[go: up one dir, main page]

JP2018105824A - 組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラム - Google Patents

組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラム Download PDF

Info

Publication number
JP2018105824A
JP2018105824A JP2016255524A JP2016255524A JP2018105824A JP 2018105824 A JP2018105824 A JP 2018105824A JP 2016255524 A JP2016255524 A JP 2016255524A JP 2016255524 A JP2016255524 A JP 2016255524A JP 2018105824 A JP2018105824 A JP 2018105824A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
network topology
topology structure
specific element
content
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016255524A
Other languages
English (en)
Inventor
祐 米澤
Hiroshi Yonezawa
祐 米澤
和宏 吉留
Kazuhiro Yoshitome
和宏 吉留
横田 英明
Hideaki Yokota
英明 横田
裕之 松元
Hiroyuki Matsumoto
裕之 松元
将太 後藤
Shota Goto
将太 後藤
丈弘 郷原
Takehiro Gohara
丈弘 郷原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2016255524A priority Critical patent/JP2018105824A/ja
Priority to US15/717,488 priority patent/US20180180643A1/en
Priority to EP17193883.0A priority patent/EP3358579A1/en
Priority to CN201710899009.4A priority patent/CN108254523A/zh
Priority to TW106133350A priority patent/TWI673976B/zh
Priority to KR1020170126280A priority patent/KR101979109B1/ko
Publication of JP2018105824A publication Critical patent/JP2018105824A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/12Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
    • H01F1/14Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
    • H01F1/147Alloys characterised by their composition
    • H01F1/153Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
    • H01F1/15308Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Fe/Ni
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/20Metals
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q30/00Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
    • G01Q30/04Display or data processing devices
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00Computer-aided design [CAD]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/44Sample treatment involving radiation, e.g. heat
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/12Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
    • H01F1/14Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
    • H01F1/147Alloys characterised by their composition
    • H01F1/14766Fe-Si based alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F1/00Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
    • H01F1/01Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
    • H01F1/12Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
    • H01F1/14Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
    • H01F1/20Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder
    • H01F1/22Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys in the form of particles, e.g. powder pressed, sintered, or bound together

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Soft Magnetic Materials (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Software Systems (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)

Abstract

【課題】特定元素のネットワーク構造を解析することで、各種の機能材料の特性向上を図ることが可能な組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラムを提供すること。【解決手段】試料に含まれる特定元素(特定化合物を含む概念で用いる)について、所定の測定範囲内で、濃度分布を三次元的に測定可能な解析対象三次元体を求める。解析対象三次元体を、より細かな複数の三次元体から成る単位グリッドに分割する。それぞれの単位グリッド毎に含まれる前記特定元素の含有量を求める。隣接する単位グリッドの間で、特定元素の含有量がそれぞれ最大となる極大点グリッドを求める。解析対象三次元体に含まれる極大点グリッドとの関係で、試料が有している特定元素の組成ネットワークトポロジー構造を定量化する。【選択図】図2

Description

本発明は、組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラムに関する。
近年、電子・情報・通信機器等において低消費電力化および高効率化が求められている。さらに、低炭素化社会へ向け、上記の要求が一層強くなっている。そのため、電子・情報・通信機器等に用いられる各種の機能材料の特性向上が求められている。
たとえば電源回路に用いられる磁心には、透磁率の向上およびコアロス(磁心損失)の低減が求められている。コアロスを低減すれば、電力エネルギーのロスが小さくなり、高効率化および省エネルギー化が図られる。
磁心のコアロスを低減する方法として、磁心を構成する磁性体の保磁力を低減することが考えられる。磁性体の保磁力を低減するために、新たな組成の磁性材料の開発が行われている。また、特許文献1には、粉末の粒子形状を変化させることにより、透磁率が大きく、コアロスが小さく、磁心に適した軟磁性合金粉末を得たことが記載されている。
しかしながら、従来では、各種の電子部品を構成する機能材料において、特定元素のネットワーク構造を解析することで、各種の機能材料の特性向上を図る手法は、開発されていなかった。
特開2000−30924号公報
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、特定元素のネットワーク構造を解析することで、各種の機能材料の特性向上を図ることが可能な組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラムを提供することである。
上記目的を達成するために、本発明に係る組成ネットワークトポロジー構造の解析方法は、
試料に含まれる特定元素(特定化合物を含む概念で用いる)について、所定の測定範囲内で、濃度分布を三次元的に測定可能な解析対象三次元体を求める工程と、
前記解析対象三次元体を、より細かな複数の三次元体から成る単位グリッドに分割する工程と、
それぞれの前記単位グリッド毎に含まれる前記特定元素の含有量を求める工程と、
隣接する前記単位グリッドの間で、前記特定元素の含有量がそれぞれ最大となる極大点グリッドを求める工程と、
前記解析対象三次元体に含まれる前記極大点グリッドとの関係で、前記試料が有している前記特定元素の組成ネットワークトポロジー構造を定量化する工程とを有する。
たとえば3次元アトムプローブを用いて、解析対象三次元体の内部に存在する特定元素の含有量を三次元的に測定する。その測定データに基づき、本発明の方法によれば、極大点グリッドの数(あるいは極大点グリッドの配位数、あるいは極大点グリッド同士の繋がり長さ)などを容易に求めることができる。その極大点グリッドに基づき、試料における特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを数値化することが可能になる。組成ネットワークトポロジー構造の度合いを数値化することができれば、その度合いと、その試料における磁気特性などの諸特性とを関係付けることが可能になり、素材開発の補助として有効に活用することができる。
すなわち、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いと、試料が有する磁気特性などの諸特性とを関連づけて解析することができる。あるいは、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いと、その試料を製造するための製造方法との最適化を図ることも可能である。
組成ネットワークトポロジー構造の解析方法は、
前記解析対象三次元体の内部に存在する複数の前記極大点グリッドの中心を結び、仮想繋がり線を形成する工程と、
所定の規則に基づき、交差する前記仮想繋がり線を削除して最終仮想繋がり線を形成する工程と、
それぞれの前記極大点グリッドに繋がっている前記最終仮想繋がり線の数を配位数として設定する工程と、をさらに有してもよく、
前記配位数に基づき、前記試料が有している前記特定元素の組成ネットワークトポロジー構造を定量化してもよい。
このような方法によれば、たとえばコンピュータプログラムを用いて、配位数を自動算出することが容易である。また、所定数以上の配位数を持つ極大点グリッドの数を算出することで、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを容易に定量化(数値化)することができる。
組成ネットワークトポロジー構造の解析方法は、
前記解析対象三次元体の内部に存在する複数の前記極大点グリッドの中心を結び、仮想繋がり線を形成する工程と、
所定の規則に基づき、交差する前記仮想繋がり線を削除して最終仮想繋がり線を形成する工程と、
前記解析対象三次元体の内部で前記極大点グリッドに繋がっている前記最終仮想繋がり線の合計長さ、前記最終仮想繋がり線の平均距離、前記最終仮想繋がり線の標準偏差、および所定長さ範囲内の前記最終仮想繋がり線の存在割合の内の少なくとも1つを含む仮想繋がり線データを求める工程とをさらに有してもよく、
前記仮想繋がり線データに基づき、前記試料が有している前記特定元素の組成ネットワークトポロジー構造を定量化してもよい。
このような手法においても、たとえばコンピュータプログラムを用いて、仮想繋がり線データを自動算出することが容易である。また、所定条件の仮想繋がり線データを算出することで、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを容易に定量化(数値化)することができる。
組成ネットワークトポロジー構造の解析方法は、
前記解析対象三次元体の全体について、それぞれの前記単位グリッド毎に含まれる前記特定元素の含有量を平均した平均値を求める工程をさらに有してもよく、
前記平均値を閾値として用いて、前記閾値よりも高い含有量を示す単位グリッドが連なっている高濃度領域と、前記閾値以下の含有量を示す単位グリッドが連なっている低濃度領域と、に区分けし、
前記仮想繋がり線を削除する工程では、前記低濃度領域を通過する仮想繋がり線を削除してもよい。
このような方法によれば、ネットワークに関連する最終仮想繋がり線を容易に作成することが可能であり、前述した配位数あるいは仮想繋がり線データを容易に作成することができる。その結果、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを容易に定量化することができる。
本発明に係る解析プログラムは、
プログラム可能なコンピュータにおいて実行されたときに、上記のいずれかに記載の組成ネットワークトポロジー構造の解析方法を実行するように適応された解析プログラムである。
図1は本発明の一実施形態における解析方法が適用される軟磁性合金のFe濃度分布を三次元アトムプローブで観察した写真である。 図2は図1に示す軟磁性合金が有するネットワーク構造のモデル図である。 図3Aは本発明の一実施形態に係る解析方法において、極大点グリッドを探索する工程の模式図である。 図3Bは図3Aと関連する工程の模式図である。 図4は極大点グリッドの中心を全て結ぶ線分を生成した状態の模式図である。 図5は図4に示す模式図に追加してFe含有量が平均値を超える領域と平均値以下の領域とに区分した状態の模式図である。 図6は図5の続きの工程を示す模式図である。 図7は図6の続きの工程を示す模式図である。 図8は本発明の実施例における配位数と極大点数割合との関係を表すグラフである。 図9は本発明の実施例における仮想繋がり線の長さと仮想繋がり線数割合との関係を表すグラフである。
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
第1実施形態
本実施形態では、試料としてFeを主成分とする軟磁性合金を用い、特定元素としてのFeについて、Fe組成ネットワークトポロジー構造の解析方法を実施する場合について説明する。本実施形態の解析方法は、プログラム可能なコンピュータにおいて実行可能であり、そのプログラムをインターネットなどを介して通信可能にしてもよいし、ハードディスクなどの記憶媒体に記憶させて、コンピュータなどに実行させてもよい。
まず、軟磁性合金が有するFe組成ネットワークトポロジー構造(以下、単にネットワーク構造とも称することがある)について説明する。
Fe組成ネットワークトポロジー構造とは、軟磁性合金の平均組成よりもFeの含有量が高い相がネットワークで結ばれる構造のことである。本実施形態に係る軟磁性合金のFe濃度分布を3次元アトムプローブ(以下、3DAPと表記する場合がある)を用いて厚み5nmで観察すると、図1のようにFe含有量が高い部分がネットワーク状に分布している状態が観察できる。当該分布を三次元化した模式図が図2である。なお、図1は後述する実施例における試料No.39に対して3DAPを用いて観察した結果である。
従来のFe含有軟磁性合金は複数のFe含有量が高い部分がそれぞれ球体形状または略球体形状をなし、Fe含有量が低い部分を介してバラバラに存在していた。本実施形態に係る軟磁性合金は、図2のようにFe含有量が高い部分がネットワーク状に繋がって分布している。
Fe組成ネットワークトポロジー構造の態様は、後述するように、Fe組成ネットワークトポロジー構造の極大点の数および/または極大点の配位数を測定することにより定量化することができる。
Fe組成ネットワークトポロジー構造の極大点とは、局所的にFe含有量が周囲よりも高くなる点のことである。また、極大点の配位数とは、一つの極大点がFe組成ネットワークトポロジー構造を通じて繋がっている他の極大点の数のことである。
以下、本実施形態におけるFe組成ネットワークトポロジー構造の解析手順について図面を用いて説明することにより、極大点、極大点の配位数およびそれらの算出方法について説明する。
まず、解析すべき試料を準備し、その試料中の1辺の長さが、好ましくは20nm以上、たとえば40nmの立方体(解析対象三次元体)を測定範囲とする。そして、この立方体を、1辺の長さが、好ましくは0.2nm以上、さらに好ましくは0.2nm以上で試料中の1辺の長さの1/10倍以下、たとえば1nmの立方体形状のグリッド(単位グリッド)ごとに分割する。たとえば40nmの立方体を1nmの立方体形状のグリッドごとに分割するとすると、一つの測定範囲にグリッドが40×40×40=64000個存在する。
次に、各単位グリッドに含まれる特定元素としてFeを選択し、そのFeの含有量を評価する。そして、全ての単位グリッドにおけるFe含有量の平均値(以下、閾値と表記することがある)を算出する。当該Fe含有量の平均値は、各軟磁性合金の平均組成から算出される値と実質的に同等な値となることが予想される。
次に、Fe含有量が閾値を超える単位グリッドであり、全ての隣接する単位グリッドよりもFe含有量が高い単位グリッドを極大点グリッドとする。図3Aには極大点グリッドを探索する工程を示すモデルを示す。各単位グリッド10の内部に記載した数字が各単位グリッドに含まれるFe含有量を表す。隣接する全ての隣接グリッド10bのFe含有量以上のFe含有量である単位グリッド10を極大点グリッド10aとする。
なお、図3Aには、1個の極大点グリッド10aに対して8個の隣接グリッド10bが記載されているが、実際には、図3Aの極大点グリッド10aの手前および奥にも隣接グリッド10bが9個ずつ存在する。すなわち、1つの極大点グリッド10aに対して隣接グリッド10bが26個存在する。
また、図3Bに示すように、測定範囲の端部に位置する単位グリッド10については、測定範囲の外側についてFe含有量0のグリッドが存在するとみなす。
次に、図4に示すように、測定範囲に含まれる全ての極大点グリッド10a間を結ぶ線分(仮想繋がり線)を生成する。線分を結ぶ際には、各グリッド10aの中心と中心とを結ぶ。なお、図4〜図7においては、説明の便宜上、極大点グリッド10aを丸印で表記する。丸印の内部に記載された数字はFe含有量である。
次に、図5に示すように、閾値よりも高いFe含有量である単位グリッドが連なっている高濃度領域20aと、閾値以下の含有量を示す単位グリッドが連なっている低濃度領域20bと、に区分けする。高濃度領域20aのネットワーク構造が、Fe組成ネットワークトポロジー構造となる。そして、図6に示すように、低濃度領域20bを通過する線分を削除する。
次に、図7に示すように、線分が三角形を構成する部分であって当該三角形の内側に低濃度領域20bがない場合には、当該三角形を構成する三本の線分のうち、最も長い線分を一本削除する。なお、三角形の内側に低濃度領域20bがある場合には、これらの三角形の線分は削除しない。これらの結果、最終的に得られる線分としての最終仮想繋がり線は、相互に交差することなく、隣接する極大点グリッド相互を単一の線分で結び、その線分は、低濃度領域20bを通過しないことになる。
そして、各極大点10aから伸びる最終仮想繋がり線の数を各極大点10aの配位数とする。たとえば、図7の場合には、Fe含有量が50である極大点10a1は配位数4、Fe含有量が41である極大点10a2は配位数2となる。
また、解析対象三次元体としての解析対象立方体の測定範囲内の最表面に存在するグリットが極大点グリッドである場合、当該極大点グリッドは、後述する配位数が特定の範囲内である極大点の割合の計算から除外する。
なお、配位数が0の極大点、および、配位数が0の極大点の周囲に存在している閾値よりも高いFe含有量である領域も、Fe組成ネットワークトポロジー構造に含まれるとする。
以上に示す解析方法は、それぞれ異なる測定範囲で数回行うことで、算出される結果の精度を十分に高いものとすることができる。好ましくは、それぞれ異なる測定範囲で3回以上、解析を行う。
本実施形態に係るFe組成ネットワークトポロジー構造の解析方法では、たとえば上述した解析方法により、局所的にFe含有量が周囲よりも高くなるFe含有量の極大点グリッドが、40万個/μm以上有する場合に、良好な磁気特性が得られることが確認できる。
また、本実施形態では、配位数が1以上5以下である極大点グリッドの全体に占める割合が、80%以上100%以下である場合に、良好な磁気特性が得られることが確認できる。なお、極大点グリッドの割合の分母は、測定範囲全体に存在する全ての極大点グリッドの総数である。ただし、配位数を評価する際の分母の極大点グリッドには、評価領域の端部の表面に存在する極大点グリッドは除く。
本実施形態の解析方法を用いることで、軟磁性合金は、極大点の数が所定値以上で、配位数が1以上5以下である極大点の割合が所定範囲内であるFe組成ネットワークトポロジー構造を有することにより、特定な磁気特性を持つ軟磁性合金が得られることが見出された。すなわち、保磁力が低く透磁率が高く、特に高周波での軟磁性特性に優れた軟磁性合金を得ることができることが見出された。
さらに、本実施形態の解析方法を用いることで、以下に示す新たな知見も得られた。すなわち、軟磁性合金全体に占めるFe組成ネットワークトポロジー構造の体積割合が、25vol%以上50vol%以下、特に30vol%以上40vol%以下である場合に、保磁力が低く透磁率が高く、特に高周波での軟磁性特性に優れた軟磁性合金を得ることができることが見出された。なお、Fe組成ネットワークトポロジー構造の体積割合とは、閾値よりも高いFe含有量である領域20aおよび閾値以下のFe含有量である領域20bの合計に占める閾値よりも高いFe含有量である領域20aの体積割合である。
さらに、本実施形態の解析方法を用いることで、以下に示す新たな知見も得られた。Fe−Si−M−B−Cu−C系の軟磁性合金の場合とFe−M−B−C系の軟磁性合金の場合とを比較すると、極大点の数はFe−M−B−C系の軟磁性合金の場合の方が高い傾向にある。また、配位数もFe−M−B−C系の軟磁性合金の場合の方が多い傾向にある。
上述したように、本実施形態の解析方法によれば、極大点グリッドの数(あるいは極大点グリッドの配位数)などを容易に求めることができる。その極大点グリッドに基づき、試料における特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを数値化することが可能になる。組成ネットワークトポロジー構造の度合いを数値化することができれば、その度合いと、その試料における磁気特性などの諸特性とを関係付けることが可能になり、素材開発の補助として有効に活用することができる。
すなわち、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いと、試料が有する磁気特性などの諸特性とを関連づけて解析することができる。あるいは、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いと、その試料を作成するための製造方法との最適化を図ることも可能である。
また本実施形態の解析方法によれば、たとえばコンピュータプログラムを用いて、配位数を自動算出することが容易である。また、所定数以上の配位数を持つ極大点グリッドの数を算出することで、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを容易に定量化(数値化)することができる。
本実施形態の解析方法をコンピュータプログラムにより実施させることで、特定の磁気特性などの必要特性を持つ磁性材料の開発スピードを、さらに向上させることが期待できる。
第2実施形態
以下、本発明の第2実施形態におけるFe組成ネットワーク相の解析手順について説明する。この実施形態では、仮想繋がり線(以下、単に「仮想線」と称する)の合計距離および/または仮想線の平均距離を算出することにより、ネットワーク形成の度合いを数値化して解析する解析方法について説明する。なお、以下の説明では、第1実施形態と共通する部分の説明は一部省略し、相違する部分について詳細に説明する。
まず、解析すべき試料を準備し、その試料中の立方体(解析対象三次元体)を所定サイズの単位グリッドごとに分割する点は、第1実施形態と同様である。
次に、各グリッドに含まれるFe含有量を評価する点でも、第1実施形態と同様である。そして、全てのグリッドにおけるFe含有量の平均値(以下、閾値と表記することがある)を算出する点でも、第1実施形態と同様である。
また、図3Aから図7に示すように、グリッドの極大点を求め、測定範囲に含まれる全極大点10a間を結ぶ線分を生成する点でも、第1実施形態と同様である。ただし、本実施形態では、全極大点10a間を結ぶ線分を仮想線と称する。 また、測定範囲内の最表面に存在する単位グリットの極大点と、同一最表面に存在する別のグリッドの極大点と、を結ぶ仮想線は削除する。また、後述する仮想線平均距離および仮想線標準偏差を算出するときには、最表面に存在するグリッドの極大点を通る仮想線を計算から除外する。
測定範囲内に残った最終仮想線の長さを合計することで仮想線合計距離を算出して解析することができる。さらに、最終仮想線の本数を算出し、最終仮想線1本当たりの距離である仮想線平均距離を算出して解析することもできる。また、仮想線平均距離の標準偏差や特定の長さの仮想線の存在割合を算出して解析することもできる。
なお、最終仮想線を有さない極大点、および、最終仮想線を有さない極大点の周囲に存在している閾値よりも高いFe含有量である領域もFe組成ネットワーク相に含まれるとする。
以上に示す解析方法は、それぞれ異なる測定範囲で数回行うことで、算出される結果の精度を十分に高いものとすることができる。好ましくは、それぞれ異なる測定範囲で3回以上、測定を行う。
本実施形態に係るFe組成ネットワークトポロジー構造の解析方法では、たとえば上述した解析方法により、軟磁性合金1μmあたりの仮想線合計距離が10mm〜25mmである場合に、好ましい磁気特性を持つ軟磁性合金を実現することができることが確認できた。また、本実施形態に係るFe組成ネットワークトポロジー構造の解析方法では、仮想線平均距離、すなわち仮想線の距離の平均が6nm以上12nm以下である場合に、好ましい磁気特性を持つ軟磁性合金を実現することができることが確認できた。
本実施形態に係る解析方法を用いることで、仮想線合計距離および/または仮想線平均距離が上記の範囲内であるFe組成ネットワーク相を有することにより、保磁力が低く透磁率が高く、特に高周波での軟磁性特性に優れた軟磁性合金を得ることができることが確認できた。
上述したように、本実施形態の解析方法によれば、極大点グリッド同士の繋がり長さを示す仮想線合計距離および/または仮想線平均距離などの仮想線データを容易に求めることができる。その仮想線データに基づき、試料における特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを数値化することが可能になる。組成ネットワークトポロジー構造の度合いを数値化することができれば、その度合いと、その試料における磁気特性などの諸特性とを関係付けることが可能になり、素材開発の補助として有効に活用することができる。
すなわち、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いと、試料が有する磁気特性などの諸特性とを関連づけて解析することができる。あるいは、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いと、その試料を作成するための製造方法との最適化を図ることも可能である。
また、本実施形態の解析方法においては、たとえばコンピュータプログラムを用いて、仮想線データを自動算出することが容易である。また、所定条件の仮想線データを算出することで、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを容易に定量化(数値化)することができる。
さらに本実施形態の解析方法によれば、ネットワークに関連する最終仮想線を容易に作成することが可能であり、前述した仮想線データを容易に作成することができる。その結果、特定元素の組成ネットワークトポロジー構造の度合いを容易に定量化することができる。
本実施形態の解析方法をコンピュータプログラムにより実施させることで、特定の磁気特性などの必要特性を持つ磁性材料の開発スピードを、さらに向上させることが期待できる。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
たとえば、上述した実施形態では、解析対象三次元体として、縦と横と高さが同じ立方体を用いているが、それらの寸法は異なっていても良い。また、単位グリッドに関しても、縦と横と高さが同じ立方体を用いているが、それらの寸法は異なっていても良い。また、解析対象三次元体としては、立方体に限定されず、球形などのその他の形状でも良い。単位グリッドに関しても同様である。
また、上述した実施形態では、解析対象三次元体の内部に存在する特定元素の含有量を三次元的に測定する手段として、3次元アトムプローブを用いているが、本発明は、それに限定されない。
また、本発明の解析方法が適用される材料としては、上述した軟磁性体合金などの磁性材料に限らず適用することができる。
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
実施例1
以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明する。
(実験1:試料No.1〜No.26)
Fe:73.5原子%、Si:13.5原子%、B:9.0原子%、Nb:3.0原子%、Cu:1.0原子%の組成の母合金が得られるように純金属材料をそれぞれ秤量した。そして、チャンバー内で真空引きした後、高周波加熱にて溶解し母合金を作製した。
その後、作製した母合金を加熱して溶融させ、1300℃の溶融状態の金属とした後に、規定ロール温度及び規定蒸気圧下で単ロール法により前記金属をロールに噴射させ、薄帯を作成した。また、ロールの回転数を適切に調整することで得られる薄帯の厚さを20μmとした。次に、作製した各薄帯に対して熱処理を行い、単板状の試料を得た。
実験1では、ロールの温度、蒸気圧および熱処理条件を変化させて表1に示す各試料を作製した。露点調整を行ったArガスを用いることで蒸気圧を調整した。
また、熱処理前の各薄帯に対してX線回折測定を行い、結晶の有無を確認した。さらに、透過電子顕微鏡を用いて制限視野回折像および30万倍で明視野像を観察し微結晶の有無を確認した。その結果、各実施例の薄帯には結晶および微結晶が存在せず非晶質であることを確認した。
そして、各薄帯を熱処理した後の各試料の保磁力、周波数1kHzでの透磁率および周波数1MHzでの透磁率を測定した。結果を表1に示す。
さらに、各試料について3DAP(3次元アトムプローブ)を用いて、Fe含有量を測定し、その結果から、本発明の第1実施形態で示す解析方法のプログラムを用いて、Feの極大点の個数、配位数が1以上5以下である極大点の割合、配位数が2以上4以下である極大点の割合および試料全体に対するFeネットワークトポロジー構造の含有割合について解析した。結果を表1に示す。
Figure 2018105824
表1より、製造条件(ロール温度、チャンバー内蒸気圧、熱処理前結晶の有無、熱処理条件)と、ネットワーク構造(極大点の数、配位数、ネットワーク相の体積割合)とに相関関係があることが分かった。また、表1より、ネットワーク構造と、試料の磁気特性との間にも、相関関係があることが分かった。
すなわち、表1より、ロール温度が50〜70℃であり、かつ30℃のチャンバー内において11hPa以下に蒸気圧を制御し、熱処理条件が500〜600℃で0.5〜10時間である製造条件では、非晶質の薄帯が得られた。そして、当該薄帯を熱処理することで、良好なFeネットワークを形成できることが確認できた。また、良好なFeネットワークを形成できれば、試料の保磁力が低下し、透磁率が向上することが確認できた。
これに対し、ロール温度が30℃の場合(試料No.22〜26)、もしくは、ロール温度が50℃または70℃であり、11hPaより蒸気圧が高い場合(試料No.1,2,16,17)では、熱処理後、好ましいFeネットワーク相の条件となる極大点が少ない傾向があった。すなわち、薄帯製造時にロール温度が低すぎる場合および蒸気圧が高すぎる場合には、薄帯を熱処理した後に、熱処理後の極大点の数が少なくなり良好なFeネットワークが形成できない傾向にあることが判明した。
また、熱処理温度が低すぎる場合(試料No.11)および熱処理時間が短すぎる場合(試料No.7)では好ましいFeネットワークが形成されないことが判明した。そして、このような場合には、保磁力が高く、透磁率が低くなることが判明した。また、熱処理温度が高い場合(試料No.15)および熱処理時間が長すぎる場合(試料No.10)ではFeの極大点が減少する傾向があった。
また、試料No.15においては熱処理温度を高くすると保磁力が急激に悪化し、透磁率が急激に減少する傾向があった。これは、軟磁性合金の一部がボライド(FeB)を形成したためであると考える。また、試料No.15がボライドを形成していることはX線回折測定を用いて確認した。
このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、試料の磁気特性などの予測を行うことができることが判明した。また、このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、最適な製造条件を見つけ出し、最適な特性を持つ製品を開発できることが判明した。また、ネットワーク形成の度合いを数値化して解析することで、ネットワーク形成の度合いと、試料の特性(たとえば磁気特性)との相関関係を、より詳細に解析することができた。
(実験2)
母合金の組成を変化させロール温度を70℃としチャンバー内の蒸気圧を4hPaとして実験1と同様にして解析を行った。また熱処理温度に関しては、各組成について450℃,500℃,550℃,600℃および650℃で熱処理を行い、保磁力が最低になる温度を熱処理温度とした。
そして、表2および表3には、前記保磁力が最低となる温度における特性を記載した。すなわち、試料によって熱処理温度が異なる。Fe−Si−M−B−Cu−C系の組成で実験を行った結果を表2に、Fe−M−B−C系の組成で実験を行った結果を表3に示す。
なお、試料No.39について3DAPを用いて厚み5nmで観察した。結果を図1に示す。図1より、試料No.39の実施例では、Fe含有量が高い部分がネットワーク状に分布していることが分かった。
Figure 2018105824
Figure 2018105824
表2および表3に示すように母合金の組成を変化させても単ロール法でロール温度を70℃かつ蒸気圧を4hPaにして得られる薄帯が非晶質を形成することができ、かつ適正な温度で熱処理を行うことで、好ましいFe組成ネットワークトポロジー構造が形成され、保磁力が低下し、透磁率が向上した。
表2に示すFe−Si−M−B−Cu−C系の組成を有しネットワーク構造を持つ試料では極大点の数が比較的少なく、表3に示すFe−M−B−C系の組成を有しネットワーク構造を持つ試料では、極大点の数が比較的多い傾向にあった。
表2に示すFe−Si−M−B−Cu−C系組成、特に試料No.32〜36では、Cuを少量添加することでFeの極大点の数が増える傾向にあった。また、Cuの含有量が多すぎると単ロール法で得られる熱処理前の薄帯が結晶を含み、良好なFeネットワークを形成されない傾向があった。
表2に示すFe−Si−M−B−Cu−C系組成、特に試料No43から47では、Nbの含有量が少ない試料ほど単ロール法で得られる薄帯が結晶を含みやすい傾向を示した。またNbの含有量が多い試料ほどFeの極大点の数が減少し透磁率が減少しやすい傾向があった。
表2に示すFe−Si−M−B−Cu−C系組成、特に試料No27から31ではBの含有量が少ない試料ほど単ロール法で得られる熱処理前の薄帯が微結晶を持ちやすい傾向にあった。Bの含有量が多い試料ほどFeの極大点が減少し透磁率が減少しやすい傾向にあった。
表2に示すFe−Si−M−B−Cu−C系組成、特に試料No.37から42ではSiの含有量が少ない試料ほど透磁率が減少する傾向にあった。
表2に示すFe−Si−M−B−Cu−C系組成、特に試料No.55から56ではCを含有することでFe量を増加させた範囲においても非晶質を保つことができ良好なFeネットワークを形成する傾向があった。
表3に示すFe−M−B−C系組成、特に試料No.61から65では、Mの含有量が少ない試料ほど単ロール法で得られる熱処理前の薄帯が結晶を含む傾向にあった。
表3で示すFe−M−B−C系組成、特に試料No.66から70では、Bの含有量が少ない試料ほど単ロール法で得られる熱処理前の薄帯が結晶を含む傾向にあった。Bの含有量が多い試料ほどFe極大点が減少する傾向にあった。
表3の試料No.71〜103についても同様に検討を行った結果、ロール温度を70℃としチャンバー内の蒸気圧を4hPaとして作製した適切な組成を有する軟磁性合金薄帯が非晶質を形成した。そして、適切な熱処理をすることでFeのネットワーク構造を有し、保磁力が低く、透磁率が高くなる傾向にあった。
また、表2の試料No.39と表3の試料No.63について全ての極大点の配位数分布をグラフ化した。グラフ化した結果が図8である。図8の横軸に配位数を、縦軸に当該配位数を取る極大点数割合を記載した。極大点数の総合計を100%とし、各配位数を取る極大点の割合を縦軸にとった。
図8より、表2に示すFe−Si−M−B−Cu−C系組成の方が表3に示すFe−M−B−C系組成よりも配位数のばらつきが小さいことがわかる。
(実験3)
Fe:73.5原子%、Si:13.5原子%、B:9.0原子%、Nb:3.0原子%、Cu:1.0原子%の組成の母合金が得られるように純金属材料をそれぞれ秤量した。そして、チャンバー内で真空引きした後、高周波加熱にて溶解し母合金を作製した。
その後、作製した母合金を加熱して溶融させ、1300℃の溶融状態の金属としたのちガスアトマイズ法により下表4に示す規定の条件下で前記金属を噴射させ、粉体を作成した。実験3では、ガス噴射温度、チャンバー内の蒸気圧を変化させて試料No.104〜107を作製した。蒸気圧調整は露点調整をおこなったArガスを用いることで行った。
熱処理前の各粉体に対してX線回折測定を行い、結晶の有無を確認した。さらに、透過電子顕微鏡で制限視野回折像および明視野像を観察した。その結果、各粉体には結晶が存在せず完全な非晶質であることを確認した。
そして、得られた各粉体を熱処理した後に保磁力を測定した。そして、Fe組成ネットワークについて解析を行った。熱処理の温度はFe−Si−M−B−Cu−C系組成の試料では550℃、Fe−M−B−C系組成の試料では600℃とした。熱処理の時間は1時間とした。
Figure 2018105824
試料No.105および107では、完全な非晶質の粉体を適切に熱処理することで、良好なFeネットワークを形成した。しかしながら、ガス温度が30℃と低すぎ、蒸気圧が25hPaと高すぎる試料No.104および106の比較例は、熱処理後の極大点の数が少なくなり好ましいFe組成ネットワークが形成できず、保磁力が高くなった。
表4で示す比較例及び実施例を比較するとガス噴射温度を変更することで非晶質である軟磁性合金粉末が得られ、非晶質である軟磁性合金粉末に熱処理をすることで薄帯の場合と同様にFeの極大点が増加しFe組成ネットワーク構造が得られることがわかった。また、保磁力についても、実験1〜3の薄帯と同様にFeのネットワーク構造を有することで保磁力が小さくなる傾向を示した。
(実験4:試料No.201〜No.226)
実験1と同様にして、単板状の試料を得た。また、実験1と同様にして、ロールの温度、蒸気圧および熱処理条件を変化させて表5に示す各試料を作製した。そして、実験1と同様にして、各薄帯を熱処理した後の各試料の保磁力、周波数1kHzでの透磁率および周波数1MHzでの透磁率を測定した。結果を表5に示す。
さらに、各試料について3DAP(3次元アトムプローブ)を用いて、Fe含有量を測定し、その結果から、本発明の第2実施形態で示す解析方法のプログラムを用いて、仮想線合計距離、仮想線平均距離、仮想線標準偏差について解析した。さらに、長さ4〜16nmの仮想線の存在割合およびFeネットワーク組成相の体積割合を解析した。結果を表5に示す。
なお、仮想線合計距離欄に「<1」と記載した試料は、Fe極大点とFe極大点との間に仮想線が存在しない試料である。ただし、Fe極大点とFe極大点とが隣接している場合には、仮想線合計距離を算出する際に、二つの隣接しているFe極大点の間に、極めて短い仮想線が存在しているとされる場合がある。その結果、仮想線合計距離が0.0001mm/μmであるとされる場合がある。したがって、本願では仮想線合計距離が0mm/μmであるとされる場合と、0.0001mm/μmであるとされる場合とを含む記載として、仮想線合計距離欄に「<1」と記載している。なお、仮想線平均距離および/または仮想線標準偏差を算出する際には、そのような極めて短い仮想線は存在しないとして算出する。
Figure 2018105824
表5より、ロール温度が50〜70℃であり、かつ30℃のチャンバー内において11hPa以下に蒸気圧を制御し、熱処理条件が500〜600℃で0.5〜10時間である試料では非晶質の薄帯が得られた。そして、当該薄帯を熱処理することで、良好なFeネットワークを形成した。そして、保磁力が低下し、透磁率が向上した。
これに対し、ロール温度が30℃の場合(試料No.222〜226)、もしくは、ロール温度が50℃または70℃であり、11hPaより蒸気圧が高い場合(試料No.201,202,216,217)では、熱処理後、好ましいFeネットワーク相の条件となる仮想線合計距離および仮想線平均距離が所定の範囲外であるか、仮想線が観察されない傾向があった。すなわち、薄帯製造時にロール温度が低すぎる場合および蒸気圧が高すぎる場合には、薄帯を熱処理した後に、良好なFeネットワークが形成できなかった。
また、熱処理温度が低すぎる場合(試料No.211)および熱処理時間が短すぎる場合(試料No.207)では好ましいFeネットワークが形成されなかった。そして、Feネットワークが形成されない場合には、保磁力が高く、透磁率が低くなった。また、熱処理温度が高い場合(試料No.215)および熱処理時間が長すぎる場合(試料No.210)ではFeの極大点が減少する傾向があった。また、試料No.215においては熱処理温度を高くすると保磁力が急激に悪化し、透磁率が急激に減少する傾向があった。これは、軟磁性合金の一部がボライド(FeB)を形成したためであると考える。また、試料No.215がボライドを形成していることはX線回折測定を用いて確認した。
このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、試料の磁気特性などの予測を行うことができることが判明した。また、このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、最適な製造条件を見つけ出し、最適な特性を持つ製品を開発できることが判明した。また、ネットワーク形成の度合いを数値化して解析することで、ネットワーク形成の度合いと、試料の特性(たとえば磁気特性)との相関関係を、より詳細に解析することができた。
(実験5)
実験2と同様にして、Fe−Si−M−B−Cu−C系の組成の試料を準備し、実験4と同様にして、仮想線合計距離、仮想線平均距離、仮想線標準偏差について解析した。さらに、長さ4〜16nmの仮想線の存在割合およびFeネットワーク組成相の体積割合を解析した。結果を表6に示す。また、表6と同様にして、Fe−M−B−C系の組成で解析を行った結果を表7に示す。
Figure 2018105824
Figure 2018105824
表6および表7に示すように、仮想線合計距離、仮想線平均距離、仮想線標準偏差および4〜16nm仮想線の存在割合を数値化することでも、ネットワーク構造を数値化することができた。
このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、試料の磁気特性などの予測を行うことができることが判明した。また、このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、最適な製造条件を見つけ出し、最適な特性を持つ製品を開発できることが判明した。また、ネットワーク形成の度合いを数値化して解析することで、ネットワーク形成の度合いと、試料の特性(たとえば磁気特性)との相関関係を、より詳細に解析することができた。
なお、表6の試料No.239と表3の試料No.263について、極大点と極大点の間の仮想線の長さに対する各長さの仮想線数割合をグラフ化した。グラフ化した結果が図9である。図9の横軸に仮想線の長さを、縦軸に仮想線数割合を記載した。図9のグラフを作成するに当たっては、長さが0以上、2nm未満の仮想線については仮想線の長さを1nm、長さが2nm以上、4nm未満の仮想線については仮想線の長さを3nm、長さが4nm以上、6nm未満の仮想線については仮想線の長さを5nmとし、以下同様としている。そして、各仮想線の長さに対する仮想線数割合をプロットし、プロットした点を直線で結ぶことでグラフを作成している。なお、図9の横軸の単位はnmである。
図9より、表6に示すFe−Si−M−B−Cu−C系組成の方が表7に示すFe−M−B−C系組成よりも仮想線の長さのばらつきが大きいことがわかる。
(実験6)
実験3と同様にして試料No.304〜307を作製した。これらの試料について、実験4と同様にして、仮想線合計距離、仮想線平均距離、仮想線標準偏差について解析した。さらに、長さ4〜16nmの仮想線の存在割合およびFeネットワーク組成相の体積割合を解析した。結果を表8に示す。
Figure 2018105824
表8に示すように、試料が合金粉末であったとしても、仮想線合計距離、仮想線平均距離、仮想線標準偏差および4〜16nm仮想線の存在割合を数値化することでも、ネットワーク構造を数値化することができた。
このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、試料の磁気特性などの予測を行うことができることが判明した。また、このように試料中の特定元素のネットワーク構造を解析することで、最適な製造条件を見つけ出し、最適な特性を持つ製品を開発できることが判明した。また、ネットワーク形成の度合いを数値化して解析することで、ネットワーク形成の度合いと、試料の特性(たとえば磁気特性)との相関関係を、より詳細に解析することができた。
すなわち、試料No.305および307では、完全な非晶質の粉体を適切に熱処理することで、良好なFeネットワークを形成した。しかしながら、ガス温度が30℃と低すぎ、蒸気圧が25hPaと高すぎる試料No.304および306は、熱処理後の仮想線合計距離および仮想線平均距離が短くなり、好ましいFe組成ネットワークが形成できず、保磁力が高くなった。
表8示す試料を比較するとガス噴射温度を変更することで非晶質である軟磁性合金粉末が得られ、非晶質である軟磁性合金粉末に熱処理をすることで薄帯の場合と同様に仮想線合計距離および仮想線平均距離が増加し好ましいFe組成ネットワーク構造が得られることがわかった。また、保磁力についても、実験4〜5の薄帯と同様にFeのネットワーク構造を有することで保磁力が小さくなる傾向を示した。
10… 単位グリッド
10a… 極大点グリッド
10b… 隣接グリッド
20a…高濃度領域
20b…低濃度領域

Claims (5)

  1. 試料に含まれる特定元素について、所定の測定範囲内で、濃度分布を三次元的に測定可能な解析対象三次元体を求める工程と、
    前記解析対象三次元体を、より細かな複数の三次元体から成る単位グリッドに分割する工程と、
    それぞれの前記単位グリッド毎に含まれる前記特定元素の含有量を求める工程と、
    隣接する前記単位グリッドの間で、前記特定元素の含有量がそれぞれ最大となる極大点グリッドを求める工程と、
    前記解析対象三次元体に含まれる前記極大点グリッドとの関係で、前記試料が有している前記特定元素の組成ネットワークトポロジー構造を定量化する工程とを有する組成ネットワークトポロジー構造の解析方法。
  2. 前記解析対象三次元体の内部に存在する複数の前記極大点グリッドの中心を結び、仮想繋がり線を形成する工程と、
    所定の規則に基づき、交差する前記仮想繋がり線を削除して最終仮想繋がり線を形成する工程と、
    それぞれの前記極大点グリッドに繋がっている前記最終仮想繋がり線の数を配位数として設定する工程と、をさらに有し、
    前記配位数に基づき、前記試料が有している前記特定元素の組成ネットワークトポロジー構造を定量化する請求項1に記載の組成ネットワークトポロジー構造の解析方法。
  3. 前記解析対象三次元体の内部に存在する複数の前記極大点グリッドの中心を結び、仮想繋がり線を形成する工程と、
    所定の規則に基づき、交差する前記仮想繋がり線を削除して最終仮想繋がり線を形成する工程と、
    前記解析対象三次元体の内部で前記極大点グリッドに繋がっている前記最終仮想繋がり線の合計長さ、前記最終仮想繋がり線の平均距離、前記最終仮想繋がり線の標準偏差、および所定長さ範囲内の前記最終仮想繋がり線の存在割合の内の少なくとも1つを含む仮想繋がり線データを求める工程とをさらに有し、
    前記仮想繋がり線データに基づき、前記試料が有している前記特定元素の組成ネットワークトポロジー構造を定量化する請求項1に記載の組成ネットワークトポロジー構造の解析方法。
  4. 前記解析対象三次元体の全体について、それぞれの前記単位グリッド毎に含まれる前記特定元素の含有量を平均した平均値を求める工程をさらに有し、
    前記平均値を閾値として用いて、前記閾値よりも高い含有量を示す単位グリッドが連なっている高濃度領域と、前記閾値以下の含有量を示す単位グリッドが連なっている低濃度領域と、に区分けし、
    前記仮想繋がり線を削除する工程では、前記低濃度領域を通過する仮想繋がり線を削除することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の組成ネットワークトポロジー構造の解析方法。
  5. プログラム可能なコンピュータにおいて実行されたときに、請求項1〜4のいずれかに記載の組成ネットワークトポロジー構造の解析方法を実行するように適応された解析プログラム。
JP2016255524A 2016-12-28 2016-12-28 組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラム Pending JP2018105824A (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016255524A JP2018105824A (ja) 2016-12-28 2016-12-28 組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラム
US15/717,488 US20180180643A1 (en) 2016-12-28 2017-09-27 Analysis method of composition network topology structure and analysis program thereof
EP17193883.0A EP3358579A1 (en) 2016-12-28 2017-09-28 Analysis method of composition network topology structure and analysis program thereof
CN201710899009.4A CN108254523A (zh) 2016-12-28 2017-09-28 组成网络拓扑结构的分析方法和分析程序
TW106133350A TWI673976B (zh) 2016-12-28 2017-09-28 組成網絡拓撲結構的分析方法和分析程式
KR1020170126280A KR101979109B1 (ko) 2016-12-28 2017-09-28 조성 네트워크 토폴로지 구조의 해석 방법과 해석 프로그램

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016255524A JP2018105824A (ja) 2016-12-28 2016-12-28 組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018105824A true JP2018105824A (ja) 2018-07-05

Family

ID=60138179

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016255524A Pending JP2018105824A (ja) 2016-12-28 2016-12-28 組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラム

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20180180643A1 (ja)
EP (1) EP3358579A1 (ja)
JP (1) JP2018105824A (ja)
KR (1) KR101979109B1 (ja)
CN (1) CN108254523A (ja)
TW (1) TWI673976B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11521471B2 (en) * 2018-05-23 2022-12-06 Sony Corporation Information processing apparatus and information processing method

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6245394B1 (ja) 2017-02-27 2017-12-13 Tdk株式会社 軟磁性合金

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000030924A (ja) * 1998-07-10 2000-01-28 Daido Steel Co Ltd 軟磁性合金粉末および圧粉磁芯
JP4597691B2 (ja) * 2005-01-31 2010-12-15 富士通株式会社 有限要素法を用いた構造解析方法
JP2013513624A (ja) * 2009-12-18 2013-04-22 ジョージア テック リサーチ コーポレーション 金属有機構造体材料の選別
JP6232359B2 (ja) * 2014-09-08 2017-11-15 株式会社豊田中央研究所 圧粉磁心、磁心用粉末およびそれらの製造方法
KR101639130B1 (ko) * 2014-10-23 2016-07-22 현대제철 주식회사 강 중 구성 원소의 epma 분석 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11521471B2 (en) * 2018-05-23 2022-12-06 Sony Corporation Information processing apparatus and information processing method

Also Published As

Publication number Publication date
KR101979109B1 (ko) 2019-05-15
CN108254523A (zh) 2018-07-06
TW201824825A (zh) 2018-07-01
TWI673976B (zh) 2019-10-01
US20180180643A1 (en) 2018-06-28
EP3358579A1 (en) 2018-08-08
KR20180077004A (ko) 2018-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kim et al. Anisotropic diffusion mechanism in grain boundary diffusion processed Nd–Fe–B sintered magnet
Martinez et al. Microstructures of niobium components fabricated by electron beam melting
JP3730518B2 (ja) 磁気記録媒体
JP2006144124A (ja) 貴金属磁気スパッタリングターゲットの製造方法及びこの方法で製造された貴金属磁気スパッタリングターゲット
JP2018105824A (ja) 組成ネットワークトポロジー構造の解析方法と解析プログラム
CN107406913A (zh) 铜合金板材及其制造方法
CN113874529B (zh) 软磁性合金及磁性部件
JP2013125901A (ja) 磁性ナノ粒子
JP2018142602A (ja) 軟磁性合金
US20220351884A1 (en) Soft magnetic alloy and magnetic component
JP6237853B1 (ja) 軟磁性合金
JP3854878B2 (ja) 低炭素硫黄系快削鋼線材およびその製造方法
JP6260667B1 (ja) 軟磁性合金
Wu et al. Effect of annealing stress on the magnetic properties of high-grade non-oriented electrical steel
CN104170015A (zh) 磁记录介质用溅射靶及其制造方法
JP6926992B2 (ja) 軟磁性圧粉磁心の製造方法および軟磁性圧粉磁心
JP4750924B2 (ja) スパッタリングターゲットの製造方法
JP6972968B2 (ja) 軟磁性圧粉磁心の製造方法および軟磁性圧粉磁心
KR102897031B1 (ko) 백금계 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법
Hermansson Precipitation Process in Additively Manufactured Maraging 300
JP2025058548A (ja) 軟磁性合金および磁性部品
Abadinia et al. Optimization of Mechanical Alloying Parameters for Fe-Si-Al Alloy Synthesis: Effects of Vial Volume and Milling Speed on Phase Formation: Abadinia, Mozaffari, and Amoohadi
CN119332177A (zh) 高性能双相不锈钢粉末及调控其相比例的增材制造方法
JP4750923B2 (ja) スパッタリングターゲットの製造方法
WO2025075137A1 (ja) 複合体、電磁波吸収体、ノイズ抑制体及び複合体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171006