JP2018170327A - Manufacturing method of resin molded product and manufacturing method of optical component - Google Patents
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Abstract
【課題】インプリント成型において、硬化前後で位置ずれが起こりにくい樹脂成型品の製造方法を提供する。【解決手段】インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状部を有するモールドである第1の基板と、第2の基板とが、硬化性組成物を挟み込むように重ね合わせられた積層物を準備する積層物準備工程、及び、前記積層物を、前記パターン形状部の水平面端部と前記積層物の厚み方向に重なる部分Aの温度が0℃を超えて30℃以下であり、且つ前記パターン形状部の水平面中心と前記積層物の厚み方向に重なる部分Bの温度が前記部分Aの温度の10〜90%の温度である温度制御板上に載置した状態で、光照射により前記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a resin molded product in which misalignment is unlikely to occur before and after curing in imprint molding. SOLUTION: This is a method of manufacturing a resin molded product by imprint molding, in which a first substrate, which is a mold having a pattern-shaped portion, and a second substrate are superposed so as to sandwich a curable composition. The temperature of the laminate preparation step for preparing the laminated laminate and the temperature of the portion A where the horizontal surface end portion of the pattern-shaped portion and the portion A overlapping in the thickness direction of the laminate exceeds 0 ° C. and 30 ° C. or lower. Light is placed on a temperature control plate in which the temperature of the portion B overlapping the horizontal center of the pattern-shaped portion in the thickness direction of the laminate is 10 to 90% of the temperature of the portion A. It has a curing step of curing the curable composition by irradiation to obtain a resin molded product. [Selection diagram] Fig. 1
Description
本発明は、樹脂成型品の製造方法、及び光学部品の製造方法に関する。より詳細には、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法、及び該樹脂成型品を用いて光学部品を製造する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a resin molded product and a method for producing an optical component. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a resin molded product by imprint molding and a method for manufacturing an optical component using the resin molded product.
近年、携帯電話、スマートフォンをはじめとする、モバイル電子機器について、センサーやカメラを搭載することによる製品価値の向上が進んでいる。年々、小型化、薄型化が進み、それらに使用されるレンズ等の光学部品も、より小型で、より薄型のものが求められている。そのような要求に対して、従来、射出成型によって光学部品を製造することで対応してきたが、射出成型法では小型化、薄型化への対応に限界がきている。そこで、射出成型法に代わる新たな成型方法としてインプリント成型技術が注目を浴びている(特許文献1参照)。 In recent years, mobile electronic devices such as mobile phones and smartphones have been improved in product value by mounting sensors and cameras. Every year, miniaturization and thinning have progressed, and optical components such as lenses used for them have been required to be smaller and thinner. Conventionally, such demands have been dealt with by manufacturing optical parts by injection molding, but the injection molding method has a limit in dealing with downsizing and thinning. Therefore, an imprint molding technique is attracting attention as a new molding method that replaces the injection molding method (see Patent Document 1).
一般的に、インプリント成型等により硬化性組成物を硬化させた場合、得られる樹脂成型品は硬化前の硬化性組成物に対して収縮する。これにより、得られる樹脂成型品の大きさがモールドの型よりも小さくなるという問題や、樹脂成型品中の各部位の位置が硬化前後でずれ、モールドの型に反映された設計時の位置からずれるという問題等がある。特に、インプリント成型により一度の成型で複数の製品の集合体を形成する場合、中心部からの距離が遠い製品ほど、硬化前後での位置ずれが大きくなり、設計時の位置(硬化前の位置)よりも中心部に近くなる傾向がある。 Generally, when a curable composition is cured by imprint molding or the like, the resulting resin molded product contracts with respect to the curable composition before curing. As a result, there is a problem that the size of the resin molded product obtained is smaller than the mold of the mold, and the position of each part in the resin molded product is shifted before and after curing, from the design position reflected in the mold of the mold. There is a problem of shifting. In particular, when an assembly of multiple products is formed by a single molding by imprint molding, as the product is far from the center, the positional deviation before and after curing increases, and the position at the time of design (position before curing) ) Tends to be closer to the center.
インプリント成型により一度の成型で複数の製品の集合体を形成する際、硬化後は、ダイシングにより個々の製品に裁断され、その後個々の製品としてピックアップされる。ここで、各製品の位置が設計時の位置よりも大きくずれている場合、裁断時には裁断箇所がずれる、ピックアップ時にはうまく製品をピックアップできないといった問題が生じることがあった。 When an aggregate of a plurality of products is formed by a single molding by imprint molding, after curing, the product is cut into individual products by dicing and then picked up as individual products. Here, when the position of each product is greatly deviated from the position at the time of design, there is a problem that the cutting position is shifted at the time of cutting, and the product cannot be picked up well at the time of picking up.
近年、上記光学部品等は、さらなる高い精度が求められている。例えば、中心部から30mm程度の位置の製品では硬化前後で20μm程度のずれが生じることがある。紫外線照射で硬化させて複数の製品の集合体を成型する場合、この程度のずれであればこれまで問題とされていなかったが、近年ではそれ以上の位置精度が求められる傾向がある。 In recent years, the optical parts and the like are required to have higher accuracy. For example, in a product at a position about 30 mm from the center, a deviation of about 20 μm may occur before and after curing. In the case of molding an assembly of a plurality of products by being cured by ultraviolet irradiation, this degree of deviation has not been regarded as a problem so far, but in recent years there is a tendency to require more positional accuracy.
従って、本発明の目的は、インプリント成型において、硬化前後で位置ずれが起こりにくい樹脂成型品の製造方法、及び該樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a resin molded product in which positional displacement hardly occurs before and after curing in imprint molding, and a method for producing an optical component using the resin molded product.
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法において、パターン形状部の水平面端部に重なる部分の温度が0℃を超えて30℃以下であり且つパターン形状部の水平面中心と重なる部分の温度が上記水平面端部に重なる部分の温度の10〜90%の温度に設定された温度制御板上に、硬化性組成物が充填されたモールドを載置した状態で、該硬化性組成物を光照射することにより、得られる樹脂成型品の硬化前後での位置ずれを起こりにくくすることができることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor, in a method for producing a resin molded product by imprint molding, the temperature of the portion overlapping the horizontal end of the pattern shape portion exceeds 0 ° C. and is 30 ° C. or less. The mold is filled with the curable composition on the temperature control plate in which the temperature of the portion overlapping the center of the horizontal plane of the pattern shape portion is set to 10 to 90% of the temperature of the portion overlapping the end portion of the horizontal plane. It has been found that by irradiating the curable composition with light in a state where the resin is placed, it is possible to make it difficult to cause a positional shift before and after curing of the resin molded product to be obtained. The present invention has been completed based on these findings.
すなわち、本発明は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状部を有するモールドである第1の基板と、第2の基板とが、硬化性組成物を挟み込むように重ね合わせられた積層物を準備する積層物準備工程、及び、前記積層物を、前記パターン形状部の水平面端部と前記積層物の厚み方向に重なる部分Aの温度が0℃を超えて30℃以下であり、且つ前記パターン形状部の水平面中心と前記積層物の厚み方向に重なる部分Bの温度が前記部分Aの温度の10〜90%の温度である温度制御板上に載置した状態で、光照射により前記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程を有する、樹脂成型品の製造方法を提供する。 That is, the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, wherein the first substrate, which is a mold having a pattern shape portion, and the second substrate sandwich the curable composition. A laminate preparing step for preparing a stacked laminate, and a temperature of a portion A that overlaps the horizontal plane end of the pattern shape portion and the thickness direction of the laminate in the laminate is over 30 ° C. And in a state where the temperature of the portion B overlapping the center of the horizontal plane of the pattern shape portion and the thickness direction of the laminate is 10 to 90% of the temperature of the portion A. The manufacturing method of the resin molded product which has a hardening process which hardens the said curable composition by light irradiation and obtains a resin molded product is provided.
前記モールドが有するパターン形状部の水平面の形状のアスペクト比は0.1〜1であることが好ましい。 It is preferable that the aspect ratio of the horizontal shape of the pattern shape portion of the mold is 0.1-1.
前記硬化工程において、前記温度制御板は、前記部分Bから前記部分Aにかけて温度が高くなるようにグラデーションをなしていることが好ましい。 In the curing step, the temperature control plate preferably has a gradation so that the temperature increases from the portion B to the portion A.
前記硬化性組成物はエポキシ化合物を含有することが好ましい。 The curable composition preferably contains an epoxy compound.
前記モールドはシリコーン系樹脂製であることが好ましい。 The mold is preferably made of silicone resin.
前記モールドにおけるパターン形状が凹凸形状であり、凹部最底部と凸部最頂部の高低差が0.05mm以上であることが好ましい。 It is preferable that the pattern shape in the mold is a concavo-convex shape, and the height difference between the bottom of the concave portion and the top of the convex portion is 0.05 mm or more.
前記樹脂成型品はマイクロレンズアレイであることが好ましい。 The resin molded product is preferably a microlens array.
また、本発明は、前記樹脂成型品の製造方法により得られる樹脂成型品を用いた光学部品の製造方法を提供する。 Moreover, this invention provides the manufacturing method of the optical component using the resin molded product obtained by the manufacturing method of the said resin molded product.
本発明の樹脂成型品の製造方法によれば、得られる樹脂成型品の硬化前後での位置ずれを起こりにくくすることができる。例えば、中心部から30mm程度の位置では、硬化前後でのずれを20μm未満とすることが可能となる。このため、本発明の樹脂成型品の製造方法は、特に高い位置精度が求められる、複数の製品の集合体(特に、複数の光学部品(光学素子)の集合体)の製造に特に適する。 According to the method for producing a resin molded product of the present invention, it is possible to make it difficult to cause a positional shift before and after curing of the obtained resin molded product. For example, at a position about 30 mm from the center, the deviation before and after curing can be made less than 20 μm. For this reason, the manufacturing method of the resin molded product of this invention is especially suitable for manufacture of the aggregate | assembly (especially the aggregate | assembly of a some optical component (optical element)) of several products in which especially high positional accuracy is calculated | required.
図1に、本発明の樹脂成型品の製造方法の一実施形態を示す。図1に示す本発明の樹脂成型品の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であって、パターン形状部を有するモールドである第1の基板と、第2の基板とが、硬化性組成物を挟み込むように重ね合わせられた積層物を準備する積層物準備工程S1、及び、上記積層物を、上記パターン形状部の水平面端部と上記積層物の厚み方向に重なる部分Aの温度が0℃を超えて30℃以下であり、且つ上記パターン形状部の水平面中心と上記積層物の厚み方向に重なる部分Bの温度が上記部分Aの温度の10〜90%の温度である温度制御板上に載置した状態で、光照射により上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る硬化工程S2を有する。なお、本明細書において、本発明の樹脂成型品の製造方法を、単に「本発明の製造方法」と称する場合がある。また、上記温度制御板中の、上記パターン形状部の水平面端部と積層物の厚み方向に重なる部分を「部分A」、上記パターン形状部の上記水平面中心と上記積層物の厚み方向に重なる部分を「部分B」と称する場合がある。 In FIG. 1, one Embodiment of the manufacturing method of the resin molded product of this invention is shown. The method for producing a resin molded product of the present invention shown in FIG. 1 is a method for producing a resin molded product by imprint molding, and includes a first substrate that is a mold having a pattern shape portion, and a second substrate. A laminate preparation step S1 for preparing a laminate laminated so as to sandwich the curable composition, and a portion A in which the laminate is overlapped in the thickness direction of the laminate and the horizontal end portion of the pattern shape portion The temperature of the part B that overlaps the horizontal plane center of the pattern shape part and the thickness direction of the laminate is 10% to 90% of the temperature of the part A. In a state of being placed on the temperature control plate, there is a curing step S2 in which the curable composition is cured by light irradiation to obtain a resin molded product. In the present specification, the method for producing a resin molded product of the present invention may be simply referred to as “the production method of the present invention”. Further, in the temperature control plate, a portion overlapping the horizontal plane end of the pattern shape portion and the thickness direction of the laminate is “part A”, and a portion overlapping the horizontal plane center of the pattern shape portion and the thickness direction of the laminate. May be referred to as “part B”.
上述のように、本発明の製造方法は、インプリント成型により樹脂成型品を製造する方法であり、基板に樹脂成型品を形成する硬化性組成物を塗布し、塗布された硬化性組成物を挟み込むように他の基板を重ね合わせ、その後上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を製造する。なお、少なくとも一方の基板(第1の基板)としてパターン形状部を有するモールド(以下、単に「モールド」と称する場合がある)を用いる。 As described above, the production method of the present invention is a method for producing a resin molded product by imprint molding, and a curable composition for forming a resin molded product is applied to a substrate, and the applied curable composition is applied. Another substrate is stacked so as to be sandwiched, and then the curable composition is cured to produce a resin molded product. Note that a mold having a pattern shape portion (hereinafter sometimes simply referred to as “mold”) is used as at least one of the substrates (first substrate).
(積層物準備工程)
上記積層物準備工程S1では、パターン形状部を有するモールドである第1の基板と、第2の基板とが、硬化性組成物を挟み込むように重ね合わせられた積層物を準備する。
(Laminate preparation process)
In the laminate preparation step S1, a laminate is prepared in which a first substrate, which is a mold having a pattern shape portion, and a second substrate are stacked so as to sandwich the curable composition.
上記硬化性組成物は、硬化性の化合物(硬化性化合物)を含有する。上記硬化性組成物としては、公知乃至慣用のインプリント成型に用いられる組成物を使用することができ、目的とする樹脂成型品の種類に応じて適宜選択される。上記硬化性化合物としては、例えば、カチオン硬化性化合物、ラジカル硬化性化合物、アニオン硬化性化合物等が挙げられる。上記カチオン硬化性化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)、オキセタニル基を有する化合物(オキセタン化合物)、ビニルエーテル基を有する化合物(ビニルエーテル化合物)が挙げられ、好ましくはエポキシ化合物である。上記硬化性組成物がエポキシ化合物を含む場合、硬化前後の位置ずれがよりいっそう起こりにくい。上記硬化性化合物は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。 The curable composition contains a curable compound (curable compound). As said curable composition, the composition used for well-known thru | or usual imprint molding can be used, According to the kind of the target resin molded product, it selects suitably. Examples of the curable compound include a cationic curable compound, a radical curable compound, and an anion curable compound. Examples of the cationic curable compound include an epoxy group-containing compound (epoxy compound), an oxetanyl group-containing compound (oxetane compound), and a vinyl ether group-containing compound (vinyl ether compound), and preferably an epoxy compound. When the said curable composition contains an epoxy compound, the position shift before and behind hardening is much less likely to occur. The said curable compound may use only 1 type and may use 2 or more types.
上記エポキシ化合物としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。 As said epoxy compound, the well-known thru | or usual compound which has 1 or more epoxy groups (oxirane ring) in a molecule | numerator can be used, Although it does not specifically limit, For example, an alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin) ), Aromatic epoxy compounds (aromatic epoxy resins), aliphatic epoxy compounds (aliphatic epoxy resins), and the like.
上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy compound include known or conventional compounds having one or more alicyclic rings and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. For example, (1) A compound having an epoxy group (referred to as “alicyclic epoxy group”) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring; (2) the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring by a single bond. (3) compounds having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like.
上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。
上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。なお、式(i)におけるシクロヘキサン環(シクロヘキセンオキシド基)を構成する炭素原子の1以上には、アルキル基等の置換基が結合していてもよい。 In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include divalent hydrocarbon groups, alkenylene groups in which part or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, carbonyl groups, ether bonds, ester bonds, carbonate groups, amide groups, and the like. And a group in which a plurality of are connected. In addition, a substituent such as an alkyl group may be bonded to one or more carbon atoms constituting the cyclohexane ring (cyclohexene oxide group) in the formula (i).
上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.
上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include, for example, a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , A 2-butenylene group, a butadienylene group, a pentenylene group, a hexenylene group, a heptenylene group, an octenylene group, etc., and a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. Alkenylene group.
上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、(3,4,3’,4’−ジエポキシ)ビシクロヘキシル、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR’は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、1,2−エポキシ−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。
上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。
式(ii)中、R"は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R ″ is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (—OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R ″ (OH) p ] include polyhydric alcohols (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms) such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in () (inside the outer parenthesis) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example, , Trade name “EHPE3150” (manufactured by Daicel Corporation), etc.].
上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン等のビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン等のビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the compound (3) having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule include glycidyl ethers of alicyclic alcohols (particularly alicyclic polyhydric alcohols). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) Compound obtained by hydrogenating bisphenol A type epoxy compound such as cyclohexyl] propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2, 3-epoxypropoxy) cyclohexyl] a compound obtained by hydrogenating a bisphenol F-type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound); Hydrogenated phenol novolac epoxy compound; Hydrogenated cresol novolac epoxy compound; Hydrogenated cresol novolac epoxy compound of bisphenol A; Hydrogenated naphthalene epoxy compound; Epoxy compound obtained from trisphenolmethane Hydrogenated epoxy compounds; hydrogenated epoxy compounds of the following aromatic epoxy compounds and the like.
上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the aromatic epoxy compound include epibis type glycidyl ether type epoxy resins obtained by condensation reaction of bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol and the like] and epihalohydrin; High molecular weight epibis type glycidyl ether type epoxy resin obtained by addition reaction of bis type glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [eg, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and aldehyde [eg, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, salicy A novolak alkyl type glycidyl ether type epoxy resin obtained by further condensing a polyhydric alcohol obtained by a condensation reaction with an aldehyde etc. with an epihalohydrin; two phenol skeletons are bonded to the 9-position of the fluorene ring. In addition, an epoxy compound in which a glycidyl group is bonded to an oxygen atom obtained by removing a hydrogen atom from the hydroxy group of the phenol skeleton, either directly or via an alkyleneoxy group.
上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。 Examples of the aliphatic epoxy compound include a glycidyl ether of an alcohol having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); a monovalent or polyvalent carboxylic acid [for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, Adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.] glycidyl ester; epoxidized oils and fats having double bonds such as epoxidized linseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefins such as epoxidized polybutadiene (poly Epoxidized product of alkadiene). Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and other dihydric alcohols; Examples include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and sorbitol. That. The q-valent alcohol may be polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polyolefin polyol, or the like.
上記オキセタン化合物としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4'−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。 Examples of the oxetane compound include known or commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3- Oxetanyl)] methyl} ether, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] bisi Chlohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3- {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylene bisoxetane, 3-ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsilsesquioxane And phenol novolac oxetane.
上記ビニルエーテル化合物としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。 The vinyl ether compound may be a known or conventional compound having one or more vinyl ether groups in the molecule, and is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol monovinyl ether), 3-hydroxy Propyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl vinyl ether, 1-methyl-3 -Hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4-cyclohexanedi Methanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether P-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl ether, o-xy Glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, penta Ethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol Coal divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol di Vinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanorbornene divinyl ether, phenyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, ha Droquinone divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxanorbornane methanol divinyl ether, 1, Examples include 4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, and dipentaerythritol hexavinyl ether.
上記硬化性組成物中の硬化性化合物(特に、エポキシ化合物)の含有量は、特に限定されないが、硬化性組成物の総量(100重量%)に対して、10〜95重量%が好ましく、より好ましくは15〜90重量%、さらに好ましくは20〜85重量%である。上記含有量が10重量%以上であると、硬化性組成物の硬化性、樹脂成型品の耐熱性、耐光性、及び透明性に優れる傾向がある。 Although content of the curable compound (especially epoxy compound) in the said curable composition is not specifically limited, 10-95 weight% is preferable with respect to the total amount (100 weight%) of a curable composition, More Preferably it is 15 to 90 weight%, More preferably, it is 20 to 85 weight%. When the content is 10% by weight or more, the curability of the curable composition, the heat resistance, light resistance, and transparency of the resin molded product tend to be excellent.
上記硬化性組成物は、上記硬化性化合物と共に光重合開始剤を含有することが好ましく、特に光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。光カチオン重合開始剤は、光の照射によって酸を発生して、硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の硬化反応を開始させる化合物であり、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。 The curable composition preferably contains a photopolymerization initiator together with the curable compound, and particularly preferably contains a photocationic polymerization initiator. A cationic photopolymerization initiator is a compound that generates an acid upon irradiation with light and initiates a curing reaction of a curable compound (particularly a cationic curable compound) contained in the curable composition, and absorbs light. Part and an anion part which is a source of acid.
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩系化合物、ヨードニウム塩系化合物、スルホニウム塩系化合物、ホスホニウム塩系化合物、セレニウム塩系化合物、オキソニウム塩系化合物、アンモニウム塩系化合物、臭素塩系化合物等が挙げられる。本発明においては、中でも、スルホニウム塩系化合物を使用することが、硬化性に優れた樹脂成型品を形成することができる点で好ましい。 Examples of the photocationic polymerization initiator include diazonium salt compounds, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, phosphonium salt compounds, selenium salt compounds, oxonium salt compounds, ammonium salt compounds, bromine salt compounds. Etc. In the present invention, it is particularly preferable to use a sulfonium salt compound in that a resin molded product having excellent curability can be formed.
上記スルホニウム塩系化合物のカチオン部としては、例えば、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムイオン、トリ−p−トリルスルホニウムイオン、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウムイオン、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン(特に、トリアリールスルホニウムイオン)が挙げられる。 Examples of the cation moiety of the sulfonium salt compound include triphenylsulfonium ion, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium ion, tri-p-tolylsulfonium ion, (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium ion, 4 Examples include arylsulfonium ions (particularly triarylsulfonium ions) such as-(4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium ions.
上記アニオン部としては、例えば、[(X)sB(Phf)4-s]-(式中、Xはフェニル基又はビフェニリル基を示す。Phfは水素原子の少なくとも1つが、パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種で置換されたフェニル基を示す。sは0〜3の整数である)、BF4 -、[(Rf)nPF6-n]-(Rf:水素原子の80%以上がフッ素原子で置換されたアルキル基、n:0〜5の整数)、AsF6 -、SbF6 -、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等が挙げられる。 As the anion moiety, for example, [(X) s B (Phf) 4-s ] − (wherein X represents a phenyl group or a biphenylyl group. Phf is a perfluoroalkyl group, at least one of hydrogen atoms is A perfluoroalkoxy group and a phenyl group substituted with at least one selected from the group consisting of halogen atoms, s is an integer of 0 to 3), BF 4 − , [(Rf) n PF 6−; n ] − (Rf: an alkyl group in which 80% or more of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, n: an integer of 0 to 5), AsF 6 − , SbF 6 − , pentafluorohydroxyantimonate and the like.
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、(4−ヒドロキシフェニル)メチルベンジルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル]−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、4−(4−ビフェニリルチオ)フェニル−4−ビフェニリルフェニルスルホニウム トリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェート、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、[4−(2−チオキサントニルチオ)フェニル]フェニル−2−チオキサントニルスルホニウム フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、商品名「サイラキュアUVI−6970」、「サイラキュアUVI−6974」、「サイラキュアUVI−6990」、「サイラキュアUVI−950」(以上、米国ユニオンカーバイド社製)、「イルガキュア250」、「イルガキュア261」、「イルガキュア264」(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「SP−150」、「SP−151」、「SP−170」、「オプトマーSP−171」(以上、(株)ADEKA製)、「CG−24−61」(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、「DAICAT II」((株)ダイセル製)、「UVAC1590」、「UVAC1591」(以上、ダイセル・サイテック(株)製)、「CI−2064」、「CI−2639」、「CI−2624」、「CI−2481」、「CI−2734」、「CI−2855」、「CI−2823」、「CI−2758」、「CIT−1682」(以上、日本曹達(株)製)、「PI−2074」(ローディア社製、テトラキス(ペンタフルオロフェニルボレート)トルイルクミルヨードニウム塩)、「FFC509」(3M社製)、「BBI−102」、「BBI−101」、「BBI−103」、「MPI−103」、「TPS−103」、「MDS−103」、「DTS−103」、「NAT−103」、「NDS−103」(以上、ミドリ化学(株)製)、「CD−1010」、「CD−1011」、「CD−1012」(以上、米国、Sartomer社製)、「CPI−100P」、「CPI−101A」、「CPI−200K」(以上、サンアプロ(株)製)等の市販品を使用できる。 Examples of the photocationic polymerization initiator include (4-hydroxyphenyl) methylbenzylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4- (4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl). ) Borate, 4- (phenylthio) phenyldiphenylsulfonium phenyltris (pentafluorophenyl) borate, [4- (4-biphenylylthio) phenyl] -4-biphenylylphenylsulfonium phenyltris (pentafluorophenyl) borate, diphenyl [ 4- (phenylthio) phenyl] sulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium tetraki (Pentafluorophenyl) borate, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate, 4- (4-biphenylylthio) phenyl-4-biphenylylphenylsulfonium tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate, bis [ 4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide phenyltris (pentafluorophenyl) borate, [4- (2-thioxanthonylthio) phenyl] phenyl-2-thioxanthonylsulfonium phenyltris (pentafluorophenyl) borate, commodity Names “Syracure UVI-6970”, “Syracure UVI-6974”, “Syracure UVI-6990”, “Syracure UVI-950” (above, Union Carbide, USA) "Irgacure 250", "Irgacure 261", "Irgacure 264" (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), "SP-150", "SP-151", "SP-170", "Optomer SP-171" (Above, manufactured by ADEKA Corporation), "CG-24-61" (produced by Ciba Specialty Chemicals), "DAICAT II" (produced by Daicel Corporation), "UVAC1590", "UVAC1591" (above, Manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.), “CI-2064”, “CI-2639”, “CI-2624”, “CI-2481”, “CI-2734”, “CI-2855”, “CI-2823” , “CI-2758”, “CIT-1682” (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), “PI-2074” (manufactured by Rhodia, Tetra) (Pentafluorophenylborate) tolylcumyl iodonium salt), “FFC509” (manufactured by 3M), “BBI-102”, “BBI-101”, “BBI-103”, “MPI-103”, “TPS-” 103 "," MDS-103 "," DTS-103 "," NAT-103 "," NDS-103 "(manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.)," CD-1010 "," CD-1011 "," Commercial products such as “CD-1012” (manufactured by Sartomer, USA), “CPI-100P”, “CPI-101A”, and “CPI-200K” (manufactured by San Apro Co., Ltd.) can be used.
上記光重合開始剤は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。その使用量(配合量)は、硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)100重量部に対して、0.01〜15重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜10重量部、さらに好ましくは0.1〜5重量部である。光重合開始剤を上記範囲内で使用することにより、硬化性、耐熱性、耐光性、透明性、光学特性等に優れた樹脂成型品を得ることができる。 Only 1 type may be used for the said photoinitiator, and 2 or more types may be used for it. The use amount (blending amount) is preferably 0.01 to 15 parts by weight, more preferably 0.05 to 100 parts by weight of the curable compound (particularly cationic curable compound) contained in the curable composition. -10 parts by weight, more preferably 0.1-5 parts by weight. By using the photopolymerization initiator within the above range, a resin molded product having excellent curability, heat resistance, light resistance, transparency, optical properties and the like can be obtained.
上記硬化性組成物は、上記硬化性化合物、上記光重合開始剤、及び必要に応じて他の成分(例えば、溶剤、酸化防止剤、光増感剤、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、界面活性剤、難燃剤、紫外線吸収剤、着色剤等)を含有していてもよい。上記硬化性組成物として、例えば、商品名「CELVENUS OUH106」((株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。 The curable composition includes the curable compound, the photopolymerization initiator, and other components as necessary (for example, a solvent, an antioxidant, a photosensitizer, an antifoaming agent, a leveling agent, a coupling agent). , Surfactants, flame retardants, ultraviolet absorbers, colorants, etc.). As said curable composition, commercial items, such as a brand name "CELVENUS OUH106" (made by Daicel Corporation), can also be used, for example.
上記第1の基板であるモールドは、樹脂成型品に所望の形状を付与するための、当該形状に対応する逆凹凸のパターン形状(所望の樹脂成型品の反転形状)が付与されている。上記モールドが有するパターン形状部の水平面の形状は、特に限定されないが、アスペクト比が0.1〜1であることが好ましく、より好ましくは0.5〜1であり、1に近いほど好ましい。上記アスペクト比は、上記水平面の形状のうち最長の方向を横方向としたときの横方向の長さに対する縦方向の長さの割合である。上記アスペクト比が上記範囲内であると、樹脂成型品全体で硬化度が均等となりやすく、樹脂成型品全体の収縮がよりいっそう抑制され、硬化前後で位置ずれがよりいっそう起こりにくくなる。上記水平面の形状は、例えば、第1の基板をパターン形状部が上面となるように水平位置に静置したときの上面から見た形状である。 The mold which is the first substrate is provided with a reverse uneven pattern shape (inverted shape of the desired resin molded product) corresponding to the shape for giving the resin molded product a desired shape. Although the shape of the horizontal surface of the pattern shape portion of the mold is not particularly limited, the aspect ratio is preferably 0.1 to 1, more preferably 0.5 to 1, and the closer to 1, the more preferable. The aspect ratio is the ratio of the length in the vertical direction to the length in the horizontal direction when the longest direction in the horizontal plane is the horizontal direction. When the aspect ratio is within the above range, the degree of curing tends to be uniform over the entire resin molded product, the shrinkage of the entire resin molded product is further suppressed, and positional deviation is less likely to occur before and after curing. The shape of the horizontal plane is, for example, a shape seen from the upper surface when the first substrate is placed in a horizontal position so that the pattern shape portion is the upper surface.
上記モールドは、樹脂製であることが好ましい。上記モールドを形成する樹脂としては、上記硬化性組成物との相性(濡れ性等)、硬化後の樹脂成型品の形状精度、剥離性(離型性)等を考慮して選択され、例えば、シリコーン系樹脂(ジメチルポリシロキサン等)、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ環状オレフィン等)、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂(ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリアミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。上記樹脂としては、中でも、シリコーン系樹脂が好ましい。シリコーン系樹脂を用いると、エポキシ化合物を含む硬化性組成物との相性、形状精度に優れる。また、樹脂成型品の離型性及びモールドの柔軟性にも優れるため、樹脂成型品をより容易に取り出すことができる。 The mold is preferably made of resin. The resin forming the mold is selected in consideration of compatibility with the curable composition (wetting properties, etc.), shape accuracy of the resin molded product after curing, releasability (release property), etc. Silicone resin (dimethylpolysiloxane, etc.), fluorine resin, polyolefin resin (polyethylene, polypropylene, polycyclic olefin, etc.), polyethersulfone resin, polycarbonate resin, polyester resin (polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate) Phthalate, etc.), polyamide resins, polymethyl methacrylate, and the like. Among these resins, silicone resins are preferable. When a silicone resin is used, it is excellent in compatibility with a curable composition containing an epoxy compound and shape accuracy. Moreover, since it is excellent also in the mold release property of a resin molded product, and the softness | flexibility of a mold, a resin molded product can be taken out more easily.
上記モールドは、市販品を用いてもよいし、製造したものを用いてもよい。モールドを製造する場合、例えば、モールドを形成する樹脂組成物を成型(好ましくは、インプリント成型)し、その後熱硬化させることにより製造することができる。樹脂組成物の成型には、所望の凹凸形状を有する金型を使用することができ、例えば、下記(1)、(2)の方法で製造することができる。
(1)基板上に塗布した樹脂組成物の塗膜に対し、金型を押し付け、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
(2)金型に対し樹脂組成物を直接塗工し、その上から基板を密着させた後、樹脂組成物の塗膜を硬化させたうえで、金型を剥離する方法
A commercial item may be used for the above-mentioned mold, and what was manufactured may be used for it. In the case of producing a mold, for example, it can be produced by molding (preferably imprint molding) a resin composition forming the mold and then thermosetting. For molding the resin composition, a mold having a desired concavo-convex shape can be used, and for example, it can be produced by the following methods (1) and (2).
(1) A method in which a mold is pressed against a coating film of a resin composition applied on a substrate and the coating film of the resin composition is cured, and then the mold is peeled off. (2) A resin composition with respect to the mold A method of peeling a mold after applying a product directly, adhering a substrate from the top, and curing a coating film of a resin composition
上記モールドは、パターン形状部の少なくとも一部に離型剤が塗布されていてもよい。硬化性組成物の塗布前にモールドに離型剤が塗布されていると、形成された樹脂成型品をモールドから取り出す(離型する)際に容易に離型することができる。この場合、通常は離型層も同時にモールドから離型するため、得られる樹脂成型品は、表面に離型層を少なくとも1層有することとなる。 In the mold, a release agent may be applied to at least a part of the pattern shape portion. If the mold release agent is applied to the mold before the application of the curable composition, it can be easily released when the formed resin molded product is taken out (released) from the mold. In this case, since the release layer is usually released from the mold at the same time, the obtained resin molded product has at least one release layer on the surface.
上記離型剤としては、例えば、フッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。上記離型剤は、1種を使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。上記離型剤の塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。 Examples of the release agent include a fluorine release agent, a silicone release agent, and a wax release agent. The said mold release agent may use 1 type and may use 2 or more types. Examples of the method for applying the release agent include spraying, spin coating, and screen printing.
第2の基板は、パターン形状部を有するモールドであってもよいし、平面基板であってもよい。例えば、一方の面のみに凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は第2の基板として平面基板を用いることができ、両面に凹凸形状を有する樹脂成型品を製造する場合は第2の基板としてモールドを用いることができる。 The second substrate may be a mold having a pattern shape portion or a flat substrate. For example, a flat substrate can be used as the second substrate when manufacturing a resin molded product having an uneven shape on only one surface, and a second substrate when manufacturing a resin molded product having an uneven shape on both sides. A mold can be used.
上記平面基板としては、例えば、ガラス板;シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム等の半導体;ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン等の樹脂基板;金属基板;これらの材料の組み合わせ等が挙げられる。上記平面基板は、微細配線、結晶構造、光導波路、ホログラフィ等の光学的構造等のパターン構造物を有していてもよい。 Examples of the planar substrate include a glass plate; a semiconductor such as silicon, gallium arsenide, and gallium nitride; a resin substrate such as polycarbonate, polypropylene, and polyethylene; a metal substrate; and a combination of these materials. The planar substrate may have a pattern structure such as an optical structure such as a fine wiring, a crystal structure, an optical waveguide, or holography.
第2の基板がモールドである場合、第1の基板及び第2の基板である2つのモールドは、異なる材料から形成されていてもよいし、同じ材料から形成されていてもよい。また、上記の2つのモールドは、同じパターン形状部を有していてもよいし、異なるパターン形状部を有していてもよい。 When the second substrate is a mold, the two molds that are the first substrate and the second substrate may be formed of different materials or may be formed of the same material. Moreover, said two molds may have the same pattern shape part, and may have a different pattern shape part.
重ね合わせられる前の第1の基板及び第2の基板の少なくとも一方には硬化性組成物が塗布されている。なお、第1の基板として、パターン形状部を有するモールドの該パターン形状部に硬化性組成物が塗布されたものを用いることが好ましい。この場合、第2の基板には、硬化性組成物が塗布されていてもよいし、塗布されていなくてもよい。すなわち、第2の基板は、硬化性組成物が塗布された第2の基板であってもよい。 A curable composition is applied to at least one of the first substrate and the second substrate before being overlaid. In addition, it is preferable to use what applied the curable composition to this pattern shape part of the mold which has a pattern shape part as a 1st board | substrate. In this case, the curable composition may or may not be applied to the second substrate. That is, the second substrate may be a second substrate coated with a curable composition.
上記基板への硬化性組成物の塗布は、公知乃至慣用の塗布方法により行うことができる。上記塗布としては、例えば、スピンコート塗布、ロールコート塗布、スプレー塗布(スプレー噴霧)、ディスペンスコート、ディップコート、インクジェット塗布、エアーブラシ塗布(エアーブラシ噴霧)、超音波塗布(超音波噴霧)等が挙げられる。 Application | coating of the curable composition to the said board | substrate can be performed by a well-known thru | or usual coating method. Examples of the application include spin coat application, roll coat application, spray application (spray spray), dispense coat, dip coat, ink jet application, air brush application (air brush spray), and ultrasonic application (ultrasonic spray). Can be mentioned.
図2に、第1の基板と第2の基板を重ね合わせる前の状態の一例の概略図(斜視図)を示す。第1の基板1aは、真円状のパターン形状部を有するモールドであり、パターン形状部に硬化性組成物2が塗布されている。なお、図2において、Fはパターン形状部の水平面を表し、Fの円周がパターン形状部の水平面の形状の外接円に相当する。そして、第1の基板1aの硬化性組成物2が塗布されている面に、第2の基板1bを重ね合わせる。なお、図2では、第2の基板1bは、パターン形状部を有するモールドであり、第2の基板1bのパターン形状部が形成されている面(図2では下面)を、第1の基板1aの硬化性組成物2が塗布された面と向かい合う(対向する)ようにし、第1の基板1aと第2の基板1bとを、硬化性組成物2を挟み込むようにして重ね合わせる。
FIG. 2 shows a schematic diagram (perspective view) of an example of a state before the first substrate and the second substrate are overlaid. The 1st board | substrate 1a is a mold which has a perfect circular pattern shape part, and the
硬化工程では硬化性組成物に光照射を行うため、第1の基板及び第2の基板のうちの少なくとも一方は透明であり、硬化性の観点から、両方が透明であることが好ましい。 In the curing step, since the curable composition is irradiated with light, at least one of the first substrate and the second substrate is transparent, and both are preferably transparent from the viewpoint of curability.
上記硬化性組成物が塗布された基板(第1の基板及び第2の基板の両方に硬化性組成物が塗布されている場合、硬化性組成物が塗布された第1の基板及び第2の基板のそれぞれ)は、塗布された硬化性組成物中に気泡がある時は脱泡されることが好ましい。 Substrate to which the curable composition is applied (when the curable composition is applied to both the first substrate and the second substrate, the first substrate and the second substrate to which the curable composition is applied) Each of the substrates) is preferably defoamed when there are bubbles in the applied curable composition.
上記脱泡は、公知乃至慣用の脱泡方法により行うことができ、減圧による脱泡(減圧脱泡、真空脱泡)が好ましい。上記減圧脱泡は、例えば、上記硬化性組成物が塗布された基板を、圧力0.1〜20kPaの環境下に1〜10分間静置して行うことができる。 The defoaming can be performed by a known or conventional defoaming method, and defoaming by reduced pressure (vacuum defoaming, vacuum defoaming) is preferable. The vacuum degassing can be performed, for example, by leaving the substrate on which the curable composition is applied in an environment with a pressure of 0.1 to 20 kPa for 1 to 10 minutes.
上記硬化性組成物が塗布された基板(第1の基板及び第2の基板の両方に硬化性組成物が塗布されている場合、硬化性組成物が塗布された第1の基板及び第2の基板のそれぞれ)は、上記脱泡でも泡が残存する場合、直接液を吸引し泡を除去する方法や液の振動によって泡を取り除いてもよい。 Substrate to which the curable composition is applied (when the curable composition is applied to both the first substrate and the second substrate, the first substrate and the second substrate to which the curable composition is applied) If the bubbles remain even after the above defoaming, each of the substrates may remove the bubbles by directly sucking the liquid and removing the bubbles, or by vibration of the liquid.
第1の基板及び第2の基板は、それぞれ、必要に応じて、上記硬化性組成物が塗布され、上記脱泡を経た後、上型と下型として用い、硬化性組成物を挟み込むようにして上型及び下型を重ね合わせて型閉じされる。この際、どちらが上型又は下型であってもよい。 The first substrate and the second substrate are used as an upper mold and a lower mold, respectively, after the defoaming is applied to the first substrate and the second substrate as necessary, and the curable composition is sandwiched between the first substrate and the second substrate. The upper mold and the lower mold are overlapped to close the mold. At this time, either may be an upper mold or a lower mold.
上記型閉じして得られる積層物は、その後、上型の上部からプレスされてもよい。これにより、得られる樹脂成型品の厚みバラツキを小さくすることができる。プレスする際の圧力は、例えば、0.01〜100MPaである。 The laminate obtained by closing the mold may then be pressed from the upper part of the upper mold. Thereby, the thickness variation of the resin molded product obtained can be made small. The pressure at the time of pressing is, for example, 0.01 to 100 MPa.
このようにして、硬化性組成物が塗布された第1の基板と、第2の基板とが、上記硬化性組成物を挟み込むように重ね合わせられた積層物を得ることができる。なお、得られる積層物では、上記第1の基板及び第2の基板のうちの少なくとも一方としてモールドが用いられるため、硬化性組成物はモールドのパターン形状部に充填されている。 In this way, it is possible to obtain a laminate in which the first substrate coated with the curable composition and the second substrate are overlapped so as to sandwich the curable composition. In the obtained laminate, a mold is used as at least one of the first substrate and the second substrate, so that the curable composition is filled in the pattern shape portion of the mold.
(硬化工程)
上記硬化工程S2では、上記積層物準備工程S1にて得られた上記積層物を、特定の温度状態に設定された温度制御板上に載置した状態で、光照射により上記硬化性組成物を硬化させて樹脂成型品を得る。
(Curing process)
In the curing step S2, the curable composition is applied by light irradiation in a state where the laminate obtained in the laminate preparation step S1 is placed on a temperature control plate set to a specific temperature state. Cured to obtain a resin molded product.
上記温度制御板は、上記硬化性組成物の硬化の際の上記積層物の温度を制御するための基板である。上記温度制御板は、上記硬化性組成物の硬化の際、第1の基板の上記パターン形状部の水平面端部と上記積層物の厚み方向に重なる部分(部分A)の温度が0℃を超えて30℃以下であり、且つ上記パターン形状部の水平面中心と上記積層物の厚み方向に重なる部分(部分B)の温度が上記部分Aの温度の10〜90%の温度である状態に設定されている。 The said temperature control board is a board | substrate for controlling the temperature of the said laminated body in the case of hardening of the said curable composition. In the temperature control plate, when the curable composition is cured, the temperature of the portion (part A) that overlaps the horizontal end of the pattern shape portion of the first substrate and the thickness direction of the laminate exceeds 0 ° C. And the temperature of the part (part B) that overlaps the horizontal plane center of the pattern shape part and the thickness direction of the laminate is 10 to 90% of the temperature of the part A. ing.
硬化性組成物を光照射により硬化させる場合、硬化性組成物表面の中央部付近は、積算光量が他の部分(特に、硬化性組成物表面の端部)に比べて大きくなり温度が上昇しやすい傾向にある。このため、硬化性組成物表面の中央部付近は、他の部分(特に、硬化性組成物表面の端部)に比べて硬化が進行しやすく、中央部付近の収縮が進行しやすかった。これに対し、本発明の製造方法によれば、上記硬化性組成物の硬化の際に、上記の特定の温度状態に設定された温度制御板上に載置した状態で光照射を行うことにより、樹脂成型品の硬化度が十分であり、且つ樹脂成型品の上記水平面中心と上記水平面端部とで硬化度が均等となりやすく、その結果、上記中央部付近における収縮が抑制され、樹脂成型品の各部分において硬化前後で位置ずれが起こりにくい。 When the curable composition is cured by light irradiation, the amount of accumulated light near the center of the curable composition surface is larger than that of other parts (especially the end of the curable composition surface) and the temperature rises. It tends to be easy. For this reason, hardening near the center of the curable composition surface is more likely to proceed than other parts (particularly, the end of the surface of the curable composition), and shrinkage near the center is likely to proceed. On the other hand, according to the production method of the present invention, when the curable composition is cured, light irradiation is performed in a state of being placed on the temperature control plate set to the specific temperature state. The degree of cure of the resin molded product is sufficient, and the degree of cure tends to be uniform at the center of the horizontal plane and the end of the horizontal plane of the resin molded product. As a result, shrinkage in the vicinity of the center is suppressed, and the resin molded product In each part, misalignment hardly occurs before and after curing.
なお、上記パターン形状の水平面は、第1の基板のパターン形状部に該パターン形状部からはみ出ないように硬化性組成物が充填された状態の硬化性組成物表面に相当する。そして、上記パターン形状部の水平面中心は、上記パターン形状部の水平面の形状の外接円の中心、すなわちパターン形状部が上面となるように上記モールドを水平位置に静置した時の、上面から見たパターン形状部の外接円の直径の中点である。例えば、上面から見たパターン形状部が円形である場合、上記水平面中心は円の中心となる。そして、上記水平面端部は、上記水平面中心から最も遠い上記水平面の部分であり、上記外接円の円周上の部分である。なお、第1の基板及び第2の基板の両方がパターン形状部を有する場合、上記水平面は、どちらの基板のパターン形状部のものであってもよいが、大きい方の水平面であることが好ましい。 The horizontal surface of the pattern shape corresponds to the surface of the curable composition in a state where the pattern shape portion of the first substrate is filled with the curable composition so as not to protrude from the pattern shape portion. The center of the horizontal plane of the pattern shape portion is the center of the circumscribed circle of the shape of the horizontal plane of the pattern shape portion, that is, when the mold is placed in a horizontal position so that the pattern shape portion is the upper surface. It is the midpoint of the diameter of the circumscribed circle of the pattern shape portion. For example, when the pattern shape portion viewed from the top is a circle, the horizontal plane center is the center of the circle. The horizontal plane end portion is a portion of the horizontal plane that is farthest from the horizontal plane center, and is a portion on the circumference of the circumscribed circle. When both the first substrate and the second substrate have the pattern shape portion, the horizontal surface may be that of the pattern shape portion of either substrate, but is preferably the larger horizontal surface. .
また、上記水平面端部と上記積層物の厚み方向に重なる部分(部分A)は、温度制御板上に上記積層物を載置した状態における、鉛直方向において上記水平面端部と重なる、温度制御板中に存在する表面部分である。また、上記水平面中心と上記積層物の厚み方向に重なる部分(部分B)は、温度制御板上に上記積層物を載置した状態における、鉛直方向において上記水平面中心と重なる、温度制御板表面に存在する部分である。 Moreover, the temperature control board which the said horizontal surface edge part and the part (part A) which overlaps in the thickness direction of the said laminated body overlaps with the said horizontal surface edge part in the perpendicular direction in the state which mounted the said laminated body on the temperature control board. It is the surface part that exists inside. In addition, a portion (part B) that overlaps the horizontal plane center and the thickness direction of the laminate on the temperature control plate surface that overlaps the horizontal plane center in the vertical direction in a state where the laminate is placed on the temperature control plate. It is a part that exists.
上記積層物は、上記温度制御板上に、第1の基板側に載置されていてもよいし、第2の基板側に載置されていてもよい。また、上記積層物は、上記温度制御板上に、本発明の効果を損なわない範囲内で他の層を介して載置されていてもよいし、他の層を介さずに直接載置されていてもよい。 The laminate may be placed on the first substrate side or on the second substrate side on the temperature control plate. Further, the laminate may be placed on the temperature control plate via another layer within a range not impairing the effects of the present invention, or directly placed without any other layer. It may be.
図3に、積層物準備工程で得られた積層物を温度制御板上に載置した状態の一例の概略図(断面図)を示す。図3では、第1の基板1aと第2の基板1bとで硬化性組成物2を挟み込むように重ね合わせられた積層物1は、温度制御板3上に、第1の基板1a側に、他の層を介さずに直接載置されている。Fは第1の基板におけるパターン形状部の水平面である。2bはパターン形状部の水平面中心であり、2aはパターン形状部の水平面端部、すなわち上記水平面中心2bから最も遠い水平面の、上述の外接円上の部分である。そして、3bは、パターン形状部の水平面中心2bと積層物の厚み方向(図3では鉛直方向)に重なる温度制御板3中(温度制御板3表面)の部分Bである。3aは、パターン形状部の水平面端部2aと積層物の厚み方向(図3では鉛直方向)に重なる温度制御板3中(温度制御板3表面)の部分Aである。
In FIG. 3, the schematic (sectional drawing) of an example of the state which mounted the laminated body obtained at the laminated body preparation process on the temperature control board is shown. In FIG. 3, the laminate 1 that is superimposed so as to sandwich the
光照射時の部分Aの温度は、上述のように、0℃を超えて30℃以下であり、好ましくは5〜20℃、より好ましくは5〜15℃である。 The temperature of the part A at the time of light irradiation exceeds 0 degreeC and is 30 degrees C or less as mentioned above, Preferably it is 5-20 degreeC, More preferably, it is 5-15 degreeC.
光照射時の部分Bの温度は、上述のように、上記部分Aの温度の10〜90%であり、好ましくは20〜80%、より好ましくは30〜70%である。上記光照射時の部分Bの温度の割合が上記範囲内であると、十分な硬化度とすることができ、且つ、樹脂成型品全体で硬化度が均等となりやすく、樹脂成型品全体の収縮がより抑制され、硬化前後で位置ずれがより起こりにくくなる。 The temperature of the part B at the time of light irradiation is 10 to 90% of the temperature of the part A as described above, preferably 20 to 80%, more preferably 30 to 70%. When the ratio of the temperature of the part B at the time of the light irradiation is within the above range, a sufficient degree of curing can be obtained, and the degree of curing tends to be uniform throughout the resin molded product, and the entire resin molded product shrinks. It is further suppressed and misalignment is less likely to occur before and after curing.
上記温度制御板は、上記積層物の水平面中心と重なる部分Bから上記水平面端部と重なる部分Aにかけて、温度が高くなるようにグラデーションをなしていることが好ましい。他の言い方をすれば、部分Bから部分Aの方向へ、部分Bを中心とする同心円状に徐々に温度がグラデーション状に高くなるように設定されていることが好ましい。このような状態で光照射することにより、樹脂成型品全体で硬化度が均等となりやすく、樹脂成型品全体の収縮がよりいっそう抑制され、硬化前後で位置ずれがよりいっそう起こりにくくなる。なお、部分Aの温度の方が部分Bの温度よりも高くなるように設定される。 The temperature control plate preferably has a gradation so that the temperature increases from a portion B overlapping the horizontal plane center of the laminate to a portion A overlapping the horizontal plane end. In other words, it is preferable that the temperature is gradually increased from the portion B to the portion A in a concentric shape centering on the portion B so as to gradually increase in gradation. By irradiating light in such a state, the degree of curing tends to be uniform throughout the entire resin molded product, the shrinkage of the entire resin molded product is further suppressed, and positional displacement is less likely to occur before and after curing. The temperature of the part A is set to be higher than the temperature of the part B.
部分Bから部分Aまでの距離(上記外接円の半径)は、例えば5〜200mm程度であり、好ましくは7〜100mm、より好ましくは10〜70mm、さらに好ましくは20〜40mmである。上記距離が上記範囲内であると、樹脂成型品全体において硬化前後の収縮が起こりにくく、硬化前後の位置ずれがより起こりにくくなる。 The distance from the part B to the part A (radius of the circumscribed circle) is, for example, about 5 to 200 mm, preferably 7 to 100 mm, more preferably 10 to 70 mm, and still more preferably 20 to 40 mm. When the distance is within the above range, shrinkage before and after curing is less likely to occur in the entire resin molded product, and positional deviation before and after curing is less likely to occur.
上記硬化工程では、具体的には、上記硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(特に、カチオン硬化性化合物)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができる。上記硬化は、光照射(特に、活性エネルギー線の照射)により行う。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。 In the curing step, specifically, the curable composition can be cured by advancing a polymerization reaction of a curable compound (particularly a cationic curable compound) contained in the curable composition. The said hardening is performed by light irradiation (especially irradiation of an active energy ray). As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Among these, ultraviolet rays are preferable in terms of excellent handleability.
紫外線照射を行う際の光源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯等が用いられる。照射時間は、光源の種類、光源と塗布面との距離、その他の条件により異なるが、長くとも数十秒である。照度は、例えば5〜200mW/cm2程度である。活性エネルギー線照射後は、必要に応じて加熱(ポストキュア)を行って硬化の促進を図ってもよい。上記ポストキュアの温度は、例えば80〜200℃、好ましくは100〜180℃である。 A high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is used as a light source when performing ultraviolet irradiation. Although the irradiation time varies depending on the type of light source, the distance between the light source and the coating surface, and other conditions, it is several tens of seconds at the longest. Illuminance is, for example, about 5 to 200 mW / cm 2 . After active energy ray irradiation, curing may be promoted by heating (post-cure) as necessary. The temperature of the said post cure is 80-200 degreeC, for example, Preferably it is 100-180 degreeC.
本発明の製造方法では、積層物準備工程及び硬化工程以外のその他の工程を有していてもよい。 In the manufacturing method of this invention, you may have other processes other than a laminate preparation process and a hardening process.
上記硬化工程を経て、硬化性組成物が硬化し、樹脂成型品を得ることができる。上記硬化工程後、上型と下型とを開き、モールドから樹脂成型品を取り出すことができる。また、使用したモールドには硬化性組成物の硬化物の膜が残っていることがあるため、この膜を取り除く処理(残膜処理)を行うことが好ましい。モールドから樹脂成型品を取り出す際は、例えば、開いた後の上型又は下型に嵌まっている樹脂成型品表面に粘着テープを貼り付けて剥がすことにより取り出すことができる。 Through the curing step, the curable composition is cured and a resin molded product can be obtained. After the curing step, the upper mold and the lower mold are opened, and the resin molded product can be taken out from the mold. Moreover, since the film | membrane of the hardened | cured material of a curable composition may remain in the used mold, it is preferable to perform the process (residual film process) which removes this film | membrane. When taking out the resin molded product from the mold, for example, it can be taken out by attaching and peeling an adhesive tape on the surface of the resin molded product fitted in the upper mold or the lower mold after opening.
本発明の製造方法により得られる樹脂成型品は、上記水平面中心から30mmの距離の部分の硬化前後でのずれが30μm以下であることが好ましく、より好ましくは25μm以下、さらに好ましくは20μm未満である。 The resin molded product obtained by the production method of the present invention preferably has a deviation of 30 mm or less before and after curing at a distance of 30 mm from the center of the horizontal plane, more preferably 25 μm or less, and even more preferably less than 20 μm. .
本発明の製造方法により得られる樹脂成型品は、例えば、レンズ、プリズム、LED、有機EL素子、半導体レーザー、トランジスタ、太陽電池、CCDイメージセンサ、光導波路、光ファイバー、代替ガラス(例えば、ディスプレイ用基板、ハードディスク基板、偏光フィルム)等の光学部品として好ましく使用することができる。 The resin molded product obtained by the production method of the present invention is, for example, a lens, a prism, an LED, an organic EL element, a semiconductor laser, a transistor, a solar cell, a CCD image sensor, an optical waveguide, an optical fiber, an alternative glass (for example, a display substrate) , Hard disk substrate, polarizing film) and the like can be preferably used.
本発明の樹脂成型品の製造方法は、得られる樹脂成型品の硬化前後での位置ずれを起こりにくくすることができる。このため、本発明の製造方法により得られる樹脂成型品は、特に高い位置精度が求められる、複数の製品の集合体(特に、複数の光学部品の集合体)であることが特に好ましい。 The method for producing a resin molded product of the present invention can make it difficult to cause a positional shift before and after curing of the obtained resin molded product. For this reason, the resin molded product obtained by the production method of the present invention is particularly preferably an aggregate of a plurality of products (particularly an aggregate of a plurality of optical components) that requires particularly high positional accuracy.
上記光学部品として、例えばレンズを製造する際は、上記複数の光学部品の集合体であるマイクロレンズアレイ[例えば、複数のマイクロレンズが縦横方向に、行列状に並置された形状を有する構造体]として得てもよい。即ち、上記モールドは、マイクロレンズアレイの形状に対応するパターン形状を有することが好ましい。 For example, when manufacturing a lens as the optical component, a microlens array that is an assembly of the plurality of optical components [for example, a structure having a shape in which a plurality of microlenses are arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions] May be obtained as That is, the mold preferably has a pattern shape corresponding to the shape of the microlens array.
得られる樹脂成型品が上記複数の光学部品の集合体(特に、マイクロレンズアレイ)である場合、個々の光学部品(特に、マイクロレンズ)1個のサイズは、直径が例えば0.01〜100mm程度、厚みが例えば0.1〜2.0mm程度であることが好ましい。また、複数の光学部品の集合体(特に、マイクロレンズアレイ)におけるピッチ幅は、例えば10〜1000μm程度であることが好ましい。 When the obtained resin molded product is an assembly (particularly, a microlens array) of the plurality of optical parts, the size of each individual optical part (particularly, microlens) is, for example, about 0.01 to 100 mm in diameter. The thickness is preferably about 0.1 to 2.0 mm, for example. Moreover, it is preferable that the pitch width in the aggregate | assembly (especially micro lens array) of a some optical component is about 10-1000 micrometers, for example.
S1 積層物準備工程
S2 硬化工程
1 積層物
1a 第1の基板
1b 第2の基板
2 硬化性組成物
2a パターン形状部の水平面端部
2b パターン形状部の水平面中心
3 温度制御板
3a 部分A(パターン形状部の水平面端部と積層物の厚み方向に重なる温度制御板中の部分)
3b 部分B(パターン形状部の水平面中心と積層物の厚み方向に重なる温度制御板中の部分)
F 第1の基板のパターン形状部の水平面
S1 Laminate Preparation Step S2 Curing Step 1 Laminate 1a
3b Part B (the part in the temperature control plate that overlaps the horizontal center of the pattern-shaped part and the thickness direction of the laminate)
F Horizontal plane of the pattern shape portion of the first substrate
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