JP2018195545A - 荷電粒子線装置および走査像の歪み補正方法 - Google Patents
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荷電粒子線を走査して走査像を取得する荷電粒子線装置であって、
横線部と縦線部とがそれぞれ複数配列された格子状の構造体を有する試料を撮影して得られた格子画像をフーリエ変換して、基準方向に対する前記横線部の角度である第1角度および前記基準方向に対する前記縦線部の角度である第2角度を求める角度測定部と、
前記格子画像において前記横線部の周期、および前記縦線部の周期を測定する周期測定部と、
前記第1角度、前記第2角度、前記横線部の周期、および前記縦線部の周期に基づいて、前記荷電粒子線の走査を補正する制御を行う走査制御部と、
を含む。
前記走査制御部は、
前記第1角度、前記第2角度、前記横線部の周期、および前記縦線部の周期から、前記走査像において、前記横線部の1周期分に対応する第1基本ベクトル、および前記縦線部の1周期分に対応する第2基本ベクトルを求め、
前記第1基本ベクトルおよび前記第2基本ベクトルに基づいて、前記荷電粒子線の走査を補正する制御を行ってもよい。
前記周期測定部は、
前記格子画像の前記横線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルから、前記横線部の周期を求め、
前記格子画像の前記縦線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルから、前記縦線部の周期を求めてもよい。
前記周期測定部では、
前記格子画像をフーリエ変換して、前記横線部の周期および前記縦線部の周期を求めてもよい。
前記角度測定部は、
前記フーリエ変換により求められた前記横線部の角度を変化させつつ、変化させた前記横線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルを取得し、取得した輝度勾配のプロファイルに基づき前記第1角度を決定し、
前記フーリエ変換により求められた前記縦線部の角度を変化させつつ、変化させた前記縦線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルを取得し、取得した輝度勾配のプロファイルに基づき前記第2角度を決定してもよい。
荷電粒子線を走査して走査像を取得する荷電粒子線装置における走査像の歪み補正方法であって、
横線部と縦線部とがそれぞれ複数配列された格子状の構造体を有する試料を撮影して得られた格子画像をフーリエ変換して、基準方向に対する前記横線部の角度である第1角度および前記基準方向に対する前記縦線部の角度である第2角度を求める工程と、
前記格子画像において前記横線部の周期、および前記縦線部の周期を測定する工程と、
前記第1角度、前記第2角度、前記横線部の周期、および前記縦線部の周期に基づいて、前記荷電粒子線の走査を補正する制御を行う工程と、
を含む。
まず、本実施形態に係る走査電子顕微鏡の構成について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る走査電子顕微鏡100の構成を示す図である。
査信号は、例えば、電子線をラスター走査させるための信号である。ラスター走査とは、電子線を一次元的に走査して走査線を得、当該走査線をその垂直方向に走査して、二次元的な画像を得る手法である。走査信号は、横(水平)方向(走査線の方向)の走査を行う走査信号Hと、縦方向(走査線に垂直な方向)の走査を行う走査信号Vと、で構成されている。走査信号Hは、例えば、のこぎり波状の信号波形を有しており、走査信号Vは、例えば、ステップ状の信号波形を有している。
M、ハードディスクなどにより実現できる。記憶部381は、処理部380が各種の制御処理や計算処理を行うためのプログラムやデータ等を記憶している。また、記憶部381は、処理部380が各種プログラムに従って実行した算出結果等を一時的に記憶するためにも使用される。
次に、本実施形態に係る走査電子顕微鏡100における、走査像の歪み補正方法について説明する。
図3は、走査電子顕微鏡100で、格子状の構造体を有する試料を撮影して得られた格子画像(走査像)の一例を示す図である。
まず、図3に示す格子画像の縦線部および横線部の角度を測定する。具体的には、格子画像をフーリエ変換して、基準方向(ここでは試料ステージ20のX方向、すなわち画像の上下の辺に平行な方向)に対する横線部の角度θx(第1角度)および基準方向に対する縦線部の角度θy(第2角度)を求める。なお、基準方向は特に限定されず、任意の方向に設定することができる。
である。また、図9には、角度θxに+0.3°および−0.3°を加えたときの輝度勾配のプロファイルを拡大したものを、併せて示している。
次に、格子画像において横線部の周期、および縦線部の周期を測定する。
まず、正側のピークから横線部の下側のエッジに対応する3本の正側のピークを探す。具体的には、ある閾値(例えば輝度勾配の標準偏差)以上の輝度勾配を持つピークを見つけて、輝度勾配の降順にソートする。すなわち、ピークE1、ピークE2、ピークE3、ピークE4、ピークE5、ピークE6、ピークE7の順に並べる。
次に、横線部の角度θx、縦線部の角度θy、横線部の周期、および縦線部の周期に基づいて、電子線の走査の補正するための制御を行う。以下では、走査コイル16が1段であるものとして説明する。
図18は、走査補正装置38における走査像の歪みを補正する処理の流れの一例を示すフローチャートである。
(DAC値)を生成して、電子線の走査を補正する制御を行う。走査制御部388は、上述した「2.4. 走査制御」で説明した手法により、電子線の走査を補正する制御を行う。なお、電子線の走査を補正するために必要なパラメーター(試料の縦線部の周期、試料の横線部の周期、各回路の回路定数等)は、あらかじめ記憶部381に記憶されている。
走査電子顕微鏡100は、例えば、以下の特徴を有する。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
上述した実施形態では、走査コイル16が1段の場合について説明したが、走査コイル16が光軸に沿って2段配置されていてもよい。この場合、各段の走査コイル16の各々について、上記式(3)に示すようにDAC値を変化させればよい。
上述した実施形態では、横線部の周期および縦線部の周期を格子画像の輝度勾配のプロファイルから求めたが(「2.3. 周期測定」参照)、横線部の周期および縦線部の周期を測定する手法はこれに限定されない。例えば、格子画像をフーリエ変換して、横線部の周期および縦線部の周期を求めてもよい。格子画像をフーリエ変換して得られるフーリエ空間では、横線部および縦線部の各々について、1周期分の空間周波数に相当する点にピークが現れるので、そのピークと中心との間の距離から、横線部の周期および縦線部の周期を求めることができる。この手法は、格子画像に横線部および縦線部が多数含まれている場合に有効である。
上述した実施形態では、格子状の構造体を含む試料を試料ステージ20に載置して、格子画像を取得したが、試料ステージ20にあらかじめ格子状の構造体が標準試料として搭載されていてもよい。
Claims (6)
- 荷電粒子線を走査して走査像を取得する荷電粒子線装置であって、
横線部と縦線部とがそれぞれ複数配列された格子状の構造体を有する試料を撮影して得られた格子画像をフーリエ変換して、基準方向に対する前記横線部の角度である第1角度および前記基準方向に対する前記縦線部の角度である第2角度を求める角度測定部と、
前記格子画像において前記横線部の周期、および前記縦線部の周期を測定する周期測定部と、
前記第1角度、前記第2角度、前記横線部の周期、および前記縦線部の周期に基づいて、前記荷電粒子線の走査を補正する制御を行う走査制御部と、
を含む、荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記走査制御部は、
前記第1角度、前記第2角度、前記横線部の周期、および前記縦線部の周期から、前記走査像において、前記横線部の1周期分に対応する第1基本ベクトル、および前記縦線部の1周期分に対応する第2基本ベクトルを求め、
前記第1基本ベクトルおよび前記第2基本ベクトルに基づいて、前記荷電粒子線の走査を補正する制御を行う、荷電粒子線装置。 - 請求項1または2において、
前記周期測定部は、
前記格子画像の前記横線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルから、前記横線部の周期を求め、
前記格子画像の前記縦線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルから、前記縦線部の周期を求める、荷電粒子線装置。 - 請求項1または2において、
前記周期測定部では、
前記格子画像をフーリエ変換して、前記横線部の周期および前記縦線部の周期を求める、荷電粒子線装置。 - 請求項1ないし4のいずれか1項において、
前記角度測定部は、
前記フーリエ変換により求められた前記横線部の角度を変化させつつ、変化させた前記横線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルを取得し、取得した輝度勾配のプロファイルに基づき前記第1角度を決定し、
前記フーリエ変換により求められた前記縦線部の角度を変化させつつ、変化させた前記縦線部の法線方向の輝度勾配のプロファイルを取得し、取得した輝度勾配のプロファイルに基づき前記第2角度を決定する、荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線を走査して走査像を取得する荷電粒子線装置における走査像の歪み補正方法であって、
横線部と縦線部とがそれぞれ複数配列された格子状の構造体を有する試料を撮影して得られた格子画像をフーリエ変換して、基準方向に対する前記横線部の角度である第1角度および前記基準方向に対する前記縦線部の角度である第2角度を求める工程と、
前記格子画像において前記横線部の周期、および前記縦線部の周期を測定する工程と、
前記第1角度、前記第2角度、前記横線部の周期、および前記縦線部の周期に基づいて、前記荷電粒子線の走査を補正する制御を行う工程と、
を含む、走査像の歪み補正方法。
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