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JP2013016577A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

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忠 小柳
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Abstract

【課題】ダイシングテープからピックアップする際の半導体チップの破損や、半導体チップのピックアップミスの発生を抑制可能な半導体装置の製造方法を提供。
【解決手段】複数の第１の半導体チップが連結された半導体チップ形成用母基板を準備する工程と、第２のバンプ電極が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板の面に、絶縁樹脂層を介して、ダイシングテープを貼着する工程と、第１のバンプ電極が形成された側から、ダイシング領域に沿って、ダイシングテープに貼着された半導体チップ形成用母基板及び絶縁樹脂層を切断することで、第１の半導体チップを個片化する工程と、絶縁樹脂層と共に、個片化された第１の半導体チップを、ダイシングテープからピックアップする工程と、を含む。
【選択図】なし

Description

本発明は、半導体装置の製造方法に関する。
近年、半導体チップの集積度が年々向上し、それに伴ってチップサイズの大型化や、配線の微細化及び多層化等が進んでいる。一方、高密度実装化のためには、パッケージサイズの小型化及び薄型化が必要となっている。
このような要求に対して、ＭＣＰ(Ｍｕｌｔｉ Ｃｈｉｐ Ｐａｃｋａｇｅ)と呼ばれる１つの配線基板上に複数の半導体チップを高密度実装する技術が開発されている。その中でも、ＴＳＶ（Ｔｈｒｏｕｇｈ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｖｉａ）と呼ばれる貫通ビアを含む貫通電極を有する半導体チップを積層したチップ積層体を配線基板の表面に実装したＣｏＣ（Ｃｈｉｐ ｏｎ Ｃｈｉｐ）型の半導体パッケージ（半導体装置）が注目されている。
上記貫通電極は、半導体チップを貫通するように設けられている。また、貫通ビアは、半導体基板（具体的には、単結晶Ｓｉ基板）を貫通するように設けられており、上記貫通電極の一部となる導体である。
さらに、貫通電極の両端には、配線基板、或いは他の半導体チップと接続されるバンプ電極がそれぞれ設けられている。
上記貫通電極を有する半導体チップは、半導体基板を貫通する貫通ビアを形成する観点から、薄板化（例えば、５０μｍ以下）されているため、機械的強度に弱い構造とされている。
従来、半導体装置の組立において、ダイシングテープ上に粘着固定された状態のウェハは、個々の半導体チップ毎に分割される。この分割された半導体チップは、１個ずつダイシングテープから剥離させてピックアップする。ピックアップされた半導体チップは、例えば、配線基板上に実装される。
特許文献１には、吸着ステージによりダイシングテープを吸着した状態で、半導体チップの裏面を第１の突き上げ機構及び第２の突き上げ機構で突き上げて、半導体チップをダイシングテープから剥離させる半導体チップの剥離装置及び剥離方法が開示されている。
また、特許文献２には、貫通電極を有する半導体チップではないが、突起電極を埋め込むようにウェハの回路面に絶縁樹脂層を形成し、樹脂面をダイシングテープに貼り合わせて、ウェハの裏面から絶縁樹脂層と一緒にダイシングして、個片化した半導体チップを基板に搭載する技術が開示されている。
また、特許文献３，４には、上記特許文献２と類似した技術が開示されている。
特開２００３−１２４２９０号公報 特開２００９−２６０２２９号公報 特開２００９−２６０２３０号公報 特開２００９−２６０２２５号公報
しかしながら、特許文献１〜４では、貫通電極を有し、薄板化された半導体チップ（機械的強度の弱い半導体チップ）をダイシングテープから剥離させて、ピックアップすることは考慮されていない。
そのため、特許文献１に記載の半導体チップの剥離方法を用いて、貫通電極を有し、かつ薄板化された半導体チップをダイシングテープから剥離させると、ダイシングテープの接着層に埋め込まれた一方のバンプ電極がアンカーとして機能して、バンプ電極が該接着層に引っかかるため、半導体チップの破損（例えば、貫通電極を起点にしたチップクラック等）や、半導体チップのピックアップミスが発生する恐れがあった。
本発明の一観点によれば、第１の半導体チップが形成される複数のチップ形成領域、及び複数の前記チップ形成領域を区画するダイシング領域を有する半導体基板と、該半導体基板の第１の面のうち、複数の前記チップ形成領域に形成された第１の回路素子層と、前記第１の回路素子層の表面に形成された第１のバンプ電極と、前記第１の面の反対側に位置する前記半導体基板の第２の面に形成され、前記第１のバンプ電極と電気的に接続される第２のバンプ電極と、を有し、複数の前記第１の半導体チップが連結された半導体チップ形成用母基板を準備する工程と、前記第２のバンプ電極が設けられた側に位置する前記半導体チップ形成用母基板の面に、前記第２のバンプ電極を覆う絶縁樹脂層を介して、接着層を有したダイシングテープを貼着する工程と、前記第１のバンプ電極が形成された側から、前記ダイシング領域に沿って、前記ダイシングテープに貼着された前記半導体チップ形成用母基板及び前記絶縁樹脂層を切断することで、前記第１の半導体チップを個片化する工程と、前記絶縁樹脂層と共に、個片化された前記第１の半導体チップを、前記ダイシングテープからピックアップする工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
本発明の半導体装置の製造方法によれば、第２のバンプ電極が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板の面に、第２のバンプ電極を覆う絶縁樹脂層を介して、接着層を有したダイシングテープを貼着することにより、ダイシングテープを構成する接着層に第２のバンプ電極が埋め込まれることがなくなるため、個片化された第１の半導体チップをダイシングテープからピックアップする際、第１の半導体チップの破損や、第１の半導体チップのピックアップミスの発生を抑制できる。
また、絶縁樹脂層と共に、個片化された第１の半導体チップを、ダイシングテープからピックアップすることで、絶縁樹脂層が第１の半導体チップの支持板として機能するため、第１の半導体チップの反りを抑制可能となる。
これにより、第１の半導体チップが薄板化された半導体チップの場合でも、ピックアップする際に第１の半導体チップが破損することを抑制できる。
本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その２）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その３）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その４）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その５）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その６）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その７）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その８）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その９）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１０）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１１）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１２）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１３）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１４）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１５）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１６）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１７）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１８）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その１９）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その２０）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その２１）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その２２）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その２３）である。 本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図（その２４）である。
以下、図面を参照して本発明を適用した実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施の形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の半導体チップ形成用母基板及び半導体装置の寸法関係とは異なる場合がある。
（実施の形態）
図１〜図２４は、本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す断面図である。
図１〜図２４を参照して、本実施の形態の半導体装置の製造方法について説明する。
始めに、図１に示す工程では、図１には図示していない第１の半導体チップ２７（後述する図４参照）が形成される複数のチップ形成領域Ａ、及び複数のチップ形成領域Ａを区画するダイシング領域Ｂを有する半導体基板１１を準備する。半導体基板１１は、平坦な面である第１の面１１ａと、第１の面１１ａの反対側に位置し、かつ平坦な面である第２の面１１ｂと、を有する。
半導体基板１１としては、例えば、単結晶シリコンウェハを用いることができる。
次いで、半導体基板１１の第１の面１１ａのうち、複数のチップ形成領域Ａに第１の回路素子層１２を形成する。第１の回路素子層１２は、トランジスタ素子、積層された複数の層間絶縁層、及び該複数の層間絶縁層に形成された配線パターン（配線及びビア等）等を有した多層配線構造とされている。
図４に示す第１の半導体チップ２７としては、メモリ用半導体チップを用いることができる。該メモリ用半導体チップとしては、例えば、ＤＲＡＭ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）を用いることができる。第１の半導体チップ２７としてＤＲＡＭを用いる場合、第１の回路素子層１２には、図示していないＤＲＡＭ素子が形成される。
なお、本実施の形態では、第１の半導体チップ２７としてメモリ用半導体チップを用いた場合を例に挙げて、以下の説明を行う。
次いで、第１の回路素子層１２の表面１２ａに、第１のバンプ電極１５の形成領域を露出する開口部１４Ａを有した保護膜１４（パッシベーション膜）を形成する。
保護膜１４は、第１の回路素子層１２を保護するための膜であり、絶縁樹脂（例えば、ポリイミド樹脂）を用いて形成する。
次いで、開口部１４Ａにより露出された第１の回路素子層１２の表面１２ａに、メモリ用回路素子と電気的に接続される第１のバンプ電極１５を形成する。このとき、第１のバンプ電極１５は、保護膜１４の表面から突出する高さとなるように形成する。具体的には、第１のバンプ電極１５の高さは、例えば、２０μｍとすることができる。
第１のバンプ電極１５は、表面電極として機能する電極であり、その表面には、図示していないはんだ層が形成されている。第１のバンプ電極１５は、第１の回路素子層１２に設けられたトランジスタ素子（図示せず）と電気的に接続されている。第１のバンプ電極１５の材料としては、例えば、Ｃｕを用いることができる。
これにより、後述する図４に示す半導体チップ形成用母基板２０の構成要素の一部となる構造体１９が形成される。
次いで、図２に示す工程では、図１に示す構造体１９を上下反転させた後、保護膜１４が形成された側の構造体１９の面に、接着部材１６を介して、支持基板１７を接着する。接着部材１６の材料としては、特定の光源（例えば、レーザ光或いはＵＶ光（紫外線））に反応することで、発砲或いは接着力の低下するものを用いるとよい。
支持基板１７としては、例えば、光透過性の基板（例えば、ガラス基板）を用いることができる。
接着部材１６は、その厚さが第１のバンプ電極１５を完全に埋め込むことの可能な厚さとなるように形成する。具体的には、第１のバンプ電極１５の高さが２０μｍの場合、接着部材１６の厚さは、例えば、５０μｍとすることができる。
このように、接着部材１６の厚さを、第１のバンプ電極１５を完全に埋め込むことの可能な厚さにすることで、第１のバンプ電極１５を損傷させることなく、支持基板１６により、構造体１９を支持することができる。
次いで、図３に示す工程では、図２に示す半導体基板１１の第２の面１１ｂ側から、半導体基板１１を研削或いは研磨することで、半導体基板１１を薄板化する。このとき、例えば、構造体１９の厚さが５０μｍ以下となるように、半導体基板１１を薄板化する。
薄板化された構造体１９は、支持基板１７に支持されているため、薄板化された後の構造体１９の取り扱い（例えば、半導体製造装置間の搬送等）を容易に行なうことができる。
次いで、図４に示す工程では、第１の回路素子層１２及び半導体基板１１のうち、第１のバンプ１５と対向する部分を貫通する貫通孔２２を形成する。貫通孔２２は、第１のバンプ１５が形成された図示しない電極パッドを露出するように形成する。
次いで、貫通孔２２の側面、及び半導体基板１１の第２の面１１ｂを覆う絶縁層（図示せず）を形成する。次いで、半導体基板１１の第２の面１１ｂに形成された該絶縁層上に、貫通孔２２を露出する開口部を有しためっき用マスク（図示せず）を形成する。
次いで、貫通孔２２の内面、めっき用マスクの表面（開口部の側面も含む）、及び該開口部に露出された該絶縁層の上面を覆う図示していないシード層（例えば、Ｃｕ層）を形成し、該シード層を給電層とする電解めっき法により、貫通孔２２、及び開口部を埋め込む図示していないめっき膜（例えば、Ｃｕめっき膜）を形成する。
次いで、めっき用レジスト膜を除去し、その後、該めっき膜に覆われていないシード層を除去することで、貫通孔２２内に配置され、一端が第１のバンプ電極１５と接続された貫通電極２４と、貫通電極２４の他端と一体に構成され、絶縁層（図示していない）から突出する第２のバンプ２５と、が一括形成される。貫通電極２４及び第２のバンプ２５は、該絶縁層により、半導体基板１１に対して電気的に絶縁されている。
これにより、薄板化された半導体基板１１、第１の回路素子層１２、保護膜１４、第１のバンプ電極１５、図示していない絶縁層、貫通電極２４、及び第２のバンプ電極２５を有し、を有し、複数のチップ形成領域Ａに第１の半導体チップ２７が形成された半導体チップ形成用母基板２０が形成される。これにより、半導体チップ形成用母基板２０が準備される。また、この段階では、複数の第１の半導体チップ２７は、連結されており、個片化されていない。
次いで、図５に示す工程では、第２のバンプ電極２５が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板２０の面に、第２のバンプ電極２５を覆う絶縁樹脂層２９（接着性を有した絶縁樹脂層）を形成する。
具体的には、第２のバンプ電極２５が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板２０の面に、絶縁樹脂層２９としてＮＣＦ（Ｎｏｎ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ）を貼り付ける。
このように、第２のバンプ電極２５が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板２０の面に、絶縁樹脂層２９を形成することにより、保護膜１４に起因する半導体チップ形成用母基板２０の反りを低減することができる。
次いで、図６に示す工程では、ダイシングテープ本体３３及び接着層３４よりなるダイシングテープ３２を準備し、絶縁樹脂層２９の表面２９ａに、ダイシングテープ３２の接着層３４を介して、ダイシングテープ本体３３を貼り付ける。
このように、第２のバンプ電極２５を覆うように絶縁樹脂層２９を形成後、絶縁樹脂層２９の表面２９ａに、リング状の治具に張り渡されたダイシングテープ３２を貼着することで、第２のバンプ電極２５が接着層３４に埋め込まれることがなくなる。
これにより、半導体チップ形成用母基板２０を構成する複数の第１の半導体チップ２７を個片化（後述する図８に示す工程参照）後に、ダイシングテープ３２から第１の半導体チップ２７をピックアップする際（後述する図１０〜図１２に示す工程参照）に、第２のバンプ電極２５が接着層３４に引っかかることがなくなるため、不要な応力が薄板化された第１の半導体チップ２７に付与されることがない。
よって、ダイシングテープ３２から第１の半導体チップ２７をピックアップする際に、薄板化された第１の半導体チップ２７の破損（例えば、貫通電極２４を起点とするチップクラック）や第１の半導体チップ２７のピックアップミスが発生することを抑制できる。
また、ダイシングテープ３２から第１の半導体チップ２７をピックアップする際に、絶縁樹脂層２９と共に、個片化された第１の半導体チップ２７をピックアップすることで、絶縁樹脂層２９が第１の半導体チップ２７の支持板として機能するため、ピックアップされた第１の半導体チップ２７（薄板化された半導体チップ）に反りが発生することを抑制可能となる。これにより、第１の半導体チップ２７が破損することを抑制できる。
ダイシングテープ３２を構成する接着層３４としては、例えば、紫外線（ＵＶ）照射により粘着材の成分中に化学反応を起こし、粘着力が低下する特性を有するものを用いる。
なお、ダイシングテープ３２の接着層３４に絶縁樹脂層２９を貼り付けた後、絶縁樹脂層２９を介して、第２のバンプ電極２５が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板２０の面に、絶縁樹脂層２９を介して、ダイシングテープ３２を貼り付けてもよい。
このように、ダイシングテープ３２を貼着することで、第２のバンプ電極２５が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板２０の面に、スピンナ法を用いて絶縁樹脂層２９を形成する場合と比較して、半導体チップ形成用母基板２０に付与されるストレスを低減できる。
次いで、図７に示す工程では、図６に示す構造体を上下反転させた後、支持基板１７を介して、特定の光源から照射された光（例えば、レーザ光或いはＵＶ光（紫外線））を接着部材１６に照射することで、接着部材１６を発泡或いは接着力を低下させることで、接着部材１６及び支持基板１７を除去する。
これにより、半導体チップ形成用母基板２０を構成する保護膜１４及び第１のバンプ電極１５が露出される。
次いで、図８に示す工程では、図示していないダイシング装置のステージ上に、図７に示す構造体を保持し、次いで、ダイシングブレード（図示せず）により、第１のバンプ電極１５が形成された側から、ダイシング装置が認識したダイシング領域Ｂに沿って、ダイシングテープ３２に貼着された半導体チップ形成用母基板２０及び絶縁樹脂層２９を切断することで、複数の第１の半導体チップ２７を個片化する。このとき、ダイシング領域Ｂに対応するダイシングテープ３２の一部を切断する。
これにより、図８に示すように、第１の半導体チップ２７を構成する半導体基板１１（個片化された半導体基板１１）の第２の面１１ｂ側に、第１の半導体チップ２７の外形に対応した絶縁樹脂層２９が形成される。
このように、絶縁樹脂よりなる保護膜１４に起因する半導体チップ形成用母基板２０の反りを低減する絶縁樹脂層２９を形成した状態で、ダイシングテープ３２に貼着された半導体チップ形成用母基板２０及び絶縁樹脂層２９を切断することにより、複数の第１の半導体チップ２７を精度よく個片化することができる。
また、第１の回路素子層１４が形成された側から半導体チップ形成用母基板２０を切断することにより、赤外線カメラ等の特殊な認識手段を使用することなく、ダイシング領域Ｂを精度よく認識することができる。
次いで、紫外線（ＵＶ）照射機構（図示せず）により、図８に示す構造体の下面側から、ダイシングテープ本体３３を介して、接着層３４にＵＶ光を照射することで、接着層３４の粘着力を低下させる。
これにより、ダイシングテープ３２の接着層３４から絶縁樹脂層２９を容易に剥がすことが可能となる。
次いで、図９に示す工程では、ダイシング装置３６を準備する。ここで、図９を参照して、ピックアップ装置３６の概略構成について説明する。
ピックアップ装置３６は、吸着ステージ３７と、吸着コレット３８と、を有する。吸着ステージ３７は、ステージ本体４１と、第１の吸着部４２と、チップ突き上げ機構４４と、第２の吸着部４５と、を有する。
ステージ本体４１は、図８に示す構造体に設けられたダイシングテープ３２（具体的には、ダイシングテープ本体３３）が載置される平坦な吸着面４１ａと、チップ突き上げ機構４４を収容する収容部４１Ａと、を有する。
第１の吸着部４２は、ステージ本体４１に複数形成された貫通孔であり、吸着面４１ａから露出されている。第１の吸着部４２は、図示していない真空ポンプと接続されており、ステージ本体４１の吸着面４１ａに載置される図８に示す構造体を吸着する。
チップ突き上げ機構４４は、第１の突き上げ部材４７と、第２の突き上げ部材４８と、第３の吸着部４９と、を有する。
第１の突き上げ部材４７は、収容部４１Ａの中央に配置されている。第１の突き上げ部材４７は、矩形とされ、かつ平坦な面とされた第１の突き上げ面４７ａを有する。第１の突き上げ面４７ａは、第１の半導体チップ２７の中央部を突き上げ可能な形状とされている。
第１の突き上げ部材４７は、図示していない駆動手段により、上下方向に移動可能な構成とされている。図９に示す状態（具体的には、ステージ本体４１の吸着面４１ａに対して第１の突き上げ面４７ａが略面一とされた状態）から第１の突き上げ部材４７を上方に移動させることで、第１の突き上げ面４７ａは、ダイシングテープ３２及び絶縁樹脂層２９を介して、第１の半導体チップ２７の中央部を突き上げる。
第２の突き上げ部材４８は、枠形状とされており、第１の突き上げ部材４７の配設位置よりも外側に位置する収容部４１Ａに配置されている。第２の突き上げ部材４８は、枠形状とされ、かつ平坦な面とされた第２の突き上げ面４８ａを有する。第２の突き上げ面４８ａは、第１の半導体チップ２７の外周部を突き上げ可能な形状とされている。
第２の突き上げ部材４８は、図示していない駆動手段により、上下方向に移動可能な構成とされている。図９に示す状態（具体的には、ステージ本体４１の吸着面４１ａに対して第２の突き上げ面４８ａが略面一とされた状態）から第２の突き上げ部材４８を上方に移動させることで、第２の突き上げ面４８ａは、ダイシングテープ３２及び絶縁樹脂層２９を介して、第１の半導体チップ２７の外周部を突き上げる。
また、第２の突き上げ部材４８の外形は、ピックアップする第１の半導体チップ２７の外形のサイズよりも少し小さくなるように構成されている。
これにより、後述する図１０に示す工程において、第２の突き上げ部材４８を突き上げた際に、第１の半導体チップ２７に設けられた絶縁樹脂層２９のうち、第２の突き上げ部材４８よりも外側に位置する部分を、ダイシングテープ３２から剥離させることができる。
第３の吸着部４９は、第１の突き上げ部材４７と第２の突き上げ部材４８との間に形成された溝状の吸着部であり、図示していない真空ポンプと接続されている。これにより、第３の吸着部４９は、第１の半導体チップ２７の中央部と対向する位置に配置されたダイシングテープ３２を吸着する。
第２の吸着部４５は、第１の突き上げ部材４７と第２の突き上げ部材４８との間に形成された溝状の吸着部であり、図示していない真空ポンプと接続されている。これにより、第２の吸着部４５は、第１の半導体チップ２７の外周部と対向する位置に配置されたダイシングテープ３２を吸着する。
吸着コレット３８は、吸着ステージ３７の上方に配置されている。吸着コレット３８は、図示していない駆動手段と接続されており、上下方向、及び上下方向と直交する平面方向に移動可能な構成とされている。
吸着コレット３８は、保護膜１４が形成された側の第１の半導体基板２７の面と対向する平坦な吸着面３８ａと、吸着面３８ａから露出された吸着部３８Ａを有する。
吸着部３８Ａは、図示していない真空ポンプと接続されている。これにより、吸着部３８Ａは、保護膜１４が形成された側の第１の半導体基板２７の面を吸着する。
次いで、ダイシング装置３６の吸着ステージ３７の上面（具体的には、同一平面上に配置された吸着面４１ａ、第１の突き上げ面４７ａ、及び第２の突き上げ面４８ａ）に、第１のバンプ１５が形成された側が上面側となるように（言い換えれば、図８に示す構造体に設けられたダイシングテープ３２が吸着ステージ３７の上面と接触するように）、図８に示す構造体を載置する。
このとき、チップ突き上げ機構４４の上方に、ピックアップしたい第１の半導体チップ２７が配置されるように、図８に示す構造体を載置する。
次いで、第１乃至第３の吸着部４２，４５，４９により、図８に示す構造体に設けられたダイシングテープ３２を吸着することで、吸着ステージ３７の上面に図８に示す構造体を保持する。
次いで、チップ突き上げ機構４４の上方に配置された第１の半導体チップ２７と対向するように、該第１の半導体チップ２７の上方に吸着コレット３８を移動させる。
次いで、図１０に示す工程では、図９に示した吸着ステージ３７の状態から第１及び第２の突き上げ部材４７，４８を同じ突き上げ量で突き上げることで、第１及び第２の突き上げ面４７ａ，４８ａを上方に移動させる。
これにより、第１の半導体チップ２７のうち、チップ突き上げ機構４４と対向する部分が、ダイシングテープ３２及び絶縁樹脂層２９を介して突き上げられ、第１の半導体チップ２７に設けられた絶縁樹脂層２９のうち、第２の突き上げ部材４８よりも外側に位置する部分がダイシングテープ３２から剥離される。
このとき、薄板化された第１の半導体チップ２７は、第１の半導体チップ２７の一方の面（第２のバンプ電極２５が形成された第１の半導体チップ２７の裏面）を覆う絶縁樹脂層２９と共に、突き上げられるため、第１及び第２の突き上げ部材４７，４８の突き上げにより、第１の半導体チップ２７が破損することを抑制できる。
次いで、図１１に示す工程では、図１０に示した吸着ステージ３７の状態から第１の突き上げ部材４７をさらに突き上げることで、第１の突き上げ面４７ａを上方に移動させる。
これにより、第１の半導体チップ２７のうち、第１の突き上げ面４７ａと対向する部分が、ダイシングテープ３２及び絶縁樹脂層２９を介して、突き上げられ、第１の半導体チップ２７に設けられた絶縁樹脂層２９のうち、第１の突き上げ部材４８よりも外側に位置する部分がダイシングテープ３２から剥離される。
このとき、ダイシングテープ３２は、図１０に示す初期剥離箇所から第１の半導体チップ２７の中央部に向かう方向に剥離され、絶縁樹脂層２９とダイシングテープ３２との接触面積は小さくなる。この段階で、吸着コレット３８により、保護膜１４が形成された側の第１の半導体基板２７の面（表面）を吸着する。
次いで、図１２に示す工程では、図１１に示した吸着ステージ３７の状態から、第１及び第２の突き上げ面４７ａ，４８ａがステージ本体４１の吸着面４１ａに対して略面一となるように、第１及び第２の突き上げ面４７ａ，４８ａを下方に移動させる。
これにより、第１の半導体チップ２７の中央部に形成された絶縁樹脂層２９からダイシングテープ３２が剥離し、絶縁樹脂層２９と共に、第１の半導体チップ２７（言い換えれば、絶縁樹脂層２９が形成された第１の半導体チップ２７）がピックアップされる。
先に説明したように、第２のバンプ電極２５を埋め込む絶縁樹脂層２９が形成された第１の半導体チップ２７を、絶縁樹脂層２９と共に、ピックアップすることで、第２のバンプ電極２５がダイシングテープ３２の接着層３４に埋め込まれることがなくなる。
これにより、個片化された第１の半導体チップ２７をダイシングテープ３２からピックアップする際に、第１の半導体チップ２７が破損（例えば、貫通電極２４を起点とするチップクラック等）したり、第１の半導体チップ２７のピックアップミスが発生したりすることを抑制できる。
また、第１の半導体チップ２７をピックアップする際、絶縁樹脂層２９が第１の半導体チップ２７の支持板として機能するため、ピックアップされた第１の半導体チップ２７の反りを低減することが可能となるので、第１の半導体チップ２７の破損を抑制できる。
次いで、図１３に示す工程では、図９〜図１２に示す工程を順次行うことで、絶縁樹脂層２９が形成された第１の半導体チップ２７を複数形成する。
次いで、図１４に示す工程では、ボンディング装置５５に設けられたステージ５６の基板載置面６１ａに、予め準備しておいた第２の半導体チップ５８を吸着させる。このとき、半導体基板１１の第２の面１１ｂが基板載置面６１ａと接触するように、第２の半導体チップ５８を吸着する。
ここで、図１４を参照して、ボンディング装置５５のステージ５６の構成について説明する。ステージ５６は、ステージ本体６１と、第１の吸着孔６２と、第１の加熱機構６３と、を有する。
ステージ本体６１は、第２の半導体チップ５８が載置される平坦な基板載置面６１ａを有する。第１の吸着孔６２は、ステージ本体６１に複数設けられており、基板載置面６１ａから露出されている。第１の吸着孔６２は、図示していない真空ポンプと接続されており、基板載置面６１ａに載置された第２の半導体チップ５８を吸着する。
第１の加熱機能６３は、ステージ本体６１に内設されている。第１の加熱機能６３は、ステージ本体６１に吸着された第２の半導体チップ５８を所定の温度に加熱する。第１の加熱機能６３としては、例えば、カートリッジヒーターを用いることができる。
次に、図１４を参照して、第２の半導体チップ５８の構成について説明する。
第２の半導体チップ５８は、図１３に示す第１の半導体チップ２７に設けられた第１の回路素子層１２の替わりに第２の回路素子層６５を設けると共に、第１の半導体チップ２７に設けられた第１のバンプ電極１５の替わりに第３のバンプ電極６６を設け、さらに、第１の半導体チップ２７に設けられた貫通電極２４及び第２のバンプ電極２５を構成要素から除いた以外は、第１の半導体チップ２７と同様に構成される。
第２の回路素子層６５は、半導体基板１１の第１の面１１ａに形成されている。第２の回路素子層６５は、トランジスタ素子、積層された複数の層間絶縁層、及び該複数の層間絶縁層に形成された配線パターン（配線及びビア等）を有した多層配線構造とされている。
第３のバンプ電極６６は、保護膜１４の開口部１４Ａから露出された第２の回路素子層６５の表面６５ａに形成されている。第３のバンプ電極６６は、第２の回路素子層６５に設けられたトランジスタ素子（図示せず）と電気的に接続されている。
上記構成とされた第２の半導体チップ５８は、半導体基板１１の第２の面１１ｂ（基板載置面６１ａと接触する面）にバンプ電極が設けられておらず、基板載置面６１ａと接触する第２の半導体チップ５８の面が平坦な面とされているため、ステージ５６の基板載置面６１ａに第２の半導体チップ５８をしっかりと吸着させることができる。
第２の半導体チップ５８としては、メモリ用半導体チップを用いることができる。該メモリ用半導体チップとしては、例えば、ＤＲＡＭ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）を用いることができる。第２の半導体チップ５８としてＤＲＡＭを用いる場合、第２の回路素子層６５には、図示していないＤＲＡＭ素子が形成される。
なお、本実施の形態では、第２の半導体チップ５８としてメモリ用半導体チップを用いた場合を例に挙げて、以下の説明を行う。
次いで、図１５に示す工程を説明する前に、図１５を参照して、図５に示すボンディング装置５５のボンディングツール７１（ボンディング装置５５の構成要素の１つ）の構成について説明する。
ボンディングツール７１は、ツール本体７２と、第２の吸着孔７３と、第２の加熱機構７５と、を有する。ツール本体７２は、吸着した半導体チップを押圧する押圧面７２ａを有する。
第２の吸着孔７３は、ツール本体７２に複数設けられており、押圧面７２ａから露出されている。第２の吸着孔７３は、図示していない真空ポンプと接続されている。これにより、第２の吸着孔７３は、押圧面７２ａと対向する半導体チップを吸着する。
第２の加熱機構７５は、ボンディングツール７１に吸着された半導体チップを所定の温度（例えば、８０〜１００℃）に加熱する。第２の加熱機構７５としては、例えば、カートリッジヒーターを用いることができる。
次いで、図１５に示す工程では、ボンディングツール７１により、押圧面７２ａが図１３に示す第１の半導体チップ２７（以下の説明では、この「第１の半導体チップ２７」を、説明の便宜上、「第１の半導体チップ２７−１」という）に設けられた第１のバンプ電極１５と接触するように第１の半導体チップ２７−１を吸着し、第２の加熱機構７５により、第１の半導体チップ２７−１が所定の温度（例えば、２００℃程度）となるように加熱する。
次いで、ステージ５６に吸着された第２の半導体チップ５８の第３のバンプ電極６６と第１の半導体チップ２７−１の第２のバンプ電極２５とが対向するように、第１の半導体チップ２７−１を吸着したボンディングツール７１を第２の半導体チップ５８上に移動させる。
次いで、ボンディングツール７１を下方（ステージ５６側）に移動させて、第１の半導体チップ２７−１に設けられた絶縁樹脂層２９と第２の半導体チップ５８の第２のバンプ電極２５とを接触させる。
その後、押圧面７２ａにより、第１の半導体チップ２７−１を押圧することで、第２のバンプ電極２５と第３のバンプ電極６６とが熱圧着（この段階では、仮圧着）され、第２の半導体チップ５８に対して第１の半導体チップ２７−１がフリップチップ接続されると共に、加熱により溶融した絶縁樹脂層２９が第１の半導体チップ２７−１と第２の半導体チップ５８との隙間に広がることで、第１の半導体チップ２７−１と第２の半導体チップ５８との隙間が絶縁樹脂層２９により封止される。
このように、絶縁樹脂層２９が設けられた第１の半導体チップ２７−１を、絶縁樹脂層２９を介して、第２の半導体チップ５８に押圧して、第２のバンプ電極２５と第３のバンプ電極６６とを熱圧着することで、絶縁樹脂層２９が薄板化された第１の半導体チップ２７−１の反りを抑制する支持板として機能するため、押圧した際に、第１の半導体チップ２７−１の破損を抑制できると共に、第３のバンプ電極６６に対して位置精度よく第２のバンプ電極２５を接続することができる。
また、絶縁樹脂層２９が設けられた第１の半導体チップ２７−１を、絶縁樹脂層２９を介して、第２の半導体チップ５８に押圧して、第２のバンプ電極２５と第３のバンプ電極６６とを熱圧着することで、溶融された絶縁樹脂層２９が第１の半導体チップ２７−１と第２の半導体チップ５８との隙間を封止するアンダーフィル樹脂として機能するため、別途、第１の半導体チップ２７−１と第２の半導体チップ５８との隙間を封止するアンダーフィル樹脂を形成する工程を設ける必要がないため、半導体装置１１０（図２４参照）の製造工程を簡略化することができる。
次いで、図１６に示す工程では、ボンディングツール７１により、図１３に示す絶縁樹脂層２９が設けられた第１の半導体チップ２７（この「第１の半導体チップ２７」を、説明の便宜上、「第１の半導体チップ２７−２」という）を吸着させた後、図１５に示す工程と同様な処理を行なうことで、熱圧着により、第１の半導体チップ２７−１の第１のバンプ電極１５と第１の半導体チップ２７−２の第２のバンプ電極２５とを仮圧着すると共に、第１の半導体チップ２７−２に設けられた絶縁樹脂層２９により、第１の半導体チップ２７−１と第１の半導体チップ２７−２との隙間を封止する。
これにより、第２の半導体チップ５８上に、第１の半導体チップ２７−１，２７−２が積層される。
次いで、ボンディングツール７１により、図１３に示す絶縁樹脂層２９が設けられた第１の半導体チップ２７（この「第１の半導体チップ２７」を、説明の便宜上、「第１の半導体チップ２７−３」という）を吸着させた後、図１５に示す工程と同様な処理を行なうことで、熱圧着により、第１の半導体チップ２７−２の第１のバンプ電極１５と第１の半導体チップ２７−３の第２のバンプ電極２５とを仮圧着すると共に、第１の半導体チップ２７−３に設けられた絶縁樹脂層２９により、第１の半導体チップ２７−２と第１の半導体チップ２７−３との隙間を封止する。
これにより、第２の半導体チップ５８上に、第１の半導体チップ２７−１，２７−２，２７−３が積層される。
ここで、図１６を参照して、第１の半導体チップ２７−３上に、積層される第１の半導体チップ７８の構成及び製造方法について説明する。
第１の半導体チップ７８は、インターフェイス（Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）用半導体チップである。第１の半導体チップ７８は、第２の半導体チップ２７−１に設けられた第１の回路素子層１２、第１のバンプ電極１５、及び第２のバンプ電極２５の替わりに、第１の回路素子層８１、第１のバンプ電極８２、及び第２のバンプ電極８４を設けた以外は、第２の半導体チップ２７−１と同様に構成される。
第１の回路素子層８１は、半導体基板１１の表面１１ａに形成されている。第１の回路素子層８１には、インターフェイス回路素子（図示せず）が形成されている。
第１のバンプ電極８２は、保護膜１４に形成された開口部１４Ａから露出された第１の回路素子層８１の表面８１ａに設けられている。
第２のバンプ電極８４は、図示していない絶縁層を介して、半導体基板１１の第２の面１１ｂに設けられている。第２のバンプ電極８４は、貫通電極２４或いは図示していない配線パターンを介して、第１のバンプ電極８２と電気的に接続されている。
また、第１及び第２のバンプ電極８２，８４は、第１の回路素子層８１に形成されたインターフェイス回路素子（図示せず）と電気的に接続されている。
上記構成とされた第１の半導体チップ７８は、先に説明した図１〜図１３に示す工程と同様な処理を行なうことで形成される。そのため、図１３に示す第１の半導体チップ２７と同様に、第１の半導体チップ７８の第２のバンプ電極８４が形成された面（裏面）は、絶縁性樹脂２９で覆われている。また、第１の半導体チップ７８に設けられた絶縁性樹脂２９は、第２のバンプ電極８４を覆うように形成されている。
次いで、ボンディングツール７１により、絶縁樹脂層２９が設けられた第１の半導体チップ７８を吸着させた後、図１５に示す工程と同様な処理を行なうことで、熱圧着により、第１の半導体チップ２７−３の第１のバンプ電極１５と第１の半導体チップ７８の第２のバンプ電極８４とを仮圧着すると共に、第１の半導体チップ７８に設けられた絶縁樹脂層２９により、第１の半導体チップ２７−３と第１の半導体チップ７８との隙間を封止する。
次いで、積層された第１の半導体チップ２７−１，２７−２，２７−３，７８及び第２の半導体チップ５８を３００℃程度に加熱した状態で、ボンディングツール７１により、第１の半導体チップ７８を押圧して荷重を印加することで、仮圧着された第１の半導体チップ２７−１，２７−２，２７−３，７８及び第２の半導体チップ５８間を本圧着する。
これにより、第２の半導体チップ５８と、第１の半導体チップ２７−１と、第１の半導体チップ２７−２と、第１の半導体チップ２７−３と、第１の半導体チップ７８とが順次積層されたチップ積層体８６が形成される。
なお、図１６において、第１の半導体チップ７８は、最上層に配置された最上層チップである。
次いで、図１７に示す工程では、複数の配線基板９０が連結された配線母基板９１を準備する。ここで、図１７を参照して、配線母基板９１の構成について説明する。
配線母基板９１は、複数の配線基板９０が連結された構成とされており、基板本体９３と、接続パッド９４と、配線パターン９５と、外部接続用パッド９６と、貫通電極９７と、第１のソルダーレジスト９９と、第２のソルダーレジスト１０１と、を有する。
基板本体９３は、ダイシングラインＤにより区画され、配線基板９０が形成される配線基板形成領域Ｃを複数有する。基板本体９３としては、例えば、ガラスエポキシ基板を用いることができる。
接続パッド９４は、基板本体９３の表面９３ａのうち、配線基板形成領域Ｃの中央部に設けられている。接続パッド９４は、図１６に示すチップ積層体８６を構成する第１の半導体チップ７８に設けられた第１のバンプ電極８２と接続される電極である。
配線パターン９５は、接続パッド９４と一体に構成されており、配線基板形成領域Ｃに対応する基板本体９３の表面９３ａに設けられている。配線パターン９５は、再配線用のパターンである。
外部接続用パッド９６は、配線基板形成領域Ｃに対応する基板本体９３の裏面９３ｂに設けられている。
貫通電極９７は、配線基板形成領域Ｃに対応する基板本体９３を貫通するように設けられている。貫通電極９７の上端は、配線パターン９５と接続されており、貫通電極９７の下端は、外部接続用パッド９６と接続されている。これにより、貫通電極９７は、外部接続用パッド９６と接続パッド９４とを電気的に接続している。
第１のソルダーレジスト９９は、接続パッド９４を露出するように、配線基板形成領域Ｃ及びダイシングラインＤに対応する基板本体９３の表面９３ａに設けられている。第１のソルダーレジスト９９は、配線パターン９５の一部を覆うように設けられている。第１のソルダーレジスト９９は、配線パターン９５を保護する機能を有する。
第２のソルダーレジスト１０１は、外部接続用パッド９６を露出するように、配線基板形成領域Ｃ及びダイシングラインＤに対応する基板本体９３の裏面９３ｂに設けられている。
配線基板９０は、接続パッド９４と、配線パターン９５と、外部接続用パッド９６と、貫通電極９７と、配線基板形成領域Ｃに対応する基板本体９３、第１のソルダーレジスト９９、及び第２のソルダーレジスト１０１と、を有した構成とされている。
次いで、図１８に示す工程では、接続パッド９４上に、ワイヤバンプ１０３を形成する。具体的には、ワイヤバンプ１０３は、例えば、ＡｕやＣｕ等よりなるワイヤの先端に溶融したボールが形成されたものを、ワイヤボンディング装置（図示せず）を用いて、超音波により接続パッド９４の上面に圧着後、ワイヤの後端を引き切ることで形成する。
次いで、図１９に示す工程では、各配線基板形成領域Ｃの中央部に、ワイヤバンプ１０３を覆うように、液状とされたアンダーフィル樹脂１０５を配置する。
具体的には、液状とされたアンダーフィル樹脂１０５は、ディスペンサー（図示せず）から液状とされたＮＣＰ（Ｎｏｎ ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｐａｓｔｅ）を供給することで形成する。
次いで、図２０に示す工程では、ボンディングツール（図示せず）を用いて、図１６に示すボンディング装置５５から取り出したチップ積層体８６をピックアップして、チップ積層体８６を構成する第１の半導体チップ７８の第１のバンプ電極８２と、配線基板９０の接続パッド９４と、を対向配置させる。
次いで、ボンディングツール（図示せず）により、チップ積層体８６を高温（例えば、３００℃程度）で加熱した状態で、加熱された配線基板９０（配線母基板９１）に押し当てることで、ワイヤバンプ１０３を介して、第１のバンプ電極８２と接続パッド９４とを熱圧着すると共に、チップ積層体８６と配線基板９０との間に形成される隙間をアンダーフィル樹脂１０５で封止する。
これにより、チップ積層体８６は、配線基板９０に対してフリップチップ接続され、チップ積層体８６と配線基板９０とが電気的に接続される。
なお、図２０に示す工程では、配線母基板９１を構成する全ての配線基板９０に対して、チップ積層体８６を実装する。
次いで、図２１に示す工程では、配線母基板９１上に実装された複数のチップ積層体８６を一括して封止し、かつ上面１０７ａが平坦な面とされたモールド樹脂１０７を形成する。モールド樹脂１０７は、例えば、トランスファーモールド法により形成する。
具体的には、上部金型と下部金型との間に形成された空間内に、図２０に示す構造体を収容し、その後、該空間内に加熱溶融されたモールド樹脂１０７を注入する。次いで、溶融したモールド樹脂１０７を所定の温度（例えば、１８０℃程度）で加熱（キュア）し、その後、所定の温度でベークすることで、モールド樹脂１０７を完全に硬化させる。
これにより、複数のチップ積層体８６を一括封止するモールド樹脂１０７が形成される。モールド樹脂１０７としては、例えば、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。
次いで、図２２に示す工程では、図２１に示す構造体の上下を反転させ、その後、配線基板９０に形成された複数の外部接続用パッド９６に外部接続端子１０９を形成する。
これにより、配線基板９０、チップ積層体８６、アンダーフィル樹脂１０５、モールド樹脂１０７、及び外部接続端子１０９を有し、かつ連結された複数の半導体装置１１０が形成される。外部接続端子１０９としては、例えば、はんだボールを用いることができる。
この場合、図示していない複数の吸着孔を有するボールマウンターのマウントツールにより、複数のはんだボールを吸着保持しながら、複数のはんだボールにフラックスを転写形成する。次いで、配線基板９０に形成された複数の外部接続用パッド９６に、はんだボールを載置し、その後、はんだボールが形成された配線母基板９１を熱処理（リフロー処理）する。これにより、複数の配線基板９０に設けられた外部接続用パッド９６にはんだボールが固定される。
次いで、図２３に示す工程では、モールド樹脂１０７の上面１０７ａにダイシングテープ１１２を貼着する。次いで、ダイシングブレード１１３により、ダイシングラインＤに沿って、図２２に示す配線母基板９１及びモールド樹脂１０７を切断することで、複数の半導体装置１１０が個片化される。このとき、配線基板９０も個片化される。
次いで、図２４に示す工程では、図２３に示す構造体を上下反転させた後、ダイシングテープ１１２を剥離することで、ＣｏＣ型（Ｃｈｉｐ ｏｎ Ｃｈｉｐ）の半導体装置１１０が複数製造される。
本実施の形態の半導体装置の製造方法によれば、第２のバンプ電極２５が設けられた側に位置する半導体チップ形成用母基板９１の面に、絶縁樹脂層２９を介して、ダイシングテープ３２を貼着することにより、ダイシングテープ３２を構成する接着層３４に第２のバンプ電極２５が埋め込まれることがなくなるため、個片化された第１の半導体チップ２７をダイシングテープ３２からピックアップする際の第１の半導体チップ２７の破損（具体的には、貫通電極９７を起点とするチップクラック等の破損）や第１の半導体チップ２７のピックアップミスの発生を抑制できる。
また、絶縁樹脂層２９と共に、個片化された第１の半導体チップ２７を、ダイシングテープ３２からピックアップすることで、絶縁樹脂層２９が第１の半導体チップ２７の支持板として機能するため、第１の半導体チップ２７が薄板化された半導体チップの場合でも、ピックアップ時に第１の半導体チップ２７に反りが発生することを抑制できる。
なお、第１の半導体チップ２７と同様な手法により形成され、第２のバンプ電極８４が形成された面が絶縁樹脂層２９に覆われた第１の半導体チップ７８を、ダイシングテープからピックアップする場合、第１の半導体チップ２７と同様な効果を得ることができる。
また、絶縁樹脂層２９が設けられた第１の半導体チップ２７−１を、絶縁樹脂層２９を介して、第２の半導体チップ５８に押圧して、第２のバンプ電極２５と第３のバンプ電極６６とを熱圧着することで、絶縁樹脂層２９が薄板化された第１の半導体チップ２７−１の反りを抑制する支持板として機能するため、押圧した際に、第１の半導体チップ２７−１の破損を抑制できると共に、第３のバンプ電極６６に対して位置精度よく第２のバンプ電極２５を接続することができる。
なお、上記効果は、絶縁樹脂層２９に覆われた第１の半導体チップ７８の第２のバンプ電極８４を、第１の半導体チップ２７−３の第１のバンプ電極１５に熱圧着させる際にも得ることができる。
また、絶縁樹脂層２９が設けられた第１の半導体チップ２７−１を、絶縁樹脂層２９を介して、第２の半導体チップ５８に押圧して、第２のバンプ電極２５と第３のバンプ電極６６とを熱圧着することで、溶融された絶縁樹脂層２９が第１の半導体チップ２７−１と第２の半導体チップ５８との隙間を封止するアンダーフィル樹脂として機能するため、別途、第１の半導体チップ２７−１と第２の半導体チップ５８との隙間を封止するアンダーフィル樹脂を形成する工程を設ける必要がないため、半導体装置１１０（図２５参照）の製造工程を簡略化することができる。
なお、上記効果は、絶縁樹脂層２９に覆われた第１の半導体チップ７８の第２のバンプ電極８４を、第１の半導体チップ２７−３の第１のバンプ電極１５に熱圧着させる際にも得ることができる。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
例えば、本実施の形態では、第１の半導体チップ２７−１，２７−２，２７−３，２７−４，７８の裏面側（第２のバンプ電極２５，８４が形成された側）を覆うように絶縁樹脂層２９を設け、絶縁樹脂層２９を介して、他の半導体チップに実装する場合を例に挙げて説明したが、裏面に絶縁樹脂層２９が形成された第１の半導体チップ２７−１，２７−２，２７−３，２７−４，７８を、絶縁樹脂層２９を介して、配線基板９０に実装してもよい。
本発明は、半導体装置の製造方法に適用可能である。
１１…半導体基板、１１ａ…第１の面、１１ｂ…第２の面、１２，８１…第１の回路素子層、１２ａ，２９ａ，６５a，８１ａ，９３ａ…表面、１４…保護膜、１４Ａ…開口部、１５，８２…第１のバンプ電極、１６…接着部材、１７…支持基板、１９…構造体、２０…半導体チップ形成用母基板、２２…貫通孔、２４，９７…貫通電極、２５，８４…第２のバンプ電極、２７，２７−１，２７−２，２７−３，２７−４…第１の半導体チップ、２９…絶縁樹脂層、３２…ダイシングテープ、３３…ダイシングテープ本体、３４…接着層、３６…ピックアップ装置、３７…吸着ステージ、３８…吸着コレット、３８ａ…吸着面、３８Ａ…吸着部４１…ステージ本体、４１ａ…吸着面、４１Ａ…収容部、４２…第１の吸着部、４４…チップ突き上げ機構、４５…第２の吸着部、４７…第１の突き上げ部材、４７ａ…第１の突き上げ面、４８…第２の突き上げ部材、４８ａ第２の突き上げ面、４９…第３の吸着部、５５…ボンディング装置、５６…ステージ、５８…第２の半導体チップ、６１…ステージ本体、６１ａ…基板載置面、６２…第１の吸着孔、６３…第１の加熱機構、６５…第２の回路素子層、６６…第３のバンプ電極、７１…ボンディングツール、７２…ツール本体、７２ａ…押圧面、７３…第２の吸着孔、７５…第２の加熱機構、８６…チップ積層体、９０…配線基板、９１…配線母基板、９３…基板本体９３ｂ…裏面、９４…接続パッド、９５…配線パターン、９６…外部接続用パッド、９９…第１のソルダーレジスト、１０１…第２のソルダーレジスト、１０３…ワイヤバンプ、１０５…アンダーフィル樹脂、１０７…モールド樹脂、１０７ａ…上面、１０９…外部接続端子、１１０…半導体装置、１１２…ダイシングテープ、１１３…ダイシングブレード、Ａ…チップ形成領域、Ｂ…ダイシング領域、Ｃ…配線基板形成領域、Ｄ…ダイシングライン

Claims (9)

  1. 第１の半導体チップが形成される複数のチップ形成領域、及び複数の前記チップ形成領域を区画するダイシング領域を有する半導体基板と、該半導体基板の第１の面のうち、複数の前記チップ形成領域に形成された第１の回路素子層と、前記第１の回路素子層の表面に形成された第１のバンプ電極と、前記第１の面の反対側に位置する前記半導体基板の第２の面に形成され、前記第１のバンプ電極と電気的に接続される第２のバンプ電極と、を有し、複数の前記第１の半導体チップが連結された半導体チップ形成用母基板を準備する工程と、
    前記第２のバンプ電極が設けられた側に位置する前記半導体チップ形成用母基板の面に、前記第２のバンプ電極を覆う絶縁樹脂層を介して、接着層を有したダイシングテープを貼着する工程と、
    前記第１のバンプ電極が形成された側から、前記ダイシング領域に沿って、前記ダイシングテープに貼着された前記半導体チップ形成用母基板及び前記絶縁樹脂層を切断することで、前記第１の半導体チップを個片化する工程と、
    前記絶縁樹脂層と共に、個片化された前記第１の半導体チップを、前記ダイシングテープからピックアップする工程と、
    を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 前記半導体チップ形成用母基板を準備する工程は、前記第１の回路素子層の表面に、前記第１のバンプ電極を露出し、かつ絶縁樹脂よりなる保護膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
  3. 前記半導体チップ形成用母基板を準備する工程は、前記半導体チップ形成用母基板の前記保護膜が形成された面に、接着部材を介して、支持基板を接着する工程と、
    前記第２のバンプ電極を形成する前に、前記半導体基板を薄板化する工程と、
    前記第１の回路素子層及び前記半導体基板のうち、前記第１のバンプ電極と対向する部分を貫通し、前記半導体基板と電気的に絶縁され、かつ一端が前記第１のバンプ電極と接続される貫通電極を形成する工程と、
    前記貫通電極の他端に、前記第２のバンプ電極を形成する工程と、を有することを特徴とする請求項１または２記載の半導体装置の製造方法。
  4. 前記ダイシングテープを貼着する工程と前記第１の半導体チップを個片化する工程との間に、前記接着部材及び前記支持基板を除去する工程を有することを特徴とする請求項３記載の半導体装置の製造方法。
  5. 半導体基板の第１の面に形成された第２の回路素子層、及び該第２の回路素子層の表面に形成された第３のバンプ電極を有する第２の半導体チップを準備する工程と、
    前記第２の半導体チップ上に、前記絶縁樹脂層を介して前記第１の半導体チップを対向配置し、その後、前記第１の半導体チップを押圧して、前記第２のバンプ電極と前記第３のバンプ電極とを熱圧着することで、積層された第１及び第２の半導体チップよりなるチップ積層体を形成する工程と、
    を有することを特徴とする請求項１ないし４のうち、いずれか１項記載の半導体装置の製造方法。
  6. 前記チップ積層体を形成する工程では、前記第２の半導体チップ上に、複数の前記第１の半導体チップを積層して実装することで前記チップ積層体を形成することを特徴とする請求項５記載の半導体装置の製造方法。
  7. 前記第１の半導体チップとしてメモリ用半導体チップを用い、
    前記第２の半導体チップ上に実装された複数の前記第１の半導体チップのうち、最上層に配置された最上層チップとしてインターフェイス用半導体チップを用い、前記最上層チップ以外のチップとしてメモリ用半導体チップを用いることを特徴とする請求項６記載の半導体装置の製造方法。
  8. 配線基板本体、該配線基板本体の表面に配置された接続パッド、及び前記配線基板本体の裏面に配置され、かつ前記接続パッドと電気的に接続された外部接続用パッドを有する配線基板を準備する工程と、
    アンダーフィル樹脂を介して、前記チップ積層体を構成する前記最上層チップの前記第１のバンプ電極と前記接続パッドとを接続することで、前記配線基板に前記チップ積層体を実装する工程と、
    を有することを特徴とする請求項７記載の半導体装置の製造方法。
  9. 前記配線基板の表面に、前記チップ積層体を封止する封止樹脂を形成する工程と、
    前記封止樹脂を形成後に、前記外部接続用パッドに外部接続端子を配置する工程と、
    を有することを特徴とする請求項８記載の半導体装置の製造方法。
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