JP2018168376A - 接着強化添加剤およびそれを含むコーティング組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
前記ホモポリマーまたはコポリマーが、少なくとも1つの構造単位(W0)、および(W0)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、
各構造単位(W0)は、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含み、
上記ホモポリマーまたはコポリマーは、そのホモポリマーまたはコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 1〜100mol.%の構造単位(W0)および
・ 0〜99mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、
前記ホモポリマーまたはコポリマーが、互いに異なる少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)、ならびに(W1)および(W2)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、
各構造単位(W1)は、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、任意選択で、構造単位(W1)の少なくとも一部分は、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を追加的に含み、
各構造単位(W2)は、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含み、その構造単位(W2)のどれもリン原子を含まず、
上記ホモポリマーまたはコポリマーは、そのホモポリマーまたはコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)、ならびに任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 1〜80mol.%の構造単位(W1)、
・ 1〜80mol.%の構造単位(W2)および
・ 0〜98mol.%の構造単位(W3)
を含む、使用によって解決される。
(a)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含む構造単位(W1)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって、
あるいは、
(b1)イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基をそれぞれ互いに独立に含む構造単位(W2)を形成することができる互いに異なる少なくとも2つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
または、
イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
および
(b2)ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ステップ(b1)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)中に含まれるイソシアネート基に対して反応性である官能基の、少なくとも1個のリン原子を含む官能基への部分転換
によって、
あるいは、
(c)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含む、構造単位(W0)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって得ることができる、
エチレン性不飽和モノマーの重合、好ましくは共重合によって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの使用である。
本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーは、少なくとも1つの構造単位(W0)、および(W0)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、各構造単位(W0)は、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含む、または、互いに異なる少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)、ならびに(W1)および(W2)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、各構造単位(W1)は、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、各構造単位(W2)は、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含む。構造単位(W3)は、少なくとも1個のリン原子を含む官能基も、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含まないことが好ましい。
・ 1〜80mol.%の構造単位(W1)
・ 1〜80mol.%の構造単位(W2)および
・ 0〜98mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、そのホモポリマーまたはコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 1〜100mol.%の構造単位(W0)および
・ 0〜99mol.%の構造単位(W3)
を含む。
かつ/または、
ホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)または(W0)および任意選択の構造単位(W1)のそれぞれのイソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基の70〜100mol.%は、それぞれ互いに独立に、任意選択で保護されたヒドロキシル基、特に遊離ヒドロキシル基、チオール基、エポキシド基、カルボキシル基、任意選択で保護された第一級アミノ基および任意選択で保護された第二級アミノ基からなる群から選択され、特に好ましくは、任意選択で保護されたヒドロキシル基、特に遊離ヒドロキシル基、エポキシド基、任意選択で保護された第一級アミノ基および任意選択で保護された第二級アミノ基からなる群から選択され、非常に特別に好ましくは、任意選択で保護されたヒドロキシル基ならびに任意選択で保護された第一級アミノ基および任意選択で保護された第二級アミノ基、特にヒドロキシル基からなる群から選択される。
・ 3〜40mol.%の構造単位(W1)
・ 3〜40mol.%の構造単位(W2)および
・ 20〜94mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、
コポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 6〜80mol.%の構造単位(W0)および
・ 20〜94mol.%の構造単位(W3)
を含む。
・ 4〜30mol.%の構造単位(W1)
・ 4〜30mol.%の構造単位(W2)および
・ 40〜92mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、
コポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 8〜60mol.%の構造単位(W0)および
・ 40〜92mol.%の構造単位(W3)
を含む。
・ 7〜20mol.%の構造単位(W1)
・ 7〜20mol.%の構造単位(W2)および
・ 60〜86mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、
コポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 14〜40mol.%の構造単位(W0)および
・ 60〜86mol.%の構造単位(W3)
を含む。
・ 10〜17mol.%の構造単位(W1)
・ 6〜12mol.%の構造単位(W2)および
・ 71〜84mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、
コポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 16〜29mol.%の構造単位(W0)および
・ 71〜84mol.%の構造単位(W3)
を含む。
(a)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含む構造単位(W1)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基、好ましくは少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基または少なくとも1つの任意選択で保護されたカルボキシル基または少なくとも1つの任意選択で保護された第一級または第二級アミノ基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって、
あるいは、
(b1)イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基をそれぞれ互いに独立に含む、好ましくは、少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基および/または少なくとも1つのカルボキシル基および/または少なくとも1つの任意選択で保護された第一級または第二級アミノ基をそれぞれ互いに独立に含む構造単位(W2)を形成することができる互いに異なる少なくとも2つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
あるいは、
イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基、好ましくは少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基または少なくとも1つの任意選択で保護されたカルボキシル基または少なくとも1つの任意選択で保護された第一級または第二級アミノ基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
および
(b2)ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ステップ(b1)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)中に含まれるイソシアネート基、好ましくはヒドロキシル基に対して反応性である官能基の、少なくとも1個のリン原子を含む官能基への好ましくはリン酸化による部分転換
によって、
あるいは、
(c)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含む、構造単位(W0)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって、
得ることができる。
(b1a)イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基をそれぞれ含む構造単位(W2)を形成することができる互いに異なる少なくとも2つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
あるいは、
イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および
構造単位(W3)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
および
(b2a)ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ステップ(b1a)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)中に含むヒドロキシル基の部分リン酸化
によって得ることができる。
各構造単位(W2)または(W0)および任意選択の(W1)は、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基として、ヒドロキシル基、チオール基、エポキシド基、カルボキシル基、第一級アミノ基および第二級アミノ基からなる群から選択される少なくとも1つの基を含む。
本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマー中の各構造単位(W1)および各構造単位(W0)は、少なくとも1個、好ましくは正確に1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含む。
プロセス改変形1によれば、本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーは、好ましくは、
(a)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含む構造単位(W1)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つ、任意選択でまた2つの官能基、好ましくは少なくとも1つ、任意選択でまた2つのヒドロキシル基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって得ることができる。
ビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルリン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルホスフェート、10−メタクリロイルオキシデシルジハイドロジェンホスフェート、エチル−2−[4−(ジヒドロキシホスホリル)−2−オキサブチル]アクリレートおよび2,4,6−トリメチルフェニル−2−[4−(ジヒドロキシホスホリル)−2−オキサブチル]アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
あるいは、好ましくはラジカル重合の間での、構造単位(W1)または(W0)の取り込みのため、対応する非リン含有モノマーを使用する、すなわち、少なくとも1つの既存の炭素−炭素二重結合と同様に、少なくとも1個のリン原子を含む官能基も含まない、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーを使用することも可能である。
(b1)イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基をそれぞれ互いに独立に含み、好ましくは、少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基および/または少なくとも1つの任意選択で保護されたカルボキシル基をそれぞれ互いに独立に含む構造単位(W2)を形成することができる、互いに異なる少なくとも2つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
または、
イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基、好ましくは少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
および
(b2)ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ステップ(b1)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)に含まれるイソシアネート基、好ましくはヒドロキシル基に対して反応性である官能基の、少なくとも1個のリン原子を含む官能基への部分転換
によって得ることができる。
(c)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含む、構造単位(W0)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合によっても得ることができる。
(b1a)イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基をそれぞれ含む構造単位(W2)を形成することができる互いに異なる少なくとも2つのエチレン性不飽和モノマー、および
構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
または、
イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
および
(b2a)ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ステップ(b1a)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)中に含まれるヒドロキシル基の部分リン酸化
によって得ることができる。
アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれの場合、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、
アリルアルコール、ビニルアルコール、ヒドロキシアルキルビニルエーテルおよびヒドロキシアルキルアリルエーテル
からなる群から選択される、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
ここで、それらの脱保護後、ステップ(b1)または(b1a)によって好ましくは得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの作製の後、そのOH基は、任意選択で、少なくとも1つのリン酸化剤で部分的に転換される。
アルキル(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)からなる群から選択され、特にヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
ここで、好ましくは、それらの脱保護後、ステップ(b1)または(b1a)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの作製の後、そのOH基は、任意選択で、少なくとも1つのリン酸化剤で部分的に転換される。
(i)例えば、前記モノマーの、エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよび/またはブチレンオキシド、特にエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドとの反応、あるいはグリシドールとの反応によって得ることができる、これらのモノマーのアルコキシ化された形態物、
(ii)例えば、カプロラクトン−および/またはバレロラクトン改質モノマー、特に対応するカプロラクトン−および/またはバレロラクトン改質ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、例えばカプロラクトン−および/またはバレロラクトン改質ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよび/またはヒドロキシブチル(メタ)アクリレート(これらは220〜1200g/molの数平均分子量を有することが好ましい)が得られる、ラクトン、特にε−カプロラクトンおよび/またはδ−バレロラクトンでの開環重合によるモノマーのOH官能基の転換によって得ることができる、ラクトンで鎖延長された形態物、および
(iii)やはり分岐構造をもたらすことができる3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキサシクロブタンなどのオキセタンとの反応物
である。
ビニルホスホン酸、例えばジメチルビニルホスホネートまたはジエチルビニルホスホネートなどのC1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルリン酸、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)−アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1個のリン原子、特に少なくとも1つのリン酸基を含む少なくとも1つの官能基を含む)
からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから、プロセス改変形1にしたがって、
かつ、
構造単位(W1)または(W0)は、
アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、特にヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、
アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、
アリルアルコール、ビニルアルコール、ヒドロキシアルキルビニルエーテルおよびヒドロキシアルキルアリルエーテル、
からなる群から選択される、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから、プロセス改変形2にしたがって誘導され、
ここで、任意選択でそれらの脱保護後、好ましくはステップ(b1)または(b1a)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの作製の後、そのOH基は、少なくとも1つのリン酸化剤で部分的に転換される。
ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W0)の形成のために、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基と、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基の両方を含む)からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって得ることもできる。
本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマー中の各構造単位(W2)は、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含む。
アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、
アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、
アリルアルコール、ビニルアルコール、ヒドロキシアルキルビニルエーテルおよびヒドロキシアルキルアリルエーテル
からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
アルキル(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)からなる群から選択される、最も好ましくはヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
(i)例えば、前記モノマーの、エチレンオキシド、プロピレンオキシドおよび/またはブチレンオキシド、特にエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドとの反応、またはグリシドールとの反応によって得ることができる、これらのモノマーのアルコキシ化された形態物、
(ii)カプロラクトン−および/またはバレロラクトン改質モノマー、特に対応するカプロラクトン−および/またはバレロラクトン改質ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、例えばカプロラクトン−および/またはバレロラクトン改質ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよび/またはヒドロキシブチル(メタ)アクリレート(これらは220〜1200g/molの数平均分子量を有することが好ましい)が得られる、ラクトン、特にε−カプロラクトンおよび/またはδ−バレロラクトンでの開環重合によるモノマーのOH官能基の転換によって得ることができる、ラクトンで鎖延長された形態物、および
(iii)やはり分岐構造をもたらすことができる3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキサシクロブタンなどのオキセタンとの反応物
である。
それらが2つ以上のカルボキシル基を含む場合、それぞれ任意選択で、C1〜10アルコールを好ましくは部分エステル化のために使用することができる、部分的にエステル化された形態で存在することもできる、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、クロトン酸、桂皮酸、および好ましくは12〜22個の炭素原子を有する不飽和脂肪酸からなる群から選択される、
少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つの第一級または第二級、好ましくは少なくとも1つの第二級アミノ基を含む)、
アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つの第一級または第二級、好ましくは少なくとも1つの第二級アミノ基を含む)、
アリルアミン、ビニルホルムアミド(ポリマー類似の反応によってビニルアミン反復される単位へ転換可能である)、アミノアルキルビニルエーテルおよびアミノアルキルアリルエーテル
からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
アルキル(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基は、それぞれ、少なくとも1つの第一級または第二級、好ましくは少なくとも1つの第二級アミノ基を含む)からなる群から選択され、最も好ましくは、特にN−アルキル残基が直鎖状または分枝状C1〜8アルキル残基であるN−アルキルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−アルキルアミノプロピル(メタ)アクリレートおよびN−アルキルアミノブチル(メタ)−アクリレートからなる群から選択され;特に好ましくはN−tert−ブチル−アミノエチル(メタ)アクリレートである、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、
アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、
アリルアルコール、ビニルアルコール、ヒドロキシアルキルビニルエーテルおよびヒドロキシアルキルアリルエーテル、
特に、アルキル(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよび/またはヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、
それらが2つ以上のカルボキシル基を含む場合、それぞれ任意選択で、C1〜10アルコールを好ましくは部分エステル化のために使用することができる、部分的にエステル化された形態で存在することもできる、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、クロトン酸、桂皮酸、および好ましくは12〜22個の炭素原子を有する不飽和脂肪酸
からなる群から選択される、少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーから誘導される。
本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーは、少なくとも2つの互いに異なる構造単位(W1)および(W2)または少なくとも1つの構造単位(W0)を含む。好ましくは、本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーは、構造単位(W1)および(W2)または(W0)とは異なる、少なくとも1つの第3の構造単位(W3)を含む。この場合、本発明によって使用されるホモ−またはコポリマーは、コポリマーである。第3の構造単位(W3)の化学的性質によって、そのコポリマーを接着強化添加剤として使用することを目的とする特定のコーティング組成物などのラッカー系とのそのコポリマーの適合性を、例えば具体的に調節することができる。
アルキル(メタ)アクリルアミド、例えば(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル−(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミドなど(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、任意選択で、例えばN,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミドの場合のように、少なくとも1つの第三級アミノ基を含むことができる)、
遊離OH基をもたないオリゴマーまたはポリマー性エーテルのモノ(メタ)アクリレート、ハロゲン化アルコールの(メタ)アクリレート、オキシラン含有(メタ)アクリレート、そのスチレンがイソシアネート反応基で置換されていないスチレンおよび置換スチレン、好ましくはα−メチルスチレンおよび/または4−メチルスチレン、(メタ)アクリロニトリル、環員として少なくとも1個のN原子を有するビニル基含有の非塩基性、脂環式の複素環式化合物、例えばN−ビニル−ピロリドンおよび/またはN−ビニルカプロラクタムなど、環員として少なくとも1個のN原子を有するビニル基含有の非塩基性、複素芳香族化合物、例えば4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジンまたはビニルイミダゾールなど、モノカルボン酸、好ましくは1〜20個の炭素原子を有するモノカルボン酸のビニルエステル、例えば酢酸ビニル、無水マレイン酸およびそのジエステルなど、好ましくは1〜22個の炭素原子を有する非分枝状、分枝状または脂環式のアルキル基を有するマレイミド、例えばN−フェニルマレインイミドおよびN置換マレイミド(しかし、イソシアネート反応である基は置換基として不可能である)、特に好ましくはN−エチルマレインイミドおよび/またはN−オクチルマレインイミド、ならびに好ましくは1〜22個の炭素原子を有する非分枝状または分枝状の脂肪族または脂環式アルキル基を有するN−アルキル−およびN,N−ジアルキル置換アクリルアミド、例えばN−(t−ブチル)−アクリルアミドからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーを使用するという点において、本発明によって使用されるコポリマーの化学構造中への構造単位(W3)の取り込みを実施する。
からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーを使用するという点において、本発明によって使用されるコポリマーの化学構造中への構造単位(W3)の取り込みを実施する。
コポリマー中の構造単位(W1)の形成のための、ビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルリン酸、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含む)からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
ならびに、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アリルアルコール、ビニルアルコールおよびヒドロキシアルキルビニルエーテルからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ヘテロアリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基、ヘテロアリール残基またはアルキルアリール残基は、任意選択で、それぞれ少なくとも1つの第三級アミノ基および/または少なくとも1つのアルコキシ基を含むことができる)からなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アリルアルコール、ビニルアルコールおよびヒドロキシアルキルビニルエーテルからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ヘテロアリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基、ヘテロアリール残基またはアルキルアリール残基は、任意選択で、それぞれ、少なくとも1つの第三級アミノ基および/または少なくとも1つのアルコキシ基を含むことができる)からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマーのラジカル共重合、
および、
コポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ラジカル共重合後に得ることができるコポリマーの構造単位(W2)中に含まれるヒドロキシル基の部分リン酸化
によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W0)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基と、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基の両方を含む)からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ヘテロアリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基、ヘテロアリール残基またはアルキルアリール残基は、任意選択で、それぞれ、少なくとも1つの第三級アミノ基および/または少なくとも1つのアルコキシ基を含むことができる)からなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
の重合によって得ることができる。
コポリマー中の構造単位(W1)の形成のための、ビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルリン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルホスフェート、10−メタクリロイルオキシデシルジハイドロジェンホスフェート、エチル−2−[4−(ジヒドロキシホスホリル)−2−オキサブチル]アクリレートおよび2,4,6−トリメチルフェニル−2−[4−(ジヒドロキシホスホリル)−2−オキサブチル]アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートおよびベンジル(メタ)アクリレートからなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートおよびベンジル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合、
および、
コポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ラジカル共重合後に得ることができるコポリマーの構造単位(W2)中に含まれる任意選択で保護されたヒドロキシル基の部分リン酸化
によって、
あるいは、
ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W0)の形成のための、[(3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)]ホスフェートおよび[(2−(メタ)アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシプロピル)]ホスフェートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートおよびベンジル(メタ)アクリレートからなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって得ることができる。
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレートおよび2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合、
および、コポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ラジカル共重合後に得ることができるコポリマーの構造単位(W2)中に含まれる任意選択で保護されたヒドロキシル基の部分リン酸化
によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W1)の形成のための、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルホスフェートおよび4−(メタ)アクリロイルオキシブチルホスフェートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
および、
コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレートおよび2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W0)の形成のための、[(2−(メタ)アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシプロピル)]ホスフェート、
および、
コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレートおよび2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合によって得ることができる。
本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーは、好ましくは、モノマーとしての好ましくは少なくとも2つのエチレン性不飽和化合物の重合によって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーである。本発明によるホモポリマーまたはコポリマーを製造するための重合技術として、エチレン性不飽和モノマーの重合のための従来からの、当業者に公知のすべての通常の重合技術を使用できる。ここで、そうしたモノマーの重合は、好ましくは、ラジカル、カチオンまたはアニオン的に実施する。特に好ましいのは、本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーの製造のためのラジカル重合である。
本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーは、接着強化添加剤として適している。したがって、本発明の1つの対象は、接着促進剤または接着強化添加剤としての本発明によって使用されるホモポリマーまたはコポリマーの使用である。
本発明の他の対象は、成分(A)としての接着強化添加剤として、本発明によって使用される少なくとも1つのホモポリマーまたはコポリマーを含むコーティング組成物である。好ましくは、本発明によるコーティング組成物は、追加的に少なくとも1つの結合剤(B)を含む。
(A)コーティング組成物の全重量に対して0.1〜15wt.%の範囲の量の接着強化添加剤としての本発明によって使用される少なくとも1つのホモポリマーまたはコポリマー、および
(B)コーティング組成物の全重量に対して20〜99wt.%の範囲の量の少なくとも1つの結合剤、特に、ポリウレタンおよびポリ尿素ならびにその混合物からなる群から選択される少なくとも1つの結合剤(B)
を含むコーティング組成物である。
(A)接着強化添加剤としての、エチレン性不飽和モノマーの重合によって得ることができる少なくとも1つのホモポリマーまたはコポリマーであって、前記ホモポリマーまたはコポリマーが、少なくとも1つの構造単位(W0)、および(W0)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、
各構造単位(W0)は、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含み、
ホモポリマーまたはコポリマーは、そのホモポリマーまたはコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 1〜100mol.%の構造単位(W0)および
・ 0〜99mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、
前記ホモポリマーまたはコポリマーが、互いに異なる少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)、ならびに(W1)および(W2)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、
各構造単位(W1)は少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、任意選択で、構造単位(W1)の少なくとも一部分は、追加的にイソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含み、各構造単位(W2)はイソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含み、その構造単位(W2)のどれもがリン原子を含まず、
ホモポリマーまたはコポリマーは、そのホモポリマーまたはコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)ならびに任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 1〜80mol.%の構造単位(W1)、
・ 1〜80mol.%の構造単位(W2)および
・ 0〜98mol.%の構造単位(W3)
を含む、
コーティング組成物の全重量に対して0.1〜15wt.%の範囲の量の少なくとも1つのホモポリマーまたはコポリマー、ならびに、
(B)コーティング組成物の全重量に対して20〜99wt.%の範囲の量の少なくとも1つの結合剤
を含むコーティング組成物である。
本発明によるコーティング組成物は、特に、クリヤラッカー、生産ラインラッカー、補修ラッカーおよび/またはメンテナンスラッカーとして適している。
本発明の他の対象は、本発明によるコーティング組成物で少なくとも部分的にコーティングされた基材の製造のためのプロセスである。これにおいては、好ましくは本発明によるコーティング組成物、好ましくは、接着促進剤層あるいはクリヤラッカー層または補修ラッカー層もしくはメンテナンスラッカー層、特にクリヤラッカー層の作製のためのコーティング組成物を、基材上へ、特に、ラッカー層、好ましくはベースラッカー層などの少なくとも1つのコーティングですでにコーティングされている基材へ適用し、次いで、物理的に乾燥し、加熱処理しかつ/または硬化または架橋させる。本発明によるコーティング組成物を、接着促進剤層の製造のためのコーティング組成物として使用する場合、これを適用した後に、クリヤラッカー層を適用することができる。ここで、接着促進剤層を、最初に、他のクリヤラッカー層の適用の前に完全に硬化していてよく、あるいは、他のクリヤラッカー層の適用の前には不完全にしか硬化していなくても、また、全く硬化していなくてもよい。後者の場合、それらが適用された後、すべての層の同時硬化が起こる。
1.基材上に適用されたベースラッカー層と、このベースラッカー層上に適用されたクリヤラッカー層の間の接着特性の決定:
基材として使用するKruppelからのイーコート(E-coated)金属プレート(サイズ10cm×20cm)を、研磨紙(3M、Scotch−Briteから)で前処理し、酢酸エチルで洗浄して清浄化する。例えば本発明によって使用されるベースラッカーM3などのベースラッカーを、HVLP(高体積低圧力)ピストルによる噴霧塗布によってイーコートプレート上に適用し、18〜23℃の範囲の温度で、30分間かけて乾燥する。そのすぐ後に、例えば、表2による硬化剤溶液および表3による希釈剤溶液を混合物M1B1、M1B3、M1B4、M1B5、M1B6、M1B7、M1B8およびM1V1の1つの中に混ぜ込むことによって得られるクリヤラッカーなどのクリヤラッカーを、HVLPピストルを用いた噴霧塗布により、ベースラッカーでコーティングされたイーコートプレート上に塗布し、18〜23℃の範囲の温度で、10分間かけ、次いで、オーブン中、60℃の温度で30分間かけて乾燥する。得られたコーティングされたプレートを、18〜23℃の範囲の温度で5日間、次いでオーブン中、70℃の温度で5日間保存する。オーブンから取り出した後、プレートを30分間冷却する。
1:コーティングされたイーコートプレート
2:対角線十字状に引っ掻かれている
3:スチームジェット処理によって引き起こされた引っ掻き傷にそった層間剥離の[mm]での幅
4:剥離された領域
非揮発性画分、すなわち固形分含量の決定を、DIN EN ISO3251にしたがって、150℃の温度で20分間かけて実施する。
数平均分子量(Mn)の決定は、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)で実施する。ここで、その決定方法はDIN55672−1にしたがって行う。数平均分子量と同様に、重量平均分子量(Mw)および多分散性(重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比)もこの方法で決定することができる。
− それぞれWatersからのHPLCポンプWATERS600または分離モジュールWaters2695
− オンライン脱ガス装置ERCシリーズ300、DEGASYS DG−1310、Degassex DG4400または分離モジュールWaters2695、
− 自動サンプラーWATERS717または分離モジュールWaters2695
− 示差屈折計WATERS410、WATERS2410またはWATERS2414、
− UV/VIS検出器 WATERS2487、Waters486またはWATERS2996
− ソフトウェアWATERS Empower、
− 5μmの粒子サイズおよびポアサイズHR4、HR2またはHR1を有する300mm・7.8mm ID/カラムのサイズをもつ3つのGPC分離カラム(WatersからのStyragelカラム)の組合せ。
注入量:100μl〜200μl
流量(スループット):1ml/min
実行時間:45min
屈折計設定:感度:32(SENS32)、極性+(正)および、温度:40℃(それぞれWATERS410、WATERS2410またはWATERS2414について)
1.本発明によって使用されるコポリマーの作製
本発明によって使用されるコポリマーの作製は、任意選択で、例えば酢酸1−メトキシ−2−プロピル、酢酸n−ブチル、トルエンおよび/またはキシレンなどの少なくとも1つの有機溶媒の添加により実施することができる。
PMA:酢酸1−メトキシ−2−プロピル
AMBN:2,2’−アゾビス[2−メチルブチロニトリル]
ステージ1:
200gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。130.24gのメチルメタクリレート、38.12gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび18.96gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。次いでこれを、130℃で約60min撹拌する。続いて、6gのAMBNで、ポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:49.8%。
50.0gのステージ1および4.55gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、4.75gのポリリン酸を、約10min以内に定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:50.4%。
ステージ1:
200gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルおよび10.9gのラウリルメルカプタンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。130.24gのメチルメタクリレート、38.12gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび12.64gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。混合物を、130℃で約60minさらに撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを4gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:49.6%。
50.0gのステージ1および4.55gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、4.75gのポリリン酸を約10min以内に供給する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:50.2%。
ステージ1:
200gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。118.88gのメチルメタクリレート、52.20gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび17.28gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、6gのAMBNで、ポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:49.0%。
50.0gのステージ1および3.21gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、3.79gのポリリン酸を約10min以内で定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:50.4%。
ステージ1:
149.92gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。156.4gのn−ブチルアクリレート、45.88gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび17.16gのAMBNの混合物を、この温度で、0.60mL/minの供給速度で定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、3.36gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.36gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.36gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:65.5%。
50.0gのステージ1および6.67gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、3.13gのポリリン酸を、約10min以内で定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:62.1%。
ステージ1:
142.6gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。181.68gの2−エチルヘキシルアクリレート、37.12gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび13.86gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、2.71gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、2.71gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、2.71gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:65.9%。
50.0gのステージ1および6.61gキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、2.54gのポリリン酸を、約10min以内に定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:66.5%。
ステージ1:
138.76gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。115.76gのn−ブチルアクリレート、53.04gのベンジルアクリレート、45.28gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび16.92gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。これを、130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、3.31gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.31gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.31gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:65.7%。
50.0gのステージ1および6.73gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、2.97gのポリリン酸を、約10min以内に定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:69.5%。
ステージ1:
140.48gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。106.40gのn−ブチルアクリレート、68.16gのエチルトリグリコールメタクリレート、41.60gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび15.54gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、3.04gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.04gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.04gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:64.8%。
50.0gのステージ1および5.85gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、2.87gのポリリン酸を、約10min以内に定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:62.1%。
ステージ1:
138.92gのキシレンおよび24.4gの4−メチル−2,4−ジフェニル−1−ペンテンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。108.88gのn−ブチルアクリレート、65.24gのブチルジグリコールメタクリレート、42.6gのヒドロキシエチルメタクリレートおよび10.6gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する(約360min)。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、3.12gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.12gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、3.12gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:66.1%。
50.0gのステージ1および7.00gのキシレンを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、2.88gのポリリン酸を、約10min以内に定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:63.0%。
ステージ1:
200gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。130.24gのメチルメタクリレート、42.23gのヒドロキシブチルアクリレートおよび18.96gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、6gのAMBNで、ポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分49.9%。
50.0gのステージ1および4.55gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、3.17gのポリリン酸を、約10min以内に定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:49.2%。
ステージ1:
200.0gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。130.24gのメチルメタクリレート、19.06gのヒドロキシエチルメタクリレート、21.11gのヒドロキシブチルアクリレートおよび18.96gのAMBNの混合物を、この温度で、0.6mL/minの供給速度で定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、6gのAMBNで、ポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:49.7%。
50.0gのステージ1および4.55gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に窒素流下で量り込み、これを80℃に加熱する。次いで、3.96gのポリリン酸を、約10min以内に定量的に導入する。混合物を、80℃でさらに4hr反応させる。得られた生成物:非揮発性画分:49.7%。
536gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。224.29gのn−ブチルアクリレート、54.08gのヒドロキシブチルアクリレート、78.80gのエチレングリコールモノメタクリレートモノホスフェートおよび40.0gのAMBNを、1.0mL/minの供給速度で、この温度で同時に定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、6gのAMBNで、ポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。6gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:40.3%。
310gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。99.15gのエチルヘキシルメタクリレート、64.09gのn−ブチルアクリレート、22.77gのヒドロキシエチルメタクリレート、15.76gのエチレングリコールモノメタクリレートモノホスフェート、2.70gのビニルホスホン酸および20gのtert−ブチル2−エチルペルオキシヘキサノエートを、1.8mL/minの供給速度で、この温度で同時に定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、6gのtert−ブチル2−エチルペルオキシヘキサノエート(「(2−エチルヘキサノイル)(tert−ブチル)ペルオキシド)ともいう)で実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなるポストイニシエーションを、6gのtert−ブチル2−エチルペルオキシヘキサノエートで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。さらなる3回のポストイニシエーションを、それぞれ3gのtert−ブチル2−エチルペルオキシヘキサノエートで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:39.6%。
255gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。115.35gのn−ブチルアクリレート、25.44gのラウリルメタクリレート、8.61gのメタクリル酸、21.01gのエチレングリコールモノメタクリレートモノホスフェートおよび20gのAMBNを、この温度で、1.5mL/minの供給速度で同時に定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、8gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。6gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:39.9%。
203.0gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。89.72gのn−ブチルアクリレート、42.66gのn−ブチルメタクリレート、18.02gのアクリル酸、15.76gのエチレングリコールモノメタクリレートモノホスフェートおよび21gのAMBNを、この温度で、1.5mL/minの供給速度で同時に定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、8gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。6gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:45.2%。
260gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。128.17gのn−ブチルアクリレート、34.00gのε−カプロラクトンのヒドロキシエチルアクリレート開始ポリマー(ε−カプロラクトンと、連鎖開始剤としてのヒドロキシエチルアクリレートの開環重合生成物:分子量=340g/mol)、21.01gのエチレングリコールモノメタクリレートモノホスフェートおよび20gのAMBNを、この温度で、1.5mL/minの供給速度で同時に定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、8gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。6gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:40.0%。
188gの酢酸1−メトキシ−2−プロピルを、撹拌機、還流凝縮器およびガス入口を備えた三つ口フラスコ中に、窒素流下で導入し、130℃に加熱する。115.35gのn−ブチルアクリレート、56.86gのエチレンオキシドのヒドロキシエチルメタクリレート開始ポリマー(エチレンオキシドと、連鎖開始剤としてのヒドロキシエチルメタクリレートの開環重合生成物:分子量=284g/mol)、15.76gのエチレングリコールモノメタクリレートモノホスフェートおよび20gのAMBNを、この温度で、1.5mL/minの供給速度で同時に定量的に導入する。混合物を130℃でさらに約60min撹拌する。続いて、ポストイニシエーションを、8gのAMBNで実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。6gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。4gのAMBNで、さらなるポストイニシエーションを実施する。混合物を130℃でさらに1時間撹拌する。得られた生成物:非揮発性画分:49.7%。
2.1 以下で使用する溶媒は市販されているものである:酢酸ブチルおよびブチルグリコールアセテート(Brenntag)、異性体混合物の形態のキシレン(Overlack)、酢酸1−メトキシ−2−プロピル(Dow ChemicalsからDowanol PMAとして)およびSolvesso100(Exxon Mobilからの芳香族炭化水素の混合物)。
クリヤラッカーの作製のための原材料
Setalux1753 SS−70: Nuplex Resinsからのアクリレートポリオール、酢酸ブチル中に70%、
Tinuvin1130: Cibaからの、紫外線吸収剤として使用されるヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール
Tinuvin292: Cibaからの光安定剤として使用されるHALS
BYK−331: Byk Chemieからのシリコーン含有表面添加剤
BYK−358 N: Byk Chemieからのアクリレート添加剤
TinStab BL277: 触媒として使用される、Acros Chemicalsからのジブチル錫ジラウレート(DBTL)、酢酸ブチル中に1%
Tolonate HDT−90: 硬化剤として使用される、Perstorpからのポリイソシアネート
Setaqua6760: 結合剤としての、Nuplex Resinsからの38%固形分含量を有するアクリレート分散液
DISPERBYK−180: Byk Chemieからの湿潤および分散添加剤
Stapa IL Hydrolan2154: Eckartからのアルミニウム有効(Aluminum effect)顔料
BYK−028: Byk Chemieからの消泡剤
BYK−347: 湿潤剤としての、Byk Chemieからのシリコーン界面活性剤
DMEA: 中和剤(H2O中に10%)として使用される、Merckからのジメチルエタノールアミン
AQUATIX−8421: Byk Chemieからのワックス分散液(Wax dispersion)
Lubrizol2063:Lubrizol Corporationからの複合体カルボキシル−リン酸エステルの遊離酸、60%、市販の接着促進剤
個々の成分を以下の順番で一緒にし、撹拌することによって、ポリオール成分としてのSetalux1753 SS−70と表1に挙げた他の成分を含む混合物M1を作製する:
個々の成分を一緒にし、撹拌することによって、効果顔料としてのStapa IL Hydrolan2154と表4に挙げた他の成分を含む混合物M2を作製する。
Kruppelからのイーコート金属プレート(サイズ10cm×20cm)を、研磨紙(3M、Scotch−Briteから)で前処理し、酢酸エチルで洗浄して清浄化する。ベースラッカー(混合物M3)を、それぞれの場合、HVLP(高体積低圧力)ピストルによる噴霧適用によって全部で9つのイーコートプレート上に適用し、18〜23℃の範囲の温度で、30分間かけて乾燥する。ここで、ベースラッカーの乾燥層の厚さは、それぞれの場合、18〜23μmの範囲である。これは、コーティング厚みゲージ(Byk−GardnerからのByko−Test4500)を用いて決定する。続いてすぐに、それぞれの場合、節2.3で説明したように表2による硬化剤溶液および表3による希釈剤溶液を、混合物M1B1、M1B3、M1B4、M1B5、M1B6、M1B7、M1B8、M1V1およびM1のそれぞれに混ぜ込むことによって得られるそれぞれのクリヤラッカーを、HVLPピストルによる噴霧適用によって、ベースラッカーでコーティングされた9つのイーコートプレートのそれぞれ1つに適用し、18〜23℃の範囲の温度で10分間、次いでオーブン中、60℃の温度で30分間乾燥する。ここで、ベースラッカーの乾燥層の厚さは、それぞれの場合、35〜40μmの範囲である。これは、コーティング厚みゲージ(Byk−GardnerからのByko−Test4500)を用いて決定する。
節2.5で説明したようにして得られたコーティングされたプレートを、18〜23℃の範囲の温度で5日間、次いで、オーブン中、70℃の温度の温度で5日間貯蔵する。オーブンから取り出した後、プレートを、30分間かけて冷却させる。次いで、Sikkensのスクラッチ工具(モデル:Erichsen463、ブレード幅1mm)を用いて、コーティングされたプレートに、対角線十字(アーム長さ:10cm、角度30°)を基材に至るまで、すなわちイーコートプレートに至るまで引っ掻き傷を付ける。続いてすぐに、スチームジェット試験を実施する。これは、Walter LTA 1−H−A−L−Pスチームジェット試験機を用いて、60℃の水温、30°の角度および60バール(6MPa)の水圧で、コーティングされた基材から10cmの距離で1分間かけて実施する。この間、そうしたスチームジェットを、適切な距離および角度で、コーティングされた基材の引っ掻き傷領域上へ方向づける。
Claims (15)
- 接着強化添加剤としての、
エチレン性不飽和モノマーの重合によって得ることができる少なくとも1つのホモポリマーまたはコポリマーの使用であって、
前記ホモポリマーまたはコポリマーが、少なくとも1つの構造単位(W0)、および(W0)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、
各構造単位(W0)は、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含み、
前記ホモポリマーまたはコポリマーは、そのホモポリマーまたはコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 1〜100mol.%の構造単位(W0)および
・ 0〜99mol.%の構造単位(W3)
を含む、
あるいは、
前記ホモポリマーまたはコポリマーが、互いに異なる少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)、ならびに(W1)および(W2)とは異なる任意選択の少なくとも1つのさらなる構造単位(W3)から構成され、
構造単位(W1)は、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、任意選択で、構造単位(W1)の少なくとも一部分が、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を追加的に含み、
各構造単位(W2)はイソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含み、その構造単位(W2)のどれもがリン原子を含まず、
前記ホモポリマーまたはコポリマーは、そのホモポリマーまたはコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)ならびに任意選択の(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 1〜80mol.%の構造単位(W1)、
・ 1〜80mol.%の構造単位(W2)および
・ 0〜98mol.%の構造単位(W3)
を含む、使用。 - 少なくとも1個のリン原子を含む前記ホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W1)または(W0)のそれぞれの少なくとも1つの官能基の70〜100mol.%が、それぞれ互いに独立に、ホスホン酸基、少なくとも部分的にエステル化されたホスホン酸基、少なくとも部分的にエステル化されたリン酸基およびこれらの基のそれぞれの対応する塩からなる群から選択され、
かつ/または、
前記ホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)または(W0)および任意選択の(W1)のそれぞれのイソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基の70〜100mol.%が、それぞれ互いに独立に、任意選択で保護されたヒドロキシル基、チオール基、エポキシド基、カルボキシル基、任意選択で保護された第一級アミノ基および任意選択で保護された第二級アミノ基からなる群から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の使用。 - (W0)または(W1)および(W2)とは異なる構造単位(W3)が、それから得ることができるホモポリマーの作製のためのモノマーとして使用された場合に50℃未満のガラス転移温度(Tg)を有するホモポリマーを形成するエチレン性不飽和モノマーから誘導されることを特徴とする、請求項1または2に記載の使用。
- 前記ホモポリマーまたはコポリマーが、
(a)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含む構造単位(W1)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって、
あるいは、
(b1)イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基をそれぞれ互いに独立に含む構造単位(W2)を形成することができる互いに異なる少なくとも2つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
または、
イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
および
(b2)ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ステップ(b1)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)中に含まれるイソシアネート基に対して反応性である官能基の、少なくとも1個のリン原子を含む官能基への部分転換
によって、
あるいは、
(c)少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含み、また、イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの官能基も含む、構造単位(W0)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって得ることができることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の使用。 - 前記ホモポリマーまたはコポリマーが、
(b1a)イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基をそれぞれ含む構造単位(W2)を形成することができる互いに異なる少なくとも2つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
または、
イソシアネート基に対して反応性である少なくとも1つの任意選択で保護されたヒドロキシル基を含む構造単位(W2)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、および構造単位(W3)を形成することができる少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
および
(b2a)ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ステップ(b1a)にしたがって得ることができるホモポリマーまたはコポリマーの構造単位(W2)中に含まれるヒドロキシル基の部分リン酸化
によって得ることができることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の使用。 - 前記ホモポリマーまたはコポリマーが、
コポリマー中の構造単位(W1)の形成のための、ビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルリン酸、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基を含む)からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アリルアルコール、ビニルアルコールおよびヒドロキシアルキルビニルエーテルからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ヘテロアリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基、ヘテロアリール残基またはアルキルアリール残基は、任意選択で、それぞれ、少なくとも1つの第三級アミノ基および/または少なくとも1つのアルコキシ基を含むことができる)からなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アルキル(メタ)アクリルアミド、シクロアルキル(メタ)アクリルアミド、アリール(メタ)アクリルアミドおよびアルキルアリール(メタ)アクリルアミド(これらの(メタ)アクリルアミドのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基を含む)、アリルアルコール、ビニルアルコールおよびヒドロキシアルキルビニルエーテルからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
および、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ヘテロアリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基、ヘテロアリール残基またはアルキルアリール残基は、任意選択で、それぞれ、少なくとも1つの第三級アミノ基および/または少なくとも1つのアルコキシ基を含むことができる)からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
ならびに、
コポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ラジカル重合後に得ることができるコポリマーの構造単位(W2)中に含まれるヒドロキシル基の部分リン酸化によって、
あるいは、
ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W0)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基またはアルキルアリール残基は、それぞれ、少なくとも1個のリン原子を含む少なくとも1つの官能基と、少なくとも1つのOH基または少なくとも1つの保護されたOH基の両方を含む)からなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、アルキル(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ヘテロアリール(メタ)アクリレートおよびアルキルアリール(メタ)アクリレート(これらの(メタ)アクリレートのアルキル残基、シクロアルキル残基、アリール残基、ヘテロアリール残基またはアルキルアリール残基は、任意選択で、それぞれ、少なくとも1つの第三級アミノ基および/または少なくとも1つのアルコキシ基を含むことができる)からなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって得ることができることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の使用。 - 前記ホモポリマーまたはコポリマーが、
コポリマー中の構造単位(W1)の形成のための、ビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルホスホン酸、C1〜8アルキルアルコールで少なくとも部分的にエステル化された形態のビニルリン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルホスフェート、10−メタクリロイルオキシデシルジハイドロジェンホスフェート、エチル−2−[4−(ジヒドロキシホスホリル)−2−オキサブチル]アクリレートおよび2,4,6−トリメチルフェニル−2−[4−(ジヒドロキシホスホリル)−2−オキサブチル]アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
ならびに、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートおよびベンジル(メタ)アクリレートからなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
ならびに、コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートおよびベンジル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
ならびに、コポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ラジカル共重合後に得ることができるコポリマーの構造単位(W2)中に含まれる任意選択で保護されたヒドロキシル基の部分リン酸化によって、
あるいは、
ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W0)の形成のための、[(3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)]ホスフェートおよび[(2−(メタ)アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシプロピル)]ホスフェートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
ホモポリマーまたはコポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレートおよびベンジル(メタ)アクリレートからなる群から選択される任意選択の少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって得ることができることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の使用。 - 前記コポリマーが、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
および、
コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレートおよび2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合、
ならびに、コポリマー中の構造単位(W1)または(W0)の形成のための、ラジカル共重合後に得ることができるコポリマーの構造単位(W2)中に含まれる任意選択で保護されたヒドロキシル基の部分リン酸化によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W1)の形成のための、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルホスフェートおよび4−(メタ)アクリロイルオキシブチルホスフェートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W2)の形成のための、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートおよびヒドロキシブチル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー、
および、
コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレートおよび2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル重合によって、
あるいは、
コポリマー中の構造単位(W0)の形成のための、[(2−(メタ)アクリロイルオキシ−3−ヒドロキシプロピル)]ホスフェート、
および、
コポリマー中の構造単位(W3)の形成のための、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレートおよび2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートからなる群から選択される少なくとも1つのエチレン性不飽和モノマー
のラジカル共重合によって得ることができることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の使用。 - 前記コポリマーが、そのコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも2つの構造単位(W1)および(W2)ならびに(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 3〜40mol.%の構造単位(W1)、
・ 3〜40mol.%の構造単位(W2)および
・ 20〜94mol.%の構造単位(W3)
を含む、または
前記コポリマーが、そのコポリマーのポリマー主鎖中の少なくとも1つの構造単位(W0)および(W3)の総量に対して、mol.%の割合で以下:
・ 6〜80mol.%の構造単位(W0)および
・ 20〜94mol.%の構造単位(W3)
を含むことを特徴とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の使用。 - 前記ホモポリマーまたはコポリマーが、少なくとも1つの層で任意選択でコーティングされた基材と、少なくとも1つの層で任意選択でコーティングされた前記基材上に適用されることになる少なくとも1つの層の間の接着促進のための接着強化添加剤として使用されることを特徴とする、請求項1から9のいずれか一項に記載の使用。
- 前記ホモポリマーまたはコポリマーが、少なくとも1つの層でコーティングされた基材上への層の適用のためのコーティング組成物の成分としての接着強化添加剤として使用されることを特徴とする、請求項1から10のいずれか一項に記載の使用。
- (A)コーティング組成物の全重量に対して0.1〜15wt.%の範囲の量の、接着強化添加剤として使用するための、請求項の1から11のいずれか一項に記載されているように使用される少なくとも1つのホモポリマーまたはコポリマー、および
(B)コーティング組成物の全重量に対して20〜99wt.%の範囲の量の少なくとも1つの結合剤
を含むコーティング組成物。 - 前記コーティング組成物中に含まれる結合剤(B)の70〜100wt.%が、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ尿素、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート、エポキシ樹脂およびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする、請求項12に記載のコーティング組成物。
- クリヤラッカー、生産ラインラッカー、補修ラッカーまたはメンテナンスラッカーとしての、請求項12または13に記載のコーティング組成物の使用。
- 請求項12または13に記載のコーティング組成物で少なくとも部分的にコーティングされている基材。
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