30のアルキニル基、置換基を有しても良い炭素数6〜30のアリール基、置換基を有しても良い炭素数6〜30のヘテロアリール基、置換基を有しても良い炭素数7〜30のアラルキル基、又は置換基を有しても良い炭素数3〜30のシクロアルキル基を表す。Xは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)で表されるグリニヤール試薬を混合することを特徴とする、下記式(3); (Wherein, R 2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, which may have a substituent alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, which may have a substituent An alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent, a heteroaryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent; Represents an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and X represents a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. The following formula (3), characterized by mixing a Grignard reagent:
(式中、R1、R2は前記に同じである。)で表される2−ヒドロキシエステルの製造方法である。 (Wherein R 1 and R 2 are the same as above).
本発明によれば、工業的規模で実施容易な温度範囲で反応を制御でき、グリニャール試薬を基準とした収率を64%以上に向上させることができる。 According to the present invention, the reaction can be controlled within a temperature range which can be easily carried out on an industrial scale, and the yield based on the Grignard reagent can be improved to 64% or more.
以下に、本発明について詳述する。
本発明では、下記式(1);
The present invention is described in detail below.
In the present invention, the following formula (1);
で表されるグリシド酸エステルと銅塩からなる混合物に、−20℃以上の温度で、下記式(2); In a mixture composed of a glycidic acid ester and a copper salt represented by the formula (2):
で表されるグリニャール試薬を混合することにより、下記式(3); By mixing a Grignard reagent represented by the following formula (3):
で表される2−ヒドロキシエステルを製造する。 The 2-hydroxyester represented by these is manufactured.
前記化合物(1)、及び前記化合物(3)において、R1は、置換基を有しても良い炭素数1〜15のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜15のアルケニル基、置換基を有しても良い炭素数6〜15のアリール基、置換基を有しても良い炭素数7〜15のアラルキル基、又は置換基を有しても良い炭素数3〜15のシクロアルキル基を表す。具体的には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基、ビニル基、アリル基、ベンジル基、1−フェネチル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基等である。前記置換基としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;水酸基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基;トリフルオロメチル基;アセチル基;ベンゾイル基;シアノ基;ニトロ基;カルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。置換基の数は特に限定されない。R1として好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基であり、更に好ましくはメチル基、エチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、又はn−ドデシル基である。 In the compound (1) and the compound (3), R 1 is an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent and an alkenyl having 2 to 15 carbon atoms which may have a substituent. Group, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent, or 3 to 15 carbon atoms which may have a substituent Represents a cycloalkyl group. Specifically, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl Group, n-decyl group, n-dodecyl group, vinyl group, allyl group, benzyl group, 1-phenethyl group, phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, or A cyclohexyl group and the like. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; hydroxyl group; alkoxy group such as methoxy group and ethoxy group; methylthio group; trifluoromethyl group; acetyl group; A nitro group; a carboxyl group; an alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; The number of substituents is not particularly limited. R 1 is preferably a methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl. Group, n-decyl group and n-dodecyl group, more preferably methyl group, ethyl group, n-butyl group, n-hexyl group or n-dodecyl group.
前記化合物(2)、及び前記化合物(3)において、R2は、置換基を有しても良い炭素数1〜30のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜30のアルケニル基、置換基を有しても良い炭素数2〜30のアルキニル基、置換基を有しても良い炭素数6〜30のアリール基、置換基を有しても良い炭素数6〜30のヘテロアリール基、置換基を有しても良い炭素数7〜30のアラルキル基、又は置換基を有しても良い炭素数3〜30のシクロアルキル基を表す。具体的には例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基、n−イコシル基、ビニル基、アリル基、3−ブテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基、6−ヘプテニル基、7−オクテニル基、エチニル基、2−プロピニル基、3−ブチニル基、4−ペンチニル基、5−ヘキシニル基、6−ヘプチニル基、7−オクチニル基、ベンジル基、1−フェネチル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チオフェニル基、2−フリル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基等である。前記置換基としては例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基;トリフルオロメチル基;アセチル基;ベンゾイル基;シアノ基;ニトロ基;カルボキシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。置換基の数は特に限定されない。R2として好ましくは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−オクタデシル基、n−イコシル基、ビニル基、アリル基、3−ブテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基、6−ヘプテニル基、7−オクテニル基、エチニル基、2−プロピニル基、3−ブチニル基、4−ペンチニル基、5−ヘキシニル基、6−ヘプチニル基、7−オクチニル基、ベンジル基、1−フェネチル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チオフェニル基、2−フリル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基であり、更に好ましくはn−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、アリル基、又は3−ブテニル基である。 In the compound (2) and the compound (3), R 2 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and an optionally substituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms. Group, an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent It represents a heteroaryl group, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may have a substituent, or a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms which may have a substituent. Specifically, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl Group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, n-icosyl group, vinyl group, allyl group, 3-butenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group, 6- Heptenyl group, 7-octenyl group, ethynyl group, 2-propynyl group, 3-butynyl group, 4-pentynyl group, 5-hexynyl group, 6-heptynyl group, 7-octynyl group, benzyl group, 1-phenethyl group, phenyl Group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-thiophenyl group, 2-furyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group Group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; alkoxy group such as methoxy group and ethoxy group; methylthio group; trifluoromethyl group; acetyl group; benzoyl group; Nitro group; carboxyl group; alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl group. The number of substituents is not particularly limited. R 2 is preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl. Group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-octadecyl group, n-icosyl group, vinyl group, allyl group, 3-butenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group, 6- Heptenyl group, 7-octenyl group, ethynyl group, 2-propynyl group, 3-butynyl group, 4-pentynyl group, 5-hexynyl group, 6-heptynyl group, 7-octynyl group, benzyl group, 1-phenethyl group, phenyl Group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-thiophenyl group, 2-furyl group, cyclopropyl group, cyclyl A butyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group, more preferably an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an allyl group, or a 3-butenyl group.
前記化合物(2)において、Xは、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表し、好ましくは塩素原子、又は臭素原子である。 In the compound (2), X represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom.
ここで、前記式(1)で表されるグリシド酸エステルは、ラセミ体、又は光学活性体のいずれであっても構わない。ラセミ体の場合は、Heterocycles,2014,89(2),487−493.(落合ら)に記載の方法に従って、簡便に製造することができる。具体的には、入手容易なアクリル酸エステルに、アンモニウム塩触媒存在下、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を作用させるとよい。 Here, the glycidic acid ester represented by the formula (1) may be a racemate or an optically active substance. In the case of a racemate, Heterocycles, 2014, 89 (2), 487-493. According to the method described in (Ochiai et al.), It can be easily produced. Specifically, a sodium hypochlorite aqueous solution may be allowed to act on an easily available acrylic ester in the presence of an ammonium salt catalyst.
次に本発明の反応条件について説明する。本反応は、前記式(1)で表されるグリシド酸エステルと銅塩を予め混合させた溶液に対して、前記式(3)で表されるグリニャール試薬を混合することを特徴とする。前記化合物(1)と銅塩の混合方法には特に制限はない。前記化合物(2)の混合方法については、前記化合物(1)と銅塩の混合溶液に対し、前記化合物(2)を添加してもよく、また前記化合物(2)に前記化合物(1)と銅塩の混合溶液を添加してもよい。好ましくは、前記化合物(1)と銅塩の混合溶液に対して、前記化合物(2)を添加するとよい。前記化合物(2)の添加時間は、好ましくは0.1分以上、更に好ましくは5分以上、特に好ましくは30分以上かけて添加するとよい。 Next, the reaction conditions of the present invention will be described. This reaction is characterized in that a Grignard reagent represented by the formula (3) is mixed with a solution obtained by previously mixing the glycidic acid ester represented by the formula (1) and a copper salt. There is no restriction | limiting in particular in the mixing method of the said compound (1) and copper salt. About the mixing method of the said compound (2), the said compound (2) may be added with respect to the mixed solution of the said compound (1) and copper salt, and the said compound (1) and the said compound (2) may be added. A mixed solution of copper salts may be added. Preferably, the compound (2) may be added to the mixed solution of the compound (1) and copper salt. The addition time of the compound (2) is preferably 0.1 minutes or longer, more preferably 5 minutes or longer, particularly preferably 30 minutes or longer.
本反応における前記式(1)で表されるグリシド酸エステルの使用量は、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、上限として好ましくは前記化合物(2)に対し20当量であり、更に好ましくは10当量であり、特に好ましくは3当量である。下限として好ましくは前記化合物(2)に対し0.7当量であり、更に好ましくは0.8当量であり、特に好ましくは0.9当量である。 The use amount of the glycidic acid ester represented by the formula (1) in this reaction is not preferable in terms of cost and post-treatment if it is too much, so the upper limit is preferably 20 equivalents to the compound (2), More preferably, it is 10 equivalents, and particularly preferably 3 equivalents. The lower limit is preferably 0.7 equivalents, more preferably 0.8 equivalents, and particularly preferably 0.9 equivalents relative to the compound (2).
前記銅塩としては、特に制限はなく、許容される一価の銅、許容される二価の銅のいずれでも構わない。具体的には例えば、CuF、CuCl、CuBr、CuI、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI2、Cu(OAc)、Cu(OCOCF3)、Cu(OAc)2、Cu(OCOCF3)2、Cu(acac)2、CuCN、Cu(CN)2、CuCO3、CuOMe、Cu(OMe)2、CuClO4、Cu(ClO4)2、CuSCF3、Cu2O、CuO、Cu2S、CuS、Cu2SO4、CuSO4、CuNO3、Cu(NO3)2、Cu(BF4)2、CuOTf、Cu(OTf)2などが挙げられる。好ましくは、CuCl、CuBr、CuI、CuCl2、CuBr2、Cu(OAc)、Cu(OAc)2、CuCN、Cu2O、CuO、又はCuSO4であり、更に好ましくはCuCl、CuBr、CuI、CuCl2、又はCuBr2であり、特に好ましくはCuCl、CuBr、又はCuIである。また、これらの銅塩は安定化のために、塩化リチウム、ジメチルスルフィド、ピリジンなどと錯体を形成していてもよい。 There is no restriction | limiting in particular as said copper salt, Either monovalent copper to accept | permit and acceptable bivalent copper may be sufficient. Specifically, for example, CuF, CuCl, CuBr, CuI , CuF 2, CuCl 2, CuBr 2, CuI 2, Cu (OAc), Cu (OCOCF3), Cu (OAc) 2, Cu (OCOCF 3) 2, Cu (acac) 2, CuCN, Cu (CN) 2, CuCO 3, CuOMe, Cu (OMe) 2, CuClO 4, Cu (ClO 4) 2, CuSCF3, Cu 2 O, CuO, Cu 2 S, CuS, Cu 2 SO 4, CuSO 4, CuNO 3 , Cu (NO 3) 2, Cu (BF 4) 2, CuOTf, such as Cu (OTf) 2 and the like. Preferably, CuCl, CuBr, CuI, CuCl 2, CuBr 2, Cu (OAc), Cu (OAc) 2, CuCN, Cu 2 O, is CuO, or CuSO 4, more preferably CuCl, CuBr, CuI, CuCl 2 or CuBr 2 , particularly preferably CuCl, CuBr, or CuI. Moreover, these copper salts may form a complex with lithium chloride, dimethyl sulfide, pyridine and the like for stabilization.
前記銅塩の使用量は、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、上限として好ましくは前記化合物(2)に対し50当量であり、更に好ましくは10当量であり、特に好ましくは3当量である。下限として好ましくは前記化合物(2)に対し0.01当量であり、更に好ましくは0.1当量であり、特に好ましくは0.5当量である。 If the amount of the copper salt used is too large, it is not preferable in terms of cost and post-treatment, and therefore the upper limit is preferably 50 equivalents, more preferably 10 equivalents, particularly preferably 3 equivalents to the compound (2). Is equivalent. The lower limit is preferably 0.01 equivalents relative to the compound (2), more preferably 0.1 equivalents, and particularly preferably 0.5 equivalents.
本反応の反応溶媒としては、反応に影響を与えない限りにおいて特に制限はなく、具体的には例えば、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、メチルtert−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒;塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−メチル−ε−カプロラクタム、ヘキサメチルホスホルアミド等のアミド系溶媒;ジメチルプロピレンウレア等のウレア系溶媒;ヘキサメチルホスホン酸トリアミド等のホスホン酸トリアミド系溶媒等を用いることができる。これらは単独で用いても良く、2種以上を併用してもよい。2種以上を併用する場合、その混合比は特に制限されない。好ましくはテトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン、メチルtert−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒であり、更に好ましくはテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、又はメチルテトラヒドロフランである。 The reaction solvent for this reaction is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. Specific examples thereof include tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, diethyl ether, 1,4-dioxane, methyl tert-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether and the like. Ether solvents such as acetonitrile, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane and methylcyclohexane; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene and mesitylene Halogenated solvents such as methylene chloride and 1,2-dichloroethane; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2- Piro It can be used phosphonic acid triamide solvents such as hexamethylphosphoric acid triamide; Dong, N- methyl -ε- caprolactam, hexamethylphosphoramide system such as an amide solvent; urea solvents such as dimethyl propylene urea. These may be used alone or in combination of two or more. When using 2 or more types together, the mixing ratio is not particularly limited. Preferred are ether solvents such as tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, diethyl ether, 1,4-dioxane, methyl tert-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, and more preferred are tetrahydrofuran, diethyl ether, or methyltetrahydrofuran.
前記反応溶媒の使用量は、多すぎるとコストや後処理の点で好ましくないため、上限としては、前記化合物(2)に対して好ましくは100倍重量であり、更に好ましくは50倍重量であり、特に好ましくは20倍重量である。下限としては、前記化合物(2)に対して好ましくは0.1倍重量であり、更に好ましくは0.5倍重量であり、特に好ましくは1倍重量である。 If the amount of the reaction solvent used is too large, it is not preferable in terms of cost and post-treatment, and therefore the upper limit is preferably 100 times the weight of the compound (2), and more preferably 50 times the weight. Particularly preferred is 20 times the weight. The lower limit is preferably 0.1 times the weight of the compound (2), more preferably 0.5 times the weight, and particularly preferably 1 times the weight.
本反応における反応温度は、工業的規模での実施に際し、特別な冷却設備を必要とせず、更にエネルギー消費も低く抑える観点で、下限として好ましくは−20℃であり、更に好ましくは−10℃であり、特に好ましくは0℃である。また、反応時間を短縮し、且つ副生成物の生成を少なくするため、上限として好ましくは120℃であり、更に好ましくは80℃であり、特に好ましくは50℃である。 The reaction temperature in this reaction is preferably −20 ° C., more preferably −10 ° C. as the lower limit from the viewpoint of not requiring special cooling equipment and lowering the energy consumption when carried out on an industrial scale. Yes, particularly preferably 0 ° C. Moreover, in order to shorten reaction time and to reduce the production | generation of a by-product, as an upper limit, Preferably it is 120 degreeC, More preferably, it is 80 degreeC, Especially preferably, it is 50 degreeC.
本反応における反応時間には特に制限はなく、適宜設定すればよいが、上限としては好ましくは100時間であり、更に好ましくは50時間であり、特に好ましくは25時間である。下限として好ましくは0.1時間であり、更に好ましくは1時間であり、特に好ましくは3時間である。 The reaction time in this reaction is not particularly limited and may be appropriately set. The upper limit is preferably 100 hours, more preferably 50 hours, and particularly preferably 25 hours. The lower limit is preferably 0.1 hour, more preferably 1 hour, and particularly preferably 3 hours.
反応後の反応液から生成物を取得する方法としては、反応液から生成物を取得するための一般的な処理を行えばよい。例えば、反応終了後の反応液に水、又は塩化アンモニウム水溶液を加え、一般的な抽出溶媒、例えば酢酸エチル、ジエチルエーテル、塩化メチレン、トルエン、ヘキサン等を用いて抽出操作を行う。得られた抽出液から減圧加熱等の操作により、反応溶媒及び抽出溶媒を留去すると目的物が得られる。このようにして得られた目的物は、後続の工程に使用できる十分な純度を有しているが、純度を更に高める目的で、晶析、分別蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な精製手法により、更に純度を高めてもよい。 As a method for obtaining the product from the reaction solution after the reaction, a general process for obtaining the product from the reaction solution may be performed. For example, water or an aqueous ammonium chloride solution is added to the reaction solution after completion of the reaction, and an extraction operation is performed using a general extraction solvent such as ethyl acetate, diethyl ether, methylene chloride, toluene, hexane, or the like. When the reaction solvent and the extraction solvent are distilled off from the obtained extract by operations such as heating under reduced pressure, the desired product is obtained. The target product obtained in this way has sufficient purity that can be used in subsequent steps, but in order to further increase the purity, general purification techniques such as crystallization, fractional distillation, column chromatography, etc. The purity may be further increased.
以下に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明するが、これら実施例は本発明を何ら限定するものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but these examples do not limit the present invention in any way.
(参考例1)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を−5℃に設定した。続けてn−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を5分かけて滴下した。−5℃で1時間撹拌した後、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)を添加し、−5℃で23時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:1%)。
Reference Example 1 Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol), and the temperature was set to −5 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes. After stirring at −5 ° C. for 1 hour, n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol) was added and stirred at −5 ° C. for 23 hours (yield based on Grignard reagent: 1%).
(参考例2)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を40℃に設定した。続けてn−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を5分かけて滴下した。40℃で1時間撹拌した後、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)を添加し、40℃で23時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:0%)。
Reference Example 2 Preparation of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol), and the temperature was set to 40 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes. After stirring at 40 ° C. for 1 hour, n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol) was added and stirred at 40 ° C. for 23 hours (Yield based on Grignard reagent: 0%).
(参考例3)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を−5℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1.5mL,1.5mmol)を5分かけて滴下し、−5℃で21時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:53%)。
Reference Example 3 Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to −5 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1.5 mL, 1.5 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, followed by stirring at −5 ° C. for 21 hours (yield based on Grignard reagent: 53%).
(参考例4)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を−5℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(2mL,2mmol)を5分かけて滴下し、−5℃で1時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:45%)。
Reference Example 4 Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to −5 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (2 mL, 2 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, followed by stirring at −5 ° C. for 1 hour (yield based on Grignard reagent: 45%).
(実施例1)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を−5℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を5分かけて滴下し、−5℃で23時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:72%)。
(Example 1) Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to -5 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, followed by stirring at −5 ° C. for 23 hours (Yield based on Grignard reagent: 72%).
(実施例2)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を40℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を5分かけて滴下し、40℃で17時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:78%)。
(Example 2) Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to 40 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 17 hours (yield based on Grignard reagent: 78%).
(実施例3)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuI(19mg,0.1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を−5℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を10分かけて滴下し、−5℃で2時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:55%)。
Example 3 Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (19 mg, 0.1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to -5 ° C. did. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred at −5 ° C. for 2 hours (Yield based on Grignard reagent: 55%).
(実施例4)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuBr(143mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を−5℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を5分かけて滴下し、−5℃で23時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:68%)。
(Example 4) Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuBr (143 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to -5 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, and the mixture was stirred at −5 ° C. for 23 hours (yield based on Grignard reagent: 68%).
(実施例5)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuCl(99mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を−5℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を5分かけて滴下し、−5℃で23時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:52%)。
(Example 5) Production of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuCl (99 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to -5 ° C. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, followed by stirring at −5 ° C. for 23 hours (yield based on Grignard reagent: 52%).
(実施例6)2−ヒドロキシノナン酸n−ブチルの製造
CuBr2(223mg,1.0mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を20℃に設定した。続けて、n−ヘキシルマグネシウムブロミドの1Mテトラヒドロフラン溶液(1mL,1mmol)を5分かけて滴下し、20℃で7時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:50%)。
Example 6 Preparation of n-butyl 2-hydroxynonanoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuBr 2 (223 mg, 1.0 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to 20 ° C. did. Subsequently, 1M tetrahydrofuran solution (1 mL, 1 mmol) of n-hexylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, and the mixture was stirred at 20 ° C. for 7 hours (yield based on Grignard reagent: 50%).
(実施例7)2−ヒドロキシヘプタン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にTHF(5mL)を添加し、温度を20℃に設定した。続けて、n−ブチルマグネシウムクロリドの2Mテトラヒドロフラン溶液(0.5mL,1mmol)を5分かけて滴下し、20℃で19時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:74%)。
Example 7 Preparation of n-butyl 2-hydroxyheptanoate THF (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to 20 ° C. Subsequently, a 2M tetrahydrofuran solution (0.5 mL, 1 mmol) of n-butylmagnesium chloride was added dropwise over 5 minutes, followed by stirring at 20 ° C. for 19 hours (yield based on Grignard reagent: 74%).
(実施例8)2−ヒドロキシ−5−ヘキセン酸n−ブチルの製造
CuI(190mg,1mmol)、グリシド酸n−ブチル(141mg,1mmol)にテトラヒドロフラン(5mL)を添加し、温度を20℃に設定した。続けて、アリルマグネシウムブロミドの0.7Mジエチルエーテル溶液(1.4mL,1mmol)を5分かけて滴下し、20℃で17時間撹拌した(グリニャール試薬基準の収率:60%)。
Example 8 Production of n-butyl 2-hydroxy-5-hexenoate Tetrahydrofuran (5 mL) was added to CuI (190 mg, 1 mmol) and n-butyl glycidate (141 mg, 1 mmol), and the temperature was set to 20 ° C. did. Subsequently, a 0.7M diethyl ether solution (1.4 mL, 1 mmol) of allylmagnesium bromide was added dropwise over 5 minutes, followed by stirring at 20 ° C. for 17 hours (yield based on Grignard reagent: 60%).
Claims (6)
The R 2 is an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an allyl group, or a 3-butenyl group, and the X is a chlorine atom or a bromine atom. The production method described in 1.
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