[go: up one dir, main page]

JP2017038125A - Oscillation module, vibration device, electronic device, and moving object - Google Patents

Oscillation module, vibration device, electronic device, and moving object Download PDF

Info

Publication number
JP2017038125A
JP2017038125A JP2015156786A JP2015156786A JP2017038125A JP 2017038125 A JP2017038125 A JP 2017038125A JP 2015156786 A JP2015156786 A JP 2015156786A JP 2015156786 A JP2015156786 A JP 2015156786A JP 2017038125 A JP2017038125 A JP 2017038125A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
semiconductor
thin film
oscillation
oscillation module
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015156786A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6724308B2 (en
JP2017038125A5 (en
Inventor
昌生 野村
Masao Nomura
昌生 野村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2015156786A priority Critical patent/JP6724308B2/en
Publication of JP2017038125A publication Critical patent/JP2017038125A/en
Publication of JP2017038125A5 publication Critical patent/JP2017038125A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6724308B2 publication Critical patent/JP6724308B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Oscillators With Electromechanical Resonators (AREA)
  • Inductance-Capacitance Distribution Constants And Capacitance-Resistance Oscillators (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oscillation module capable of suppressing fluctuation in oscillation frequency caused by electromagnetic coupling between an electrostatic capacitance element that configures a semiconductor circuit (an oscillation circuit) and an inductance element.SOLUTION: An oscillation module 1 comprises: a circuit board 5 as a substrate; a first circuit part 32 connected with the circuit board; and a second circuit part 60 connected with the circuit board. The first circuit part has: a semiconductor circuit provided on a principal surface of the semiconductor substrate; and a thin-film circuit element that has a conductive thin film, and that is arranged on the principal surface side of the semiconductor substrate. The semiconductor circuit is provided between the thin-film circuit element and an outer peripheral part of the semiconductor substrate in a plan view.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、発振モジュール、振動デバイス、電子機器、および移動体に関する。   The present invention relates to an oscillation module, a vibration device, an electronic apparatus, and a moving body.

従来、例えば発振回路を含む発振モジュールなどに好適に用いられる半導体装置として、例えば特許文献1には、半導体基板に設けられている集積回路(半導体回路)と、該半導体基板上に設けられている絶縁層と、該絶縁層上に設けられているインダクタンス素子とを備えた半導体装置が開示されている。   Conventionally, as a semiconductor device suitably used, for example, in an oscillation module including an oscillation circuit, for example, in Patent Document 1, an integrated circuit (semiconductor circuit) provided on a semiconductor substrate and the semiconductor device are provided on the semiconductor substrate. A semiconductor device including an insulating layer and an inductance element provided on the insulating layer is disclosed.

特開2009−267212号公報JP 2009-267212 A

しかしながら、上述した特許文献1における半導体装置では、集積回路(半導体回路)とインダクタンス素子(インダクタンス回路)とが平面視で重なって配置された構成となっている。このような構成では、例えば、集積回路(半導体回路)が可変容量素子を含む発振回路である場合において、可変容量素子とインダクタンス素子との電磁的な結合により、インダクタンス素子のインダクタンスが変化する、または可変容量素子の静電容量値等が変化し、これにより発振回路から出力される発振周波数が変動してしまう虞を有していた。   However, the semiconductor device disclosed in Patent Document 1 described above has a configuration in which an integrated circuit (semiconductor circuit) and an inductance element (inductance circuit) are arranged to overlap each other in plan view. In such a configuration, for example, when the integrated circuit (semiconductor circuit) is an oscillation circuit including a variable capacitance element, the inductance of the inductance element changes due to electromagnetic coupling between the variable capacitance element and the inductance element, or There has been a possibility that the capacitance value of the variable capacitance element changes, and thereby the oscillation frequency output from the oscillation circuit may fluctuate.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る発振モジュールは、基板と、前記基板に接続されている第1回路部と、前記基板に接続されている第2回路部と、を備え、前記第1回路部は、半導体基板の主面に設けられている半導体回路と、前記半導体基板の前記主面側に配置され、導電性の薄膜を有する薄膜回路素子と、を有し、前記半導体回路は、平面視で、前記薄膜回路素子と前記半導体基板の外周部との間に設けられていることを特徴とする。   Application Example 1 An oscillation module according to this application example includes a substrate, a first circuit unit connected to the substrate, and a second circuit unit connected to the substrate, and the first circuit The portion includes a semiconductor circuit provided on the main surface of the semiconductor substrate, and a thin film circuit element disposed on the main surface side of the semiconductor substrate and having a conductive thin film. In view, the thin film circuit element is provided between the thin film circuit element and the outer peripheral portion of the semiconductor substrate.

本適用例によれば、第1回路部に設けられている半導体回路は、平面視で、薄膜回路素子と半導体基板の外周部との間に配置されているため、半導体回路と薄膜回路素子とは平面視で重ならないので、半導体回路と薄膜回路素子との電磁的な結合が低減する。また、半導体回路は、平面視で、薄膜回路素子と半導体基板の外周部との間、換言すると、半導体回路は、平面視で、薄膜回路素子の外側に配置されている。このため、例えば、薄膜回路素子が磁界を発生させる素子である場合には、一般的に、薄膜回路素子の内側での磁束密度よりも外側での磁界密度の方が小さくなるため、半導体回路を薄膜回路素子の外側に配置することで、半導体回路と薄膜回路素子との電磁的な結合が低減する。これにより、半導体回路と薄膜回路素子の電磁的な結合に起因する薄膜回路素子の特性値の変動を減少させることができる。したがって、例えば、第1回路部および第2回路部によって発振回路が構成された場合に、この発振回路の発振ループ中に薄膜回路素子が使用される回路であっても、薄膜回路素子の特性値の変動によって生じる発振周波数の変動を低減することが可能な発振モジュールを提供することができる。   According to this application example, the semiconductor circuit provided in the first circuit portion is disposed between the thin film circuit element and the outer peripheral portion of the semiconductor substrate in plan view. Since they do not overlap in plan view, the electromagnetic coupling between the semiconductor circuit and the thin film circuit element is reduced. Further, the semiconductor circuit is disposed between the thin film circuit element and the outer peripheral portion of the semiconductor substrate in plan view, in other words, the semiconductor circuit is disposed outside the thin film circuit element in plan view. For this reason, for example, when the thin film circuit element is an element that generates a magnetic field, the magnetic field density on the outside is generally smaller than the magnetic flux density on the inside of the thin film circuit element. By disposing outside the thin film circuit element, electromagnetic coupling between the semiconductor circuit and the thin film circuit element is reduced. Thereby, the fluctuation | variation of the characteristic value of a thin film circuit element resulting from the electromagnetic coupling of a semiconductor circuit and a thin film circuit element can be reduced. Therefore, for example, when the oscillation circuit is configured by the first circuit unit and the second circuit unit, even if the circuit uses the thin film circuit element in the oscillation loop of the oscillation circuit, the characteristic value of the thin film circuit element Thus, it is possible to provide an oscillation module that can reduce oscillation frequency fluctuations caused by fluctuations.

[適用例2]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、前記主面および前記半導体回路と重なるように設けられている第1の絶縁膜を備え、前記薄膜回路素子は、前記第1の絶縁膜の前記主面および前記半導体回路の少なくとも一方と接する面の反対面に設けられていることが好ましい。   Application Example 2 In the oscillation module according to the application example, the oscillation module includes a first insulating film provided so as to overlap the main surface and the semiconductor circuit, and the thin film circuit element includes the first insulating film. Preferably, it is provided on the opposite surface of the main surface and the surface in contact with at least one of the semiconductor circuits.

本適用例によれば、半導体回路と薄膜回路素子とが、第1の絶縁膜を介して設けられているため、半導体回路と薄膜回路素子との間の、例えば短絡などの電気的絶縁不良を減少させることができる。   According to this application example, since the semiconductor circuit and the thin film circuit element are provided via the first insulating film, an electrical insulation failure such as a short circuit between the semiconductor circuit and the thin film circuit element is prevented. Can be reduced.

[適用例3]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、平面視で、前記半導体回路と重なるとともに前記薄膜回路素子と重ならない位置であり、かつ前記第1の絶縁膜上配置されている外部接続端子を有することが好ましい。   Application Example 3 In the oscillation module according to the application example described above, the external connection disposed on the first insulating film is a position that overlaps the semiconductor circuit and does not overlap the thin film circuit element in a plan view. It is preferable to have a terminal.

本適用例によれば、平面視で重なって配置された外部接続端子を半導体回路のシールド電極として使用することができるため、外部からのノイズが半導体回路に影響することを抑制することができ、例えば、発振回路の発振ループ中に、本適用例の回路を用いることにより、外部からのノイズが発振周波数のノイズになる虞を低減することができる。また、外部接続端子が薄膜回路素子と重ならない位置に配置されているため、薄膜回路素子と半導体回路との電磁的な結合を抑制することができ、薄膜回路素子または半導体回路に用いられる素子値の変動を小さくすることができる。これにより、例えば、発振モジュールにおける発振周波数の変動を低減することができる。   According to this application example, it is possible to use the external connection terminals that are arranged so as to overlap in plan view as the shield electrode of the semiconductor circuit, so that it is possible to suppress external noise from affecting the semiconductor circuit, For example, by using the circuit of this application example in the oscillation loop of the oscillation circuit, it is possible to reduce the possibility of external noise becoming oscillation frequency noise. In addition, since the external connection terminal is arranged at a position that does not overlap with the thin film circuit element, electromagnetic coupling between the thin film circuit element and the semiconductor circuit can be suppressed, and the element value used for the thin film circuit element or the semiconductor circuit Can be reduced. Thereby, for example, fluctuations in the oscillation frequency in the oscillation module can be reduced.

[適用例4]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、少なくとも前記薄膜回路素子を覆う第2の絶縁膜を有し、平面視で、前記半導体回路と重なるとともに前記薄膜回路素子と重ならない位置であり、かつ前記第2の絶縁膜上に配置されている外部接続端子を有することが好ましい。   Application Example 4 In the oscillation module according to the application example described above, the oscillation module includes at least a second insulating film that covers the thin film circuit element, and in a plan view, overlaps the semiconductor circuit and does not overlap the thin film circuit element. It is preferable to have an external connection terminal disposed on the second insulating film.

本適用例によれば、第2の絶縁膜により薄膜回路素子と外部接続端子との電気的短絡を防止するとともに、外部接続端子を半導体回路のシールド電極として使用することができるため、外部からのノイズが半導体回路に影響することを抑制することができ、例えば、発振回路の発振ループ中に本適用例の回路を用いることにより、外部からのノイズが発振周波数のノイズになる虞を低減することができる。また、外部接続端子が薄膜回路素子と重ならない位置に配置されているため、薄膜回路素子と半導体回路との電磁的な結合を抑制することができ、薄膜回路素子または半導体回路に用いられる素子値の変動を小さくすることができる。これにより、例えば、発振モジュールにおける発振周波数の変動を低減することができる。   According to this application example, the second insulating film can prevent an electrical short circuit between the thin film circuit element and the external connection terminal, and the external connection terminal can be used as a shield electrode of the semiconductor circuit. It is possible to suppress the influence of noise on the semiconductor circuit. For example, by using the circuit of this application example in the oscillation loop of the oscillation circuit, it is possible to reduce the possibility of external noise becoming oscillation frequency noise. Can do. In addition, since the external connection terminal is arranged at a position that does not overlap with the thin film circuit element, electromagnetic coupling between the thin film circuit element and the semiconductor circuit can be suppressed, and the element value used for the thin film circuit element or the semiconductor circuit Can be reduced. Thereby, for example, fluctuations in the oscillation frequency in the oscillation module can be reduced.

[適用例5]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、前記半導体回路は、静電容量素子を含み、前記薄膜回路素子は、インダクタンス回路を含んでいることが好ましい。   Application Example 5 In the oscillation module according to the application example described above, it is preferable that the semiconductor circuit includes a capacitive element, and the thin film circuit element includes an inductance circuit.

本適用例によれば、半導体回路は、静電容量素子を含み、薄膜回路素子は、インダクタンス回路を含み、それらを含む発振回路の発振ループ中に使用される発振用回路を構成することができる。このような発振用回路において、伸長コイルとしてインダクタンス回路が用いられた場合、インダクタンス回路と静電容量素子とが電磁的に結合してしまうと、例えば、インダクタンス回路と静電容量素子との間に浮遊容量が発生してインダクタンス回路のインダクタンス値や静電容量素子の静電容量値が変動してしまい、発振周波数が変動する虞がある。本構成を用いることで、電磁的な結合を低減できるので、インダクタンス回路のインダクタンス値や静電容量素子の静電容量値の変動を低減することができ、例えば、発振回路の発振周波数変動を低減することができる。   According to this application example, the semiconductor circuit includes the capacitive element, the thin film circuit element includes the inductance circuit, and the oscillation circuit used in the oscillation loop of the oscillation circuit including them can be configured. . In such an oscillation circuit, when an inductance circuit is used as the extension coil, if the inductance circuit and the capacitive element are electromagnetically coupled, for example, between the inductance circuit and the capacitive element. There is a possibility that the stray capacitance is generated and the inductance value of the inductance circuit and the capacitance value of the capacitance element are fluctuated and the oscillation frequency is fluctuated. By using this configuration, electromagnetic coupling can be reduced, so that fluctuations in the inductance value of the inductance circuit and the capacitance value of the capacitive element can be reduced. For example, fluctuations in the oscillation frequency of the oscillation circuit can be reduced. can do.

[適用例6]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、前記インダクタンス回路は、平面視で、渦巻き状に配置された配線であることが好ましい。   Application Example 6 In the oscillation module described in the application example, it is preferable that the inductance circuit is a wiring arranged in a spiral shape in a plan view.

本適用例によれば、半導体回路が、平面視でインダクタンス回路が形成された領域の外部に配置される構成となる。インダクタンス回路の渦巻き状(螺旋状)のパターン内部は、渦巻き状のパターン外部(インダクタンス回路と半導体基板の外周部との間の領域)と比較すると磁束密度が高い状態となる。したがって、平面視で、渦巻き状のパターン内部に半導体回路が配置されていると、インダクタンス回路と半導体回路との電磁的な結合が大きくなり、インダクタンス値の変動が大きくなる虞がある。本構成を用いることで、電磁的な結合を低減できるので、インダクタンス回路の特性値の変動を低減することができ、例えば、発振回路の発振周波数の変動を低減することができる。   According to this application example, the semiconductor circuit is arranged outside the region where the inductance circuit is formed in a plan view. The inside of the spiral (spiral) pattern of the inductance circuit has a higher magnetic flux density than the outside of the spiral pattern (region between the inductance circuit and the outer peripheral portion of the semiconductor substrate). Therefore, when the semiconductor circuit is arranged inside the spiral pattern in a plan view, the electromagnetic coupling between the inductance circuit and the semiconductor circuit is increased, and there is a possibility that the variation of the inductance value is increased. By using this configuration, electromagnetic coupling can be reduced, so that fluctuations in the characteristic value of the inductance circuit can be reduced. For example, fluctuations in the oscillation frequency of the oscillation circuit can be reduced.

[適用例7]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、前記半導体回路は、前記インダクタンス回路に電気的に接続されている抵抗回路を含んでいることが好ましい。   Application Example 7 In the oscillation module according to the application example described above, it is preferable that the semiconductor circuit includes a resistance circuit that is electrically connected to the inductance circuit.

本適用例によれば、インダクタンス回路に電気的に接続されている抵抗回路を用いて、インダクタンス回路の特性、特にQ値を調整することができるため、例えば、発振回路の起動時にインダクタンス回路に起因する異常発振を低減することができる。   According to this application example, it is possible to adjust the characteristics of the inductance circuit, particularly the Q value, using a resistance circuit electrically connected to the inductance circuit. It is possible to reduce abnormal oscillation.

[適用例8]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、前記抵抗回路は、抵抗値が可変に制御可能であることが好ましい。   Application Example 8 In the oscillation module according to the application example described above, it is preferable that the resistance circuit can be variably controlled in resistance value.

本適用例によれば、インダクタンス回路に電気的接続されている抵抗回路の抵抗値を可変に制御することで、インダクタンス回路のQ値を、例えば発振周波数または使用する振動子の等価回路定数値等が変わるごとに調整することができる。このため、発振周波数または使用する振動子の等価回路定数値等が変わっても異常発振を起こさないように調整することが可能になる。   According to this application example, by variably controlling the resistance value of the resistance circuit electrically connected to the inductance circuit, the Q value of the inductance circuit can be set, for example, the oscillation frequency or the equivalent circuit constant value of the vibrator to be used. Can be adjusted each time For this reason, even if the oscillation frequency or the equivalent circuit constant value of the vibrator to be used is changed, it is possible to adjust so as not to cause abnormal oscillation.

[適用例9]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、前記第2回路部は、前記インダクタンス回路に電気的に接続されている抵抗素子、容量素子、および増幅器を含んでいることが好ましい。   Application Example 9 In the oscillation module described in the application example, it is preferable that the second circuit unit includes a resistance element, a capacitance element, and an amplifier that are electrically connected to the inductance circuit.

本適用例によれば、基板に、ディスクリートで接続されている抵抗素子、容量素子、および増幅器と、第1回路部のインダクタンス回路とにより、発振回路を容易に構成することができる。   According to this application example, the oscillation circuit can be easily configured by the resistor element, the capacitor element, and the amplifier that are discretely connected to the substrate and the inductance circuit of the first circuit unit.

[適用例10]上記適用例に記載の発振モジュールにおいて、前記第1回路部および前記第2回路部は、少なくともコルビッツ型発振回路を含んでいることが好ましい。   Application Example 10 In the oscillation module according to the application example described above, it is preferable that the first circuit unit and the second circuit unit include at least a Corbitz oscillation circuit.

本適用例によれば、コルビッツ型発振回路を、第1回路部および第2回路部を用いて構成することができ、多様な回路構成を容易に実現することができる。   According to this application example, the Corbitz oscillation circuit can be configured using the first circuit unit and the second circuit unit, and various circuit configurations can be easily realized.

[適用例11]本適用例に係る振動デバイスは、基板と、前記基板に接続されている第1回路部と、前記基板に接続されている第2回路部と、前記第1回路部および前記第2回路部の少なくとも一方に接続されている振動素子と、を備え、前記第1回路部は、半導体基板の主面に設けられている半導体回路と、前記半導体基板の前記主面側に配置され、導電性の薄膜を有する薄膜回路素子と、を有し、前記半導体回路は、平面視で、前記薄膜回路素子と前記第1回路部の外周部との間に設けられていることを特徴とする。   Application Example 11 A vibration device according to this application example includes a substrate, a first circuit unit connected to the substrate, a second circuit unit connected to the substrate, the first circuit unit, and the first circuit unit. A vibration element connected to at least one of the second circuit portions, wherein the first circuit portion is disposed on the main surface side of the semiconductor substrate, and a semiconductor circuit provided on the main surface of the semiconductor substrate A thin film circuit element having a conductive thin film, and the semiconductor circuit is provided between the thin film circuit element and the outer periphery of the first circuit portion in plan view. And

本適用例によれば、半導体回路は、平面視で、薄膜回路素子と半導体基板の外周部との間に配置されているため、半導体回路と薄膜回路素子とは平面視で重ならないので、半導体回路と薄膜回路素子との電磁的な結合が低減する。また、半導体回路は、平面視で、薄膜回路素子と半導体基板の外周部との間、換言すると、半導体回路は、平面視で、薄膜回路素子の外側に配置されている。このため、例えば、薄膜回路素子が磁界を発生させる素子である場合には、一般的に、薄膜回路素子の内側での磁束密度よりも外側での磁界密度の方が小さくなるため、半導体回路を薄膜回路素子の外側に配置することで、半導体回路と薄膜回路素子との電磁的な結合が低減する。これにより、半導体回路と薄膜回路素子の電磁的な結合に起因する薄膜回路素子の特性値の変動を減少させることができる。したがって、振動素子を発振させる発振回路の発振ループ中に薄膜回路素子が使用される回路であっても、薄膜回路素子の特性値の変動によって生じる発振周波数の変動を低減することが可能な振動デバイスを提供することができる。   According to this application example, since the semiconductor circuit is disposed between the thin film circuit element and the outer peripheral portion of the semiconductor substrate in plan view, the semiconductor circuit and the thin film circuit element do not overlap in plan view. Electromagnetic coupling between the circuit and the thin film circuit element is reduced. Further, the semiconductor circuit is disposed between the thin film circuit element and the outer peripheral portion of the semiconductor substrate in plan view, in other words, the semiconductor circuit is disposed outside the thin film circuit element in plan view. For this reason, for example, when the thin film circuit element is an element that generates a magnetic field, the magnetic field density on the outside is generally smaller than the magnetic flux density on the inside of the thin film circuit element. By disposing outside the thin film circuit element, electromagnetic coupling between the semiconductor circuit and the thin film circuit element is reduced. Thereby, the fluctuation | variation of the characteristic value of a thin film circuit element resulting from the electromagnetic coupling of a semiconductor circuit and a thin film circuit element can be reduced. Therefore, even in a circuit in which a thin film circuit element is used in an oscillation loop of an oscillation circuit that oscillates the vibration element, a vibration device that can reduce fluctuations in oscillation frequency caused by fluctuations in characteristic values of the thin film circuit elements Can be provided.

[適用例12]上記適用例に記載の振動デバイスにおいて、前記第1回路部および前記第2回路部は、少なくともコルビッツ型発振回路を含んでいることが好ましい。   Application Example 12 In the vibrating device according to the application example described above, it is preferable that the first circuit unit and the second circuit unit include at least a Corbitz oscillation circuit.

本適用例によれば、振動デバイスにおける、コルビッツ型発振回路を、第1回路部および第2回路部を用いて構成することができ、多様な回路構成を容易に実現することができる。   According to this application example, the Corbitz oscillation circuit in the vibration device can be configured using the first circuit unit and the second circuit unit, and various circuit configurations can be easily realized.

[適用例13]本適用例に係る電子機器は、上記適用例のいずれか一例に記載の発振モジュールを備えていることを特徴とする。   Application Example 13 An electronic apparatus according to this application example includes the oscillation module according to any one of the application examples described above.

本適用例によれば、半導体回路と薄膜回路素子の電磁的な結合に起因する半導体回路の特性値または薄膜回路素子の特性値の変動を減少させた発振モジュールを備えているため、安定した特性を維持することが可能な電子機器を提供することができる。   According to this application example, since the oscillation module in which the fluctuation of the characteristic value of the semiconductor circuit or the characteristic value of the thin film circuit element due to the electromagnetic coupling between the semiconductor circuit and the thin film circuit element is reduced is provided, stable characteristics are provided. It is possible to provide an electronic device capable of maintaining the above.

[適用例14]本適用例に係る移動体は、上記適用例のいずれか一例に記載の発振モジュールを備えていることを特徴とする。   [Application Example 14] A moving object according to this application example includes the oscillation module according to any one of the application examples described above.

本適用例によれば、半導体回路と薄膜回路素子の電磁的な結合に起因する半導体回路の特性値または薄膜回路素子の特性値の変動を減少させた発振モジュールを備えているため、安定した特性を維持することが可能な移動体を提供することができる。   According to this application example, since the oscillation module in which the fluctuation of the characteristic value of the semiconductor circuit or the characteristic value of the thin film circuit element due to the electromagnetic coupling between the semiconductor circuit and the thin film circuit element is reduced is provided, stable characteristics are provided. Can be provided.

本発明に係る発振モジュールの概略を示す斜視図。The perspective view which shows the outline of the oscillation module which concerns on this invention. 本発明に係る発振モジュールの概略を示す平面図。The top view which shows the outline of the oscillation module which concerns on this invention. 発振モジュールの概略を示す正面図。The front view which shows the outline of an oscillation module. 発振モジュールに設けられている回路の一例を示す回路構成図。The circuit block diagram which shows an example of the circuit provided in the oscillation module. 半導体回路素子(第1実施形態)の概略を示す平面図。The top view which shows the outline of a semiconductor circuit element (1st Embodiment). 図5のA−A断面図。AA sectional drawing of FIG. 半導体回路素子に設けられている半導体回路の一例を示す回路構成図。The circuit block diagram which shows an example of the semiconductor circuit provided in the semiconductor circuit element. 半導体回路素子(第2実施形態)の概略を示す平面図。The top view which shows the outline of a semiconductor circuit element (2nd Embodiment). 図8のB−B断面図。BB sectional drawing of FIG. 半導体回路素子(第3実施形態)を示し、図8のB−B断面に相当する断面図。Sectional drawing which shows a semiconductor circuit element (3rd Embodiment) and is equivalent to the BB cross section of FIG. 本発明に係る振動デバイスの概略を示す斜視図。The perspective view which shows the outline of the vibration device which concerns on this invention. 振動デバイスの概略を示す平面図。The top view which shows the outline of a vibration device. 図12のC−C断面図。CC sectional drawing of FIG. 振動デバイスに設けられている回路の一例を示す回路構成図。The circuit block diagram which shows an example of the circuit provided in the vibration device. 電子機器の一例としてのモバイル型のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the mobile type personal computer as an example of an electronic device. 電子機器の一例としての携帯電話機の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the mobile telephone as an example of an electronic device. 電子機器の一例としてのデジタルスチールカメラの構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the digital still camera as an example of an electronic device. 移動体の一例としての自動車の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the motor vehicle as an example of a mobile body.

以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。なお、添付図面では、説明の便宜上、形状、縮尺などを実際と異ならせて表現している箇所がある。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the accompanying drawings, for convenience of explanation, there are places where shapes, scales, and the like are expressed differently from actual ones.

[発振モジュール]
先ず、本発明に係る発振モジュールについて、図1、図2、図3、および図4を参照しながら説明する。図1は、本発明に係る発振モジュールの概略を示す斜視図である。図2は、発振モジュールの概略を示す平面図である。図3は、発振モジュールの概略を示す正面図である。図4は、発振モジュールに設けられている回路の一例を示す回路構成図である。
[Oscillation module]
First, an oscillation module according to the present invention will be described with reference to FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, and FIG. FIG. 1 is a perspective view showing an outline of an oscillation module according to the present invention. FIG. 2 is a plan view schematically showing the oscillation module. FIG. 3 is a front view showing an outline of the oscillation module. FIG. 4 is a circuit configuration diagram illustrating an example of a circuit provided in the oscillation module.

図1、図2、図3、および図4に示すように、本発明に係る発振モジュール1は、基板としての回路基板5と、回路基板5の実装面5aに接続されている第1回路部32を構成する半導体回路素子100、および同様に回路基板5の実装面5aに接続されている第2回路部60と、を備えている。発振モジュール1は、第1回路部32を構成する半導体回路素子100と、ディスクリート回路で構成される第2回路部60とによって、例えばコルビッツ型発振回路などの発振回路を有している。なお、この発振回路によって励振される振動素子を含む振動子33(図4参照)は、発振モジュール1と電気的に接続されて用いられることができる。なお、発振モジュール1は、発振モジュール1中に振動子33(図4参照)を含む構成であってもよい。以下、回路基板5、第1回路部32を構成する半導体回路素子100、およびディスクリート回路で構成される第2回路部60について順次詳細に説明する。   As shown in FIGS. 1, 2, 3, and 4, an oscillation module 1 according to the present invention includes a circuit board 5 as a board and a first circuit unit connected to a mounting surface 5 a of the circuit board 5. 32, and a second circuit portion 60 connected to the mounting surface 5a of the circuit board 5 in the same manner. The oscillation module 1 includes an oscillation circuit such as a Corbitz-type oscillation circuit by the semiconductor circuit element 100 constituting the first circuit portion 32 and the second circuit portion 60 constituted by a discrete circuit. Note that the vibrator 33 (see FIG. 4) including the vibration element excited by the oscillation circuit can be used by being electrically connected to the oscillation module 1. Note that the oscillation module 1 may include a vibrator 33 (see FIG. 4) in the oscillation module 1. Hereinafter, the circuit board 5, the semiconductor circuit element 100 constituting the first circuit part 32, and the second circuit part 60 constituted by a discrete circuit will be sequentially described in detail.

基板としての回路基板5は、略矩形状の表裏面を有し、一方の面(表面)である実装面5aに、半導体回路素子100などの各回路構成部材が実装されている。回路基板5は、例えばエポキシ樹脂やセラミックといった絶縁体から形成される。回路基板5の実装面(おもて面)5aには、複数の接続端子8や、図示を省略するが、例えばめっき成膜による導電材から形成される配線パターン(実装配線や導電端子、電極など)が形成されている。なお、配線パターンは、実装面5aと表裏関係にある裏面に設けられていてもよい。   The circuit board 5 as a board has a substantially rectangular front and back surface, and each circuit component such as the semiconductor circuit element 100 is mounted on a mounting surface 5a which is one surface (front surface). The circuit board 5 is formed of an insulator such as epoxy resin or ceramic. On the mounting surface (front surface) 5 a of the circuit board 5, a plurality of connection terminals 8 and a wiring pattern formed from a conductive material by plating film formation (mounting wiring, conductive terminals, electrodes, for example) are omitted. Etc.) are formed. In addition, the wiring pattern may be provided on the back surface in the front-back relationship with the mounting surface 5a.

半導体回路素子100は、例えば半導体基板10(図6参照)の主面10a(図6参照)に設けられている半導体回路30(図6参照)と、導電性の薄膜を有する薄膜回路素子40(図5参照)と、を含み集積化された第1回路部32を備えている。第1回路部32は、第2回路部60、抵抗素子34(図7参照)および振動子33などと接続されている。半導体回路30は、抵抗回路26、静電容量素子27(可変容量素子)、およびレギュレーター35(図7参照)などを含んでいる。なお、半導体回路素子100については、後段において、第1実施形態から第3実施形態として、詳細に説明する。   The semiconductor circuit element 100 includes, for example, a semiconductor circuit 30 (see FIG. 6) provided on a main surface 10a (see FIG. 6) of a semiconductor substrate 10 (see FIG. 6), and a thin film circuit element 40 (see FIG. 6) having a conductive thin film. And a first circuit portion 32 integrated therewith. The first circuit unit 32 is connected to the second circuit unit 60, the resistance element 34 (see FIG. 7), the vibrator 33, and the like. The semiconductor circuit 30 includes a resistance circuit 26, a capacitive element 27 (variable capacitive element), a regulator 35 (see FIG. 7), and the like. The semiconductor circuit element 100 will be described in detail later as the first to third embodiments.

第2回路部60は、増幅器としてのトランジスター61、抵抗素子62,63、および容量素子としての静電容量素子64を少なくとも備え、それぞれの素子(電子部品、部材)を、回路基板5上にディスクリートで配設したディスクリート回路で構成されている。そして、第2回路部60を構成するトランジスター61、抵抗素子62,63、および静電容量素子64と、前述した第1回路部32を構成する半導体回路素子100の半導体回路30および薄膜回路素子40とにより、例えばコルビッツ型発振回路などの発振回路が構成される。このように、集積化された第1回路部32、およびディスクリート回路で構成された第2回路部60を用いてコルビッツ型発振回路を構成することができ、多様な回路構成を容易に実現することができる。   The second circuit unit 60 includes at least a transistor 61 as an amplifier, resistance elements 62 and 63, and a capacitance element 64 as a capacitance element. Each element (electronic component or member) is discretely provided on the circuit board 5. It is comprised by the discrete circuit arrange | positioned by. The transistor 61, the resistance elements 62 and 63, and the electrostatic capacitance element 64 constituting the second circuit section 60, and the semiconductor circuit 30 and the thin film circuit element 40 of the semiconductor circuit element 100 constituting the first circuit section 32 described above. As a result, an oscillation circuit such as a Corbitz oscillation circuit is formed. As described above, a Corbitz-type oscillation circuit can be configured by using the integrated first circuit unit 32 and the second circuit unit 60 configured by discrete circuits, and various circuit configurations can be easily realized. Can do.

なお、上述では、第1回路部32を、半導体回路素子100(半導体回路素子の第1実施形態)を含むこととして説明したが、後段で説明する第2実施形態による半導体回路素子200、または第3実施形態を半導体回路素子300のいずれかを含むこととすることも可能である。   In the above description, the first circuit unit 32 is described as including the semiconductor circuit element 100 (the first embodiment of the semiconductor circuit element). However, the semiconductor circuit element 200 according to the second embodiment described later, It is also possible for the third embodiment to include any of the semiconductor circuit elements 300.

また、発振モジュール1は、前述した構成、即ち回路基板5に接続された第1回路部32や第2回路部60が露出している構成に限らず、第1回路部32や第2回路部60を、例えば樹脂モールド材などを用いて被覆し、露出させない構成であってもよい。また、回路基板5には、他の電子部品や部材が接続されていてもよい。   The oscillation module 1 is not limited to the configuration described above, that is, the configuration in which the first circuit unit 32 and the second circuit unit 60 connected to the circuit board 5 are exposed, but the first circuit unit 32 and the second circuit unit. 60 may be configured to be covered with, for example, a resin mold material and not exposed. In addition, other electronic components and members may be connected to the circuit board 5.

また、発振モジュール1は、回路基板5に替わる基板として、例えば中央部に収納空間を備えたセラミックパッケージの内部底面、およびその内底面に設けられた配線パターンを用いて、第1回路部32や第2回路部60を接続させた構成とすることも可能である。この場合、第1回路部32や第2回路部60を収納した収納空間は、蓋体などで封止されてもよい。   In addition, the oscillation module 1 uses, for example, an inner bottom surface of a ceramic package having a storage space in the center as a substrate to replace the circuit substrate 5 and a wiring pattern provided on the inner bottom surface, A configuration in which the second circuit unit 60 is connected is also possible. In this case, the storage space in which the first circuit unit 32 and the second circuit unit 60 are stored may be sealed with a lid or the like.

(半導体回路素子の詳細説明)
ここで、前述した第1回路部32を構成する半導体回路素子100について、図面を参照しながら詳細を説明する。なお、以下の説明では、半導体回路素子の第1実施形態を半導体回路素子100、第2実施形態を半導体回路素子200、第3実施形態を半導体回路素子300として説明する。
(Detailed description of semiconductor circuit elements)
Here, the semiconductor circuit element 100 constituting the first circuit unit 32 described above will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the first embodiment of the semiconductor circuit element will be described as the semiconductor circuit element 100, the second embodiment as the semiconductor circuit element 200, and the third embodiment as the semiconductor circuit element 300.

<第1実施形態>
図5、図6および図7を用い、第1回路部32を構成する半導体回路素子の第1実施形態について説明する。本説明では、半導体回路として圧電振動片や表面弾性波振動片などを発振させる発振用回路の発振ループ中に接続されるインダクタンス回路(薄膜回路素子)を少なくとも備えた半導体回路素子を例示して説明する。図5、および図6は、第1実施形態に係る半導体回路素子を示し、図5は、平面図であり、図6は、図5のA−A断面図である。なお、図5では、図面の見易さを向上させるため、図6に示すソルダーレジスト24を省略している。図7は、半導体回路素子に設けられている半導体回路の一例を示す回路構成図である。
<First Embodiment>
A first embodiment of the semiconductor circuit element constituting the first circuit section 32 will be described with reference to FIGS. 5, 6 and 7. In this description, a semiconductor circuit element including at least an inductance circuit (thin film circuit element) connected in an oscillation loop of an oscillation circuit that oscillates a piezoelectric vibrating piece, a surface acoustic wave vibrating piece, or the like as a semiconductor circuit will be described. To do. 5 and 6 show the semiconductor circuit element according to the first embodiment, FIG. 5 is a plan view, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. In FIG. 5, the solder resist 24 shown in FIG. 6 is omitted in order to improve the visibility of the drawing. FIG. 7 is a circuit configuration diagram showing an example of a semiconductor circuit provided in the semiconductor circuit element.

図5および図6に示すように、第1実施形態に係る半導体回路素子100は、矩形形状をなした半導体基板10の主面10aに設けられている半導体回路30と、インダクタンス回路13を含む薄膜回路素子40と、を有している。さらに、半導体回路素子100は、半導体基板10の主面10aおよび半導体回路30と重なるように設けられている第1の絶縁膜11と、主面10aと反対側の第1の絶縁膜11上に設けられている外部接続端子20,21,22,23と、を有している。なお、主面10a上や絶縁部12上には、半導体回路30、薄膜回路素子40などを電気的に接続する配線が設けられているが、図5および図6では省略している。また、半導体基板10には、主面10a側の表層部分に絶縁部12が設けられている。本実施形態では、絶縁部12の表面を含む半導体基板10の一面を主面10aとしている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the semiconductor circuit element 100 according to the first embodiment includes a semiconductor circuit 30 provided on the main surface 10 a of the semiconductor substrate 10 having a rectangular shape and a thin film including the inductance circuit 13. Circuit element 40. Further, the semiconductor circuit element 100 is formed on the first insulating film 11 provided so as to overlap the main surface 10a of the semiconductor substrate 10 and the semiconductor circuit 30, and on the first insulating film 11 opposite to the main surface 10a. The external connection terminals 20, 21, 22, and 23 are provided. In addition, although wiring which electrically connects the semiconductor circuit 30, the thin film circuit element 40, etc. is provided on the main surface 10a and the insulating part 12, it is abbreviate | omitted in FIG. 5 and FIG. Further, the semiconductor substrate 10 is provided with an insulating portion 12 in a surface layer portion on the main surface 10a side. In the present embodiment, one surface of the semiconductor substrate 10 including the surface of the insulating portion 12 is a main surface 10a.

半導体回路30は、平面視で、インダクタンス回路13(薄膜回路素子40)と半導体基板10の外周部10bとの間に設けられている。換言すれば、半導体回路30は、平面視で、インダクタンス回路13(薄膜回路素子40)と重ならない位置に配置されている。   The semiconductor circuit 30 is provided between the inductance circuit 13 (thin film circuit element 40) and the outer peripheral portion 10b of the semiconductor substrate 10 in plan view. In other words, the semiconductor circuit 30 is disposed at a position that does not overlap with the inductance circuit 13 (thin film circuit element 40) in plan view.

半導体回路30は、抵抗回路26、静電容量素子27(可変容量素子)、およびレギュレーター35(図7参照)などを含み、半導体基板10の主面10a側に設けられている。また、半導体基板10の主面10a側には、インダクタンス回路13(薄膜回路素子40)が設けられている。これらの抵抗回路26、静電容量素子27(可変容量素子)、レギュレーター35、およびインダクタンス回路13(薄膜回路素子40)は、図示しない配線により必要に応じてそれぞれの回路と接続されている。抵抗回路26は、抵抗値を可変でき、入力される制御信号に基づいて、抵抗値を可変に制御され、少なくともインダクタンス回路13の特性を調整する機能を有している。静電容量素子27は、例えば可変容量ダイオード(バラクター、バリキャップなどとも呼ばれる)が用いられている。レギュレーター35は、入力された直流電源を平滑、定電圧化して基準電圧を作り、静電容量素子27(可変容量ダイオード)に供給する。   The semiconductor circuit 30 includes a resistance circuit 26, a capacitance element 27 (variable capacitance element), a regulator 35 (see FIG. 7), and the like, and is provided on the main surface 10a side of the semiconductor substrate 10. An inductance circuit 13 (thin film circuit element 40) is provided on the main surface 10a side of the semiconductor substrate 10. The resistor circuit 26, the capacitive element 27 (variable capacitive element), the regulator 35, and the inductance circuit 13 (thin film circuit element 40) are connected to respective circuits as necessary by wiring not shown. The resistance circuit 26 can change the resistance value, and the resistance value is variably controlled based on an input control signal, and has a function of adjusting at least the characteristics of the inductance circuit 13. For example, a variable capacitance diode (also called a varactor or a varicap) is used as the capacitance element 27. The regulator 35 smoothes and constants the input DC power supply to create a reference voltage, and supplies the reference voltage to the capacitance element 27 (variable capacitance diode).

なお、本第1実施形態の半導体回路30では、抵抗回路26の設けられている構成で説明したがこれに限らず、抵抗回路26の設けられていない構成の半導体回路30とすることも可能である。また、第2実施形態、および第3実施形態の半導体回路30においても同様である。   The semiconductor circuit 30 according to the first embodiment has been described with the configuration in which the resistance circuit 26 is provided. However, the configuration is not limited to this, and the semiconductor circuit 30 may be configured without the resistance circuit 26. is there. The same applies to the semiconductor circuit 30 of the second embodiment and the third embodiment.

なお、本実施形態において、第1回路部32は、図7に示すように、例えば抵抗回路26、静電容量素子27(半導体回路30)、レギュレーター35、およびインダクタンス回路13(薄膜回路素子40)を含んでおり、第2回路部60(図4参照)と併せて発振回路(コルビッツ型発振回路)を構成し、例えば圧電振動片や弾性表面波素子などの振動素子を含む振動子33と接続することができる。なお、第1回路部32は、抵抗素子34と接続してもよい。また、振動子33に含まれる振動素子は、圧電振動片や弾性表面波素子以外にも、MEMS振動片等を用いることができる。また、振動子33に含まれる振動素子の材料としては、ATカット、Zカット、BTカット、SCカット等の水晶や、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電単結晶や、ジルコン酸チタン酸鉛等の圧電セラミックス等の圧電材料、又はシリコン半導体等を用いてもよい。さらに、振動子33に含まれる振動素子の形状は、特に限定されず、二脚音叉、H型音叉、三脚音叉、くし歯型、直交型、角柱型等の形状であってもよい。振動子33に含まれる振動素子の励振手段としては、圧電効果によるものを用いてもよいし、クーロン力による静電駆動を用いてもよい。   In the present embodiment, as shown in FIG. 7, the first circuit unit 32 includes, for example, a resistor circuit 26, a capacitive element 27 (semiconductor circuit 30), a regulator 35, and an inductance circuit 13 (thin film circuit element 40). Together with the second circuit unit 60 (see FIG. 4) to form an oscillation circuit (Corbitz oscillation circuit), which is connected to a vibrator 33 including a vibration element such as a piezoelectric vibration piece or a surface acoustic wave element. can do. The first circuit unit 32 may be connected to the resistance element 34. In addition to the piezoelectric vibrating piece and the surface acoustic wave element, a MEMS vibrating piece or the like can be used as the vibrating element included in the vibrator 33. As a material of the vibration element included in the vibrator 33, crystal such as AT cut, Z cut, BT cut and SC cut, piezoelectric single crystal such as lithium tantalate and lithium niobate, and lead zirconate titanate A piezoelectric material such as a piezoelectric ceramic, or a silicon semiconductor may be used. Furthermore, the shape of the vibration element included in the vibrator 33 is not particularly limited, and may be a shape such as a bipod tuning fork, an H-type tuning fork, a tripod tuning fork, a comb tooth shape, an orthogonal shape, or a prism shape. As a means for exciting a vibration element included in the vibrator 33, a piezoelectric effect may be used, or electrostatic driving using a Coulomb force may be used.

上述のような構成の第1回路部32によれば、インダクタンス回路13の特性、特にQ値を抵抗回路26で調整することで、発振回路の起動時においてインダクタンス回路13に起因する異常発振を低減することができる。また、入力される制御信号に基づいて、抵抗回路26の抵抗値が可変に制御されることにより、インダクタンス回路13のQ値を、例えば発振周波数または使用する振動子(振動素子)33の等価回路定数値等が変わるごとに調整することができる。このため、抵抗回路26の抵抗値を可変に制御することで、発振周波数または使用する振動子(振動素子)33の等価回路定数値等が変わっても異常発振を起こさないように調整することが可能になる。   According to the first circuit unit 32 configured as described above, the characteristic oscillation, particularly the Q value, of the inductance circuit 13 is adjusted by the resistance circuit 26, thereby reducing abnormal oscillation caused by the inductance circuit 13 when the oscillation circuit is started. can do. Further, the resistance value of the resistance circuit 26 is variably controlled based on the input control signal, so that the Q value of the inductance circuit 13 can be set, for example, as an oscillation frequency or an equivalent circuit of a vibrator (vibration element) 33 to be used. It can be adjusted each time the constant value changes. For this reason, by controlling the resistance value of the resistance circuit 26 variably, it can be adjusted so that abnormal oscillation does not occur even if the oscillation frequency or the equivalent circuit constant value of the vibrator (vibration element) 33 used changes. It becomes possible.

外部接続端子20,21,22,23は、半導体基板10の四隅の内側に一つずつ設けられている。外部接続端子20,21,22,23は、導電性を有した概ね半球状体であり、例えば半田ボールを用いて形成されている。そして、外部接続端子20,21,22,23は、平面視で、半導体回路30と少なくとも一部が重なるとともに、薄膜回路素子40(インダクタンス回路13)と重ならない位置に配置されている。なお、外部接続端子20,21,22,23は、上記のはんだボールを用いて形成する以外にも、金、銀、銅、ニッケル等の金属を単層または上記金属を複合して多層にめっきして形成したり、はんだ等の金属をスクリーン印刷した後に加熱溶融させて形成したりしてもよい。   The external connection terminals 20, 21, 22, and 23 are provided one by one inside the four corners of the semiconductor substrate 10. The external connection terminals 20, 21, 22 and 23 are generally hemispherical bodies having conductivity, and are formed using, for example, solder balls. The external connection terminals 20, 21, 22, and 23 are disposed at positions that at least partially overlap the semiconductor circuit 30 and do not overlap the thin film circuit element 40 (inductance circuit 13) in plan view. The external connection terminals 20, 21, 22, and 23 are formed by using a single layer of metal such as gold, silver, copper, or nickel, or a combination of the above-described metals in addition to the above-described solder balls. Alternatively, it may be formed by screen-printing a metal such as solder and then melted by heating.

このように外部接続端子20,21,22,23を配置することにより、外部接続端子20,21,22,23を半導体回路30のシールド電極として使用することができるため、外部からのノイズが半導体回路30に影響することを抑制することができる。例えば、発振用回路を含む第1回路部32として半導体回路30を用いる場合には、外部からのノイズが発振周波数のノイズになる虞を低減することができる。また、外部接続端子20,21,22,23が薄膜回路素子40(インダクタンス回路13)と重ならない位置、換言すれば半導体回路30が、平面視で薄膜回路素子40(インダクタンス回路13)が形成された領域の外部に配置される構成となる。これにより、インダクタンス回路13と半導体回路30との距離を離すことができるため、両者間の電磁的な結合を抑制することができる。これにより、薄膜回路素子40(インダクタンス回路13)のインダクタンス値の変動を小さくすることができる。これにより、例えば、発振回路の発振周波数の変動を低減することができる。   By arranging the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 in this way, the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 can be used as shield electrodes for the semiconductor circuit 30. The influence on the circuit 30 can be suppressed. For example, when the semiconductor circuit 30 is used as the first circuit unit 32 including the oscillation circuit, it is possible to reduce the possibility that external noise becomes oscillation frequency noise. Further, the positions where the external connection terminals 20, 21, 22, 23 do not overlap with the thin film circuit element 40 (inductance circuit 13), in other words, the semiconductor circuit 30 is formed, and the thin film circuit element 40 (inductance circuit 13) is formed in plan view. The configuration is arranged outside the area. Thereby, since the distance of the inductance circuit 13 and the semiconductor circuit 30 can be separated, the electromagnetic coupling between both can be suppressed. Thereby, the fluctuation | variation of the inductance value of the thin film circuit element 40 (inductance circuit 13) can be made small. Thereby, for example, fluctuations in the oscillation frequency of the oscillation circuit can be reduced.

なお、外部接続端子20,21,22,23の配置は、上述に限られるものではなく、例えば一か所に複数の外部接続端子がまとまって設けられている配置であってもよいし、全ての隅(四隅)に対応して配置されていなくてもよい。   The arrangement of the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 is not limited to the above, and may be an arrangement in which a plurality of external connection terminals are provided in one place, for example. It does not need to be arranged corresponding to the corners (four corners).

また、半導体回路30は、外部接続端子20,21,22,23が含まれる近傍領域25と、平面視で、重なるように設けられていてもよい。このような半導体回路30および外部接続端子20,21,22,23の配置であっても、外部接続端子20,21,22,23を半導体回路30のシールド電極として使用することができる。なお、前述した外部接続端子20,21,22,23と同様に、外部接続端子20,21,22,23それぞれの下に配置されているランド電極19,28,29も、半導体回路30のシールド電極として機能するため、外部からのノイズが半導体回路30に影響することを抑制することができる。   Further, the semiconductor circuit 30 may be provided so as to overlap with the vicinity region 25 including the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 in a plan view. Even with such an arrangement of the semiconductor circuit 30 and the external connection terminals 20, 21, 22, and 23, the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 can be used as shield electrodes for the semiconductor circuit 30. Similar to the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 described above, the land electrodes 19, 28, and 29 disposed under the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 are also shielded by the semiconductor circuit 30. Since it functions as an electrode, it is possible to suppress external noise from affecting the semiconductor circuit 30.

貫通電極14,18は、第1の絶縁膜11を貫通し、第1の絶縁膜11の表面(半導体基板10の主面10a側の面)と裏面(主面10a側の面と反対側の面)との間の電気的接続をとっている。すなわち、半導体基板10の主面10aに設けられている半導体回路30やインダクタンス回路13などと、主面10aと反対側の第1の絶縁膜11上に設けられている外部接続端子20,21,22,23などとが、貫通電極14,18や半導体基板10の主面10a側に設けられているランド電極17などを介して電気的に接続されている。   The through electrodes 14 and 18 penetrate the first insulating film 11, and are on the front surface (the surface on the main surface 10 a side of the semiconductor substrate 10) and the back surface (the surface on the opposite side of the main surface 10 a side) of the first insulating film 11. Electrical connection to the surface). That is, the semiconductor circuit 30 and the inductance circuit 13 provided on the main surface 10a of the semiconductor substrate 10 and the external connection terminals 20, 21 provided on the first insulating film 11 opposite to the main surface 10a. 22 and 23 are electrically connected through the through electrodes 14 and 18 and the land electrode 17 provided on the main surface 10 a side of the semiconductor substrate 10.

薄膜回路素子40は、平面形状が角形の螺旋状(渦巻き状)に形成されたインダクタンス回路13を含み、半導体基板10の主面10a側に設けられている絶縁部12上に設けられている。インダクタンス回路13は、導電性を有する薄膜で構成され、薄膜材料として、例えば銅(Cu)、金(Au)、銀(Ag)、ニッケル(Ni)の単層、または上記金属を複合した多層膜等を用いて形成された薄膜によって構成されている。   The thin film circuit element 40 includes an inductance circuit 13 formed in a spiral shape (spiral shape) with a square planar shape, and is provided on the insulating portion 12 provided on the main surface 10 a side of the semiconductor substrate 10. The inductance circuit 13 is composed of a conductive thin film, and as a thin film material, for example, a single layer of copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), nickel (Ni), or a multilayer film in which the above metals are combined. It is comprised by the thin film formed using etc.

螺旋状(渦巻き状)に形成されたインダクタンス回路13は、その一端が外部接続端子23を介して例えば図示しない振動子(振動子33:図7参照)に接続されている。インダクタンス回路13と外部接続端子23との間は、ランド電極17、ランド電極17と接続されている貫通電極18、および貫通電極18と接続されて第1の絶縁膜11上に設けられているランド電極29によって電気的に接続されている。また、インダクタンス回路13の他端は、第1引出配線13aを介して貫通電極14に接続されている。そして、貫通電極14は、第1の絶縁膜11上に設けられている第2引出配線15,16およびランド電極28を介して外部接続端子20と接続され、図示しない振動子(振動子33:図7参照)や第2回路部60に含まれる発振回路などに接続されている。すなわち、螺旋状に形成されたインダクタンス回路13の両端は、外部接続端子20,23を介して図示しない発振回路の発振ループ中に接続されている。   One end of the inductance circuit 13 formed in a spiral shape (spiral shape) is connected to, for example, a vibrator (not shown) (vibrator 33: see FIG. 7) via an external connection terminal 23. Between the inductance circuit 13 and the external connection terminal 23, a land electrode 17, a through electrode 18 connected to the land electrode 17, and a land connected to the through electrode 18 and provided on the first insulating film 11. The electrodes 29 are electrically connected. The other end of the inductance circuit 13 is connected to the through electrode 14 via the first lead wiring 13a. The through electrode 14 is connected to the external connection terminal 20 via the second lead wires 15 and 16 and the land electrode 28 provided on the first insulating film 11, and a vibrator (vibrator 33: not shown). 7) and an oscillation circuit included in the second circuit unit 60. That is, both ends of the spirally formed inductance circuit 13 are connected to an oscillation loop of an oscillation circuit (not shown) via the external connection terminals 20 and 23.

インダクタンス回路13の螺旋状のパターンを平面視で見たときの内側は、螺旋状のパターンの外側部分(インダクタンス回路13と半導体基板10の外周部10bとの間の領域)と比較すると磁束密度が高い状態となる。したがって、平面視で、螺旋状のパターンの内側に半導体回路30が配置されていると、インダクタンス回路13と半導体回路30との電磁的な結合が大きくなり、インダクタンス値の変動が大きくなったり半導体回路30の特性変動が大きくなったりする虞がある。本構成を用いることで、インダクタンス回路13と半導体回路30との電磁的な結合を低減できるので、インダクタンス回路13の特性値の変動を低減したり、半導体回路30の特性変動を低減したりすることができ、例えば、発振回路の発振周波数の変動を低減することができる。   When the spiral pattern of the inductance circuit 13 is viewed in a plan view, the magnetic flux density is compared with the outer portion of the spiral pattern (the region between the inductance circuit 13 and the outer peripheral portion 10b of the semiconductor substrate 10). Become high. Therefore, when the semiconductor circuit 30 is arranged inside the spiral pattern in plan view, the electromagnetic coupling between the inductance circuit 13 and the semiconductor circuit 30 increases, and the variation of the inductance value increases. There is a possibility that the characteristic variation of 30 becomes large. By using this configuration, the electromagnetic coupling between the inductance circuit 13 and the semiconductor circuit 30 can be reduced, so that the fluctuation of the characteristic value of the inductance circuit 13 can be reduced or the fluctuation of the characteristic of the semiconductor circuit 30 can be reduced. For example, fluctuations in the oscillation frequency of the oscillation circuit can be reduced.

なお、発振回路において、伸長コイルとしてインダクタンス回路13(インダクタンス素子)が用いられた場合、インダクタンス回路13と静電容量素子27とが電磁的に結合してしまうと、例えば、インダクタンス回路13と静電容量素子27との間に浮遊容量が発生してインダクタンス回路13(インダクタンス素子)のインダクタンス値が変動してしまい、発振周波数が変動する虞がある。
第1実施形態に係る半導体回路素子100によれば、静電容量素子27を含む半導体回路30と、インダクタンス回路13を含む薄膜回路素子40と、を含む第1回路部32を構成している。上記構成を用いることで、上述のように半導体回路30と薄膜回路素子40との電磁的な結合を低減できるので、インダクタンス回路13のインダクタンス値の変動を低減することができ、例えば、第1回路部32を含む発振回路における発振周波数変動を低減することができる。
When the inductance circuit 13 (inductance element) is used as the extension coil in the oscillation circuit, if the inductance circuit 13 and the capacitive element 27 are electromagnetically coupled, for example, the inductance circuit 13 and the electrostatic circuit There is a possibility that stray capacitance is generated between the capacitor element 27 and the inductance value of the inductance circuit 13 (inductance element) fluctuates, and the oscillation frequency fluctuates.
According to the semiconductor circuit element 100 according to the first embodiment, the first circuit unit 32 including the semiconductor circuit 30 including the capacitive element 27 and the thin film circuit element 40 including the inductance circuit 13 is configured. By using the above configuration, the electromagnetic coupling between the semiconductor circuit 30 and the thin film circuit element 40 can be reduced as described above, so that fluctuations in the inductance value of the inductance circuit 13 can be reduced. For example, the first circuit The oscillation frequency fluctuation in the oscillation circuit including the unit 32 can be reduced.

<第2実施形態>
図8、および図9を用い、第1回路部32を構成する半導体回路素子の第2実施形態について説明する。なお、第2実施形態の半導体回路素子は、第1実施形態と同様な発振用回路を少なくとも備えた半導体回路素子を例示して説明する。図8、および図9は、第2実施形態に係る半導体回路素子を示し、図8は平面図であり、図9は図8のB−B断面図である。なお、図8では、図面の見易さを向上させるため、図9に示すソルダーレジスト24を省略している。また、前述の第1実施形態と同様な構成については同符号を付しており、その説明を省略することがある。
Second Embodiment
A second embodiment of the semiconductor circuit element constituting the first circuit section 32 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. The semiconductor circuit element of the second embodiment will be described by exemplifying a semiconductor circuit element having at least an oscillation circuit similar to that of the first embodiment. 8 and 9 show a semiconductor circuit element according to the second embodiment, FIG. 8 is a plan view, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. In FIG. 8, the solder resist 24 shown in FIG. 9 is omitted in order to improve the visibility of the drawing. The same reference numerals are given to the same components as those in the first embodiment, and the description thereof may be omitted.

第2実施形態に係る半導体回路素子200は、前述の第1実施形態に係る半導体回路素子100と比し、インダクタンス回路13を含む薄膜回路素子40の設けられている位置が異なる。以下の第2実施形態に係る半導体回路素子200の説明では、このインダクタンス回路13を含む薄膜回路素子40に関わる部分を中心に説明する。   The semiconductor circuit element 200 according to the second embodiment differs from the semiconductor circuit element 100 according to the first embodiment described above in the position where the thin film circuit element 40 including the inductance circuit 13 is provided. In the following description of the semiconductor circuit element 200 according to the second embodiment, the description will be focused on the portion related to the thin film circuit element 40 including the inductance circuit 13.

図8、および図9に示すように、第2実施形態に係る半導体回路素子200は、矩形形状をなした半導体基板10の主面10aに設けられている半導体回路30と、主面10aに設けられている第1の絶縁膜11の半導体基板10と接する面の反対側の面である反対面(上面)11aに設けられているインダクタンス回路13を含む薄膜回路素子40と、を有している。さらに、半導体回路素子200には、第1の絶縁膜11の反対面(上面)11aに、外部接続端子20,21,22,23などが設けられているが、第1実施形態と同様であるので説明を省略する。なお、主面10a上や絶縁部12上には、半導体回路30を構成する素子やランドの間を電気的に接続する配線が設けられているが、図8、および図9では省略している。
また、半導体基板10には、主面10a側の表層部分に絶縁部12が設けられている。本実施形態では、絶縁部12の表面を含む半導体基板10の一面を主面10aとしている。
As shown in FIGS. 8 and 9, the semiconductor circuit element 200 according to the second embodiment includes a semiconductor circuit 30 provided on the main surface 10a of the semiconductor substrate 10 having a rectangular shape, and a semiconductor circuit 30 provided on the main surface 10a. A thin film circuit element 40 including an inductance circuit 13 provided on an opposite surface (upper surface) 11a which is a surface opposite to a surface of the first insulating film 11 which is in contact with the semiconductor substrate 10. . Furthermore, the semiconductor circuit element 200 is provided with external connection terminals 20, 21, 22, 23, etc. on the opposite surface (upper surface) 11a of the first insulating film 11, which is the same as in the first embodiment. Therefore, explanation is omitted. In addition, although wiring which electrically connects between elements and lands constituting the semiconductor circuit 30 is provided on the main surface 10a and the insulating portion 12, they are omitted in FIGS. .
Further, the semiconductor substrate 10 is provided with an insulating portion 12 in a surface layer portion on the main surface 10a side. In the present embodiment, one surface of the semiconductor substrate 10 including the surface of the insulating portion 12 is a main surface 10a.

半導体回路30(例えば抵抗回路26、静電容量素子27、レギュレーター35など)の構成、インダクタンス回路13(薄膜回路素子40)、外部接続端子20,21,22,23の構成、および貫通電極14,18の構成は、第1実施形態と同様であるので、その説明を省略する。   Configuration of semiconductor circuit 30 (for example, resistance circuit 26, capacitance element 27, regulator 35, etc.), inductance circuit 13 (thin film circuit element 40), configuration of external connection terminals 20, 21, 22, 23, and through electrode 14, Since the configuration of 18 is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted.

薄膜回路素子40は、平面形状が角形の螺旋状(渦巻き状)に形成されたインダクタンス回路13を含み、第1の絶縁膜11の半導体基板10と接する面の反対面11a上に設けられている。インダクタンス回路13は、導電性を有する薄膜で構成され、薄膜材料として、例えば銅(Cu)、金(Au)、銀(Ag)、ニッケル(Ni)の単層、または上記金属を複合した多層膜等を用いて形成された薄膜によって構成されている。   The thin film circuit element 40 includes an inductance circuit 13 formed in a spiral (spiral) shape with a square planar shape, and is provided on a surface 11 a opposite to the surface in contact with the semiconductor substrate 10 of the first insulating film 11. . The inductance circuit 13 is composed of a conductive thin film, and as a thin film material, for example, a single layer of copper (Cu), gold (Au), silver (Ag), nickel (Ni), or a multilayer film in which the above metals are combined. It is comprised by the thin film formed using etc.

螺旋状(渦巻き状)に形成されたインダクタンス回路13は、その一端が第1の絶縁膜11の反対面11a上に設けられているランド電極29に接続され、外部接続端子23を介して、例えば図示しない振動子(振動子33:図7参照)に接続されている。また、インダクタンス回路13の他端は、第1引出配線13bを介して貫通電極14に接続されている。そして、貫通電極14は、絶縁部12上に設けられている第2引出配線15aに接続され、第2引出配線15aから延接された第3引出配線16aを介して貫通電極18に接続されている。   One end of the inductance circuit 13 formed in a spiral shape (spiral shape) is connected to a land electrode 29 provided on the opposite surface 11 a of the first insulating film 11, and is connected via an external connection terminal 23, for example. It is connected to a vibrator (not shown) (vibrator 33: see FIG. 7). The other end of the inductance circuit 13 is connected to the through electrode 14 via the first lead wiring 13b. The through electrode 14 is connected to the second lead wire 15a provided on the insulating portion 12, and is connected to the through electrode 18 via the third lead wire 16a extending from the second lead wire 15a. Yes.

貫通電極18は、第1の絶縁膜11の反対面11a上に設けられているランド電極28を介して、外部接続端子20と接続され、図示しない振動子(振動子33:図7参照)や第2回路部60に含まれる発振回路などに接続されている。すなわち、螺旋状に形成されたインダクタンス回路13の両端は、外部接続端子20,23を介して図示しない発振回路の発振ループ中に接続されている。   The through electrode 18 is connected to the external connection terminal 20 via a land electrode 28 provided on the opposite surface 11a of the first insulating film 11, and is not shown in the figure (vibrator 33: see FIG. 7) or The oscillator circuit included in the second circuit unit 60 is connected. That is, both ends of the spirally formed inductance circuit 13 are connected to an oscillation loop of an oscillation circuit (not shown) via the external connection terminals 20 and 23.

第2実施形態に係る半導体回路素子200によれば、第1実施形態において説明した効果に加えて、以下に述べる効果を有している。
第2実施形態の半導体回路素子200によれば、半導体回路30とインダクタンス回路13(薄膜回路素子40)とが、第1の絶縁膜11を介して設けられていることにより、半導体回路30とインダクタンス回路13(薄膜回路素子40)との間の、例えば短絡などの電気的絶縁不良を減少させることができる。
The semiconductor circuit element 200 according to the second embodiment has the following effects in addition to the effects described in the first embodiment.
According to the semiconductor circuit element 200 of the second embodiment, the semiconductor circuit 30 and the inductance circuit 13 (thin film circuit element 40) are provided via the first insulating film 11. For example, electrical insulation defects such as a short circuit with the circuit 13 (thin film circuit element 40) can be reduced.

<第3実施形態>
図10を用い、第1回路部32を構成する半導体回路素子の第3実施形態について説明する。なお、第3実施形態の半導体回路素子は、第1実施形態と同様な発振用回路を少なくとも備えた半導体回路素子を例示して説明する。図10は、第3実施形態に係る半導体回路素子を示し、図8のB−B断面に相当する断面図である。なお、前述の第1実施形態と同様な構成については同符号を付しており、その説明を省略することがある。
<Third Embodiment>
A third embodiment of the semiconductor circuit element constituting the first circuit section 32 will be described with reference to FIG. The semiconductor circuit element of the third embodiment will be described by exemplifying a semiconductor circuit element including at least an oscillation circuit similar to that of the first embodiment. FIG. 10 shows a semiconductor circuit element according to the third embodiment, and is a cross-sectional view corresponding to a cross section taken along line BB of FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the structure similar to the above-mentioned 1st Embodiment, The description may be abbreviate | omitted.

第3実施形態に係る半導体回路素子300は、前述の第2実施形態に係る半導体回路素子200と比し、外部接続端子20,21,22,23の設けられている位置が異なる。以下の第3実施形態に係る半導体回路素子300の説明では、外部接続端子20,21,22,23の設けられている位置に関わる部分を中心に説明する。   The semiconductor circuit element 300 according to the third embodiment differs from the semiconductor circuit element 200 according to the second embodiment described above in the positions where the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 are provided. In the following description of the semiconductor circuit element 300 according to the third embodiment, the description will focus on the portion related to the position where the external connection terminals 20, 21, 22, 23 are provided.

図10に示すように、第3実施形態に係る半導体回路素子300は、図示しないが矩形形状をなした半導体基板10の主面10aに設けられている半導体回路30と、主面10aに設けられている第1の絶縁膜11の半導体基板10と接する面の反対面(上面)11aに設けられているインダクタンス回路13を含む薄膜回路素子40と、を有している。さらに、半導体回路素子300は、第1の絶縁膜11の半導体基板10と接する面の反対面(上面)11a上に、インダクタンス回路13を含む薄膜回路素子40を覆うように設けられている第2の絶縁膜50を有している。また、半導体回路素子300は、第2の絶縁膜50の第1の絶縁膜11と接する面と反対側の面である上面50aに設けられた外部接続端子20,21,22,23を有している。   As shown in FIG. 10, the semiconductor circuit element 300 according to the third embodiment is provided on the main surface 10a and the semiconductor circuit 30 provided on the main surface 10a of the semiconductor substrate 10 having a rectangular shape (not shown). And a thin film circuit element 40 including an inductance circuit 13 provided on the surface (upper surface) 11a opposite to the surface in contact with the semiconductor substrate 10 of the first insulating film 11. Further, the semiconductor circuit element 300 is provided on the opposite surface (upper surface) 11 a of the first insulating film 11 to the surface in contact with the semiconductor substrate 10 so as to cover the thin film circuit element 40 including the inductance circuit 13. The insulating film 50 is provided. In addition, the semiconductor circuit element 300 includes external connection terminals 20, 21, 22, and 23 provided on the upper surface 50a that is the surface opposite to the surface in contact with the first insulating film 11 of the second insulating film 50. ing.

なお、第1実施形態と同様に、主面10a上や絶縁部12上には、半導体回路30を構成する素子やランドの間を電気的に接続する配線が設けられているが、図10では省略している。また、半導体基板10には、主面10a側の表層部分に絶縁部12が設けられている。本実施形態では、絶縁部12の表面を含む半導体基板10の一面を主面10aとしている。   As in the first embodiment, wirings for electrically connecting elements and lands constituting the semiconductor circuit 30 are provided on the main surface 10a and the insulating portion 12, but in FIG. Omitted. Further, the semiconductor substrate 10 is provided with an insulating portion 12 in a surface layer portion on the main surface 10a side. In the present embodiment, one surface of the semiconductor substrate 10 including the surface of the insulating portion 12 is a main surface 10a.

半導体回路30の構成(例えば抵抗回路26、静電容量素子27、レギュレーター35など)、インダクタンス回路13(薄膜回路素子40)、および貫通電極14,18の構成は、第1実施形態と同様であるので、その説明を省略する。   The configuration of the semiconductor circuit 30 (for example, the resistance circuit 26, the capacitive element 27, the regulator 35, etc.), the inductance circuit 13 (thin film circuit element 40), and the through electrodes 14 and 18 are the same as those in the first embodiment. Therefore, the description is omitted.

外部接続端子20,21は、第2の絶縁膜50の上面50aに設けられているランド電極52,54に接続されている。ランド電極52,54は、第2の絶縁膜50を、その表面(半導体基板10の主面10a側の面)と裏面(主面10a側の面と反対側の面)との方向に貫通する第2の貫通電極51,53に接続されている。   The external connection terminals 20 and 21 are connected to land electrodes 52 and 54 provided on the upper surface 50 a of the second insulating film 50. The land electrodes 52 and 54 penetrate the second insulating film 50 in the direction of the surface (the surface on the main surface 10a side of the semiconductor substrate 10) and the back surface (the surface opposite to the surface on the main surface 10a side). The second through electrodes 51 and 53 are connected.

外部接続端子21と接続されているランド電極52は、第2の貫通電極51と接続され、第1の絶縁膜11上に設けられているランド電極19、第1の絶縁膜11に設けられている貫通電極18などを介して半導体回路30に接続されている。また、外部接続端子20と接続されているランド電極54は、第2の貫通電極53と接続され、第2の貫通電極53を介して第1の絶縁膜11の反対面(上面)11a上に設けられているランド電極28に接続されている。   The land electrode 52 connected to the external connection terminal 21 is connected to the second through electrode 51 and provided on the land electrode 19 and the first insulating film 11 provided on the first insulating film 11. It is connected to the semiconductor circuit 30 through the penetrating electrode 18 and the like. The land electrode 54 connected to the external connection terminal 20 is connected to the second through electrode 53, and is formed on the opposite surface (upper surface) 11 a of the first insulating film 11 through the second through electrode 53. It is connected to the land electrode 28 provided.

ランド電極28は、第1の絶縁膜11を貫通する貫通電極14、絶縁部12上に設けられている第3引出配線16a、第2引出配線15a、第1の絶縁膜11を貫通する貫通電極14、反対面(上面)11a上に設けられている第1引出配線13bなどを介してインダクタンス回路13に接続されている。すなわち、外部接続端子20は、インダクタンス回路13の一方の端に電気的に接続されている。   The land electrode 28 includes a through electrode 14 that penetrates the first insulating film 11, a third lead wiring 16 a, a second lead wiring 15 a provided on the insulating portion 12, and a through electrode that penetrates the first insulating film 11. 14 is connected to the inductance circuit 13 through a first lead-out wiring 13b provided on the opposite surface (upper surface) 11a. That is, the external connection terminal 20 is electrically connected to one end of the inductance circuit 13.

なお、他の外部接続端子22,23についても同様の構成をなしているが説明を省略する。
また、第1実施形態と同様に、外部接続端子20,21,22,23は、平面視で、半導体回路30と重なるとともにインダクタンス回路13(薄膜回路素子40)と重ならない位置に配置されている。
The other external connection terminals 22 and 23 have the same configuration but will not be described.
Similarly to the first embodiment, the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 are disposed at positions that overlap the semiconductor circuit 30 and do not overlap the inductance circuit 13 (thin film circuit element 40) in plan view. .

第3実施形態に係る半導体回路素子300によれば、第2の絶縁膜50によりインダクタンス回路13(薄膜回路素子40)と外部接続端子20,21,22,23との電気的短絡を防止するとともに、外部接続端子20,21,22,23を半導体回路30のシールド電極として使用することができるため、外部からのノイズが半導体回路30に影響することを抑制することができ、例えば、発振回路として用いる場合には、外部からのノイズが発振周波数のノイズになる虞を低減することができる。   According to the semiconductor circuit element 300 according to the third embodiment, the second insulating film 50 prevents an electrical short circuit between the inductance circuit 13 (thin film circuit element 40) and the external connection terminals 20, 21, 22, 23. Since the external connection terminals 20, 21, 22, and 23 can be used as shield electrodes of the semiconductor circuit 30, it is possible to suppress external noise from affecting the semiconductor circuit 30. For example, as an oscillation circuit When used, it is possible to reduce the possibility of external noise becoming oscillation frequency noise.

上述した構成の発振モジュール1によれば、第1回路部32を構成する半導体回路素子100,200,300に設けられている半導体回路30は、平面視で、薄膜回路素子40と半導体基板10の外周部10bとの間に配置されているため、半導体回路30と薄膜回路素子40とは平面視で重ならないので、半導体回路30と薄膜回路素子40との電磁的な結合が低減する。   According to the oscillation module 1 having the above-described configuration, the semiconductor circuit 30 provided in the semiconductor circuit elements 100, 200, and 300 that configure the first circuit unit 32 includes the thin film circuit element 40 and the semiconductor substrate 10 in plan view. Since the semiconductor circuit 30 and the thin film circuit element 40 do not overlap with each other in plan view because they are arranged between the outer peripheral portion 10b, electromagnetic coupling between the semiconductor circuit 30 and the thin film circuit element 40 is reduced.

また、第1回路部32を構成する半導体回路素子100,200,300に設けられている半導体回路30は、平面視で、薄膜回路素子40と半導体基板10の外周部との間に配置されている。換言すると、半導体回路30は、平面視で、薄膜回路素子40の外側に配置されている。このため、例えば、薄膜回路素子40が磁界を発生させる素子である場合には、一般的に、薄膜回路素子40の内側での磁束密度よりも外側での磁界密度の方が小さくなるため、半導体回路30を薄膜回路素子40の外側に配置することで、半導体回路30と薄膜回路素子40との電磁的な結合が低減する。   The semiconductor circuit 30 provided in the semiconductor circuit elements 100, 200, and 300 constituting the first circuit portion 32 is disposed between the thin film circuit element 40 and the outer peripheral portion of the semiconductor substrate 10 in plan view. Yes. In other words, the semiconductor circuit 30 is disposed outside the thin film circuit element 40 in plan view. For this reason, for example, when the thin film circuit element 40 is an element that generates a magnetic field, the magnetic field density outside the thin film circuit element 40 is generally smaller than the magnetic flux density inside the thin film circuit element 40. By disposing the circuit 30 outside the thin film circuit element 40, electromagnetic coupling between the semiconductor circuit 30 and the thin film circuit element 40 is reduced.

これらにより、第1回路部32に設けられている半導体回路30と薄膜回路素子40の電磁的な結合に起因する薄膜回路素子40の特性値の変動を減少させることができる。したがって、第1回路部32および第2回路部60によって構成される発振回路の発振ループ中に薄膜回路素子40が使用される回路であっても、薄膜回路素子40の特性値の変動によって生じる発振周波数の変動を低減することが可能な発振モジュール1を提供することができる。   As a result, fluctuations in the characteristic value of the thin film circuit element 40 due to electromagnetic coupling between the semiconductor circuit 30 provided in the first circuit section 32 and the thin film circuit element 40 can be reduced. Therefore, even in a circuit in which the thin film circuit element 40 is used in the oscillation loop of the oscillation circuit constituted by the first circuit unit 32 and the second circuit unit 60, oscillation caused by fluctuations in the characteristic value of the thin film circuit element 40 The oscillation module 1 capable of reducing frequency fluctuation can be provided.

[振動デバイス]
図11、図12、図13、および図14を用い、本発明に係る振動デバイスについて説明する。図11は、本発明に係る振動デバイスの概略を示す斜視図である。図12、および図13は、本発明に係る振動デバイスの概略を示し、図12は、蓋部材を省略(透視)した平面図であり、図13は、図12のC−C断面図である。図14は、振動デバイスに設けられている回路の一例を示す回路構成図である。
[Vibration device]
The vibration device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 11, 12, 13, and 14. FIG. 11 is a perspective view showing an outline of the vibration device according to the present invention. 12 and 13 schematically show the vibration device according to the present invention, FIG. 12 is a plan view in which the lid member is omitted (see through), and FIG. 13 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. . FIG. 14 is a circuit configuration diagram illustrating an example of a circuit provided in the vibration device.

図11、図12、および図13に示す振動デバイス80は、振動子33と、振動子33を収納するパッケージ90と、振動子33を発振させる発振回路を構成する第1回路部32および第2回路部60と、パッケージ90との間に収納空間としての内部空間85を形成する蓋体としてのリッド84とを有している。以下、パッケージ90、振動子33、第1回路部32、第2回路部60、およびリッド84について順次詳細に説明する。   11, 12, and 13, the vibration device 80 includes a vibrator 33, a package 90 that houses the vibrator 33, and a first circuit unit 32 and a second circuit that constitute an oscillation circuit that oscillates the vibrator 33. A lid 84 as a lid that forms an internal space 85 as a storage space between the circuit unit 60 and the package 90 is provided. Hereinafter, the package 90, the vibrator 33, the first circuit unit 32, the second circuit unit 60, and the lid 84 will be sequentially described in detail.

図12、および図13に示すように、基板としてのパッケージ90は、底板81と、底板81の表面81aの外周縁部に設けられている枠状の側壁82と、側壁82の上面に設けられている接合材としてのシームリング83とを有している。パッケージ90は、振動子33、第1回路部32および第2回路部60などを収納するものである。   As shown in FIGS. 12 and 13, a package 90 as a substrate is provided on the bottom plate 81, a frame-like side wall 82 provided on the outer peripheral edge of the surface 81 a of the bottom plate 81, and the upper surface of the side wall 82. And a seam ring 83 as a bonding material. The package 90 accommodates the vibrator 33, the first circuit unit 32, the second circuit unit 60, and the like.

基板としてのパッケージ90は、上面に開放する凹部87(内部空間85)を有している。凹部87の開口は、接合材としてのシームリング83を介して側壁82に接合されている蓋部材としてのリッド84によって塞がれている。そして、このリッド84により、パッケージ90の凹部87の開口が塞がれて密封された内部空間85が形成される。密封された内部空間85は、その内部圧力を所望の気圧に設定できる。例えば、内部空間85に窒素ガスを充填しての大気圧としたり、真空(通常の大気圧より低い圧力(1×105Pa〜1×10-10Pa以下(JIS Z 8126−1:1999))の気体で満たされた空間の状態)としたりすることで、より安定した振動子33の振動を継続することができる。 The package 90 as a substrate has a recess 87 (internal space 85) opened on the upper surface. The opening of the recess 87 is closed by a lid 84 as a lid member joined to the side wall 82 via a seam ring 83 as a joining material. The lid 84 forms an internal space 85 in which the opening of the recess 87 of the package 90 is closed and sealed. The sealed internal space 85 can set its internal pressure to a desired atmospheric pressure. For example, the internal space 85 is filled with nitrogen gas to form an atmospheric pressure, or a vacuum (pressure lower than the normal atmospheric pressure (1 × 10 5 Pa to 1 × 10 −10 Pa or less (JIS Z 8126-1: 1999)). ), A more stable vibration of the vibrator 33 can be continued.

枠状の側壁82は、略矩形状の周状に設けられている。換言すれば、凹部87は、リッド84の載置される側の上面に開口する開口形状が略矩形状をなしている。板状の底板81と枠状の側壁82に囲まれた凹部87が、振動子33、第1回路部32および第2回路部60などを収納する内部空間(収納空間)85となる。枠状の側壁82の上面には、例えばコバール等の合金で形成されたシームリング83が設けられている。シームリング83は、蓋部材としてのリッド84と側壁82との接合材としての機能を有しており、側壁82の上面に沿って枠状(略矩形状の周状)に設けられている。   The frame-shaped side wall 82 is provided in a substantially rectangular circumferential shape. In other words, the recess 87 has a substantially rectangular opening shape that opens on the upper surface on the side where the lid 84 is placed. A concave portion 87 surrounded by the plate-like bottom plate 81 and the frame-like side wall 82 serves as an internal space (housing space) 85 for housing the vibrator 33, the first circuit portion 32, the second circuit portion 60, and the like. A seam ring 83 made of an alloy such as Kovar is provided on the upper surface of the frame-shaped side wall 82. The seam ring 83 has a function as a bonding material between the lid 84 serving as a lid member and the side wall 82, and is provided in a frame shape (substantially rectangular circumferential shape) along the upper surface of the side wall 82.

パッケージ90は、振動子33やリッド84の熱膨張係数と一致、あるいは極力近い熱膨張係数を備えた材料によって形成され、本例では、セラミックを用いている。パッケージ90は、所定の形状に成形されたグリーンシートを積層し、焼結することによって形成される。なお、グリーンシートは、例えば所定の溶液中にセラミックのパウダーを分散させ、バインダーを添加して生成される混練物がシート状に形成された物である。   The package 90 is formed of a material having a thermal expansion coefficient that matches or is as close as possible to that of the vibrator 33 and the lid 84, and in this example, ceramic is used. The package 90 is formed by stacking and sintering green sheets formed into a predetermined shape. The green sheet is, for example, a product obtained by dispersing ceramic powder in a predetermined solution and adding a binder to form a kneaded product in the form of a sheet.

パッケージ90の底部を構成する底板81の表面(内底面)81aには、PAD電極(端子電極)や配線パターンが形成されているが、図示は省略している。PAD電極(端子電極)や配線パターンは、例えば、銀・パラジウムなどの導電ペーストあるいはタングステンメタライズなどを用い、必要とされる形状を形成後に焼成を行い、その後ニッケルおよび金あるいは銀などをメッキすることによって形成される。PAD電極(端子電極)は、後述する振動子33の外部端子89、第1回路部32が構成されている半導体回路素子100,200,300、および第2回路部60を構成する電子部品に対応するように配設されている。また、底板81の外面(裏面)81bには、金属層である端子電極86などが設けられている。端子電極86は、例えば、焼成された銀・パラジウムなどの層に、ニッケルおよび金あるいは銀などをメッキすることによって形成することができる。なお、PAD電極は、パッケージ90の外面(裏面)81bの端子電極86と電気的に接続されてもよい。   PAD electrodes (terminal electrodes) and wiring patterns are formed on the surface (inner bottom surface) 81a of the bottom plate 81 constituting the bottom of the package 90, but are not shown. For PAD electrodes (terminal electrodes) and wiring patterns, for example, using a conductive paste such as silver / palladium or tungsten metallized, firing is performed after the required shape is formed, and then nickel, gold, silver, or the like is plated. Formed by. The PAD electrode (terminal electrode) corresponds to an external terminal 89 of the vibrator 33 to be described later, the semiconductor circuit elements 100, 200, and 300 in which the first circuit unit 32 is configured, and the electronic components that configure the second circuit unit 60. It is arranged to do. Further, the outer surface (back surface) 81b of the bottom plate 81 is provided with a terminal electrode 86 which is a metal layer. The terminal electrode 86 can be formed by, for example, plating nickel and gold or silver on a fired layer of silver / palladium. The PAD electrode may be electrically connected to the terminal electrode 86 on the outer surface (back surface) 81b of the package 90.

振動子33は、例えばセラミックパッケージ88に図示しない振動素子を内包した表面実装型の圧電振動子である。該振動素子の内包されている内部空間は、リッドなどで封止されており、その内部圧力を所望の気圧に設定できる。例えば、内部空間に窒素ガスを充填しての大気圧としたり、真空(通常の大気圧より低い圧力(1×105Pa〜1×10-10Pa以下(JIS Z 8126−1:1999))の気体で満たされた空間の状態)としたりすることで、より安定した振動子33の振動を継続することができる。なお、本形態の振動子33は、上記の真空に設定されている。振動子33は、セラミックパッケージ88の外面に設けられた外部端子89によって、パッケージ90の表面(内底面)81aに接続され、第1回路部32および第2回路部60の少なくとも一方と電気的に接続されている。 The vibrator 33 is a surface mount type piezoelectric vibrator in which a vibration element (not shown) is included in a ceramic package 88, for example. The internal space in which the vibration element is enclosed is sealed with a lid or the like, and the internal pressure can be set to a desired atmospheric pressure. For example, the internal space is filled with nitrogen gas to obtain an atmospheric pressure, or a vacuum (pressure lower than normal atmospheric pressure (1 × 10 5 Pa to 1 × 10 −10 Pa or less (JIS Z 8126-1: 1999)) The state of the space filled with the gas) can be continued more stably. Note that the vibrator 33 of this embodiment is set to the above-described vacuum. The vibrator 33 is connected to the front surface (inner bottom surface) 81 a of the package 90 by an external terminal 89 provided on the outer surface of the ceramic package 88, and is electrically connected to at least one of the first circuit unit 32 and the second circuit unit 60. It is connected.

なお、振動素子は、圧電振動片や弾性表面波素子などであり、例えばATカット、Zカット、BTカット、SCカットなどの水晶や、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等の圧電単結晶や、ジルコン酸チタン酸鉛等の圧電セラミックスなどの圧電材料、又はシリコン半導体などを用いることができる。また、振動子33は、MEMS振動片などが内包されたMEMS振動子、もしくは、例えば加速度や角速度などの振動型のセンサー素子を内包したセンサーデバイスなどを用いることができる。   The vibrating element is a piezoelectric vibrating piece, a surface acoustic wave element, or the like, for example, a crystal such as AT cut, Z cut, BT cut, or SC cut, a piezoelectric single crystal such as lithium tantalate or lithium niobate, or zircon. Piezoelectric materials such as piezoelectric ceramics such as lead acid titanate, or silicon semiconductors can be used. As the vibrator 33, a MEMS vibrator including a MEMS vibrating piece or a sensor device including a vibration type sensor element such as acceleration or angular velocity can be used.

第1回路部32は、半導体回路素子100に構成されており、図14に示すように、抵抗回路26、静電容量素子27(半導体回路30)、レギュレーター35、およびインダクタンス回路13(薄膜回路素子40)を含んでいる。なお、第1回路部32の構成などについては、前述の発振モジュール1(図7参照)と同様であるので、その説明は省略する。半導体回路素子100は、半導体基板10(図6参照)の四隅の内側に一つずつ設けられている外部接続端子20,21,22,23によって、パッケージ90の底部を構成する底板81の表面(内底面)81aに設けられているPAD電極(不図示)と、接続されている。   The first circuit section 32 is configured in a semiconductor circuit element 100, and as shown in FIG. 14, a resistance circuit 26, a capacitance element 27 (semiconductor circuit 30), a regulator 35, and an inductance circuit 13 (thin film circuit element). 40). The configuration of the first circuit unit 32 and the like are the same as those of the oscillation module 1 (see FIG. 7) described above, and a description thereof will be omitted. The semiconductor circuit element 100 includes a surface of a bottom plate 81 that constitutes the bottom of the package 90 (external connection terminals 20, 21, 22, and 23) provided one by one inside the four corners of the semiconductor substrate 10 (see FIG. 6). It is connected to a PAD electrode (not shown) provided on the inner bottom surface 81a.

図14に示すように、第2回路部60は、トランジスター61、抵抗素子62,63、および静電容量素子64を少なくとも備え、それぞれの素子(部材)を、パッケージ90の底部を構成する底板81の表面(内底面)81a上にディスクリートで配設したディスクリート回路で構成されている。そして、第2回路部60をディスクリート回路で構成するトランジスター61、抵抗素子62,63、および静電容量素子64と、前述した第1回路部32を構成する半導体回路素子100の集積化された半導体回路30(図7参照)および薄膜回路素子40とにより、例えばコルビッツ型発振回路などの発振回路が構成され、例えば圧電振動片や弾性表面波素子などの振動素子を含む振動子33と接続することができる。このように、コルビッツ型発振回路を、集積化された第1回路部32、およびディスクリート回路で構成された第2回路部60を用いて構成することができ、多様な回路構成を容易に実現することができる。   As shown in FIG. 14, the second circuit section 60 includes at least a transistor 61, resistance elements 62 and 63, and a capacitance element 64, and each element (member) is a bottom plate 81 that forms the bottom of the package 90. It is comprised by the discrete circuit arrange | positioned discretely on the surface (inner bottom face) 81a. An integrated semiconductor of the transistor 61, the resistance elements 62 and 63, and the capacitance element 64 that constitute the second circuit section 60 by a discrete circuit, and the semiconductor circuit element 100 that constitutes the first circuit section 32 described above. The circuit 30 (see FIG. 7) and the thin film circuit element 40 constitute an oscillation circuit such as a Corbitz-type oscillation circuit, which is connected to the vibrator 33 including a vibration element such as a piezoelectric vibrating piece or a surface acoustic wave element. Can do. As described above, the Corbitz-type oscillation circuit can be configured by using the integrated first circuit unit 32 and the second circuit unit 60 configured by a discrete circuit, thereby easily realizing various circuit configurations. be able to.

リッド84は、板状の部材であり、パッケージ90の上面側に開放する凹部87の開口を塞ぎ、凹部87の開口の周囲を、例えばシーム溶接法などを用いて接合されている。本例のリッド84は、板状であるため、形成が行い易く、さらには形状の安定性にも優れる。また、本例のリッド84には、コバールの板材が用いられている。リッド84にコバールの板を用いることで封止の際に、コバールで形成されているシームリング83とリッド84とが同じ溶融状態で溶融され、さらには合金化もされ易いため封止を容易に、且つ確実に行うことができる。なお、リッド84には、コバールに換えて他の材料の板材を用いてもよく、例えば、42アロイ、ステンレス鋼などの金属材料、またはパッケージ90の側壁82と同材料などを用いることができる。   The lid 84 is a plate-like member, closes the opening of the recess 87 that opens to the upper surface side of the package 90, and is joined around the opening of the recess 87 using, for example, a seam welding method. Since the lid 84 of this example is plate-shaped, it is easy to form and further has excellent shape stability. In addition, a Kovar plate material is used for the lid 84 of this example. By using a Kovar plate for the lid 84, when sealing, the seam ring 83 made of Kovar and the lid 84 are melted in the same molten state, and are also easily alloyed so that sealing is easy. And reliably. The lid 84 may be made of a plate material of another material instead of Kovar. For example, a metal material such as 42 alloy or stainless steel, or the same material as the side wall 82 of the package 90 can be used.

振動デバイス80には、前述した発振モジュール1と同様な構成の第1回路部32(半導体回路素子100)が用いられていることにより、第1回路部32に設けられている半導体回路30(図7参照)と薄膜回路素子40(図7参照)の電磁的な結合に起因する薄膜回路素子40の特性値の変動を減少させることができる。したがって、第1回路部32および第2回路部60によって構成される発振回路の発振ループ中に薄膜回路素子40が使用される回路であっても、薄膜回路素子40の特性値の変動によって生じる振動子33の発振周波数の変動を低減することが可能な振動デバイス80を提供することができる。   Since the first circuit section 32 (semiconductor circuit element 100) having the same configuration as that of the oscillation module 1 described above is used for the vibration device 80, the semiconductor circuit 30 (see FIG. 5) provided in the first circuit section 32 is used. 7) and the thin film circuit element 40 (see FIG. 7) can be reduced in variation in characteristic values of the thin film circuit element 40 due to electromagnetic coupling. Therefore, even in a circuit in which the thin film circuit element 40 is used in the oscillation loop of the oscillation circuit configured by the first circuit unit 32 and the second circuit unit 60, vibration caused by fluctuations in the characteristic value of the thin film circuit element 40 It is possible to provide the vibration device 80 that can reduce fluctuations in the oscillation frequency of the child 33.

また、ディスクリート回路で構成する第2回路部60と、集積化された半導体回路30(図7参照)による半導体回路素子100の第1回路部32とにより、例えばコルビッツ型発振回路などの発振回路が構成され、例えば圧電振動片や弾性表面波素子などの振動素子を含む振動子33と接続された一体型の振動デバイス80とすることができる。このように、例えばコルビッツ型発振回路の発振回路を、集積化された第1回路部32、およびディスクリート回路で構成された第2回路部60を用いて構成することができ、多様な回路構成を容易に実現することができる。   In addition, an oscillation circuit such as a Corbitz-type oscillation circuit is formed by the second circuit unit 60 configured by a discrete circuit and the first circuit unit 32 of the semiconductor circuit element 100 by the integrated semiconductor circuit 30 (see FIG. 7). For example, an integrated vibration device 80 connected to a vibrator 33 including a vibration element such as a piezoelectric vibration piece or a surface acoustic wave element can be provided. Thus, for example, an oscillation circuit of a Corbitz-type oscillation circuit can be configured by using the integrated first circuit unit 32 and the second circuit unit 60 configured by a discrete circuit. It can be easily realized.

本発明に係る構成は、他の振動デバイスとして、例えば、シンプルな水晶発振器SPXO(Simple Packaged X'tal Oscillator)、温度補償型水晶発振器TCXO(Temperature Compensated X'tal Oscillator)、電圧コントロール型水晶発振器VCXO(Voltage Controlled X'tal Oscillator)、温度制御型水晶発振器OCXO(Oven Controlled Xtal Oscillator )などの水晶発振器にも適用することができる。
また、振動デバイスとして、例えば、加速度センサー、角速度センサー、圧力センサー(気圧センサー)などのセンシングデバイスとしても適用することができる。
The configuration according to the present invention includes other vibration devices such as a simple crystal oscillator SPXO (Simple Packaged X'tal Oscillator), a temperature compensated crystal oscillator TCXO (Temperature Compensated X'tal Oscillator), and a voltage controlled crystal oscillator VCXO. (Voltage Controlled X'tal Oscillator), Temperature Control Crystal Oscillator OCXO (Oven Controlled Xtal Oscillator), etc.
Moreover, as a vibration device, it can apply also as sensing devices, such as an acceleration sensor, an angular velocity sensor, a pressure sensor (atmospheric pressure sensor), for example.

また、上述による振動デバイス80は、セラミックを用いたパッケージに、第2回路部60と第1回路部32と振動子33とを収納する構成で説明したが、これに限らない。例えば金属性のベースとキャップとで収納空間を形成し、その収納空間内に第2回路部60と第1回路部32と振動子33とを収納する構成、もしくは、回路基板上に第2回路部60および第1回路部32と振動子33とを接続し、その外周を被覆材で覆う構成などであってもよい。   Moreover, although the vibration device 80 by the above was demonstrated with the structure which accommodates the 2nd circuit part 60, the 1st circuit part 32, and the vibrator | oscillator 33 in the package using a ceramic, it is not restricted to this. For example, a storage space is formed by a metallic base and a cap, and the second circuit unit 60, the first circuit unit 32, and the vibrator 33 are stored in the storage space, or the second circuit is formed on the circuit board. The part 60, the 1st circuit part 32, and the vibrator | oscillator 33 may be connected, and the structure which covers the outer periphery with a coating | covering material etc. may be sufficient.

[電子機器]
次いで、本発明の一実施形態に係る発振モジュール1、および振動デバイス80を適用した電子機器について、図15〜図17に基づき、詳細に説明する。なお、説明では、発振モジュール1(半導体回路素子100)を適用した例を示している。
[Electronics]
Next, electronic devices to which the oscillation module 1 and the vibration device 80 according to an embodiment of the present invention are applied will be described in detail with reference to FIGS. In the description, an example in which the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) is applied is shown.

図15は、本発明の一実施形態に係る発振モジュール1(半導体回路素子100)を備える電子機器としてのモバイル型(又はノート型)のパーソナルコンピューターの構成の概略を示す斜視図である。この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1108を備えた表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター1100には、発振モジュール1(半導体回路素子100)が内蔵されている。   FIG. 15 is a perspective view schematically illustrating a configuration of a mobile (or notebook) personal computer as an electronic apparatus including the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) according to an embodiment of the present invention. In this figure, a personal computer 1100 includes a main body portion 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display portion 1108. The display unit 1106 is rotated with respect to the main body portion 1104 via a hinge structure portion. It is supported movably. Such a personal computer 1100 incorporates the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100).

図16は、本発明の一実施形態に係る発振モジュール1(半導体回路素子100)を備える電子機器としての携帯電話機(PHSも含む)の構成の概略を示す斜視図である。この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1208が配置されている。このような携帯電話機1200には、発振モジュール1(半導体回路素子100)が内蔵されている。   FIG. 16 is a perspective view schematically illustrating a configuration of a mobile phone (including PHS) as an electronic apparatus including the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) according to an embodiment of the present invention. In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204, and a mouthpiece 1206, and a display unit 1208 is disposed between the operation buttons 1202 and the earpiece 1204. Such a cellular phone 1200 incorporates the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100).

図17は、本発明の一実施形態に係る発振モジュール1(半導体回路素子100)を備える電子機器としてのデジタルスチールカメラの構成の概略を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。ここで、従来のフィルムカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、デジタルスチールカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)等の撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。   FIG. 17 is a perspective view schematically illustrating a configuration of a digital still camera as an electronic apparatus including the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) according to an embodiment of the present invention. In this figure, connection with an external device is also simply shown. Here, the conventional film camera sensitizes the silver halide photographic film with the light image of the subject, whereas the digital still camera 1300 photoelectrically converts the light image of the subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). To generate an imaging signal (image signal).

デジタルスチールカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1310が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部1310は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCD等を含む受光ユニット1304が設けられている。   A display unit 1310 is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to perform display based on an imaging signal from the CCD. The display unit 1310 displays a subject as an electronic image. Functions as a viewfinder. A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side (the back side in the drawing) of the case 1302.

撮影者が表示部1310に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送、格納される。また、このデジタルスチールカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニター1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1308に格納された撮像信号が、テレビモニター1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。このようなデジタルスチールカメラ1300には、発振モジュール1(半導体回路素子100)が内蔵されている。   When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit 1310 and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory 1308. In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation. Such a digital still camera 1300 incorporates the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100).

なお、本発明の一実施形態に係る発振モジュール1(半導体回路素子100)は、図15のパーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)、図16の携帯電話機、図17のデジタルスチールカメラの他にも、以下のような電子機器に適用することができる。発振モジュール1(半導体回路素子100)は、例えば、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンター)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、タブレット型パーソナルコンピューター、ルーターやスイッチなどのストレージエリアネットワーク機器、ローカルエリアネットワーク機器、移動体端末基地局用機器、テレビ、ビデオカメラ、ビデオレコーダー、カーナビゲーション装置、リアルタイムクロック装置、ページャー、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレーター、ヘッドマウントディスプレイ、モーショントレース、モーショントラッキング、モーションコントローラー、PDR(歩行者位置方位計測)等の電子機器に適用することができる。   The oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) according to an embodiment of the present invention includes a personal computer (mobile personal computer) in FIG. 15, a mobile phone in FIG. 16, and a digital still camera in FIG. The present invention can be applied to the following electronic devices. The oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) includes, for example, an inkjet discharge device (for example, an inkjet printer), a laptop personal computer, a tablet personal computer, a storage area network device such as a router or a switch, a local area network device, a mobile Base terminal equipment, TV, video camera, video recorder, car navigation device, real-time clock device, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game device, word processor, workstation, TV Telephone, crime prevention TV monitor, electronic binoculars, POS terminal, medical equipment (for example, electronic thermometer, blood pressure monitor, blood glucose meter, electrocardiogram measuring device, ultrasonic diagnostic device, electronic endoscope), fish finder Applicable to various measuring instruments, instruments (eg, vehicle, aircraft, ship instruments), flight simulator, head mounted display, motion trace, motion tracking, motion controller, PDR (pedestrian position measurement), etc. be able to.

[移動体]
本発明の一実施形態に係る発振モジュール1、および振動デバイス80を適用した移動体について、図18を参照して説明する。図18は移動体の一例としての自動車を概略的に示す斜視図である。なお、本説明では、発振モジュール1(半導体回路素子100)を適用した例を示している。
[Moving object]
A moving body to which the oscillation module 1 and the vibration device 80 according to an embodiment of the present invention are applied will be described with reference to FIG. FIG. 18 is a perspective view schematically showing an automobile as an example of a moving body. In this description, an example in which the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) is applied is shown.

図18に示すように、自動車506には本発明に係る発振モジュール1(半導体回路素子100)が搭載されている。例えば、同図に示すように、移動体としての自動車506には、半導体回路素子100を内蔵してタイヤ509などを制御する電子制御ユニット508が車体507に搭載されている。また、発振モジュール1(半導体回路素子100)は、他にもキーレスエントリー、イモビライザー、カーナビゲーションシステム、カーエアコン、アンチロックブレーキシステム(ABS)、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム(TPMS:Tire Pressure Monitoring System)、エンジンコントロール、ブレーキシステム、ハイブリッド自動車や電気自動車の電池モニター、車体姿勢制御システム、等の電子制御ユニット(ECU:electronic control unit)に広く適用できる。   As shown in FIG. 18, an oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) according to the present invention is mounted on an automobile 506. For example, as shown in the figure, an automobile 506 as a moving body has an electronic control unit 508 that incorporates a semiconductor circuit element 100 and controls a tire 509 and the like mounted on a vehicle body 507. In addition, the oscillation module 1 (semiconductor circuit element 100) includes a keyless entry, an immobilizer, a car navigation system, a car air conditioner, an anti-lock brake system (ABS), an air bag, a tire pressure monitoring system (TPMS: Tire). It can be widely applied to electronic control units (ECUs) such as Pressure Monitoring System), engine control, brake systems, battery monitors for hybrid and electric vehicles, and vehicle body attitude control systems.

1…発振モジュール、5…基板としての回路基板、5a…回路基板の実装面(一方の面(表面))、8…接続端子、10…半導体基板、10a…半導体基板の主面、10b…半導体基板の外周部、11…第1の絶縁膜、11a…第1の絶縁膜の反対面、12…絶縁部、13…インダクタンス回路、13a,13b…第1引出配線、14…貫通電極、15,15a,16…第2引出配線、16a…第3引出配線、17…ランド電極、18…貫通電極、19…ランド電極、20,21,22,23…外部接続端子、24…ソルダーレジスト、25…近傍領域、26…抵抗回路、27…静電容量素子、28,29…ランド電極、30…半導体回路、32…第1回路部、33…振動子、34…抵抗素子、35…レギュレーター、40…薄膜回路素子、50…第2の絶縁膜、51,53…第2の貫通電極、52,54…ランド電極、60…第2回路部、61…トランジスター、62,63…抵抗素子、64…静電容量素子、80…振動デバイス、100…第1実施形態に係る半導体回路素子、200…第2実施形態に係る半導体回路素子、300…第3実施形態に係る半導体回路素子、506…移動体としての自動車、1100…電子機器としてのモバイル型のパーソナルコンピューター、1200…電子機器としての携帯電話機、1300…電子機器としてのデジタルスチールカメラ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Oscillation module, 5 ... Circuit board as board, 5a ... Mounting surface (one side (front surface)) of circuit board, 8 ... Connection terminal, 10 ... Semiconductor substrate, 10a ... Main surface of semiconductor substrate, 10b ... Semiconductor 11. Peripheral portion of substrate, 11 ... first insulating film, 11a ... opposite surface of first insulating film, 12 ... insulating portion, 13 ... inductance circuit, 13a, 13b ... first extraction wiring, 14 ... through electrode, 15, 15a, 16 ... second lead wiring, 16a ... third lead wiring, 17 ... land electrode, 18 ... penetrating electrode, 19 ... land electrode, 20, 21, 22, 23 ... external connection terminal, 24 ... solder resist, 25 ... Neighboring region, 26 ... resistor circuit, 27 ... electrostatic capacitance element, 28, 29 ... land electrode, 30 ... semiconductor circuit, 32 ... first circuit section, 33 ... vibrator, 34 ... resistor element, 35 ... regulator, 40 ... Thin film circuit elements, DESCRIPTION OF SYMBOLS 0 ... 2nd insulating film, 51, 53 ... 2nd penetration electrode, 52, 54 ... Land electrode, 60 ... 2nd circuit part, 61 ... Transistor, 62, 63 ... Resistance element, 64 ... Capacitance element, DESCRIPTION OF SYMBOLS 80 ... Vibrating device, 100 ... Semiconductor circuit element according to the first embodiment, 200 ... Semiconductor circuit element according to the second embodiment, 300 ... Semiconductor circuit element according to the third embodiment, 506 ... Automobile as a moving body, 1100 ... a mobile personal computer as an electronic device, 1200 ... a mobile phone as an electronic device, 1300 ... a digital still camera as an electronic device.

Claims (14)

基板と、
前記基板に接続されている第1回路部と、
前記基板に接続されている第2回路部と、を備え、
前記第1回路部は、
半導体基板の主面に設けられている半導体回路と、
前記半導体基板の前記主面側に配置され、導電性の薄膜を有する薄膜回路素子と、を有し、
前記半導体回路は、平面視で、前記薄膜回路素子と前記半導体基板の外周部との間に設けられていることを特徴とする発振モジュール。
A substrate,
A first circuit portion connected to the substrate;
A second circuit portion connected to the substrate,
The first circuit unit includes:
A semiconductor circuit provided on the main surface of the semiconductor substrate;
A thin film circuit element disposed on the main surface side of the semiconductor substrate and having a conductive thin film;
The oscillation module, wherein the semiconductor circuit is provided between the thin film circuit element and an outer peripheral portion of the semiconductor substrate in a plan view.
前記主面および前記半導体回路と重なるように設けられている第1の絶縁膜を備え、
前記薄膜回路素子は、前記第1の絶縁膜の前記主面および前記半導体回路の少なくとも一方と接する面の反対面に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の発振モジュール。
A first insulating film provided so as to overlap the main surface and the semiconductor circuit;
2. The oscillation module according to claim 1, wherein the thin film circuit element is provided on a surface opposite to a surface in contact with the main surface of the first insulating film and at least one of the semiconductor circuits.
平面視で、前記半導体回路と重なるとともに前記薄膜回路素子と重ならない位置であり、かつ前記第1の絶縁膜上に配置されている外部接続端子を有することを特徴とする請求項2に記載の発振モジュール。   3. The device according to claim 2, further comprising an external connection terminal disposed on the first insulating film at a position that overlaps with the semiconductor circuit and does not overlap with the thin film circuit element in a plan view. Oscillation module. 少なくとも前記薄膜回路素子を覆う第2の絶縁膜を有し、
平面視で、前記半導体回路と重なるとともに前記薄膜回路素子と重ならない位置であり、かつ前記第2の絶縁膜上に配置されている外部接続端子を有することを特徴とする請求項2に記載の発振モジュール。
A second insulating film covering at least the thin film circuit element;
3. The device according to claim 2, further comprising an external connection terminal disposed on the second insulating film at a position that overlaps with the semiconductor circuit and does not overlap with the thin film circuit element in a plan view. Oscillation module.
前記半導体回路は、静電容量素子を含み、前記薄膜回路素子は、インダクタンス回路を含んでいることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の発振モジュール。   5. The oscillation module according to claim 1, wherein the semiconductor circuit includes a capacitive element, and the thin film circuit element includes an inductance circuit. 6. 前記インダクタンス回路は、平面視で、渦巻き状に配置された配線であることを特徴とする請求項5に記載の発振モジュール。   The oscillation module according to claim 5, wherein the inductance circuit is a wiring arranged in a spiral shape in a plan view. 前記半導体回路は、前記インダクタンス回路に電気的に接続されている抵抗回路を含んでいることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の発振モジュール。   The oscillation module according to claim 5 or 6, wherein the semiconductor circuit includes a resistance circuit electrically connected to the inductance circuit. 前記抵抗回路は、抵抗値が可変に制御可能であることを特徴とする請求項7に記載の発振モジュール。   The oscillation module according to claim 7, wherein a resistance value of the resistance circuit can be variably controlled. 前記第2回路部は、前記インダクタンス回路に電気的に接続されている抵抗素子、容量素子、および増幅器を含んでいることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか一項に記載の発振モジュール。   The said 2nd circuit part contains the resistive element, the capacitive element, and amplifier which are electrically connected to the said inductance circuit, The Claim 1 thru | or 8 characterized by the above-mentioned. Oscillation module. 前記第1回路部および前記第2回路部は、少なくともコルビッツ型発振回路を含んでいることを特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか一項に記載の発振モジュール。   10. The oscillation module according to claim 1, wherein the first circuit unit and the second circuit unit include at least a Corbitz oscillation circuit. 11. 基板と、
前記基板に接続されている第1回路部と、
前記基板に接続されている第2回路部と、
前記第1回路部および前記第2回路部の少なくとも一方に接続されている振動素子と、を備え、
前記第1回路部は、
半導体基板の主面に設けられている半導体回路と、
前記半導体基板の前記主面側に配置され、導電性の薄膜を有する薄膜回路素子と、を有し、
前記半導体回路は、平面視で、前記薄膜回路素子と前記第1回路部の外周部との間に設けられていることを特徴とする振動デバイス。
A substrate,
A first circuit portion connected to the substrate;
A second circuit portion connected to the substrate;
A vibration element connected to at least one of the first circuit part and the second circuit part,
The first circuit unit includes:
A semiconductor circuit provided on the main surface of the semiconductor substrate;
A thin film circuit element disposed on the main surface side of the semiconductor substrate and having a conductive thin film;
The vibration device, wherein the semiconductor circuit is provided between the thin film circuit element and an outer peripheral portion of the first circuit portion in plan view.
前記第1回路部および前記第2回路部は、少なくともコルビッツ型発振回路を含んでいることを特徴とする請求項11に記載の振動デバイス。   The vibrating device according to claim 11, wherein the first circuit unit and the second circuit unit include at least a Corbitz oscillation circuit. 請求項1ないし請求項10のいずれか一項に記載の発振モジュールを備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the oscillation module according to claim 1. 請求項1ないし請求項10のいずれか一項に記載の発振モジュールを備えていることを特徴とする移動体。   A moving body comprising the oscillation module according to claim 1.
JP2015156786A 2015-08-07 2015-08-07 Oscillation module, vibrating device, electronic equipment, and moving body Expired - Fee Related JP6724308B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015156786A JP6724308B2 (en) 2015-08-07 2015-08-07 Oscillation module, vibrating device, electronic equipment, and moving body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015156786A JP6724308B2 (en) 2015-08-07 2015-08-07 Oscillation module, vibrating device, electronic equipment, and moving body

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017038125A true JP2017038125A (en) 2017-02-16
JP2017038125A5 JP2017038125A5 (en) 2018-09-06
JP6724308B2 JP6724308B2 (en) 2020-07-15

Family

ID=58047522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015156786A Expired - Fee Related JP6724308B2 (en) 2015-08-07 2015-08-07 Oscillation module, vibrating device, electronic equipment, and moving body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6724308B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018157377A (en) * 2017-03-17 2018-10-04 セイコーエプソン株式会社 Oscillators, electronic devices and mobile objects
CN111106799A (en) * 2018-10-29 2020-05-05 精工爱普生株式会社 Oscillators, electronic equipment and moving bodies
CN112583376A (en) * 2019-09-30 2021-03-30 精工爱普生株式会社 Vibration device
CN113328720A (en) * 2020-02-28 2021-08-31 精工爱普生株式会社 Vibration device
CN113411060A (en) * 2020-03-17 2021-09-17 精工爱普生株式会社 Vibration device

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001044754A (en) * 1999-07-26 2001-02-16 Niigata Seimitsu Kk LC oscillator
JP2002232259A (en) * 2001-02-01 2002-08-16 Seiko Epson Corp Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same
JP2003258633A (en) * 2002-03-01 2003-09-12 Kyocera Corp PLL module
JP2005006153A (en) * 2003-06-13 2005-01-06 Nec Electronics Corp Voltage controlled oscillator
WO2008090995A1 (en) * 2007-01-24 2008-07-31 Nec Corporation Inductor
JP2009267212A (en) * 2008-04-28 2009-11-12 Fujikura Ltd Semiconductor device
JP2014030079A (en) * 2012-07-31 2014-02-13 Daishinku Corp Piezoelectric oscillator
JP2014123671A (en) * 2012-12-21 2014-07-03 Renesas Electronics Corp Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001044754A (en) * 1999-07-26 2001-02-16 Niigata Seimitsu Kk LC oscillator
JP2002232259A (en) * 2001-02-01 2002-08-16 Seiko Epson Corp Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same
JP2003258633A (en) * 2002-03-01 2003-09-12 Kyocera Corp PLL module
JP2005006153A (en) * 2003-06-13 2005-01-06 Nec Electronics Corp Voltage controlled oscillator
WO2008090995A1 (en) * 2007-01-24 2008-07-31 Nec Corporation Inductor
JP2009267212A (en) * 2008-04-28 2009-11-12 Fujikura Ltd Semiconductor device
JP2014030079A (en) * 2012-07-31 2014-02-13 Daishinku Corp Piezoelectric oscillator
JP2014123671A (en) * 2012-12-21 2014-07-03 Renesas Electronics Corp Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018157377A (en) * 2017-03-17 2018-10-04 セイコーエプソン株式会社 Oscillators, electronic devices and mobile objects
CN108631731A (en) * 2017-03-17 2018-10-09 精工爱普生株式会社 Oscillator, electronic equipment and moving body
CN108631731B (en) * 2017-03-17 2023-10-10 精工爱普生株式会社 Oscillators, electronic equipment and mobile objects
CN111106799A (en) * 2018-10-29 2020-05-05 精工爱普生株式会社 Oscillators, electronic equipment and moving bodies
CN111106799B (en) * 2018-10-29 2023-06-02 精工爱普生株式会社 Oscillators, Electronics and Moving Objects
CN112583376A (en) * 2019-09-30 2021-03-30 精工爱普生株式会社 Vibration device
CN112583376B (en) * 2019-09-30 2023-06-23 精工爱普生株式会社 Vibration device
CN113328720A (en) * 2020-02-28 2021-08-31 精工爱普生株式会社 Vibration device
US11863157B2 (en) 2020-02-28 2024-01-02 Seiko Epson Corporation Vibrator device
CN113328720B (en) * 2020-02-28 2024-06-18 精工爱普生株式会社 Vibration device
CN113411060A (en) * 2020-03-17 2021-09-17 精工爱普生株式会社 Vibration device
CN113411060B (en) * 2020-03-17 2023-12-12 精工爱普生株式会社 Vibration device

Also Published As

Publication number Publication date
JP6724308B2 (en) 2020-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9893733B2 (en) Oscillator, electronic apparatus, and moving object
JP6098377B2 (en) Oscillator, electronic device, and moving object
JP6286884B2 (en) Electronic devices, electronic devices, and moving objects
US10122343B2 (en) Resonator device, oscillator, electronic apparatus, and vehicle
CN111464133B (en) Oscillator, electronic apparatus, and moving object
US9577604B2 (en) Electronic component, oscillator, electronic apparatus, and moving object
JP2014107862A (en) Temperature compensation type oscillator, electronic apparatus, and mobile body
JP6724308B2 (en) Oscillation module, vibrating device, electronic equipment, and moving body
JP2014192674A (en) Vibration device, electronic equipment, and moving body
CN111510101B (en) Oscillator, manufacturing method of oscillator, electronic device and mobile body
US20160029487A1 (en) Electronic component, method for manufacturing electronic component, electronic apparatus, and moving object
US20150256127A1 (en) Electronic device, electronic apparatus and moving object
JP2014053663A (en) Electronic device, electronic apparatus, and moving body
JP2016131266A (en) Vibration device, oscillator, electronic device, and moving object
JP7484429B2 (en) Oscillators, electronic devices, and mobile devices
JP6364829B2 (en) Electronic devices, electronic devices, and moving objects
JP6402978B2 (en) Semiconductor circuit element, electronic device, and moving body
JP6729643B2 (en) Oscillators, electronic devices and mobiles

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180727

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180727

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20180906

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20181116

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190530

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190611

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190801

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200116

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200526

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200608

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6724308

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees