JP2018188627A - エピラム処理剤およびそのようなエピラム処理剤を用いたエピラム処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも1つの化合物を含有する、エピラム処理剤であって、該化合物にエピラム特性を付与するように配置された少なくとも疎水性および疎油性の部分と、該化合物を水性媒体に可溶性にするように配置された少なくとも1つの親水性部分とを含んでなり、該親水性部分は少なくとも1つの切断可能な基によって該化合物と結合している、エピラム処理剤。
【選択図】なし
Description
Mは
[式中、
R1、R2、R3は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、H、C1−C10アルキル基、C1−C10アルケニル基、好ましくは、H、CH3であり;
W、Xは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ヘテロ原子からまたは少なくとも1つの炭素原子を含んでなりかつ少なくとも1つのヘテロ原子を含んでよい直鎖状または分岐状の炭化水素鎖から形成されたスペーサーアームであり;
Yは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、少なくとも1つの切断可能な基を含んでなる部分であり;
Aは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、該コポリマーを水性媒体に可溶性にするように配置された親水性部分であり;
Lは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ハロゲン化された、好ましくは、フッ素化された、C1−C20炭素部分であり;
Qは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、H、CH3、少なくとも1つの炭素原子を含んでなりかつ少なくとも1つのヘテロ原子を含んでよい、好ましくは、Aとは異なる、直鎖状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素鎖である]
コポリマーも含んでなる。
a)少なくとも50容量%の水を含む溶液中に、上記で定義した少なくとも1つのエピラム処理剤を可溶化するかまたは上記で定義した少なくとも1つのコポリマーを含めることにより、エピラム処理浴を調製する工程、
b)任意選択により、基体表面を調製する工程、
c)その基体表面を前記エピラム処理浴中で前記エピラム処理剤と接触させる工程、
d)任意選択により、乾燥させる工程、
e)開裂により前記エピラム処理剤から前記親水性部分を分離する工程、
f)前記基体表面を洗い流す工程、
g)乾燥させる工程
を含む方法に関する。
−ニトロベンジルエステルから誘導されるUV切断可能な部分、
−熱切断可能なディールス・アルダー付加物、
−機械的刺激(例えば、超音波)により切断可能な基、
−酵素切断可能な基、例えば、エステラーゼ酵素、
−および化学的トリガーにより切断可能なジチオ官能基を含んでなる部分、
となるようなもの
を含む群から選択される。
Mは
[式中、
R1、R2、R3は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、H、C1−C10アルキル基、C1−C10アルケニル基、好ましくは、H、CH3であり;
W、Xは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ヘテロ原子からまたは少なくとも1つの炭素原子を含んでなりかつ少なくとも1つのヘテロ原子を含んでよい直鎖状または分岐状の炭化水素鎖から形成されたスペーサーアームであり;
Yは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、少なくとも1つの切断可能な基を含んでなる部分であり;
Aは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、該コポリマーを水性媒体に可溶性にするように配置された親水性部分であり;
Lは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ハロゲン化された、好ましくは、フッ素化された、C1−C20炭素部分であり;
Qは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、H、CH3、少なくとも1つの炭素原子を含んでなりかつ少なくとも1つのヘテロ原子を含んでよい、好ましくは、Aとは異なる、直鎖状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素鎖である]
コポリマーも含んでなる。
ここで、Gは
R4は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、C1−C10アルキル、C1−C10アルケニル基、好ましくは、H、CH3であり;
Zは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ヘテロ原子からまたは少なくとも1つの炭素原子を含んでなりかつ少なくとも1つのヘテロ原子を含んでよい直鎖状または分岐状の炭化水素鎖から形成されたスペーサーアームであり;
Aは、上記で定義した通りである]
である。
a)少なくとも50容量%の水、好ましくは少なくとも75容量%の水、より選好的には、100容量%の水を含む溶液中に、上記で定義した少なくとも1つのエピラム処理剤を可溶化するかまたは上記で定義した少なくとも1つのコポリマーを含めることにより、エピラム処理浴を調製する工程、
b)任意選択により、特に、標準的な時計製造業者の方法に従って洗浄することにより基体表面を調製する工程、
c)その基体表面を前記エピラム処理浴中で前記エピラム処理剤と接触させる工程、
d)任意選択により、乾燥させる工程
e)例えば、以下に記載するような少なくとも1つの個別、連続または同時の切断処理によって、前記切断可能な基を切断することにより前記エピラム処理剤から前記親水性部分を分離する工程、
f)前記基体表面を洗い流す工程
g)乾燥させる工程
を含む、方法に関する。
−M単位からなる少なくとも1つのブロックを形成することが可能なモノマーと、
−N単位からなる少なくとも1つのブロックを形成することが可能なモノマー、および任意選択により、少なくとも1つのP単位を形成することが可能なモノマーと
の制御された逐次共重合である。
Claims (47)
- 少なくとも1つの化合物を含有する、エピラム処理剤であって、
該化合物にエピラム特性を付与するように配置された少なくとも疎水性および疎油性の部分と、該化合物を水性媒体に可溶性にするように配置された少なくとも1つの親水性部分とを含んでなり、該親水性部分は少なくとも1つの切断可能な基によって該化合物と結合している、エピラム処理剤。 - 前記疎水性および疎油性の部分は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ハロゲン化されたC1−C20炭素部分を含むことを特徴とする、請求項1に記載のエピラム処理剤。
- 前記疎水性および疎油性の部分は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、フッ素化されたC1−C20炭素部分を含むことを特徴とする、請求項2に記載のエピラム処理剤。
- 前記親水性部分は、グリコールエーテルから誘導される部分、アミンから誘導される部分、アルコールから、カルボン酸から、スルホン酸から、ホスホン酸から、カルボン酸塩から、スルホン酸塩から、およびホスホン酸塩から誘導される部分を含む群から選択されることを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれかに記載のエピラム処理剤。
- グリコールエーテルから誘導される前記部分は、ポリエーテルから誘導される部分の形態をとることを特徴とする、請求項4に記載のエピラム処理剤。
- ポリエーテルから誘導される前記部分は、ポリエチレングリコール(PEG)から誘導される部分であることを特徴とする、請求項5に記載のエピラム処理剤。
- ポリエーテルから誘導される前記部分は、ポリプロピレングリコール(PPG)から誘導される部分であることを特徴とする、請求項5に記載のエピラム処理剤。
- アミンから誘導される前記部分は、ポリアミンから誘導される部分の形態をとることを特徴とする、請求項4に記載のエピラム処理剤。
- 前記切断可能な基は、UV処理、熱処理、機械的刺激処理、酵素処理、および化学的トリガー処理を含む群から選択される処理の少なくとも1つによって切断され得る基であることを特徴とする、請求項1から請求項8のいずれかに記載のエピラム処理剤。
- 前記切断可能な基は、ニトロベンジルエステルから誘導される部分、ディールス・アルダー付加物、およびジチオ官能基を含んでなる部分を含む群から選択されることを特徴とする、請求項9に記載のエピラム処理剤。
- 前記関連親水性部分を有する前記切断可能な基は、前記化合物と直鎖状または分岐状の構造を形成することを特徴とする、請求項1から請求項10のいずれかに記載のエピラム処理剤。
- 前記疎水性および疎油性の部分は、前記化合物と直鎖状または分岐状の構造を形成することを特徴とする、請求項1から請求項11のいずれかに記載のエピラム処理剤。
- それらの主鎖による共有結合によって連結された、M単位と、N単位と、任意選択により、少なくとも1つのP単位とを含んでなるコポリマーであって、ここで、
Mは
であり、Nは
であり、Pは
である
[式中、
R1、R2、R3は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、H、C1−C10アルキル基、C1−C10アルケニル基であり;
W、Xは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ヘテロ原子からまたは少なくとも1つの炭素原子を含んでなりかつ少なくとも1つのヘテロ原子を含んでよい直鎖状または分岐状の炭化水素鎖から形成されたスペーサーアームであり;
Yは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、少なくとも1つの切断可能な基を含んでなる部分であり;
Aは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、該コポリマーを水性媒体に可溶性にするように配置された親水性部分であり;
Lは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、ハロゲン化されたC1−C20炭素部分であり;
Qは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、H、CH3、少なくとも1つの炭素原子を含んでなりかつ少なくとも1つのヘテロ原子を含んでよい直鎖状または分岐状の、飽和または不飽和の炭化水素鎖である]
、コポリマー。 - R1、R2、R3は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、HまたはCH3であることを特徴とする、請求項13に記載のコポリマー。
- Lは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、フッ素化されたC1−C20炭素部分であることを特徴とする、請求項13に記載のコポリマー。
- それらの主鎖による共有結合によって連結された、少なくとも1つのP単位を任意選択により含んでなる、N単位からなる少なくとも1つのブロックと、該コポリマーを水性媒体に可溶性にするように配置された少なくとも1つの親水性部分を含んでなる少なくとも1つのブロックとを含んでなり、該ブロックは、少なくとも1つの切断可能な基Yにより共有結合によって互いに結合している(ここで、N、PおよびYは上記で定義した通りである)、ブロックコポリマー。
- グリコールエーテルから誘導される前記A’部分は、ポリエーテルから誘導される部分の形態をとることを特徴とする、請求項17に記載のブロックコポリマー。
- ポリエーテルから誘導される前記A’部分は、ポリエチレングリコール(PEG)から誘導される部分であることを特徴とする、請求項18に記載のブロックコポリマー。
- ポリエーテルから誘導される前記A’部分は、ポリプロピレングリコール(PPG)から誘導される部分であることを特徴とする、請求項18に記載のブロックコポリマー。
- アミンから誘導される前記A’部分は、ポリアミンから誘導される部分の形態をとることを特徴とする、請求項17に記載のブロックコポリマー。
- R4は、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、H、CH3であることを特徴とする、請求項22に記載のブロックコポリマー。
- W、X、Zは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、C1−C20エステル基、アミド基、およびスチレンから誘導される基を含む群から選択されることを特徴とする、請求項13から請求項23のいずれかに記載のコポリマー。
- W、X、Zは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、C2−C10エステル基であることを特徴とする、請求項24に記載のコポリマー。
- Yは、UV処理、熱処理、機械的刺激処理、酵素処理、および化学的トリガー処理を含む群から選択される処理の少なくとも1つによって切断され得る基を含んでなる部分であることを特徴とする、請求項13から請求項25のいずれかに記載のコポリマー。
- Yは、ニトロベンジルエステルから誘導される部分、ディールス・アルダー付加物、およびジチオ官能基を含んでなる部分を含む群から選択される切断可能な基を含んでなる部分であることを特徴とする、請求項26に記載のコポリマー。
- Aは、グリコールエーテルから誘導される部分、アミンから誘導される部分、アルコールから、カルボン酸から、スルホン酸から、ホスホン酸から、カルボン酸塩から、スルホン酸塩から、およびホスホン酸塩から誘導される部分を含む群から選択される親水性部分であることを特徴とする、請求項13から請求項27のいずれかに記載のコポリマー。
- グリコールエーテルから誘導される前記A部分は、ポリエーテルから誘導される部分の形態をとることを特徴とする、請求項28に記載のコポリマー。
- ポリエーテルから誘導される前記A部分は、ポリエチレングリコール(PEG)から誘導される部分であることを特徴とする、請求項29に記載のコポリマー。
- ポリエーテルから誘導される前記A部分は、ポリプロピレングリコール(PPG)から誘導される部分であることを特徴とする、請求項29に記載のコポリマー。
- アミンから誘導される前記A部分は、ポリアミンから誘導される部分の形態をとることを特徴とする、請求項28に記載のコポリマー。
- LはC2−C20炭素部分であることを特徴とする、請求項13から請求項32のいずれかに記載のコポリマー。
- LはC4−C10炭素部分であることを特徴とする、請求項33に記載のコポリマー。
- Lは少なくとも部分的にフッ素化された部分であることを特徴とする、請求項13から請求項34のいずれかに記載のコポリマー。
- Lは完全にフッ素化された部分であることを特徴とする、請求項35に記載のコポリマー。
- Qは、同一であってもよくまたは異なっていてもよく、アンカー部分を形成し、かつチオール、チオエーテル、チオエステル、スルフィド、チオアミド、シラノール、アルコキシシラン、ハロゲン化シラン、ヒドロキシル、ホスフェート、保護または非保護のホスホン酸、保護または非保護のホスホネート、アミン、アンモニウム、含窒素複素環、カルボン酸、無水物、カテコールを含む群から選択されることを特徴とする、請求項13から請求項36のいずれかに記載のコポリマー。
- 前記化合物は請求項13から請求項37のいずれかに記載のコポリマーである、請求項1に記載のエピラム処理剤。
- 少なくとも50容量%の水と、請求項1から請求項12または請求項38のいずれかに記載の可溶化されるエピラム処理剤とを含んでなる、エピラム処理浴。
- 基体表面の少なくとも一部分をエピラムでコーティングするための方法であって:
a)少なくとも50容量%の水を含む溶液中に、請求項1から請求項12のいずれかに記載の少なくとも1つのエピラム処理剤を可溶化するかまたは請求項13から請求項37に記載の少なくとも1つのコポリマーを含めることにより、エピラム処理浴を調製する工程、
b)任意選択により、基体表面を調製する工程、
c)その基体表面を前記エピラム処理浴中で前記エピラム処理剤と接触させる工程、
d)任意選択により、乾燥させる工程、
e)開裂により前記エピラム処理剤から前記親水性部分を分離する工程、
f)前記基体表面を洗い流す工程、
g)乾燥させる工程
を含む、方法。 - 前記親水性部分から前記親水性残基がなくなるまで工程e)およびf)を繰り返すことを特徴とする、請求項40に記載のエピラム処理方法。
- 工程f)は、少なくとも50%の水を含む溶液中で行われることを特徴とする、請求項40および請求項41のいずれかに記載のエピラム処理方法。
- その少なくとも一部がエピラムでコーティングされた表面を有する基体であって、該エピラムは、請求項1から請求項12のいずれかに記載のエピラム処理剤を開裂させるかまたは請求項13から請求項37に記載の少なくとも1つのコポリマーを含めることにより得られ、該エピラムは、少なくとも疎水性および疎油性の部分と、少なくとも1つの親水性部分を前記化合物に連結するために使用された切断可能な基の少なくとも1つの残部とを含む少なくとも1つの化合物を含有することを特徴とする、基体。
- 前記エピラムは、それらの主鎖による共有結合によって連結された、N単位、および任意選択により、少なくとも1つのP単位と、切断可能な基の少なくとも1つの残部とを含んでなるコポリマー(ここで、NおよびPは上記で定義した通りである)の形態の少なくとも1つの化合物を含んでなることを特徴とする、請求項43に記載の基体。
- 前記切断可能な基の残部は、前記コポリマーの主鎖の末端または前記コポリマーの側鎖の末端にあることを特徴とする、請求項44に記載の基体。
- その少なくとも一部が前記エピラムでコーティングされたその表面は、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属ホウ化物、金属炭化物、ポリマー、ダイヤモンド、サファイア、ルビー、石英、ケイ素、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)、およびそれらの合金を含む群から選択される材料から作られていることを特徴とする、請求項43から請求項45のいずれかに記載の基体。
- 請求項43から請求項46のいずれかに記載の基体を含んでなる要素を含んでなる時計または宝飾品部品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP17169633 | 2017-05-05 | ||
| EP17169633.9 | 2017-05-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018188627A true JP2018188627A (ja) | 2018-11-29 |
| JP6709820B2 JP6709820B2 (ja) | 2020-06-17 |
Family
ID=58692384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018081181A Active JP6709820B2 (ja) | 2017-05-05 | 2018-04-20 | エピラム処理剤およびそのようなエピラム処理剤を用いたエピラム処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11117162B2 (ja) |
| EP (1) | EP3398978B1 (ja) |
| JP (1) | JP6709820B2 (ja) |
| CN (1) | CN108795210B (ja) |
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2018
- 2018-04-17 EP EP18167793.1A patent/EP3398978B1/fr active Active
- 2018-04-20 JP JP2018081181A patent/JP6709820B2/ja active Active
- 2018-05-03 US US15/970,013 patent/US11117162B2/en active Active
- 2018-05-04 CN CN201810418489.2A patent/CN108795210B/zh active Active
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| JP2016188358A (ja) * | 2015-03-18 | 2016-11-04 | ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド | エピラム化剤でコーティングされた表面を含む基板およびこのような基板のエピラム化のための方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6709820B2 (ja) | 2020-06-17 |
| EP3398978B1 (fr) | 2020-03-11 |
| EP3398978A1 (fr) | 2018-11-07 |
| CN108795210B (zh) | 2022-02-25 |
| US20180318872A1 (en) | 2018-11-08 |
| US11117162B2 (en) | 2021-09-14 |
| CN108795210A (zh) | 2018-11-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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|
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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