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JP2018190622A - 電子顕微鏡及び制御方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】分析エリアを設定する際のユーザの負担を軽減することが可能な電子顕微鏡等を提供すること。【解決手段】電子顕微鏡は、試料の電子顕微鏡像を逐一取得してライブ画像として表示部に表示させる表示制御部と、ポインティング手段によって指定されたライブ画像上の指定位置に基づいて、試料上の分析エリアを設定する分析エリア設定部と、設定された分析エリアの元素分析を実行する制御を行う分析制御部とを含み、分析エリア設定部は、指定位置を含み指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを分析エリアとして設定する。【選択図】図1

Description

本発明は、電子顕微鏡及び制御方法に関する。
従来、X線分析装置を備えた走査電子顕微鏡が知られている(例えば、特許文献1)。このような電子顕微鏡では、電子顕微鏡に搭載されたEDS(エネルギー分散型X線分析装置)を用いて試料の元素分析を行うことができる。
特開2003−007245号公報
従来の元素分析を行うことが可能な電子顕微鏡では、ユーザは、分析エリアの指定を行う前に観察像(電子顕微鏡像)を保存し、保存した観察像上で分析エリアを指定していた。そのため、観察視野を変更して分析エリアを指定したい場合や、観察像を変更(例えば、二次電子像から反射電子像に変更)して分析エリアを指定したい場合には、観察条件を変更して再度観察像を保存した上で、分析エリアを指定しなければならず、ユーザの負担が大きかった。また、保存した観察像上で分析エリアを指定するため、複数の観察視野に分析エリアを設定することができなかった。
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様によれば、分析エリアを設定する際のユーザの負担を軽減することが可能な電子顕微鏡及び制御方法を提供することができる。
(1)本発明に係る電子顕微鏡は、試料の元素分析を行う電子顕微鏡であって、試料の電子顕微鏡像を逐一取得してライブ画像として表示部に表示させる表示制御部と、ポインティング手段によって指定された前記ライブ画像上の指定位置に基づいて、試料上の分析エリアを設定する分析エリア設定部と、設定された前記分析エリアの元素分析を実行する制御を行う分析制御部とを含み、前記分析エリア設定部は、前記指定位置を含み前記指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを前記分析エリアとして設定する。
また、本発明に係る制御方法は、試料の元素分析を行う電子顕微鏡を制御する制御方法であって、試料の電子顕微鏡像を逐一取得してライブ画像として表示部に表示させる表示制御工程と、ポインティング手段によって指定された前記ライブ画像上の指定位置に基づいて、試料上の分析エリアを設定する分析エリア設定工程と、設定された前記分析エリアの元素分析を実行する制御を行う分析制御工程とを含み、前記分析エリア設定工程では、
前記指定位置を含み前記指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを前記分析エリアとして設定する。
本発明によれば、ライブ画像上で分析エリアを設定するための操作を行うことができるため、画像の再撮影等の手間を省くことができ、分析エリアを設定する際のユーザの負担を軽減することができる。また、ユーザは、ライブ画像上の任意の位置を指定する操作を行うだけで、分析エリアを自動で設定することができ、また、複数の観察視野に分析エリ
アを設定することができる。
(2)本発明に係る電子顕微鏡及び制御方法では、前記分析エリア設定部は(前記分析エリア設定工程では)、前記指定位置を含むエリアの輝度と当該エリアと隣接するエリアの輝度との差が所定の閾値以下である場合に、当該隣接するエリアに対応する試料上のエリアを前記分析エリアとして設定してもよい。
(3)本発明に係る電子顕微鏡及び制御方法では、前記分析エリア設定部(前記分析エリア設定工程では)は、ユーザの入力に基づいて前記閾値を設定してもよい。
(4)本発明に係る電子顕微鏡及び制御方法では、前記分析制御部は(前記分析制御工程では)、設定された前記分析エリアを電子線で走査させ、そのときに検出された放射線の検出信号に基づくスペクトルを取得してもよい。
本実施形態に係る電子顕微鏡の構成の一例を示す図である。 タッチパネルの表示画面の一例を示す図である。 ライブ画像の一部を構成する各ピクセルを模式的に示す図である。 タッチパネルの表示画面の一例を示す図である。 本実施形態に係る電子顕微鏡の処理の一例を示すフローチャートである。
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
1.構成
図1は、本実施形態に係る電子顕微鏡の構成の一例を示す図である。以下では、電子顕微鏡が、走査電子顕微鏡(SEM)の構成を有する場合について説明するが、本発明に係る電子顕微鏡は、走査透過電子顕微鏡(STEM)の構成を有していてもよい。また、以下では、試料の元素分析を行う電子顕微鏡の一例として、エネルギー分散型X線分析装置(EDS、EDX)を備えた電子顕微鏡について説明するが、本発明は、波長分散型X線分析装置(WDS)やオージェ電子分光装置(AES)を備えた電子顕微鏡に適用することもできる。なお本実施形態の電子顕微鏡は図1の構成要素(各部)の一部を省略した構成としてもよい。
図1に示すように、電子顕微鏡1は、電子顕微鏡本体10と、処理部100と、入力部110と、表示部120と、記憶部130とを含む。
電子顕微鏡本体10は、電子源11と、集束レンズ12と、偏向器13と、対物レンズ14と、試料ステージ15と、電子検出器16と、EDS検出器17と、偏向器制御装置20と、ステージ制御装置21と、増幅器22と、多重波高分析器23とを備える。
電子源11は、電子線を発生させる。電子源11は、例えば、陰極から放出された電子を陽極で加速し電子線を放出する電子銃である。
集束レンズ12は、電子源11から放出された電子線を集束させて電子プローブを形成するためのレンズである。集束レンズ12によって、電子プローブの径やプローブ電流(照射電流量)を制御することができる。
対物レンズ14は、試料Sの直前に配置された電子プローブを形成するためのレンズである。対物レンズ14は、例えば、コイルと、ヨークと、を含んで構成されている。対物レンズ14では、コイルで作られた磁力線を、鉄などの透磁率の高い材料で作られたヨークに閉じ込め、ヨークの一部に切欠き(レンズギャップ)を作ることで、高密度に分布した磁力線を光軸上に漏洩させる。
偏向器13(走査コイル)は、集束レンズ12と対物レンズ14とによって形成された電子プローブ(電子線)を偏向させる。偏向器13は、電子プローブを、試料S上で走査するために用いられる。また、偏向器13は、試料Sの任意の位置に電子プローブを移動させて、当該位置を電子プローブで照射するためにも用いられる。偏向器13は、偏向器制御装置20により制御される。
試料ステージ15は、試料Sを保持し、試料Sを水平方向や垂直方向に移動させる。試料ステージ15は、試料Sを移動させるための駆動機構を有しており、ステージ制御装置21により制御される。
電子検出器16は、電子プローブが試料Sに照射(走査)されることにより試料Sから放出された二次電子や反射電子を検出する。電子検出器16の出力信号(二次電子や反射電子の強度信号)は、増幅器22によって増幅された後、処理部100に供給される。
EDS検出器17は、電子プローブが試料Sに照射(走査)されることにより試料Sから発生した特性X線(放射線の一例)を検出する。EDS検出器17の出力信号は、多重波高分析器23に送られる。
多重波高分析器23(マルチチャンネルアナライザー)は、複数のチャンネルを持った波高分析器である。多重波高分析器23は、EDS検出器17の出力信号(出力パルス)をX線のエネルギー毎に計数しEDSスペクトル情報を生成し、EDSスペクトル情報を処理部100に出力する。
入力部110は、ユーザが操作情報を入力するためのものであり、入力された操作情報を処理部100に出力する。入力部110の機能は、タッチパネル(ポインティング手段の一例)により実現することができる。タッチパネルは、タッチパネルに対する接触操作(指定操作)によって入力された接触位置(指定位置)の座標値を検出し、処理部100に出力する。なお、ポインティング手段として、マウス等のポインティング装置を用いてもよい。
表示部120は、処理部100で生成された画像を出力するものであり、その機能は、入力部110としても機能するタッチパネルや、LCD、CRTなどにより実現できる。
記憶部130は、処理部100の各部としてコンピュータを機能させるためのプログラムや各種データを記憶するとともに、処理部100のワーク領域として機能し、その機能はハードディスク、RAMなどにより実現できる。
処理部100は、偏向器制御装置20やステージ制御装置21等を制御する処理や、電子顕微鏡像やEDSスペクトルを取得する処理、表示制御等の処理を行う。処理部100の機能は、各種プロセッサ(CPU、DSP等)などのハードウェアや、プログラムにより実現できる。処理部100は、表示制御部101、分析エリア設定部102、分析制御部103を含む。
表示制御部101は、増幅器22によって増幅された検出信号を、走査信号に同期させ
て画像化することにより、試料Sの電子顕微鏡像(走査電子顕微鏡像、SEM画像)を取得する。表示制御部101は、電子顕微鏡像を所定のフレームレートで逐一リアルタイムに取得し、取得した電子顕微鏡像を表示部120に逐一出力することで、試料Sのライブ画像をタッチパネル(表示部120)に表示させる。
分析エリア設定部102は、ユーザがタッチパネル(入力部110)を用いて指定した前記ライブ画像上の指定位置に基づいて、試料S上の分析エリアを設定する。より詳細には、分析エリア設定部102は、前記指定位置を含み前記指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリア(ライブ画像上のエリア)に対応する試料S上のエリアを分析エリアとして設定する。設定された分析エリアの座標情報(試料ステージ15の座標系における座標値)は、例えば分析エリアの識別情報(ID)に関連付けて記憶部130に記憶される。
分析制御部103は、設定された分析エリアの元素分析を実行する制御を行う。より詳細には、分析制御部103は、記憶部130に記憶された分析エリアの座標情報に基づいて偏向器制御装置20を制御して、設定された分析エリア内で電子線を走査させ、そのときに多重波高分析器23から出力されるEDSスペクトル情報に基づいて当該分析エリアのEDSスペクトルを取得する。
2.本実施形態の手法
次に本実施形態の手法について図面を用いて説明する。
図2は、タッチパネル(入力部110、表示部120)の表示画面SCの一例を示す図である。表示画面SCには、ライブ画像LIが表示されている。ライブ画像LIは、所定のフレームレート(例えば、1/60秒間隔)で常時更新される走査電子顕微鏡像である。ここでは、ライブ画像LIとして、試料である粒子PTの像が表示されている。
ユーザは、指先(タッチペン等でもよい)を表示画面SCに接触させてライブ画像LI上の任意の位置を指定する操作を行うことで、EDSによる元素分析の対象とする試料上のエリア(分析エリア)を設定することができる。具体的には、ユーザがライブ画像LI上の任意の位置を指定する操作を行うと、ライブ画像LIにおける指定された位置(指定位置)を含み指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアが分析エリアとして設定される。
図3を用いて分析エリアの設定手法の一例について説明する。図3は、ライブ画像LIの一部を構成する各ピクセルを模式的に示す図である。図3において矩形で示される各ピクセルの網掛けの濃度は、各ピクセルの輝度を示している。ここでは、ユーザによる指定位置がピクセルP1であったとする。この場合、まず指定位置を含むピクセルP1が分析エリアに対応するライブ画像LI上のエリアとして設定される(図3(A)参照)。次に、ピクセルP1の輝度と、ピクセルP1に隣接するピクセルP2、P3、P4の輝度がそれぞれ比較され、ピクセルP1との輝度差が所定の閾値以下であるピクセル(ここでは、ピクセルP2、P3、P4)が、分析エリアに対応するエリアとして設定される(図3(B)参照)。次に、ピクセルP4(或いはピクセルP2)の輝度と隣接するピクセルP5の輝度、ピクセルP4(或いはピクセルP3)の輝度と隣接するピクセルP6の輝度、ピクセルP4の輝度と隣接するピクセルP7の輝度がそれぞれ比較され、ピクセルP4(ピクセルP2、P3)との輝度差が所定の閾値以下であるピクセル(ここでは、ピクセルP5、P6)が、分析エリアに対応するエリアとして設定される(図3(C)参照)。以降同様に、分析エリアに対応するエリアとして設定されたピクセルとの輝度差が所定の閾値以下である隣接するピクセルが、分析エリアに対応するエリアとして順次設定される。この処理は、分析エリアに対応するエリアとして設定されたピクセル群が、輝度差が所定の
閾値を超えるピクセルに囲まれるか、ライブ画像LIを構成する全てのピクセルの判定(比較)が完了するまで続けられる。図3に示す例では、ライブ画像LI上のピクセルP1〜P6、P8、P9からなるエリア(ピクセル群)に対応する試料上のエリアが分析エリアとして設定される(図3(D)参照)。
例えば、ライブ画像LIにおいて粒子PTは凡そ一様の輝度で表示されるため、図4に示すように、ユーザがライブ画像LI上の粒子PTが表示されている位置を指定する操作を行うと、ライブ画像LI上の粒子PTの表示エリアに対応する試料上のエリアが分析エリアとして自動で設定される。このように、試料中の粒子を分析するための分析エリアを簡単な操作で容易に設定することができる。
ユーザは、所定の操作を行うことで(例えば、タッチパネルに表示されたGUIを操作することで)、観察視野を変更(観察視野の移動、観察倍率の変更)することができる。観察視野が変更されると、変更後の観察視野の電子顕微鏡像がライブ画像LIとして表示され、ユーザは、観察視野が変更されたライブ画像LI上で分析エリアを設定することができる。すなわち、ユーザは観察視野を変更する度にライブ画像LI上の任意の位置を指定する操作を行うことで、異なる観察視野に複数の分析エリアを設定することができる。設定された分析エリアの座標情報は、分析エリアが設定される度に記憶部130に記憶される。
表示画面SCには、分析を開始するための分析開始ボタンSBが表示されている。ユーザが分析開始ボタンSBを指定する操作を行うと、ライブ画像LIの取得(観察視野全面に対する電子線の走査)が停止され、設定された各分析エリアの元素分析が実行される。すなわち、記憶部130に記憶された各分析エリアの座標情報に基づき偏向器制御装置20(及び、必要であればステージ制御装置21)が制御されて各分析エリアが電子線で走査され、各分析エリアのEDSスペクトルが取得される。
このように、本実施形態に係る電子顕微鏡によれば、電子顕微鏡像をその都度保存することなくライブ画像LI上で分析エリアを設定するための操作を行うことができ、また、ライブ画像LI上の任意の位置を指定するだけで、指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを分析エリアとして自動で設定することができ、更に、観察視野を変更しつつ複数の観察視野に分析エリアを設定することができるため、分析エリアを設定する際のユーザの負担を軽減することができる。
なお、分析エリアを設定する際に用いられる閾値を、ユーザが所定の操作を行うことで(例えば、タッチパネルに表示されたGUIを操作することで)任意に設定できるように構成してもよい。この場合、ユーザが1つの閾値Tを任意に設定し、分析エリアに対応するエリアとして設定されたピクセルの輝度Iと隣接するピクセルの輝度Iとの差(I−I)の絶対値が閾値T以下である場合に、当該隣接するピクセルを分析エリアに対応するエリアとして設定するようにしてもよい。また、ユーザが下限値である第1の閾値Tと上限値である第2の閾値Tをそれぞれ任意に設定し、分析エリアに対応するエリアとして設定されたピクセルの輝度Iと隣接するピクセルの輝度Iとの差(I−I)が第1の閾値T以上であり且つ第2の閾値T以下である場合に、当該隣接するピクセルを分析エリアに対応するエリアとして設定するようにしてもよい。
また、分析エリアを設定する際に、ピクセル間の輝度を比較することに代えて、複数のピクセルからなるエリア間の輝度を比較するようにしてもよい。例えば、指定位置を含む所定形状のエリアの平均輝度と隣接する同形状のエリアの平均輝度とを比較するようにしてもよい。この場合、基準となる輝度を抽出する当該エリアの形状(例えば、矩形、円)や大きさを、ユーザが所定の操作を行うことで(例えば、タッチパネルに表示されたGU
Iを操作することで)任意に設定できるように構成してもよい。
また、分析エリアを設定する際に、ライブ画像LIを二値化して二値化画像を生成し、二値化画像において指定位置を含み指定位置の輝度(0又は1)と同一の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを分析エリアとして設定してもよい。
3.処理
次に、本実施形態に係る電子顕微鏡の処理の一例について図5のフローチャートを用いて説明する。
まず、表示制御部101は、試料Sの電子顕微鏡像を取得してライブ画像LIとして表示部120に表示させる制御を行う(ステップS10)。
次に、分析エリア設定部102は、ライブ画像LI上の位置を指定する入力があったか否かを判断し(ステップS12)、当該入力があった場合(ステップS12のY)には、当該入力で指定された指定位置を含み指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを分析エリアとして設定し、当該分析エリアの座標情報を記憶部130に記憶させる制御を行う(ステップS14)。例えば、分析エリア設定部102は、まず、指定位置を含むライブ画像LI上のエリア(ピクセル)を分析エリアに対応するエリアとして設定する。次に、分析エリアに対応するエリアとして設定したエリアの輝度と当該エリアと隣接するエリアの輝度との差が所定の閾値以下である場合に、当該隣接するエリアを分析エリアに対応するエリアとして設定し、以降、条件を満たすエリア(輝度差が閾値以下の隣接するエリア)がなくなるまでこの処理を繰り返す。
次に、処理部100は、観察視野を変更するための入力があったか否かを判断し(ステップS16)、当該入力があった場合(ステップS16のY)には、当該入力に基づいて、ステージ制御装置21に制御信号を送信して観察視野を移動する制御、或いは、偏向器制御装置20に制御信号を送信して観察倍率を変更する制御を行う(ステップS18)。
次に、分析制御部103は、分析を開始するための入力があったか否かを判断する(ステップS20)。当該入力がなかった場合(ステップS20のN)には、ステップS10に移行する。当該入力があった場合(ステップS20のY)には、記憶部130に記憶された分析エリアの座標情報に基づいて偏向器制御装置20やステージ制御装置21を制御して、分析エリアを電子線で走査させ、そのときに検出された特性X線の検出値に基づくEDSスペクトルを取得する(ステップS22)。なお、分析エリアが複数設定されている場合には、ステップS22において、複数の分析エリアについて順次電子線を走査して、各分析エリアのEDSスペクトルを順次取得する。
なお、本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
1…電子顕微鏡、10…電子顕微鏡本体、11…電子源、12…集束レンズ、13…偏向器、14…対物レンズ、15…試料ステージ、16…電子検出器、17…EDS検出器、20…偏向器制御装置、21…ステージ制御装置、22…増幅器、23…多重波高分析器
、100…処理部、101…表示制御部、102…分析エリア設定部、103…分析制御部、110…入力部、120…表示部、130…記憶部、S…試料

Claims (5)

  1. 試料の元素分析を行う電子顕微鏡であって、
    試料の電子顕微鏡像を逐一取得してライブ画像として表示部に表示させる表示制御部と、
    ポインティング手段によって指定された前記ライブ画像上の指定位置に基づいて、試料上の分析エリアを設定する分析エリア設定部と、
    設定された前記分析エリアの元素分析を実行する制御を行う分析制御部とを含み、
    前記分析エリア設定部は、
    前記指定位置を含み前記指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを前記分析エリアとして設定する、電子顕微鏡。
  2. 請求項1において、
    前記分析エリア設定部は、
    前記指定位置を含むエリアの輝度と当該エリアと隣接するエリアの輝度との差が所定の閾値以下である場合に、当該隣接するエリアに対応する試料上のエリアを前記分析エリアとして設定する、電子顕微鏡。
  3. 請求項2において、
    前記分析エリア設定部は、
    ユーザの入力に基づいて前記閾値を設定する、電子顕微鏡。
  4. 請求項1乃至3のいずれか1項において、
    前記分析制御部は、
    設定された前記分析エリアを電子線で走査させ、そのときに検出された放射線の検出信号に基づくスペクトルを取得する、電子顕微鏡。
  5. 試料の元素分析を行う電子顕微鏡を制御する制御方法であって、
    試料の電子顕微鏡像を逐一取得してライブ画像として表示部に表示させる表示制御工程と、
    ポインティング手段によって指定された前記ライブ画像上の指定位置に基づいて、試料上の分析エリアを設定する分析エリア設定工程と、
    設定された前記分析エリアの元素分析を実行する制御を行う分析制御工程とを含み、
    前記分析エリア設定工程では、
    前記指定位置を含み前記指定位置の輝度と同程度の輝度を有する連続したエリアに対応する試料上のエリアを前記分析エリアとして設定する、制御方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE102020102502A1 (de) 2020-01-31 2021-08-05 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren, Teilchenstrahlsystem und Computerprogrammprodukt zur energiedispersiven Röntgenspektroskopie
TWI862292B (zh) * 2023-11-21 2024-11-11 技嘉科技股份有限公司 可調整灰階值的顯示裝置及其顯示方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3654551B2 (ja) 1997-03-20 2005-06-02 株式会社堀場製作所 エネルギー分散型x線マイクロアナライザ
WO2000041206A1 (fr) * 1999-01-04 2000-07-13 Hitachi, Ltd. Dispositif de mappage d'elements, microscope electronique a transmission et a balayage, et procede associe
JP2003007245A (ja) 2001-06-19 2003-01-10 Nippon Denshi Eng Kk 元素マッピング装置
US9633819B2 (en) * 2011-05-13 2017-04-25 Fibics Incorporated Microscopy imaging method and system
EP2620909B1 (en) 2012-01-24 2014-12-24 General Electric Company Method, system and computer readable medium for automatic segmentation of a medical image
JP6403213B2 (ja) 2015-04-27 2018-10-10 日本電子株式会社 制御装置、制御方法、および分析システム
CN109906497B (zh) * 2016-11-22 2021-07-20 株式会社日立高新技术 带电粒子束装置以及试样观察方法

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