JP2018168278A - ベンゾトリアゾール系(共)重合体およびこれを含有する紫外線吸収性塗料並びに該塗料がコーティングされたフィルム - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、紫外線吸収性能を有し、広範囲波長領域の紫外線を吸収するベンゾトリアゾール系(共)重合体とそれを含む塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムに関するものである。
従来より、紫外線の吸収および遮断、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウト防止、塗膜中での紫外線吸収成分の結晶化防止、塗膜の耐候性の向上、他の樹脂や配合材料との相溶性の向上を目的として紫外線吸収性の(共)重合体が用いられている。
300nm〜360nm付近を中心とした比較的短い領域に紫外線吸収性を有するアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体を1種または複数種含む単量体組成物を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体が主に用いられている(例えば、特許文献1〜3)。
また、アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系共重合体では不十分であった比較的長い波長領域の400nm付近に吸収を有するものとしてセサモール型ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体を1種または複数種含む単量体組成物を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体が用いられている(例えば、特許文献4)。
ディスプレイ表示装置において、偏光板保護フィルム等の光学フィルムは、高い透明性を求められており、紫外線による劣化を防ぐために紫外線吸収剤を添加することが一般的に行なわれている。また、反射防止フィルムに含まれる近赤外線吸収剤の紫外線による劣化を防ぐため、反射防止フィルムに紫外線吸収剤が添加されている。また、有機ELディスプレイの発光素子には、蛍光材料や燐光材料等の各種有機物が使用されており、これら有機物の紫外線による劣化を防ぐため、ディスプレイの表面フィルムなどに紫外線吸収剤が添加されている。
また、紫外線が人の目の角膜や水晶体に悪影響を及ぼすことも知られており、屋外の紫外線量の多い場所で太陽光線に眼を晒すと角膜炎を起こしやすく、また、水晶体への影響として、紫外線の蓄積性により白内障を引き起こす場合がある。人の目を保護するという面において、紫外線が目に達するのを防止するために紫外線吸収剤を眼鏡レンズまたはコンタクトレンズに添加することが一般的に行なわれている。
上記の各用途では紫外線を十分に遮断することが求められており、すなわち、太陽光のうち400nm以下の光を十分に遮断することが求められている。これまで使用されてきた紫外線吸収剤は350〜400nm、特に380〜400nmの長波長域の吸収が低く、紫外線遮断機能が不十分なものが多い。
特許文献4では、ベンゾトリアゾール誘導体にセサモールを修飾することで、長波長域の光を効率よく吸収できることが示されているが、400〜420nmの可視光短波長域の吸収が強く、本化合物を光学フィルムや眼鏡レンズに添加すると黄色く着色することから、上記の各用途に使用することは難しい。
これらの公報に記載されたアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系重合体は380nm〜400nmの波長吸収が弱く、紫外線遮断機能が不十分である。また、セサモール型ベンゾトリアゾール系重合体は380〜420nmの波長吸収を持つが、400〜420nmの可視光域の吸収が強く、黄色く着色することから、これらを用いた塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムの光学フィルムや眼鏡レンズ用途への利用は困難であった。
また、塗料および、それがコーティングされたフィルムに紫外線波長領域380nm〜400nmの領域を吸収する単量体を添加し配合状態で使用したとしても、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウト、塗膜中での吸収成分の結晶化や他の配合材料との相溶性の問題があった。
そこで本発明における課題は、地上における太陽から到達する太陽光の紫外線部分の分光放射照度分布に対応可能な300〜400nmの紫外線波長領域、特に積算エネルギーの高い波長領域330〜400nmの紫外線吸収性能に優れ、かつ着色が少ないベンゾトリアゾール系(共)重合体とそれを含む塗料およびその塗料をコーティングしたフィルムを提供することにある。
上記の課題を解決するために本発明者は、紫外線吸収性のベンゾトリアゾール系共重合体、それを含む塗料、更にはその塗料をコーティングしたフィルムについて検討した結果、従来のベンゾトリアゾール系単量体とは異なる新規な分子構造を有するベンゾトリアゾール系単量体を含む原料単量体を重合または共重合してなるベンゾトリアゾール系(共)重合体を見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、重合性単量体として一般式(1)で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を重合してなるベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体とすることを最も主要な特徴とする。
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R3は水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、アルキル炭素数1〜7のカルボキシアルキル基、各アルキル炭素数の合計が2〜15のアルキルオキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜8のヒドロキシアルキル基、各アルキル炭素数の合計が2〜15のアルキルカルボニルオキシアルキル基、ホルミル基、アルキル炭素数1〜7のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、またはトルオイル基を表し、R4は、アルキル炭素数1〜4のアクリロイルオキシアルキル基、アルキル炭素数1〜4のアクリロイルオキシヒドロキシアルキル基、アルキル炭素数1〜4のメタクリロイルオキシアルキル基、またはアルキル炭素数1〜4のメタクリロイルオキシヒドロキシアルキル基である)
なお、本明細書にいう“レゾルシノール型のベンゾトリアゾール系単量体”とは、前記一般式(1)で表されるとおり、ベンゾトリアゾール環の2位の窒素原子にレゾルシノールを結合した化合物の誘導体であり、かつ該ベンゾトリアゾール環のベンゼン部位に導入したカルボキシル基に重合性2重結合を導入した分子構造をいう。
さらには、前記重合性単量体として、更に一般式(2)〔化2〕で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体を原料に含むものであり、これを共重合してなるベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体とすることが好ましい。
一般式(2)
(式中、R5は水素原子またはメチル基を表し、R6は炭素数1〜6の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキレン基を表し、R7は水素原子または炭素数1〜18の炭化水素基を表し、R8は水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す)
(式中、R5は水素原子またはメチル基を表し、R6は炭素数1〜6の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキレン基を表し、R7は水素原子または炭素数1〜18の炭化水素基を表し、R8は水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表す)
なお、本明細書にいう“アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体”とは、前記一般式(2)で表されるとおり、ベンゾトリアゾール環の2位の窒素原子にアルカノールフェノールを結合した化合物の誘導体であり、かつ該アルカノールフェノール部に重合性2重結合を導入した分子構造をいう。
前記一般式(1)で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体は、最大吸収波長λmaxは360nm付近であり、300〜400nmを包括する広い範囲の紫外線吸収スペクトルを有し、400nm付近の長波長領域まで紫外線吸収能力を有する。
したがって、本発明のレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系(共)重合体およびそれを含む塗料およびそれがコーティングされたフィルムは、地上における太陽光の紫外線部分の分光放射照度分布に対応可能な300〜400nmの広範囲波長領域の吸収性能に優れ、それを含む塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムは、紫外線吸収性能および紫外線遮断性能に優れ、かつ着色が少ない。
前記一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は、現在ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体に一般的に用いられている既存公知のベンゾトリアゾール系単量体であり、代表的な工業製品は2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールである。最大吸収波長λmaxは338nm、250〜380nmを包括する範囲の紫外線吸収スペクトルを有するが、380nm以上の長波長領域の紫外線吸収能力は極端に低い。
したがって、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体の好ましい様態においては、重合性単量体として一般式(1)〔化1〕で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体と、前記一般式(2)〔化2〕で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体とが含まれる原料で共重合されることにより、250〜400nmのさらに広範囲の紫外線領域において吸収性能に優れ、それを含む塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムは、紫外線吸収性能および紫外線遮断性能にいっそう優れる。
また、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体は、高分子であるが故にそれ自体で塗膜形成が可能である。したがって塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウトの問題が生じない。更に重合体を構成する紫外線吸収性単量体以外の単量体を適時選択し、共重合体とすることにより、高分子極性を自由に変化させることが可能になる。したがって、塗膜中での紫外線吸収成分の結晶化や、他の樹脂や配合材料との相溶性の問題が生じない。
以下に本発明の詳細を説明する。本発明のベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体は前記一般式(1)で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体を重合性単量体として含む原料を重合または共重合してなる。また、前記重合性単量体として更に前記一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を共重合してなる。なお、前記原料には必要に応じてそれ以外の重合性単量体を含んでもよい。
前記一般式(1)で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体は式中、R1およびR2で表される置換基が水素原子、または炭素数1〜8のアルキル基で構成され、R3で表される置換基が水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、アルキル炭素数1〜7のカルボキシアルキル基、各アルキル炭素数の合計が2〜15のアルキルオキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜8のヒドロキシアルキル基、各アルキル炭素数の合計が2〜15のアルキルカルボニルオキシアルキル基、ホルミル基、アルキル炭素数1〜7のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、またはトルオイル基で構成され、R4で表される置換基がアルキル炭素数1〜4のアクリロイルオキシアルキル基、アルキル炭素数1〜4のアクリロイルオキシヒドロキシアルキル基、アルキル炭素数1〜4のメタクリロイルオキシアルキル基、またはアルキル炭素数1〜4のメタクリロイルオキシヒドロキシアルキル基で構成されるベンゾトリアゾール類である。
前記レゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体の具体的な物質名としては、2−アクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート、2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート、2−メタクリロイルオキシエチル 2−(4−ベンゾイルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート、2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−メタクリロイルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート、2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート等を挙げることができるが、前記具体例に限られるものではない。また、これらベンゾトリアゾール系単量体は1種類で用いることもできるし、2種類以上を用いることもできる。
前記一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は式中、R4で表される置換基がR4は水素原子またはメチル基、R5で表される置換基が炭素数1〜6の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキレン基、R6で表される置換基が水素原子または炭素数1〜18の炭化水素基、R7で表される置換基が水素原子、ハロゲン基、炭素数1〜8の炭化水素基、炭素数1〜4のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で構成されるベンゾトリアゾール類である。
前記アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体の具体的な物質名としては、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシプロピル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシプロピル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシブチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシブチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシヘキシル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシヘキシル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−シアノ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−シアノ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−t−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−t−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−ニトロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−5−(アクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−ニトロ−2H−ベンゾトリアゾールなどを挙ることができるが、前記具体例に限られるものではない。また、これらアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は1種類で用いることもできるし、2種類以上を用いることもできる。
本発明のベンゾトリアゾール系共重合体では、その原料である重合性単量体として前記ベンゾトリアゾール系単量体以外の重合性単量体と共重合させてもよい。前記ベンゾトリアゾール系単量体と共重合させることのできるその他の重合性単量体は、特に制限されるものではなく、適宜選択して用いることができるが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル類。ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピルエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート等の水酸基含有不飽和単量体が挙げられる。更にはグリシジル(メタ)アクリレート、オキセタン(メタ)アクリレート等のオキシド環含有不飽和単量体が挙げられる。更には(メタ)アクリルアミド、N,N’−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルロイルモルホリン、ビニルピリジン、ビニルイミダドール、N‐ビニルピロリドン等の含窒素不飽和単量体が挙げられる。更には塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン含有不飽和単量体が挙げられる。更にはスチレン、α−メチルスチレン等の芳香族不飽和単量体が挙げられる。更には(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有不飽和単量体が挙げられる。更にはビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸等のスルホン酸基含有不飽和単量体が挙げられる。更には2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−3−クロロプロピルアシッドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルリン酸等のリン酸基含有不飽和単量体が挙げられる。
前記のベンゾトリアゾール系単量体を含む原料の混合方法など、該原料を調整する方法には、公知の手法を用いることができ、特に限定されるものではない。
前記のベンゾトリアゾール系単量体を含む単量体組成物を共重合反応させる際の重合方法は従来公知の溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法等を採用することができ、特に限定されるものではない。
重合反応させる際に用いるラジカル重合開始剤としては特に制限されないが、例えば、2,2’−アゾビス−(4−メトキシ−2.4‐ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス−(2−メチルプロピオネート)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド等のアゾ系ラジカル重合開始剤が挙げられる。更にはハイドロゲンパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジイソブチリルパーオキサイド、ビス(3,5,5−)トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルハイドロパーオキサイド、t−ブチル−α−クミルパーオキサイド、ジ−t−ブチル−α−クミルパーオキサイド、ジ−α−クミルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス−(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート等の有機過酸化物系ラジカル重合開始剤が挙げられる。更には過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム等の過硫酸塩系ラジカル重合開始剤等が挙げられる。また重合開始剤の使用量も特に限定されるものではない。
乳化重合法等の水系重合法においては、還元剤として亜硫酸ナトリウム、L‐アスコルビン酸、ロンガリット等を用いることによりレドックス系開始剤としてもよい。
共重合反応をさせる際には必要に応じて連鎖移動剤、重合調整剤を用いてもよい。連鎖移動剤、重合調整剤としては、n−ドデシルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、β-メルカプトプロピオン酸メチル-3-メルカプトプロピオネート、2-エチルヘキシル-3-メルカプトプロピオネート、n-オクチル-3-メルカプトプロピオネート、メトキシブチル-3-メルカプトプロピオネート、ステアリル-3-メルカプトプロピオネート、チオグリコール酸、チオグリコール酸アンモニウム、チオグリコール酸モノエタノールアミン、アルファメチルスチレンダイマー等が挙げられるが特に限定されるものではい。また連鎖移動剤、重合調整剤の使用量も特に限定されるものではない。
溶液重合法において用いることができる溶媒としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ジメチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられるが特に限定されるものではい。また溶媒の使用量も特に限定されるものではない。
乳化重合法において用いることができる界面活性剤としては、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸アンモニウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化オクタデシロキシプロピルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸アンモニウム、スチレン‐アクリル酸ナトリウム共重合体、スチレン‐アクリル酸アンモニウム共重合体、スチレン‐アルファメチルスチレン‐アクリル酸ナトリウム共重合体、スチレン‐アルファメチルスチレン‐アクリル酸アンモニウム共重合体、スチレン‐マレイン酸ナトリウム共重合体、スチレン‐マレイン酸アンモニウム共重合体、ポリビニルピロリドン等が挙げられるが特に限定されるものではい。また界面活性剤の使用量も特に限定されるものではない。
懸濁重合法において用いることができる分散剤としては、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレンオキシド等が挙げられるが特に限定されるものではい。また分散剤の使用量も特に限定されるものではない。
重合反応温度は、室温〜200℃の範囲が好ましく、40℃〜140℃の範囲がより好ましいが、これら範囲に特段限定されるものではない。反応時間は、特に限定されるものではなく、用いる単量体組成物の組成や重合開始剤の種類等に応じて、重合反応が完結するように適宜に条件設定を行えばよい。
以上のように、本発明のベンゾトリアゾール系紫外線吸収性重合体は、前記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール系単量体を重合性単量体として含む原料を(共)重合してなる構成である。さらに好ましくは、重合性単量体として一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体をさらに含む原料を(共)重合してなる構成である。即ち300〜400nmの波長領域全般に紫外線吸能力を有する紫外線吸収性単量体を含む単量体組成物を(共)重合してなるので、300〜400nmの波長領域全般、特に330nm〜400nmの波長領域付近での紫外線吸収性能に優れる。
本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料は、前記一般式(1)で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を(共)重合してなるベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む構成である。さらに好ましくは、一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体をさらに含む上記原料を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体を含む構成である。塗料の形態は水系塗料、溶剤系塗料、紫外線硬化性塗料、熱硬化性塗料、クリア塗料、顔料塗料、染料塗料などが挙げられるが特段限定されるものではない。また、塗料を構成するベンゾトリアゾール系(共)重合体以外の樹脂、溶媒、架橋剤、硬化剤、触媒、充填剤、レベリング剤、可塑剤、安定剤、染料、顔料などの材料は特に限定されるものではなく、適宜選択して用いることができる。
本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料がコーティングされたフィルムは、前記一般式(1)で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を(共)重合してなるベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む構成の塗料がコーティングされたフィルムである。さらに好ましくは、一般式(2)で表されるアルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体をさらに含む原料を共重合してなるベンゾトリアゾール系共重合体を含む構成の塗料がコーティングされたフィルムである。フィルムの種類は、ポリエステル系フィルム、セルロース系フィルム、ポリオレフィン系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリスチレン系フィルム、塩化ビニル系フィルム、塩化ビニリデン系フィルム、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリイミド系フィルムなどが挙げられるが、特段限定されるものではない。
上記フィルムにベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料をコーティングする方法としては、前記ベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗料をロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、ロッドーコーター、エアドクターコーター、カーテンコーター、ファウンテンコーター、キスコーター,スクリーンコーター、スピンコーター、キャスト塗工、スプレーコーター、電着塗工押し出しコーター、ラングミュア・ブロジェット(LB)法などにより塗工する方法が挙げられるが特段限定されるものではない。さらに、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含む塗膜の存在部位としては、フィルムの表面、裏面、両面、積層間などが挙げられるが特段限定されるものではない。
以下、ベンゾトリアゾール系(共)重合体の実施例および比較例とそれを含む塗料および塗料がコーティングされたフィルムにより、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの様態に限定されるものではない。なお、合成例および実施例および比較例に記載の「%」は「重量%」を示し、「部」は「重量部」を示す。
2000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、水875ml、炭酸ナトリウム56.5g(0.533モル)、4−アミノ−3−ニトロ安息香酸178.8g(0.982モル)を入れて溶解させ、36%亜硝酸ナトリウム水溶液197.1g(1.028モル)を加えた。この溶液を3000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、水875ml、62.5%硫酸372.0g(2.370モル)を入れて混合し、3〜7℃に冷却したものに滴下し、同温度で1時間撹拌してジアゾニウム塩水溶液を得た。5000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、1,3−ジメトキシベンゼン139.4g(1.009モル)、イソプロピルアルコール900ml、水390mlを入れて混合し、ジアゾニウム塩水溶液を5〜10℃で滴下し、5〜10℃で2時間撹拌した後に、10〜15℃で15時間撹拌した。32%水酸化ナトリウム水溶液280mlを加え、70℃で下層の水層を分離して除去し、イソプロピルアルコール75ml、水875mlを加えて生成した沈殿物をろ過、水洗、乾燥し、6−(4−カルボキシ−2−ニトロフェニルアゾ)−1,3−ジメトキシベンゼンを218.3g得た。
3000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、6−(4−カルボキシ−2−ニトロフェニルアゾ)−1,3−ジメトキシベンゼン217.8g(0.657モル)、32%水酸化ナトリウム水溶液147.6g(1.181モル)、水370ml、イソプロピルアルコール1100ml、ハイドロキノン1.1gを入れて、60%ヒドラジン一水和物52.6g(0.630モル)を70℃で1時間かけて滴下し、同温度で3時間撹拌させた。62.5%硫酸でpH3に調整し、70℃で下層の水層を分離して除去し、得られた有機層を25℃に冷却して水820mlを加え、1時間撹拌を行ない、生じた沈殿物をろ過、水洗、乾燥し、5−カルボキシ−2−(2,4−ジメトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール N−オキシドを158.9g得た。
3000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−カルボキシ−2−(2,4−ジメトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール N−オキシドを156.8g(0.497モル)、イソプロピルアルコール780ml、水780ml、32%水酸化ナトリウム水溶液295.8g(2.366モル)を入れて、70〜80℃で二酸化チオ尿素255.9g(2.367モル)を30分かけて加えた。同温度で2時間撹拌し、62.5%硫酸でpH4に調整し、下層の水層を分液して除去し、イソプロピルアルコール480ml、水480mlを加え、得られた有機層を25℃に冷却して、生成した沈殿物をろ過、水洗、乾燥して、5−カルボキシ−2−(2,4−ジメトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを107.4g得た。収率37%(4−アミノ−3−ニトロ安息香酸から)であった。
2000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−カルボキシ−2−(2,4−ジメトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを107.1g(0.358モル)、酢酸540ml、62.5%硫酸365.2g(2.327モル)、95%硫酸221.8g(2.148モル)を入れて、130〜140℃で20時間撹拌後、水480mlを加えて沈殿物をろ過、水洗し、粗結晶を得た。得られた粗結晶をイソプロピルアルコール130ml、4−メチル−2−ペンタノン300mlでリパルプ洗浄して、5−カルボキシ−2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを59.5g得た。収率58%(5−カルボキシ−2−(2,4−ジメトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールから)であった。
2000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−カルボキシ−2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを59.5g(0.209モル)、トルエン900ml、N,N−ジメチルホルムアミド3.6ml、塩化チオニル93.1g(0.783モル)を加えて、60〜65℃で20時間撹拌した。続いて減圧で溶媒を回収して、トルエン415ml、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル271.9g(2.089モル)を加え、80℃で15時間撹拌した。水400mlを加えて、70℃で下層の水層を分離して除去し、同様に水300mlを加えて70℃で下層の水層を分離する操作を3回繰り返した後、溶媒を減圧で回収してイソプロピルアルコール190ml、水40mlを加えて、5℃に冷却して生じた沈殿物をろ過、洗浄、乾燥して粗結晶を得た。この粗結晶をイソプロピルアルコールで再結晶して、化合物(a)を19.2g得た。収率23%(5−カルボキシ−2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールから)であった。
HPLC分析により、化合物(a)の純度を測定した。
<測定条件>
装置:LC−20AT((株)島津製作所製)
使用カラム:SUMIPAX ODS A−212 6.0×150mm 5μm
カラム温度:25℃
移動相: メタノール/水=95/5(リン酸3ml/L)
流速:1.0ml/min
検出:UV250nm
<測定結果>
HPLC面百純度97.2%
<測定条件>
装置:LC−20AT((株)島津製作所製)
使用カラム:SUMIPAX ODS A−212 6.0×150mm 5μm
カラム温度:25℃
移動相: メタノール/水=95/5(リン酸3ml/L)
流速:1.0ml/min
検出:UV250nm
<測定結果>
HPLC面百純度97.2%
また、化合物(a)のNMR測定を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。測定条件は次のとおりである。
<測定条件>
装置:JEOL JNM−AL300
共振周波数:300MHz(1H−NMR)
溶媒:クロロホルム−d
1H−NMRの内部標準物質として、テトラメチルシランを用い、ケミカルシフト値はδ値(ppm)、カップリング定数はHertzで示した。またsはsinglet、dはdoublet、tはtriplet、mはmultipletの略とする。以下の実施例4〜8においても同様である。なお、以下の実施例4〜8も本実施例と同様の測定条件でNMR測定を行った。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=11.27(s,1H,phenol−OH),8.71(m,1H,benzotriazole−H),8.32(d,1H,J=9.0Hz,benzotriazole−H),8.04(m,2H,benzotriazole−H,phenol−H),6.71(d,1H,J=3.0Hz,phenol−H),6.64(m,1H,phenol−H),6.18(m,1H,C=CH2−H),5.62(m,1H,C=CH2−H),4.60(m,4H,methacryloyl−O−CH2−CH2−H),3.94(s,3H,phenol−O−CH3−H),1.97(m,3H,CH2=C−CH3−H)
<測定条件>
装置:JEOL JNM−AL300
共振周波数:300MHz(1H−NMR)
溶媒:クロロホルム−d
1H−NMRの内部標準物質として、テトラメチルシランを用い、ケミカルシフト値はδ値(ppm)、カップリング定数はHertzで示した。またsはsinglet、dはdoublet、tはtriplet、mはmultipletの略とする。以下の実施例4〜8においても同様である。なお、以下の実施例4〜8も本実施例と同様の測定条件でNMR測定を行った。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=11.27(s,1H,phenol−OH),8.71(m,1H,benzotriazole−H),8.32(d,1H,J=9.0Hz,benzotriazole−H),8.04(m,2H,benzotriazole−H,phenol−H),6.71(d,1H,J=3.0Hz,phenol−H),6.64(m,1H,phenol−H),6.18(m,1H,C=CH2−H),5.62(m,1H,C=CH2−H),4.60(m,4H,methacryloyl−O−CH2−CH2−H),3.94(s,3H,phenol−O−CH3−H),1.97(m,3H,CH2=C−CH3−H)
1000mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、ピリジン106.0g(1.340モル)を入れた後、36%塩酸197.0g(1.945モル)を15分かけて加えて1.5時間撹拌し、溶媒を100g回収してピリジン塩酸塩のスラリーを得た。続いて5−カルボキシ−2−(2,4−ジメトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを20.0g(0.067モル)加えて160℃で21時間撹拌し、70℃まで冷却して水250mlを加えて、32%水酸化ナトリウム水溶液でpH3に調整した。30℃に冷却して生成した沈殿物をろ過、水洗、乾燥して、5−カルボキシ−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを18.1g得た。収率100%(5−カルボキシ−2−(2,4−ジメトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールから)であった。
300mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−カルボキシ−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを9.0g(0.033モル)、炭酸ナトリウム4.4g(0.042モル)、オクチルクロライド11.8g(0.079モル)、N,N−ジメチルホルムアミド20ml、ヨウ化カリウム0.5g、ポリエチレングリコール400を1.3g入れて、130〜140℃で3時間撹拌した。トルエン100ml、水100mlを加えて、70〜75℃で下層の水層を分液して除去し、さらに水100ml、酢酸2mlを加えて、70〜75℃で下層の水層を分液して除去した。減圧でトルエンを回収して、イソプロピルアルコール40mlを加えて、生成した沈殿物をろ過、洗浄、乾燥して、粗結晶を5.6g得た。この粗結晶をイソプロピルアルコールで再結晶して、オクチル 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレートを4.7g得た。収率29%(5−カルボキシ−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールから)であった。
200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、オクチル 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレートを3.3g(0.0067モル)、水酸化ナトリウム0.8g(0.0200モル)、イソプロピルアルコール25ml、水25mlを入れて、70〜75℃で2時間撹拌した。62.5%硫酸1mlを加えてpH5に調整し、生成した沈殿物をろ過、洗浄、乾燥して、5−カルボキシ−2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを2.5g得た。
200mlの4つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、5−カルボキシ−2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールを2.5g(0.0065モル)、塩化チオニル2.0g(0.0168モル)、トルエン50ml、N,N−ジメチルホルムアミド0.2mlを入れて、62〜68℃で1時間撹拌した。減圧でトルエンを回収して、トルエン50ml、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル1.8g(0.0138モル)、ピリジン1.3g(0.0164モル)を加えて、72〜78℃で1時間撹拌した。水30ml、62.5%硫酸0.5mlを加えて、70〜75℃で下層の水層を分液して除去し、減圧でトルエンを回収し、イソプロピルアルコール30mlを加えて、生成した沈殿物をろ過、洗浄、乾燥して、粗結晶を2.2g得た。この粗結晶をイソプロピルアルコールで再結晶して、化合物(f)を1.4g得た。収率42%(オクチル 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレートから)であった。
また、HPLC分析により、化合物(b)の純度を測定した。
<測定条件>
装置:L−2130((株)日立ハイテクノロジーズ製)
使用カラム:SUMIPAX ODS A−212 6.0×150mm 5μm
カラム温度:40℃
移動相: メタノール/水=99/1
流速:1.0ml/min
検出:UV250nm
<測定結果>
HPLC面百純度94.8%
<測定条件>
装置:L−2130((株)日立ハイテクノロジーズ製)
使用カラム:SUMIPAX ODS A−212 6.0×150mm 5μm
カラム温度:40℃
移動相: メタノール/水=99/1
流速:1.0ml/min
検出:UV250nm
<測定結果>
HPLC面百純度94.8%
また、化合物(b)のNMR測定を行った結果、上記構造を支持する結果が得られた。得られたNMRスペクトルの内容は以下のとおりである。
δ=11.24(s,1H,phenol−OH),8.70(s,1H,benzotriazole−H),8.31(d,1H,J=12.9Hz,benzotriazole−H),8.11(d,1H,J=10.5Hz,benzotriazole−H),7.95(d,1H,J=9.0Hz,phenol−H),6.69(m,2H,phenol−H),6.18(s,1H,C=CH2−H),5.62(s,1H,C=CH2−H),4.64(m,2H,methacryloyl−O−CH2−H),4.56(m,2H,benzotriazole−CO−O−CH2−H),4.01(t,2H,phenol−O−CH2−H),1.97(s,3H,CH2=C−CH3−H),1.45(m,12H,octyl−CH2),0.90(s,3H,octyl−CH3)
δ=11.24(s,1H,phenol−OH),8.70(s,1H,benzotriazole−H),8.31(d,1H,J=12.9Hz,benzotriazole−H),8.11(d,1H,J=10.5Hz,benzotriazole−H),7.95(d,1H,J=9.0Hz,phenol−H),6.69(m,2H,phenol−H),6.18(s,1H,C=CH2−H),5.62(s,1H,C=CH2−H),4.64(m,2H,methacryloyl−O−CH2−H),4.56(m,2H,benzotriazole−CO−O−CH2−H),4.01(t,2H,phenol−O−CH2−H),1.97(s,3H,CH2=C−CH3−H),1.45(m,12H,octyl−CH2),0.90(s,3H,octyl−CH3)
〔2.ベンゾトリアゾール系単量体市販品〕
アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は市販品の2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学 RUVA−93)を用いた。以下、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールを「化合物(c)」と記す。
アルカノールフェノール型ベンゾトリアゾール系単量体は市販品の2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール(大塚化学 RUVA−93)を用いた。以下、2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールを「化合物(c)」と記す。
〔3.セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体市販品〕
セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は市販品の2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレート(シプロ化成 R26)を用いた。以下、2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレートを「化合物(d)」と記す。
セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は市販品の2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレート(シプロ化成 R26)を用いた。以下、2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレートを「化合物(d)」と記す。
〔4.ベンゾトリアゾール系(共)重合体の合成〕
(実施例1)
四つ口フラスコにジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、攪拌装置を取り付け、単量体組成物としての化合物(a)20部、メチルメタクリレート(以下、「MMA」と記す。)20部、および、溶媒としてのメチルエチルケトン(以下、「MEK」と記す。)60部、および、重合開始剤としての2,2’‐アゾビス‐メチルブチロニトリル(以下、「AMBN」と記す。)1.5部を入れて、攪拌しながら窒素ガス流量10ml/minで1時間フラスコ内を窒素置換後に、反応液温度80〜86℃で10時間還流状態にて重合反応を行った。重合反応終了後、紫外線吸収性共重合体溶液101.5部を得た。
(実施例1)
四つ口フラスコにジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、攪拌装置を取り付け、単量体組成物としての化合物(a)20部、メチルメタクリレート(以下、「MMA」と記す。)20部、および、溶媒としてのメチルエチルケトン(以下、「MEK」と記す。)60部、および、重合開始剤としての2,2’‐アゾビス‐メチルブチロニトリル(以下、「AMBN」と記す。)1.5部を入れて、攪拌しながら窒素ガス流量10ml/minで1時間フラスコ内を窒素置換後に、反応液温度80〜86℃で10時間還流状態にて重合反応を行った。重合反応終了後、紫外線吸収性共重合体溶液101.5部を得た。
(実施例2)
実施例1における単量体組成物を化合物(a)20部、MMA8部、スチレン(以下、「St」と記す。)、および2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、「HEMA」と記す。)8部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
実施例1における単量体組成物を化合物(a)20部、MMA8部、スチレン(以下、「St」と記す。)、および2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、「HEMA」と記す。)8部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(実施例3)
実施例1における単量体組成物を化合物(a)10部、化合物(c)10部、シクロヘキシルメタクリレート(以下、「CHMA」と記す。)18部、および1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジルメタクリレート(以下、「HALS」と記す。)2部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
実施例1における単量体組成物を化合物(a)10部、化合物(c)10部、シクロヘキシルメタクリレート(以下、「CHMA」と記す。)18部、および1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジルメタクリレート(以下、「HALS」と記す。)2部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(実施例4)
実施例1における単量体組成物を化合物(b)2部、およびMMA18部とし、溶媒としてのMEKを80部、重合開始剤としてのAMBNを0.8部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
実施例1における単量体組成物を化合物(b)2部、およびMMA18部とし、溶媒としてのMEKを80部、重合開始剤としてのAMBNを0.8部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(比較例1)
実施例1における単量体組成物を化合物(c)20部、MMA20部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
実施例1における単量体組成物を化合物(c)20部、MMA20部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
(比較例2)
実施例1における単量体組成物を化合物(d)20部、MMA20部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
実施例1における単量体組成物を化合物(d)20部、MMA20部とした以外は実施例1と同様の重合反応操作を行い、紫外線吸収性共重合体溶液を得た。
〔4.評価〕
上記の実施例1〜実施例4、比較例1および2により得られた紫外線吸収性共重合体溶液の不揮発分、溶液粘度、分子量、および紫外線吸収性共重合体の最大吸収波長λmax、紫外線吸収スペクトルを測定した。さらに紫外線吸収性共重合体を含む塗料を作製し、これをポリエステルフィルムにコーティングしたコーティングフィルムを作製し、昇華転写印刷に用いられる染料の保護性能確認を目的とした紫外線遮断機能確認試験、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出、ブリードアウト、結晶化、配合材料相溶性の確認試験を実施した。
上記の実施例1〜実施例4、比較例1および2により得られた紫外線吸収性共重合体溶液の不揮発分、溶液粘度、分子量、および紫外線吸収性共重合体の最大吸収波長λmax、紫外線吸収スペクトルを測定した。さらに紫外線吸収性共重合体を含む塗料を作製し、これをポリエステルフィルムにコーティングしたコーティングフィルムを作製し、昇華転写印刷に用いられる染料の保護性能確認を目的とした紫外線遮断機能確認試験、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出、ブリードアウト、結晶化、配合材料相溶性の確認試験を実施した。
不揮発分はアルミ皿に得られた紫外線吸収性共重合体溶液を1g秤量し、100℃で1時間乾燥、更に150℃で5時間乾燥後の残留樹脂量から算出した。
粘度はEH型粘度計(東機産業(株) TV‐22)を用い、25℃における溶液粘度を測定した。
分子量はGPCシステム(東ソー株式会社 HLC−8320GPC EcoSEC)を用い、溶離液をテトラヒドロフラン、分離カラムをTSKgelGMHXL−L(東ソー株式会社)として、ポリスチレン検量線を用いたポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、多分散度(Mw/Mn)を測定した。
最大吸収波長λmax、紫外線吸収スペクトルは、得られた紫外線吸収性共重合体溶液を減圧乾燥にて脱溶剤した後に、濃度40ppmクロロホルム溶液とし、分光光度計(日立ハイテクノロジーズ(株) U‐3900H)を用いて測定した。
紫外線遮断機能試験は、実施例1〜実施例3、比較例1および2で得られた紫外線吸収性共重合体溶液を用いて、紫外線吸性共重合体含有塗料を作製し、その塗料のコーティングフィルムによる昇華転写印刷に用いられる染料の紫外線吸収遮断性能を確認した。以下に手順を記す。
実施例1〜実施例3、比較例1および2で得られた紫外線吸収性共重合体溶液10部にトルエン5部、およびMEK5部を加え、紫外線吸収性共重合体を含む塗料を作製し、ポリエステルフィルム(東洋紡績(株)、コスモシャインA‐4300、100ミクロン、両面易接着処理)にバーコーター#20で上記の塗料を塗布した後、80℃で1分間乾燥後、更に100℃で30秒間乾燥させ、紫外線吸収性共重合体を含むコーティングフィルムを得た。膜厚計(FILMETRICS F20)を用いた紫外線吸収性共重合体を含む塗膜の膜厚はそれぞれおよそ3μであった。
次いで、市販の昇華転写方式コンパクトフォトプリンター(Canon SELPHY CP600)使用されているイエロー染料、シアン染料、マゼンダ染料、3色の転写フィルムを得た。これをJISK5701‐1:2000に準じて転写フィルムの染料の紫外線照射による劣化を、キセノンウェザーメーター(スガ試験機 SX−75)を用いて放射照度180W、ブラックパネル温度63±3℃、紫外線100時間連続照射。この結果より、染料の退色劣化を耐紫外線機能評価基準とした。
同様にして染料の転写フィルムを用い、前記で作製したそれぞれの紫外線吸収性共重合体を含む塗料がコーティングされたガラス板で転写フィルムを保護し、同様にJISK5701‐1:2000に準じて染料の紫外線退色劣化を確認した。評価は退色の目視確認での程度を考慮して5段階とし、レベル5は変化無し、レベル4は僅かなインク退色が確認出来る、レベル3はインク退色が確認出来る、レベル4は殆どインク退色、レベル1はインク分解消失とした
実施例1〜3、比較例1および2に関しては着色の測定を行った。着色の測定は、色差計(日本電色工業(株) SE6000)を用い、b*およびYI値を測定した。測定には、得られた紫外線吸収性共重合体溶液10部をトルエン30部で希釈した液と、光路長1cmのセルを用いた。
塗膜からの紫外線吸収成分の溶出、ブリードアウト、結晶化、配合材料相溶性の塗膜状態の変化確認試験は前記で作製したそれぞれの紫外線吸収性共重合体を含む塗料がコーティングされたフィルムの経時変化を光学顕微鏡用いて観察した。評価はフィルム作製から1ヵ月間の塗膜状態の目視感応評価とした。
前記の実施例1〜実施例4、比較例1および2より得られた紫外線吸性共重合体溶液の不揮発分、分子量、最大吸収波長λmax、波長領域300nm,360nm,400nm,420nm,450nmにおける吸光度、紫外線遮断機能試験評価結果、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出、ブリードアウト、結晶化、配合材料相溶性の塗膜状態の変化確認試験結果を表1に紫外線吸収スペクトルを図1〜図6に示した。
表1中の記号の意味は次の通りである。
「化合物(a)」:2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート
「化合物(b)」: 2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート
「化合物(c)」:2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール
「化合物(d)」: 2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレート
「MMA」:メチルメタクリレート
「St」:スチレン
「HEMA」:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
「CHMA」:シクロヘキシルメタクリレート
「HALS」:4‐メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン
「AMBN」:2,2’‐アゾビス‐メチルブチロニトリル
「MEK」:メチルエチルケトン
「化合物(a)」:2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート
「化合物(b)」: 2−メタクリロイルオキシエチル 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール−5−カルボキシレート
「化合物(c)」:2−[2−ヒドロキシ−5−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール
「化合物(d)」: 2−[2−(6-ヒドロキシ−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−2H−1,2,3ベンゾトリアゾール−5−イル]エチル=メタクリレート
「MMA」:メチルメタクリレート
「St」:スチレン
「HEMA」:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
「CHMA」:シクロヘキシルメタクリレート
「HALS」:4‐メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン
「AMBN」:2,2’‐アゾビス‐メチルブチロニトリル
「MEK」:メチルエチルケトン
実施例1〜4の結果から明らかなように、本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体は、地上における太陽から到達する太陽光放射照度分布の紫外線波長領域300nm〜400nmに対する広範囲な紫外線吸収波長領域を有する。従って、これを用いた塗料およびその塗料がコーティングされたフィルムも300nm〜400nmの広範囲な紫外線の吸収波長領域を有する。よって紫外線吸収遮断保護材料として用いると、非常に高いレベルで保護対象物を紫外線から保護することができることがわかった。また、色差測定のb*およびYI値から従来の400nm付近に吸収を有する材料と比較し、着色が少ない事がわかった。加えて、塗膜からの紫外線吸収成分の溶出やブリードアウト、塗膜中での紫外線吸収成分の結晶化や他の配合材料との相溶性の問題も生じないことも分かった。
本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体は、従来吸収が難しかった太陽光の紫外線領域のうち、太陽光の紫外線部分の分光放射照度分布に対応可能な300〜400nmの広範囲な波長領域を吸収することができ、かつ着色の少ない材料である。また従来知られている250nm〜380nmの紫外線領域を吸収するベンゾトリアゾール系単量体をさらに原料単量体として用いて共重合させて得られる本発明のベンゾトリアゾール系(共)重合体では、さらなる広範囲の紫外線領域において吸収性能に優れる。またこれを塗料にしてコーティングすることもできる。したがって、紫外線で劣化する材料や人体の保護に好適に用いることが出来、なかでも、ディスプレイ用光学フィルム、眼鏡レンズ等に好適に利用できる。
Claims (5)
- 重合性単量体として一般式(1)で表されるレゾルシノール型ベンゾトリアゾール系単量体を含む原料を重合してなることを特徴とするベンゾトリアゾール系(共)重合体。
一般式(1)
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、または炭素数1〜8のアルキル基を表し、R3は水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、アルキル炭素数1〜7のカルボキシアルキル基、各アルキル炭素数の合計が2〜15のアルキルオキシカルボニルアルキル基、炭素数1〜8のヒドロキシアルキル基、各アルキル炭素数の合計が2〜15のアルキルカルボニルオキシアルキル基、ホルミル基、アルキル炭素数1〜7のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、またはトルオイル基を表し、R4は、アルキル炭素数1〜4のアクリロイルオキシアルキル基、アルキル炭素数1〜4のアクリロイルオキシヒドロキシアルキル基、アルキル炭素数1〜4のメタクリロイルオキシアルキル基、またはアルキル炭素数1〜4のメタクリロイルオキシヒドロキシアルキル基である) - 前記一般式(1)におけるR1およびR2が水素原子であり、R3が炭素数1〜8のアルキル基であり、R4がアルキル炭素数1〜2のアクリロイルオキシアルキル基、またはアルキル炭素数1〜2のメタクリロイルオキシアルキル基である請求項1記載のベンゾトリアゾール系(共)重合体。
- 請求項1〜3のいずれかの項記載のベンゾトリアゾール系(共)重合体を含有する紫外線吸収性塗料。
- 請求項4記載の紫外線吸収性塗料がコーティングされているフィルム。
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