JP2016034040A5 - 表示装置 - Google Patents
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- 絶縁表面上の第1の導電層と、
前記第1の導電層上の第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上の第2の導電層、第3の導電層、及び第4の導電層と、
前記第2の導電層上、前記第3の導電層上、及び前記第4の導電層上の第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上の画素電極と、を有し、
前記第1の導電層は、トランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第2の導電層は、前記トランジスタのソース電極として機能する領域を有し、
前記第3の導電層は、前記トランジスタのドレイン電極として機能する領域を有し、
前記第4の導電層は、前記第2の導電層及び前記第3の導電層と同一層に配置されており、
前記第4の導電層は、フローティング状態であり、
前記第1の導電層は、前記第4の導電層の下面全体と重なる第1の領域を有し、
前記第1の領域において、前記第1の導電層の幅は、前記第4の導電層の幅よりも大きいことを特徴とする表示装置。 - 絶縁表面上の第1の導電層と、
前記第1の導電層上の第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上の第2の導電層、第3の導電層、及び第4の導電層と、
前記第2の導電層上、前記第3の導電層上、及び前記第4の導電層上の第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上の画素電極と、を有し、
前記第1の導電層は、トランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第2の導電層は、前記トランジスタのソース電極として機能する領域を有し、
前記第3の導電層は、前記トランジスタのドレイン電極として機能する領域を有し、
前記第4の導電層は、前記第2の導電層及び前記第3の導電層と同一層に配置されており、
前記第4の導電層は、フローティング状態であり、
前記第1の導電層は、前記第4の導電層の下面全体と重なる第1の領域を有し、
前記第1の領域において、前記第1の導電層の幅は、前記第4の導電層の幅よりも大きく、
前記第4の導電層は、前記第1の絶縁層と直接接していることを特徴とする表示装置。 - 絶縁表面上の第1の導電層と、
前記第1の導電層上の第1の絶縁層と、
前記第1の絶縁層上の第2の導電層、第3の導電層、及び第4の導電層と、
前記第2の導電層上、前記第3の導電層上、及び前記第4の導電層上の第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上の画素電極と、を有し、
前記第1の導電層は、トランジスタのゲート電極として機能する領域を有し、
前記第2の導電層は、前記トランジスタのソース電極として機能する領域を有し、
前記第3の導電層は、前記トランジスタのドレイン電極として機能する領域を有し、
前記第4の導電層は、前記第2の導電層及び前記第3の導電層と同一層に配置されており、
前記トランジスタは、前記画素電極と電気的に接続され、
上面からみて、前記第4の導電層は、前記画素電極と前記画素電極の隣に配置された画素電極との間に配置され、
前記第4の導電層は、フローティング状態であり、
前記第1の導電層は、前記第4の導電層の下面全体と重なる第1の領域を有し、
前記第1の領域において、前記第1の導電層の幅は、前記第4の導電層の幅よりも大きいことを特徴とする表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015225623A JP6064020B2 (ja) | 2005-05-13 | 2015-11-18 | 表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005141132 | 2005-05-13 | ||
| JP2005141132 | 2005-05-13 | ||
| JP2015225623A JP6064020B2 (ja) | 2005-05-13 | 2015-11-18 | 表示装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014249790A Division JP5963838B2 (ja) | 2005-05-13 | 2014-12-10 | 表示装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016124100A Division JP6188876B2 (ja) | 2005-05-13 | 2016-06-23 | 表示装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016034040A JP2016034040A (ja) | 2016-03-10 |
| JP2016034040A5 true JP2016034040A5 (ja) | 2016-08-12 |
| JP6064020B2 JP6064020B2 (ja) | 2017-01-18 |
Family
ID=37390180
Family Applications (6)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011186226A Active JP5106666B2 (ja) | 2005-05-13 | 2011-08-29 | 半導体装置 |
| JP2012093630A Active JP5509248B2 (ja) | 2005-05-13 | 2012-04-17 | 表示装置 |
| JP2014003980A Active JP5685655B2 (ja) | 2005-05-13 | 2014-01-14 | 半導体装置 |
| JP2014249790A Active JP5963838B2 (ja) | 2005-05-13 | 2014-12-10 | 表示装置 |
| JP2015225623A Active JP6064020B2 (ja) | 2005-05-13 | 2015-11-18 | 表示装置 |
| JP2016124100A Active JP6188876B2 (ja) | 2005-05-13 | 2016-06-23 | 表示装置 |
Family Applications Before (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011186226A Active JP5106666B2 (ja) | 2005-05-13 | 2011-08-29 | 半導体装置 |
| JP2012093630A Active JP5509248B2 (ja) | 2005-05-13 | 2012-04-17 | 表示装置 |
| JP2014003980A Active JP5685655B2 (ja) | 2005-05-13 | 2014-01-14 | 半導体装置 |
| JP2014249790A Active JP5963838B2 (ja) | 2005-05-13 | 2014-12-10 | 表示装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016124100A Active JP6188876B2 (ja) | 2005-05-13 | 2016-06-23 | 表示装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (7) | US8253179B2 (ja) |
| JP (6) | JP5106666B2 (ja) |
| KR (3) | KR101216370B1 (ja) |
| CN (1) | CN100576527C (ja) |
| TW (6) | TWI525837B (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8253179B2 (en) * | 2005-05-13 | 2012-08-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method of the same |
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| US7863612B2 (en) * | 2006-07-21 | 2011-01-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and semiconductor device |
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| NO333507B1 (no) * | 2009-06-22 | 2013-06-24 | Condalign As | Fremgangsmate for a lage et anisotropisk, ledende lag og en derav frembrakt gjenstand |
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| JP4424288B2 (ja) * | 2004-12-20 | 2010-03-03 | セイコーエプソン株式会社 | 弾性表面波装置の製造方法および弾性表面波装置 |
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| US8253179B2 (en) * | 2005-05-13 | 2012-08-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method of the same |
-
2006
- 2006-04-25 US US11/410,034 patent/US8253179B2/en active Active
- 2006-04-27 TW TW102112188A patent/TWI525837B/zh active
- 2006-04-27 TW TW095115090A patent/TWI398953B/zh active
- 2006-04-27 TW TW106134947A patent/TWI657585B/zh active
- 2006-04-27 TW TW104143848A patent/TWI570940B/zh active
- 2006-04-27 TW TW105138428A patent/TWI610450B/zh active
- 2006-04-27 TW TW100117574A patent/TWI479661B/zh active
- 2006-05-11 KR KR1020060042560A patent/KR101216370B1/ko active Active
- 2006-05-12 CN CN200610082690A patent/CN100576527C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-05-11 KR KR1020110043783A patent/KR101216376B1/ko active Active
- 2011-08-29 JP JP2011186226A patent/JP5106666B2/ja active Active
-
2012
- 2012-04-11 US US13/444,565 patent/US8878262B2/en active Active
- 2012-04-17 JP JP2012093630A patent/JP5509248B2/ja active Active
- 2012-07-06 KR KR1020120073889A patent/KR101427615B1/ko active Active
-
2014
- 2014-01-14 JP JP2014003980A patent/JP5685655B2/ja active Active
- 2014-05-20 US US14/282,039 patent/US9412766B2/en active Active
- 2014-12-10 JP JP2014249790A patent/JP5963838B2/ja active Active
-
2015
- 2015-11-18 JP JP2015225623A patent/JP6064020B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-23 JP JP2016124100A patent/JP6188876B2/ja active Active
- 2016-07-29 US US15/224,065 patent/US9972646B2/en active Active
-
2018
- 2018-05-14 US US15/978,953 patent/US10847550B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2020
- 2020-09-23 US US17/029,098 patent/US11081505B2/en active Active
-
2021
- 2021-05-10 US US17/315,812 patent/US20210265394A1/en not_active Abandoned
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