JP2015078153A - 重合性化合物及び光学異方体 - Google Patents

Abstract

【課題】重合性組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有するような重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性組成物を重合して得られる重合物を作製した際に均一なホメオトロピック配向が形成される重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる表面硬度の高い重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。
【解決手段】少なくとも１つのメソゲン基と、当該メソゲン基に直接若しくはスペーサー基及び／又は連結基を介して結合する少なくとも１つの反応性基と、当該メソゲン基に直接結合する少なくとも１つの反応性基を有さない末端基とを有し、当該反応性基を有さない末端基に１つの炭素−炭素三重結合を有する化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【選択図】 なし

Description

本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物及び当該重合性組成物を用いた光学異方体に関する。

重合性基を有する化合物（重合性化合物）は種々のフィルムの原料として使用される。例えば、重合性化合物を含む重合性組成物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有するフィルム状の重合体を作製することが可能である。このようにして作製したフィルムは、ディスプレイに必要な偏光板、位相差板等に使用することができる。例えば、ホメオトロピック配向を有する重合体は、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型ディスプレイ等の光学補償用に使用される。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、フィルムの透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物を含む重合性組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、重合性組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。

ＩＰＳ型ディスプレイの光学補償用に使用される位相差板においては、重合前の重合性組成物を調製した際に、長時間保管しても重合性組成物から、その成分中の重合性化合物が析出することが無いこと、そして、重合性組成物を電磁波により重合させフィルム状の重合物を作製した際に、均一なホメオトロピック配向が形成されることが重要である。均一に配向していないフィルムを、ディスプレイの視野角拡大及び偏光変換の用途に使用した場合、ディスプレイの明るさが均一で無くなったり、映像の色味が不自然であったり、偏光軸のズレによって見る角度によって光漏れが生じたり、色ズレが生じてしまったりしてしまい、ディスプレイ製品の品質を大きく低下させてしまう問題がある。また、当該フィルムをタッチパネル付きディスプレイに使用する際には、押圧により配向状態が乱れることが無いようフィルムの表面硬度が十分に高いことが好ましい。

当該分野において種々の重合性化合物が報告されてきたが、それらの重合性化合物は、重合性組成物に添加した場合に結晶の析出が起こり、保存安定性が不十分であった（特許文献１）。また、それらの重合性化合物を含有する重合性組成物を用いてフィルム状の重合物を作製した場合に、均一なホメオトロピック配向が得られなかったり（特許文献２）、表面硬度が低下してしまったりする問題があった（非特許文献１）。

ＵＳ６５１４５７８Ｂ１号公報 特表２０１３−５０６０１５号公報 Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｋｏｒｅａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ誌、２００７年、２８巻、１０号、１６５１−１６５５頁

本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有するような重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性組成物を重合して得られる重合物を作製した際に均一なホメオトロピック配向が形成される重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる表面硬度の高い重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。

本願発明は、少なくとも１つのメソゲン基、当該メソゲン基に直接若しくは柔軟性基及び／又は連結基を介して結合する少なくとも１つの反応性基、並びに、当該メソゲン基に直接結合する少なくとも１つの末端基からなるが、当該末端基のうち少なくとも１つに炭素−炭素三重結合を有する化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の化合物は、重合性組成物を構成した場合に保存安定性が高く、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を重合させることにより得られる重合体を用いた光学異方体は、均一なホメオトロピック配向を形成し、表面硬度が十分に高いことから光学フィルム等の用途に有用である。

本願発明は少なくとも１つのメソゲン基と、当該メソゲン基に直接若しくはスペーサー基及び／又は連結基を介して結合する少なくとも１つの反応性基と、当該メソゲン基に直接結合する少なくとも１つの反応性基を有さない末端基とを有し、当該反応性基を有さない末端基に１つの炭素−炭素三重結合を有する化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。ここで、メソゲン基とは、１つの環構造から構成されるか、又は、２つ以上の環構造と該環構造間を連結する連結基とから構成される部分を意味する。

本願発明における化合物として、一般式（Ｉ）

（式中、Ｐは重合性基を表し、Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して、スペーサー基又は単結合を表すが、Ｓ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよく、Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−（Ｃ（Ｙ^１）_２）_ｎ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^１−（式中、Ｙ^１は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよく、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル又はフルオレン−２，７−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、これらの環構造における１つ以上の＝ＣＨ−基は＝Ｎ−に置換されても良く、若しくはこれらの基における１つ以上の連続しない−ＣＨ_２−基は各々独立して−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、Ｚは単結合、連結基として−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−（Ｃ（Ｙ^２）_２）_ｎ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^２＝ＣＹ^２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し（式中、Ｙ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、Ｒは水素原子、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基若しくは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＹ^３＝ＣＹ^３−（式中、Ｙ^３は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数１から２５の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｍは０から８の整数を表し、ｎは０から５の整数を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、−Ｎ（Ｙ^４）_２、−Ｓｉ（Ｙ^４）_３、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基（式中、Ｙ^４は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、Ｙ^４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）、ヒドロキシル基又はメルカプト基を表す。）で表される化合物が好ましい。

また、一般式（Ｉ）においてＰは重合性基を表すが、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

Ｓ^１及びＳ^２は各々独立してスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。また、スペーサー基としては、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基が好ましく、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基がさらに好ましい。また、Ｓ^１が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、Ｓ^１が各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表しＳ^２が単結合を表すことがより好ましく、Ｓ^１が炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表しＳ^２が単結合を表すことがさらに好ましく、Ｓ^１が炭素原子数１から１０のアルキレン基を表しＳ^２が単結合を表すことが特に好ましい。

Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−（Ｃ（Ｙ^１）_２）_ｎ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^１−（式中、Ｙ^１は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。また、Ｘ^１及びＸ^２は、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^１−（式中、Ｙ^１は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）又は単結合を表すことが好ましく、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましい。さらに、Ｘ^１が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表しＸ^２が単結合を表すことが特に好ましい。

Ａ^１及びＡ^２は、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよいが、各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル又はフルオレン−２，７−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、これらの環構造における１つ以上の＝ＣＨ−基は＝Ｎ−に置換されても良く、若しくはこれらの基における１つ以上の連続しない−ＣＨ_２−基は各々独立して−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されても良いが、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。また、Ａ^１及びＡ^２は、各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル又はフルオレン−２，７−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、これらの基における１つ以上の連続しない−ＣＨ_２−基は各々独立して−Ｏ−に置換されても良い場合が好ましく、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。さらに、Ａ^１及びＡ^２は、各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い場合がより好ましく、Ａ^１及びＡ^２が各々独立して下記の式（ａ−１）から式（ａ−１１）

（式中、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、−Ｎ（Ｙ^４）_２、−Ｓｉ（Ｙ^４）_３、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基（式中、Ｙ^４は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）
から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｚは単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−（Ｃ（Ｙ^２）_２）_ｎ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^２＝ＣＹ^２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す（式中、Ｙ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）が、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。また、Ｚは単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^２＝ＣＹ^２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す（式中、Ｙ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）ことがより好ましく、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。そして、Ｚは単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^２＝ＣＹ^２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す（式中、Ｙ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）ことがさらに好ましく、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。Ｚは単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−を表すことがさらにより好ましく、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。Ｚは単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−を表すことが特に好ましく、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。

Ｒは水素原子、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基若しくは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＹ^３＝ＣＹ^３−（式中、Ｙ^３は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数１から２５の直鎖又は分岐アルキル基を表すが、水素原子、シアノ基、ニトロ基若しくは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良い炭素原子数１から２５の直鎖又は分岐アルキル基を表すことが好ましく、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から２５の直鎖又は分岐アルキル基を表すことがより好ましく、炭素原子数１から２０の直鎖アルキル基を表すことがさらにより好ましく、炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基を表すことが特に好ましい。

ｍは０から８の整数を表すが、０から４の整数を表すことが好ましく、０から２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、１を表すことが特に好ましい。

ｎは０から５の整数を表すが、０から４の整数を表すことが好ましく、１から４の整数を表すことがより好ましく、１、２又は３を表すことが特に好ましい。

Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、−Ｎ（Ｙ^４）_２、−Ｓｉ（Ｙ^４）_３、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基（式中、Ｙ^４は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、Ｙ^４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）、ヒドロキシル基又はメルカプト基を表すが、
Ｌはフッ素原子、塩素原子、シアノ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から５の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から５の直鎖状アルキル基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物として、Ｘ^２及びＳ^２が単結合を表すことが、原料の入手容易さ及び合成の容易さの点から好ましい。

また、一般式（Ｉ）で表される化合物として、Ｒが炭素原子数１から２０の直鎖アルキル基を表すことが、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの点から好ましい。

さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物として、Ｓ^１が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表すことが、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの点から好ましい。

そして、一般式（Ｉ）で表される化合物として、Ｘ^１が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの点から好ましい。

重合性組成物を重合させ得られた重合体をディスプレイ用途の光学フィルムとして使用する場合には、ディスプレイの設計自由度及びデザインの観点から当該光学フィルムの膜圧がなるべく薄いことが好ましい。その場合、添加する重合性化合物の屈折率異方性がなるべく高いことが好ましく、この観点からＡ^２が芳香族基を表し、Ｘ^２及びＳ^２が単結合を表すことが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０５）で表される化合物が好ましい。

本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−８）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ、Ｓ^１、Ｘ^１、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表し、ＰＧは保護基を表す。）
一般式（Ｓ−１）で表される化合物を一般式（Ｓ−２）で表される化合物と薗頭クロスカップリングさせることにより一般式（Ｓ−３）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、Ｍｅｔａｌ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ（Ａｒｍｉｎ ｄｅ Ｍｅｉｊｅｒｅ、Ｆｒａｎｃｏｉｓ Ｄｉｅｄｒｉｃｈ共著、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ）、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｎｅｗ Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ ２１ｓｔ Ｃｅｎｔｕｒｙ（Ｊｉｒｏ Ｔｓｕｊｉ著、Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｌｔｄ．）、Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ（Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｋ．Ｆｕｇａｍｉ、Ｔ．Ｈｉｙａｍａ、Ｍ．Ｋｏｓｕｇｉ、Ｍ．Ｍｉｕｒａ、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ａ．Ｒ．Ｍｕｃｉ、Ｍ．Ｎｏｍｕｒａ、Ｅ．Ｓｈｉｒａｋａｗａ、Ｋ．Ｔａｍａｏ著、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ）等の文献に記載の方法が好ましい。パラジウム触媒としては例えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド等が挙げられる。銅触媒としては例えばヨウ化銅（Ｉ）が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミンが挙げられる。

一般式（Ｓ−３）で表される化合物を保護基ＰＧにより水酸基を保護された一般式（Ｓ−４）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−５）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、縮合剤を用いる方法又は、一般式（Ｓ−４）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−３）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩等が挙げられる。

一般式（Ｓ−５）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において一般式（Ｓ−６）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が好ましい。

一般式（Ｓ−６）で表される化合物を前記一般式（Ｓ−７）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−８）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、縮合剤を用いる方法又は、一般式（Ｓ−７）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−６）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合は上記と同様なものが挙げられる。

前記以外の反応条件として、例えば、実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献若しくはＳｃｉＦｉｎｄｅｒ又はＲｅａｘｙｓ等のデータベースに収録されている条件が挙げられる。

各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無い。溶媒としては、例えばｔｅｒｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、イソペンチルアルコール、シクロヘキサノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−オクタノール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、メタノール、メチルシクロヘキサノール、エタノール、プロパノール、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリット等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド等が挙げられる。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲルが挙げられる。当該精製剤は一般的に入手可能なものが使用可能である。
（製法２）下記式（Ｓ−１２）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ、Ｓ^１、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
一般式（Ｓ−３）で表される化合物を例えばトリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ_２Ｏ）と反応させることにより一般式（Ｓ−９）で表される化合物を得る。

式（Ｓ−９）で表される化合物を式（Ｓ−１０）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１１）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が知られている。金属触媒、塩基及び反応条件としては例えば製法１記載の物が挙げられる。

一般式（Ｓ−１１）で表される化合物を一般式（Ｓ−１２）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１３）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、光延反応又は、一般式（Ｓ−１２）で表される化合物をスルホン酸等と反応させスルホン酸エステルとするか、ハロゲン化試薬と反応させハロゲン化合物とした後、一般式（Ｓ−１１）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。光延反応を用いる場合、アゾジカルボン酸としては例えばアゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられる。ホスフィンとしては例えばトリフェニルホスフィンが挙げられる。また、シアノメチレントリブチルホスホラン等の角田試薬を用いてもよい。スルホン酸エステルを経由する場合、スルホン酸としてフルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等が挙げられる。塩基としては前記の物が挙げられる。製法１と同様、適宜反応溶媒、反応条件、精製方法を選択できる。
（製法３）下記式（Ｓ−２０）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ、Ｓ^１、Ｘ^２、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表し、Ｓ^ａ及びＳ^ｂは各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表す。）
式（Ｓ−１４）で表される化合物を式（Ｓ−１５）で表される化合物と塩基存在下反応させることにより式（Ｓ−１６）で表される化合物を得ることができる。塩基としては製法１又は製法２記載のものが使用可能であるが、その他に水素化リチウム、水素化ナトリウム等が使用可能である。

一般式（Ｓ−１６）で表される化合物をトリメチルシリルアセチレンと薗頭クロスカップリングさせることにより一般式（Ｓ−１７）で表される化合物を得る。反応条件としては製法１記載の文献に記載の方法が好ましい。パラジウム触媒としては製法１記載のものが使用可能である。塩基としては製法１記載のものが使用可能である。また、トリメチルシリルアセチレンの代わりに、２−メチル−３−ブチン−２−オール、アセチレン等を使用してもよい。

一般式（Ｓ−１７）で表される化合物を脱保護することにより一般式（Ｓ−１８）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば製法１記載の文献に挙げられているものが好ましい。

一般式（Ｓ−１８）で表される化合物を一般式（Ｓ−１）で表される化合物と薗頭クロスカップリングさせることにより一般式（Ｓ−１９）で表される化合物を得る。反応条件としては製法１記載の文献に記載の方法が好ましい。パラジウム触媒及び塩基としては製法１記載のものが使用可能である。

一般式（Ｓ−１９）で表される化合物を一般式（Ｓ−１２）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−２０）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、光延反応又は、一般式（Ｓ−１２）で表される化合物をスルホン酸等と反応させスルホン酸エステルとするか、ハロゲン化試薬と反応させハロゲン化合物とした後、一般式（Ｓ−１９）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。反応方法としては例えば製法２記載のものが挙げられる。製法１と同様、適宜反応溶媒、反応条件、精製方法を選択できる。

本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。

本願発明の反応性化合物と混合して使用される他の反応性化合物としては、具体的には一般式（ＩＩ）

（式中、Ｐ^１及びＰ^２はそれぞれ重合性基を表し、Ｓ^３及びＳ^４は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＹ^４＝ＣＹ^４−（式中、Ｙ^４は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｚ^１は各々独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＹ^５＝ＣＹ^５−（式中、Ｙ^５は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ^３及びＡ^４は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^３及びＡ^４は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、ｍ１は０、１、２又は３を表し、ｍ１が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^３及び／又はＺ^１は同一であっても異なっていても良いが、一般式（Ｉ）で表される化合物を除く。）で表される化合物で表される化合物が好ましく、一般式（ＩＩ）のＰ^１及びＰ^２は、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。一般式（ＩＩ）のＰ^１及びＰ^２は、特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。
具体的には、一般式（ＩＩＩ）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ^５及びＳ^６は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^５及びＸ^６は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^２及びＺ^３は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^５、Ａ^６及びＡ^７は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^５は一般式（ＩＩＩ）におけるＳ^５と同じ意味を表し、Ｓ^６は一般式（ＩＩＩ）におけるＳ^６と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−８）において、Ｓ^５及びＳ^６が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物がさらに好ましい。

また、一般式（ＩＶ）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^７及びＳ^８は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^７及びＸ^８は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^４は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^８、Ａ^９及びＡ^１０は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＶ−１）から式（ＩＶ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^７は一般式（ＩＶ）におけるＳ^７と同じ意味を表し、Ｓ^８は一般式（ＩＶ）におけるＳ^８と同じ意味を表す。）上記式（ＩＶ−１）から式（ＩＶ−８）において、耐熱性及び耐久性の観点から、式（ＩＶ−２）、式（ＩＶ−５）、式（ＩＶ−６）、式（ＩＶ−７）及び式（ＩＶ−８）で表される化合物が好ましく、式（ＩＶ−２）で表される化合物がさらに好ましく、Ｓ^７及びＳ^８が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（Ｖ−１）から式（Ｖ−８）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^９及びＳ^１０は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）上記式（Ｖ−１）から式（Ｖ−８）において、式（Ｖ−２）、式（Ｖ−３）、式（Ｖ−４）、式（Ｖ−６）、式（Ｖ−７）及び式（Ｖ−８）で表される化合物が好ましく、Ｓ^９及びＳ^１０が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

好ましい単官能重合性化合物としては下記一般式（ＶＩ−１）から式（ＶＩ−９）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｐ^３は重合性基を表し、好ましい重合性基は、前記一般式（ＩＩ）のＰ^１及びＰ^２と同様なものが挙げられ、Ｓ^１１は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^９は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^５は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＹ^６＝ＣＹ^６−（式中、Ｙ^６は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ^１１は１，４−フェニレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表すが、Ａ^１１は無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｌ^１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｒは０から４の整数を表し、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。

また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤としては、具体的には２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（ＤＡＲＯＣＵＲ １１７３）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７）等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられる。熱重合開始剤としては、具体的には２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）等が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。

また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（ＶＩＩ−１）から式（ＶＩＩ−３６）

（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ_２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。

重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。

上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２〜２Ｗ／ｃｍ^２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ^２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ^２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。

重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。

このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
（実施例１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器に、式（Ｉ−１−１）で表される化合物５０．０ｇ（０．４６モル）、ヨウ化カリウム８４．４ｇ（０．５１モル）、メタノール５００ｍＬを加えた。氷冷しながら濃硫酸６８．０ｇ（０．６９モル）を滴下した。さらに３０％過酸化水素水１０４．８ｇ（０．９３モル）を滴下した。５０℃で５時間加熱撹拌した。水、酢酸エチルを加え希釈し、分液処理した。食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１−２）で表される化合物９０．５ｇ（０．３９モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１−２）で表される化合物５０．０ｇ（０．２１モル）、１−ペンチン２９．１ｇ（０．４３モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．８１ｇ（４．３ミリモル）、エタノールアミン２６．１ｇ（０．４３モル）、テトラヒドロフラン２００ｍＬ、水２００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド１．５ｇ（２．１ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）で精製を行い、式（Ｉ−１−３）で表される化合物２３．１ｇ（０．１３モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−３）で表される化合物２３．１ｇ（０．１３モル）、式（Ｉ−１−４）で表される化合物２４．６ｇ（０．１１モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．３ｇ（１０．７ミリモル）、ジクロロメタン１５０ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド１６．２ｇ（０．１３モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１−５）で表される化合物１７．０ｇ（０．０４４モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１−５）で表される化合物１７．０ｇ（０．０４４モル）、トルエン４０ｍＬ、テトラヒドロフラン４０ｍＬ、プロピルアミン３．１ｇ（０．０５２モル）を加えた。室温で１０時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。濃縮、乾燥し、式（Ｉ−１−６）で表される化合物１３．６ｇ（０．０３９モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−６）で表される化合物１３．６ｇ（０．０３９モル）、式（Ｉ−１−７）で表される化合物９．９ｇ（０．０４０モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．４８ｇ（３．９ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド６．０ｇ（０．０４８モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物１４．７ｇを得た。
相転移温度：Ｃ ９１ Ｎ ＞２００ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．０６（ｔ，３Ｈ），１．６４（ｍ，２Ｈ），２．２４（ｍ，５Ｈ），２．３９（ｔ，２Ｈ），４．１８（ｔ，２Ｈ），４．４０（ｔ，２Ｈ），５．８６（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），７．０１（ｄ，２Ｈ），７．１２（ｄ，１Ｈ），７．３１（ｄ，１Ｈ），７．３５（ｓ，１Ｈ），７．４７（ｄｄ，１Ｈ），７．７８（ｄ，１Ｈ），７．９３（ｄ，１Ｈ），８．０６（ｄ，１Ｈ），８．２１（ｍ，３Ｈ），８．８１（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １３．６，１６．２，２１．４，２２．２，２８．６，６１．２，６４．７，７７．２，８０．１，９０．１，１１４．４，１１８．９，１２１．６，１２２．０，１２２．０，１２２．６，１２６．２，１２６．４，１２８．２，１２８．３，１３０．３，１３０．４，１３０．５，１３１．０，１３１．１，１３１．８，１３２．５，１３４．４，１３６．６，１４９．０，１５１．０，１６３．３，１６４．８，１６６．２ｐｐｍ．
（実施例２）式（Ｉ−２）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−２−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．０６６モル）、１−ヘキシン５．７ｇ（０．０７０モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．２５ｇ（１．３ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍＬ、トリエチルアミン４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．７７ｇ（０．６６ミリモル）を加え、３時間加熱撹拌した。ヘキサンで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）で精製を行い、式（Ｉ−２−２）で表される化合物１２．２ｇ（０．０４８モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−２−２）で表される化合物１２．２ｇ（０．０４８モル）、式（Ｉ−２−３）で表される化合物６．６ｇ（０．０４８モル）、炭酸カリウム９．９ｇ（０．０７２モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．５５ｇ（０．４８ミリモル）を加え、７時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２−４）で表される化合物１０．８ｇ（０．０４０モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−２−４）で表される化合物１０．８ｇ（０．０４０モル）、式（Ｉ−２−５）で表される化合物１０．０ｇ（０．０５２モル）、炭酸カリウム８．３ｇ（０．０６０モル）、ジメチルスルホキシド１００ｍＬを加え、９０℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２）で表される化合物１１．３ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：４２２
ＨＲＭＳ：４２２．２３
（実施例３）式（Ｉ−３）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−２−４）で表される化合物１０．０ｇ（０．０３９モル）、式（Ｉ−１−７）で表される化合物９．８ｇ（０．０３９モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．４８ｇ（３．９ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド６．０ｇ（０．０４８モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−３）で表される化合物１２．６ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：４８６
ＨＲＭＳ：４８６．１８
（実施例４）式（Ｉ−４）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−２−４）で表される化合物１０．０ｇ（０．０３９モル）、ピリジン４．０ｇ（０．０５１モル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物１３．３ｇ（０．０４７モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−４−１）で表される化合物１４．０ｇ（０．０３６モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−４−１）で表される化合物１４．０ｇ（０．０３６モル）、式（Ｉ−２−３）で表される化合物５．０ｇ（０．０３６モル）、炭酸カリウム７．５ｇ（０．０５４モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４２ｇ（０．３６ミリモル）を加え、７時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４−２）で表される化合物９．２ｇ（０．０２８モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−４−２）で表される化合物９．２ｇ（０．０２８モル）、式（Ｉ−２−５）で表される化合物６．９ｇ（０．０３６モル）、炭酸カリウム５．８ｇ（０．０４２モル）、ジメチルスルホキシド６０ｍＬを加え、９０℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４）で表される化合物９．０ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：４８４
ＨＲＭＳ：４８４．２４
（実施例５）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−５−１）で表される化合物１０．０ｇ（０．０３７モル）、１−ペンチン３．０ｇ（０．０４５モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．１４ｇ（０．７４ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍＬ、トリエチルアミン４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４３ｇ（０．３７ミリモル）を加え、９０℃で１２時間加熱撹拌した。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−５−２）で表される化合物６．４ｇ（０．０２５モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器にジイソプロピルアミン３．８ｇ（０．０３７モル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。−２０℃で１．６モル／Ｌブチルリチウム／ヘキサン溶液２０．３ｍＬ（０．０３２モル）を滴下した。−２０℃で１時間撹拌した後、式（Ｉ−５−２）で表される化合物６．４ｇ（０．０２５モル）をテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。−２０℃で２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル７．０ｇ（０．０３７モル）のテトラヒドロフラン溶液１０ｍＬを滴下した。室温で２時間撹拌した後、１０％塩酸５０ｍＬを加えた。分液処理し、食塩水で洗浄した後、濃縮、乾燥させることにより、式（Ｉ−５−３）で表される化合物６．９ｇ（０．０２３モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−５−３）で表される化合物６．９ｇ（０．０２３モル）、式（Ｉ−５−１）で表される化合物６．２ｇ（０．０２３モル）、炭酸カリウム４．８ｇ（０．０３４モル）、エタノール８０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．２７ｇ（０．２３ミリモル）を加えた。１２時間加熱還流させた後、トルエンで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−４）で表される化合物８．２ｇ（０．０１８モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器にジイソプロピルアミン２．８ｇ（０．０２８モル）、テトラヒドロフラン１０ｍＬを加えた。−２０℃で１．６モル／Ｌブチルリチウム／ヘキサン溶液１４．９ｍＬ（０．０２４モル）を滴下した。−２０℃で１時間撹拌した後、式（Ｉ−５−４）で表される化合物８．２ｇ（０．０１８モル）をテトラヒドロフラン４０ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。−２０℃で２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル４．５ｇ（０．０２４モル）のテトラヒドロフラン溶液１０ｍＬを滴下した。室温で２時間撹拌した後、１０％塩酸２０ｍＬを加えた。分液処理し、食塩水で洗浄した後、３０％過酸化水素水２０ｍＬを滴下した。５０℃で５時間加熱撹拌した後、分液処理し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−５）で表される化合物７．４ｇ（０．０１６モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−５−５）で表される化合物７．４ｇ（０．０１６モル）、式（Ｉ−５−６）で表される化合物３．１ｇ（０．０２１モル）、炭酸カリウム３．４ｇ（０．０２４モル）、ジメチルスルホキシド５０ｍＬを加えた。９０℃で１２時間加熱撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５）で表される化合物６．３ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５７２
ＨＲＭＳ：５７２．２０
（実施例６）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−６−１）で表される化合物１０．０ｇ（０．０５３モル）、式（Ｉ−６−２）で表される化合物１５．０ｇ（０．０５３モル）、炭酸カリウム１１．０ｇ（０．０８０モル）、テトラヒドロフラン７０ｍＬ、水７０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．６１ｇ（０．５３ミリモル）を加えた。３時間加熱還流させた後、酢酸エチルで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６−３）で表される化合物１３．５ｇ（０．０４５モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−６−３）で表される化合物１３．５ｇ（０．０４５モル）、３−クロロプロパノール５．６ｇ（０．０５９モル）、炭酸セシウム２２．１ｇ（０．０６８モル）、ジメチルスルホキシド１００ｍＬを加えた。６０℃で７時間加熱撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６−４）で表される化合物１４．２ｇ（０．０４０モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−６−４）で表される化合物１４．２ｇ（０．０４０モル）、１−ペンチン３．５ｇ（０．０５２モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．１５ｇ（０．８０ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍＬ、トリエチルアミン４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４６ｇ（０．４０ミリモル）を加え、９０℃で１２時間加熱撹拌した。酢酸エチルで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−６−５）で表される化合物９．９ｇ（０．０２９モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−６−５）で表される化合物９．９ｇ（０．０２９モル）、トリエチルアミン４．３ｇ（０．０４３モル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化メタクリロイル３．９ｇ（０．０３７モル）を滴下した。室温で７時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６）で表される化合物８．３ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：４１２
ＨＲＭＳ：４１２．２０
（実施例７）式（Ｉ−７）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−７−１）で表される化合物１０．０ｇ（０．０５２モル）、１−ペンチン４．６ｇ（０．０６７モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．２０ｇ（１．０ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍＬ、トリエチルアミン４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．６０ｇ（０．５２ミリモル）を加え、９０℃で１２時間加熱撹拌した。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−７−２）で表される化合物７．０ｇ（０．０３９モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器にジイソプロピルアミン５．９ｇ（０．０５８モル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。−２０℃で１．６モル／Ｌブチルリチウム／ヘキサン溶液３１．６ｍＬ（０．０５１モル）を滴下した。−２０℃で１時間撹拌した後、式（Ｉ−７−２）で表される化合物７．０ｇ（０．０３９モル）をテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。−２０℃で２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル１１．０ｇ（０．０５８モル）のテトラヒドロフラン溶液１０ｍＬを滴下した。室温で２時間撹拌した後、１０％塩酸５０ｍＬを加えた。分液処理し、食塩水で洗浄した後、濃縮、乾燥させることにより、式（Ｉ−７−３）で表される化合物７．４ｇ（０．０３３モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−７−３）で表される化合物７．４ｇ（０．０３３モル）、式（Ｉ−６−２）で表される化合物９．３ｇ（０．０３３モル）、炭酸カリウム６．８ｇ（０．０５０モル）、エタノール８０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．３８ｇ（０．３３ミリモル）を加えた。４時間加熱還流させた後、トルエンで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−４）で表される化合物１０．１ｇ（０．０３０モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−７−４）で表される化合物１０．１ｇ（０．０３０モル）、トリメチルシリルアセチレン３．８ｇ（０．０３９モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．１１ｇ（０．６０ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍＬ、トリエチルアミン４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．３５ｇ（０．３０ミリモル）を加え、９０℃で１２時間加熱撹拌した。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−７−５）で表される化合物８．５ｇ（０．０２４モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−７−５）で表される化合物８．５ｇ（０．０２４モル）、炭酸カリウム６．６ｇ（０．０４８モル）、メタノール２００ｍＬを加えた。室温で１２時間撹拌した後、トルエンで希釈し５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−７−６）で表される化合物６．６ｇ（０．０２４モル）を得た。

反応容器に４−ヨードフェノール２０．０ｇ（０．０９１モル）、３−クロロプロパノール１１．２ｇ（０．１２モル）、炭酸セシウム４４．４ｇ（０．１４モル）、ジメチルスルホキシド２００ｍＬを加えた。６０℃で７時間加熱撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−７−７）で表される化合物２３．５ｇ（０．０８５モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−７−７）で表される化合物６．６ｇ（０．０２４モル）、式（Ｉ−７−６）で表される化合物６．６ｇ（０．０２４モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．０９０ｇ（０．４７ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６０ｍＬ、トリエチルアミン２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．２７ｇ（０．２４ミリモル）を加え、９０℃で５時間加熱撹拌した。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−８）で表される化合物７．８ｇ（０．０１８モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−７−８）で表される化合物７．８ｇ（０．０１８モル）、トリエチルアミン２．８ｇ（０．０２７モル）、ジクロロメタン６０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル２．１ｇ（０．０２４モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７）で表される化合物６．６ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：４８４
ＨＲＭＳ：４８４．１９
（実施例８）式（Ｉ−８）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−８−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．０６３モル）、１−ペンチン５．６ｇ（０．０８２モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．２４ｇ（１．３ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍＬ、トリエチルアミン４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．７３ｇ（０．６３ミリモル）を加え、９０℃で５時間加熱撹拌した。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−８−２）で表される化合物１３．３ｇ（０．０５２モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−８−２）で表される化合物１３．３ｇ（０．０５２モル）、式（Ｉ−２−３）で表される化合物７．１ｇ（０．０５２モル）、炭酸カリウム１０．７ｇ（０．０７８モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．６０ｇ（０．０５２モル）を加え、１０時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−８−３）で表される化合物１１．９ｇ（０．０４４モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−８−３）で表される化合物１１．９ｇ（０．０４４モル）、ピリジン５．２ｇ（０．０６６モル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物１６．１ｇ（０．０５７モル）を滴下した。室温で７時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−８−４）で表される化合物１７．２ｇ（０．０４３モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−８−４）で表される化合物１７．２ｇ（０．０４３モル）、式（Ｉ−８−５）で表される化合物９．７ｇ（０．０４３モル）、酢酸ナトリウム５．２ｇ（０．０６４モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、ｔｒａｎｓ−ジ（μ−アセタト）ビス［ｏ−ジ−ｏ−トリルホスフィノ）ベンジル］ジパラジウム(II）０．８０ｇ（０．８５モル）を加え、１４０℃で６０時間加熱撹拌した。塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８−６）で表される化合物１１．７ｇ（０．０２４モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−８−６）で表される化合物１１．７ｇ（０．０２４モル）、トリエチルアミン３．７８ｇ（０．０３６モル）、ジクロロメタン６０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル２．９ｇ（０．０３２モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８）で表される化合物１１．０ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５３４
ＨＲＭＳ：５３４．２０
（実施例９）式（Ｉ−９）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器にプロピルトリフェニルホスホニウムブロミド３８．５ｇ（０．１０モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。−２０℃でカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１０．４ｇ（０．０９２モル）を加えた。−２０℃で１時間撹拌した後、式（Ｉ−９−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．０７７モル）のテトラヒドロフラン溶液８０ｍＬを滴下した。室温で３時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−２）で表される化合物１９．４ｇ（０．０６８モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−２）で表される化合物１９．４ｇ（０．０６８モル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら臭素１１．９ｇ（０．０７４モル）を滴下した。３時間室温で撹拌した後、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−３）で表される化合物２９．３ｇ（０．０６６モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−３）で表される化合物２９．３ｇ（０．０６６モル）、テトラヒドロフラン２００ｍＬを加えた。氷冷しながらカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１１．０ｇ（０．０９８モル）を加えた。室温で１２時間撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−４）で表される化合物１７．７ｇ（０．０６２モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−４）で表される化合物１７．７ｇ（０．０６２モル）、トリメチルシリルアセチレン８．０ｇ（０．０８１モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．２４ｇ（１．２ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１８０ｍＬ、トリエチルアミン６０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．７２ｇ（０．６２ミリモル）を加え、９０℃で５時間加熱撹拌した。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−５）で表される化合物１１．７ｇ（０．０４６モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−５）で表される化合物１１．７ｇ（０．０４６モル）、炭酸カリウム１２．８ｇ（０．０９２モル）、メタノール２００ｍＬを加えた。室温で１２時間撹拌した後、トルエンで希釈し５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−６）で表される化合物８．２ｇ（０．０４５モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−６）で表される化合物８．２ｇ（０．０４５モル）、式（Ｉ−９−７）で表される化合物１２．０ｇ（０．０４５モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．１７ｇ（０．９０ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９０ｍＬ、トリエチルアミン３０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．５２ｇ（０．４５ミリモル）を加え、９０℃で１２時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−８）で表される化合物１３．４ｇ（０．０３７モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−８）で表される化合物１３．４ｇ（０．０３７モル）、エタノール３００ｍＬ、１５％水酸化ナトリウム水溶液１９．５ｇ（０．０７３モル）を加えた。５時間加熱還流させた後、酢酸エチルで希釈し、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−９）で表される化合物１１．３ｇ（０．０３５モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−９）で表される化合物１１．３ｇ（０．０３５モル）、３−エチル−３−オキセタンメタノール４．４ｇ（０．０３８モル）、トリフェニルホスフィン１１．０ｇ（０．０４２モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル９．１ｇ（０．０４５モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９）で表される化合物１０．５ｇを得た。
ＬＲＭＳ：４２２
ＨＲＭＳ：４２２．２２
（実施例１０）式（Ｉ−１０）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．０９８モル）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム１．２ｇ（４．９ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン９．９ｇ（０．１２モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、飽和重曹水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−１０−２）で表される化合物２７．４ｇ（０．０９５モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器にプロピルトリフェニルホスホニウムブロミド４３．９ｇ（０．１１モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬを加えた。−２０℃でカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド１１．７ｇ（０．１０モル）を加えた。−２０℃で１時間撹拌した後、式（Ｉ−１０−２）で表される化合物２７．４ｇ（０．０９５モル）のテトラヒドロフラン溶液１００ｍＬを滴下した。室温で２時間撹拌した後、トルエンで希釈し食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−１０−３）で表される化合物２５．７ｇ（０．０８２モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−３）で表される化合物２５．７ｇ（０．０８２モル）、テトラヒドロフラン７０ｍＬ、メタノール７０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え、室温で１０時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１０−４）で表される化合物１８．１ｇ（０．０７８モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−４）で表される化合物１８．１ｇ（０．０７８モル）、ジクロロメタン２００ｍＬを加えた。氷冷しながら臭素１２．８ｇ（０．０８０モル）を滴下した。３時間撹拌した後、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行うことにより、式（Ｉ−１０−５）で表される化合物２９．１ｇ（０．０７４モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−５）で表される化合物２９．１ｇ（０．０７４モル）、テトラヒドロフラン３００ｍＬを加えた。カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド２０．９ｇ（０．１９モル）を加え、１０時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１０−６）で表される化合物１３．８ｇ（０．０６０モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−６）で表される化合物１３．８ｇ（０．０６０モル）、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸９．３ｇ（０．０６６モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．７４ｇ（６．０ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド９．９ｇ（０．０７９モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０）で表される化合物１２．６ｇを得た。

ＬＲＭＳ：３５０
ＨＲＭＳ：３５０．１５
実施例１から実施例１０と同様の方法、公知の方法及び公知の方法に準拠した方法を用いて、下記式（Ｉ−１１）から式（Ｉ−１０５）で表される化合物を製造した。

（実施例１１〜２０、比較例１〜３）
実施例１から実施例１０記載の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物及び、特許文献１記載の化合物（Ｒ−１）、特許文献２記載の化合物（Ｒ−２）並びに非特許文献１記載の化合物（Ｒ−３）を評価対象の化合物とした。

保存安定性を評価するために、評価対象の化合物の安定保存濃度を測定した。安定保存濃度は、母体液晶に評価対象となる化合物を１０％から５０％まで１０％刻みで添加した組成物を各々調製し、調製した組成物を１８．５℃で４週間放置した後に、結晶の析出が起こらない当該化合物の最大添加濃度と定義する。最大添加濃度が大きい化合物は安定保存濃度が大きく、長期間の保存によっても結晶の析出が発生しないことを意味する。

安定保存濃度を測定するために、下記化合物（Ｘ−１）：４０％、化合物（Ｘ−２）：３０％及び化合物（Ｘ−３）：３０％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。測定結果を表１に示す。

表１より、実施例１１から実施例２０の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも比較例１から比較例３の化合物（Ｒ−１）から化合物（Ｒ−３）と比較して、結晶の析出の起こらない最大添加濃度が同等若しくはそれ以上であり、高い保存安定性を示すことがわかる。
（実施例２１〜３０、比較例４〜６）
母体液晶（Ｘ）７０ｇに評価対象となる化合物を３０ｇ添加することにより調製した組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を３ｇ添加した後シクロペンタノンに溶解させ２５％の溶液とした。この溶液をガラス基板にスピンコート法で塗布し、６５℃で３分乾燥した。得られた塗膜を６０℃のホットプレート上に置き、紫外線を２０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で６０秒間照射した。得られた重合体について、偏光顕微鏡を用いてクロスニコル状態で観察したところ暗視野であった。また、波長５５０ｎｍの光を重合体面に対し９０度から減少させながらリタデーションを測定し、そのプロファイルによって、得られた重合体はホメオトロピック配向を有していることを確認した。リタデーションの測定にはシンテック社製ＯＰＴＩＰＲＯ偏光解析装置を使用した。得られた重合体について、目視及び偏光顕微鏡観察によって配向状態を評価した。配向に欠陥が無く均一であれば◎、欠陥がごくわずかであれば〇、欠陥がやや多ければ△、欠陥が非常に多ければ×とした。また、得られた重合体について、表面硬度（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４塗料一般試験方法）を測定した。評価結果を表２に示す。

表２より、実施例２１から実施例３０の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも比較例４から比較例６の化合物（Ｒ−１）から化合物（Ｒ−３）と比較して、配向に欠陥が生じにくく、高いホメオトロピック配向性を有することがわかる。また、実施例２１から実施例３０の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも表面硬度が十分高いことがわかる。

以上の結果から、実施例１から実施例１０記載の本願発明である式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物は、重合性組成物を構成した場合に保存安定性が高く、本願発明の化合物を用いた光学異方体はホメオトロピック配向性が高く、表面硬度の低下が起こりにくいことがわかる。従って、本願発明の化合物は、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は光学フィルム等の用途に有用である。

Claims (18)

1. 少なくとも１つのメソゲン基と、当該メソゲン基に直接若しくはスペーサー基及び／又は連結基を介して結合する少なくとも１つの反応性基と、当該メソゲン基に直接結合する少なくとも１つの反応性基を有さない末端基とを有し、当該反応性基を有さない末端基に１つの炭素−炭素三重結合を有する化合物。
2. 一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ｐは重合性基を表し、
   Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して、スペーサー基又は単結合を表すが、Ｓ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよく、
   Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−（Ｃ（Ｙ^１）_２）_ｎ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^１−（式中、Ｙ^１は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）又は単結合を表すが、Ｘ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよく、
   Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル又はフルオレン−２，７−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、これらの環構造における１つ以上の＝ＣＨ−基は＝Ｎ−に置換されても良く、若しくはこれらの基における１つ以上の連続しない−ＣＨ_２−基は各々独立して−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
   Ｚは単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−（Ｃ（Ｙ^２）_２）_ｎ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^２＝ＣＹ^２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し（式中、Ｙ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎ１は１から６の整数を表すが、Ｙ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、Ｒは水素原子、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基若しくは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＹ^３＝ＣＹ^３−（式中、Ｙ^３は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数１から２５の直鎖又は分岐アルキル基を表し、
   ｍは０から８の整数を表し、ｎは０から５の整数を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、−Ｎ（Ｙ^４）_２、−Ｓｉ（Ｙ^４）_３、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基（式中、Ｙ^４は各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、Ｙ^４が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）、ヒドロキシル基又はメルカプト基を表す。）で表される請求項１に記載の化合物。
3. 一般式（Ｉ）においてＸ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｚ、Ｒ、ｍ及びｎは請求項２で定義されたものと同一のものを表し、
   Ｐは下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
   

   

   から選ばれる基を表し、
   Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基又は単結合を表すが、Ｓ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい請求項２に記載の化合物。
4. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｌ、Ｚ、Ｒ、ｍ及びｎは請求項２から請求項３で定義されたものと同一のものを表し、
   Ａ^１及びＡ^２が各々独立して下記の式（ａ−１）から式（ａ−１１）
   

   

   から選ばれる基を表す請求項２又は請求項３に記載の化合物。
5. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｘ^１、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｚ、Ｒ、ｍ及びｎは請求項２又は請求項４で定義されたものと同一のものを表し、
   Ｘ^２及びＳ^２が単結合を表す請求項２〜請求項４のいずれか一項に記載の化合物。
6. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｚ、ｍ及びｎは請求項２から請求項５で定義されたものと同一のものを表し、
   Ｒが炭素原子数１から２０の直鎖アルキル基を表す請求項２〜請求項５のいずれか一項に記載の化合物。
7. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｚ、Ｒ、ｍ及びｎは請求項２から請求項６で定義されたものと同一のものを表し、
   Ｓ^１が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表す請求項２〜請求項６のいずれか一項に記載の化合物。
8. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｚ、Ｒ、ｍ及びｎは請求項２から請求項７で定義されたものと同一のものを表し、
   Ｘ^１が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表す請求項２〜請求項７のいずれか一項に記載の化合物。
9. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｒ、ｍ及びｎは請求項２から請求項８で定義されたものと同一のものを表し、Ｚが複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す請求項２〜請求項８のいずれか一項に記載の化合物。
10. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ、Ｒ、ｍ及びｎは請求項２から請求項９で定義されたものと同一のものを表し、
    Ｌがフッ素原子、塩素原子、シアノ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から５の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す請求項２〜請求項９のいずれか一項に記載の化合物。
11. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｚ、Ｒ及びｎは請求項２から請求項１０で定義されたものと同一のものを表し、
    ｍが０又は１を表す請求項２〜請求項１０のいずれか一項に記載の化合物。
12. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｌ、Ｚ、Ｒ及びｍは請求項２から請求項１１で定義されたものと同一のものを表し、
    ｎが１、２又は３を表す請求項２〜請求項１１のいずれか一項に記載の化合物。
13. 請求項１から請求項１２のいずれか一項に記載の化合物を含有する組成物。
14. 請求項１から請求項１２記載のいずれか一項に化合物を含有する液晶組成物。
15. 液晶組成物が更に一般式（ＩＩ）
    

    

    （式中、Ｐ^１及びＰ^２はそれぞれ重合性基を表し、Ｓ^３及びＳ^４は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＹ^４＝ＣＹ^４−（式中、Ｙ^４は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｚ^１は各々独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＹ^５＝ＣＹ^５−（式中、Ｙ^５は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ^３及びＡ^４は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^３及びＡ^４は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、ｍ１は０、１、２又は３を表し、ｍ１が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^３及び／又はＺ^１は同一であっても異なっていても良いが、一般式（Ｉ）で表される化合物を除く。）で表される化合物からなる群から選ばれる１種類以上を含む請求項１４記載の液晶組成物。
16. 請求項１３から請求項１５のいずれか一項に記載の組成物を重合することにより得られる重合体。
17. 請求項１６記載の重合体を用いた光学異方体。
18. 請求項１から請求項１２のいずれかに記載の化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、液晶材料、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品。