JP2018194641A5 - フレキシブル基板 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、フレキシブル基板に関する。

本実施形態は、製造歩留まりの高いフレキシブル基板を提供する。又は、本実施形態は、折り曲げ領域に信頼性の高い配線を有するフレキシブル基板を提供する。

一実施形態に係るフレキシブル基板は、
複数のスイッチング素子が配置された第１領域と、パッド領域と、前記第１領域と前記パッド領域との間に位置する折り曲げ領域と、を有する絶縁基板と、前記絶縁基板の上に形成され前記第１領域から前記パッド領域に延在する複数の配線と、前記折り曲げ領域において、前記絶縁基板及び前記複数の配線の上に位置し有機絶縁材料で形成された第１保護膜と、前記折り曲げ領域において、前記第１保護膜の上に前記第１保護膜とは異なる有機絶縁材料で形成された第２保護膜と、を備える。

また、一実施形態に係るフレキシブル基板は、
複数のスイッチング素子が配置された第１領域と、パッド領域と、前記第１領域と前記パッド領域との間に位置する折り曲げ領域と、を有する絶縁基板と、前記絶縁基板の上に形成され、前記第１領域から前記パッド領域に延在する複数の配線と、前記折り曲げ領域において、前記絶縁基板及び前記複数の配線の上に位置し有機絶縁材料で形成された第１保護膜と、を備え、前記第１保護膜のガラス転移温度は、−４０℃未満、又は８５℃を超えている。

例えば、上述した表示パネル及び表示装置は、有機ＥＬ表示パネル及び有機ＥＬ表示装置に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態は、電気光学素子として液晶素子を有する液晶表示パネル及び液晶表示装置に適用することも可能である。その場合、表示パネルＰＮＬは、液晶表示パネルであり、例えば、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に保持された液晶層と、必要に応じて液晶層の上下両方に偏光板を備えている。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］表示領域と、パッド領域と、前記表示領域と前記パッド領域との間に位置する折り曲げ領域と、を有する絶縁基板と、
前記絶縁基板の上に形成され前記表示領域から前記パッド領域に延在する複数の配線と、
前記折り曲げ領域において、前記絶縁基板及び前記複数の配線の上に位置し有機絶縁材料で形成された第１保護膜と、
前記折り曲げ領域において、前記第１保護膜の上に前記第１保護膜とは異なる有機絶縁材料で形成された第２保護膜と、を備える、
表示装置。
［２］前記第１保護膜のガラス転移温度は、−４０℃未満、又は８５℃を超えている、
［１］に記載の表示装置。
［３］前記第１保護膜のガラス転移温度は、前記第２保護膜のガラス転移温度より高い、
［１］又は［２］に記載の表示装置。
［４］前記複数の配線は、前記折り曲げ領域にて屈曲部を有する、
［１］乃至［３］のいずれか１に記載の表示装置。
［５］さらに、前記絶縁基板の上に形成された第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の上に形成された第２絶縁層と、を有し、
前記複数の配線は、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層との間に位置する、
［１］乃至［４］のいずれか１に記載の表示装置。
［６］前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層は無機絶縁層である、
［５］に記載の表示装置。
［７］前記折り曲げ領域において、前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層は、それぞれ前記複数の配線と実質同一の形状を有している、
［５］又は［６］に記載の表示装置。
［８］前記折り曲げ領域において、前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層は、前記複数の配線の配線毎に分離して形成されている、［５］乃至［７］のいずれか１に記載の表示装置。
［９］前記第１保護膜は、前記複数の配線の配線毎に分離して形成されている、［１］乃至［８］のいずれか１に記載の表示装置。
［１０］表示領域と、パッド領域と、前記表示領域と前記パッド領域との間に位置する折り曲げ領域と、を有する絶縁基板と、
前記絶縁基板の上に形成され、前記表示領域から前記パッド領域に延在する複数の配線と、
前記折り曲げ領域において、前記絶縁基板及び前記複数の配線の上に位置し有機絶縁材料で形成された第１保護膜と、を備え、
前記第１保護膜のガラス転移温度は、−４０℃未満、又は８５℃を超えている、
表示装置。
［１１］さらに、前記絶縁基板の上に形成された第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の上に形成された第２絶縁層と、を有し、
前記複数の配線は、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層との間に位置する、
［１０］に記載の表示装置。

Claims (11)

1. 複数のスイッチング素子が配置された第１領域と、パッド領域と、前記第１領域と前記パッド領域との間に位置する折り曲げ領域と、を有する絶縁基板と、
   前記絶縁基板の上に形成され前記第１領域から前記パッド領域に延在する複数の配線と、
   前記折り曲げ領域において、前記絶縁基板及び前記複数の配線の上に位置し有機絶縁材料で形成された第１保護膜と、
   前記折り曲げ領域において、前記第１保護膜の上に前記第１保護膜とは異なる有機絶縁材料で形成された第２保護膜と、を備える、
   フレキシブル基板。
2. 前記第１保護膜のガラス転移温度は、−４０℃未満、又は８５℃を超えている、
   請求項１に記載のフレキシブル基板。
3. 前記第１保護膜のガラス転移温度は、前記第２保護膜のガラス転移温度より高い、
   請求項１又は２に記載のフレキシブル基板。
4. 前記複数の配線は、前記折り曲げ領域にて屈曲部を有する、
   請求項１乃至３のいずれか１項に記載のフレキシブル基板。
5. さらに、前記絶縁基板の上に形成された第１絶縁層と、
   前記第１絶縁層の上に形成された第２絶縁層と、を有し、
   前記複数の配線は、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層との間に位置する、
   請求項１乃至４のいずれか１項に記載のフレキシブル基板。
6. 前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層は無機絶縁層である、請求項５に記載のフレキシブル基板。
7. 前記折り曲げ領域において、前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層は、それぞれ前記複数の配線と実質同一の形状を有している、
   請求項５又は６に記載のフレキシブル基板。
8. 前記折り曲げ領域において、前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層は、前記複数の配線の配線毎に分離して形成されている、請求項５乃至７のいずれか１項に記載のフレキシブル基板。
9. 前記第１保護膜は、前記複数の配線の配線毎に分離して形成されている、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のフレキシブル基板。
10. 複数のスイッチング素子が配置された第１領域と、パッド領域と、前記第１領域と前記パッド領域との間に位置する折り曲げ領域と、を有する絶縁基板と、
    前記絶縁基板の上に形成され、前記第１領域から前記パッド領域に延在する複数の配線と、
    前記折り曲げ領域において、前記絶縁基板及び前記複数の配線の上に位置し有機絶縁材料で形成された第１保護膜と、を備え、
    前記第１保護膜のガラス転移温度は、−４０℃未満、又は８５℃を超えている、
    フレキシブル基板。
11. さらに、前記絶縁基板の上に形成された第１絶縁層と、
    前記第１絶縁層の上に形成された第２絶縁層と、を有し、
    前記複数の配線は、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層との間に位置する、
    請求項１０に記載のフレキシブル基板。