JP2012036379A - 顔料用分散剤、及びそれを用いた顔料組成物 - Google Patents
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Abstract
塗料及び着色樹脂組成物などの分野に適する、非集合性、流動性、保存安定性に優れた分散体を製造することのできる顔料用分散剤とその製造方法、及びそれを用いた顔料組成物を提供すること。
【解決手段】
分子内に2つ以上の水酸基と2つ以上のチオール基とを有する化合物(a)の存在下に、エチレン性不飽和単量体(b)をラジカル重合して得られる、片末端領域に2つ以上の水酸基を有するビニル重合体(A)中の水酸基と、
カルボン酸無水物(c)の酸無水物基と、
を反応させて生成される顔料用分散剤。
さらに、分子内に2つ以上の水酸基と2つ以上のチオール基とを有する化合物(a)中の水酸基と、カルボン酸無水物(c)中の酸無水物基と、
を反応させて得られる化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体(b)をラジカル重合して生成される顔料用分散剤。
【選択図】 なし
Description
分散剤は被分散物である顔料の表面状態に合わせ種々のものが使用されているが、有機顔料を分散する場合は、塩基性に偏った表面を有する顔料には酸性の分散剤が使用されるのが一般的である。この場合、酸性官能基が顔料の吸着部位となる。酸性の官能基としては例えばカルボン酸等が挙げられる。また、酸性に偏った表面を有する顔料には塩基性の分散剤が使用される。また無機顔料を分散する場合、無機表面の水酸基と相互作用する部位が顔料吸着部となる。例えば無機表面の水酸基と水素結合するカルボン酸等が挙げられる。溶媒親和部としては、エチレン性不飽和単量体をラジカル重合して生成されるビニル重合体が挙げられ、使用する溶剤に応じてエチレン性不飽和単量体を変更することで溶媒との親和性を調整することができる。カルボン酸を有する分散剤は、例えば特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5などに記載されている。
カルボン酸無水物(c)の酸無水物基と、
を反応させて生成される顔料用分散剤に関する。
を反応させて得られるカルボキシル基とチオール基を有する化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体(b)をラジカル重合して生成される顔料用分散剤に関する。
一般式(1)
[一般式(1)中、kは1又は2である。]
一般式(2)
[一般式(2)中、R1は、直接結合、−O−、−CO−、−COOCH2CH2OCO−
、−SO2−、−C(CF3)2−、式:
で表される基、又は式:
で表される基である。]
一般式(3)
[一般式(3)中、kは1又は2である。]
一般式(4)
特に、化合物(a)はテトラカルボン酸二無水物を少なくとも含むカルボン酸無水物(c)と反応させることでポリエステル鎖を形成し連続したペンダントカルボキシル基を形成することが可能であり、この連続したペンダントカルボキシル基が顔料の吸着部位として好ましい。
ン酸二無水物が水酸基と反応した後の反応残基である。この場合、ポリエステル鎖上に存在する複数のペンダントカルボキシル基を有し、さらに溶剤親和性部位として複数のビニル共重合体部位Bを有する分散剤を得ることができる。
反応工程式(2)によって生成される分散剤において、コア部分X3は、ジカルボン酸無
水物が水酸基と反応した後の反応残基である。この場合、分子の末端領域に複数のペンダントカルボキシル基を有し、さらに溶剤親和性部位として複数のビニル共重合体部位Bを有する分散剤を得ることができる。
好ましくは、1,2−ジメルカプト−1,2−エタンジオール、ジメルカプトペンタエリスリトール(1,3−プロパンジオール,2,2−ビス(メルカプトメチル);CAS:19333−66−5)、1,4−ジメルカプトブタン−2,3−ジオール、2,3−ジメルカプト−1,4−ブタンジオール、3,4−ジメルカプトブタン−1,2−ジオールであり、より好ましくはジメルカプトペンタエリスリトール(1,3−プロパンジオール,2,2−ビス(メルカプトメチル);CAS:19333−66−5)である。
また、カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体を併用することもできる。カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸などから1種又は2種以上を選択することができる。
[一般式(4)において、R2は、炭素原子数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル
基、又は炭素数6〜15の脂環式のアルキル基である。]
ジカルボン酸無水物としては、例えば、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル酸無水物、イタコン酸無水物、グルタル酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、及びクロレンディック酸無水物などが挙げられる。
ピロメリット酸無水物、エチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、プロピレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、ブチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルフィド無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルスルホン無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン無水物、3,3’,4,4’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、ビス(フタル酸)フェニルホスフィンオキサイド無水物、p−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)無水物、m−フェニレン−ビス(トリフェニルフタル酸)無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルエーテル無水物、ビス(トリフェニルフタル酸)−4,4’−ジフェニルメタン無水物、9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン酸無水物、9,9−ビス[4−(3,4−ジカルボ
キシフェノキシ)フェニル]フルオレン酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,
4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−6−メチル−1−ナフタレンコハク酸無水物、などの芳香族テトラカルボン酸無水物が挙げられる。
分子内に2つ以上の水酸基と2つ以上のチオール基とを有する化合物(a)中の水酸基のモル比[a]と、カルボン酸無水物(c)中の無水物基のモル比[c]は、0.3<[c]/[a]≦1.0が、好ましく、更に好ましくは、0.5<[c]/[a]≦1.0、最も好ましくは0.6<[c]/[a]≦1.0である。0.3以下であると、顔料吸着部である酸無水物残基が少なくなる場合があり、又樹脂の酸価も低くなる場合もあり、1.0より大きいと未反応の酸無水物基が残存してしまい、保存安定性が悪くなる場合がある。
無機酸化物としては、例えば、金属、非金属、亜金属の酸化物であり、具体例としては、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化金、酸化クロム、珪素酸化物、酸化コバルト、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化バリウム等が挙げられる。さらに、無機酸化物中にドープ剤を固溶することにより導電性を向上した無機酸化物であるアンチモン含有酸化スズ(ATO)、スズ含有酸化インジウム(ITO)、リン含有酸化スズ(PTO)、フッ素含有酸化スズ(FTO)、アルミニウム含有酸化亜鉛(AZO)、またはガリウム含有酸化亜鉛(GZO)等が挙げられる。
無機水酸化物としては、例えば、アルミナホワイト、またはビリジアン等が挙げられる。
無機塩としては、例えば、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ホワイトカーボンまたは、クレー等が挙げられる。
金属粉としては、例えばアルミニウム粉、亜鉛末、またはブロンズ粉等が挙げられる。
この中でも、分散性の点から無機酸化物が好ましい。
塩基性誘導体は、下記一般式(5)で示される化合物であり、塩基性基を有する特定母体骨格を有する誘導体である。塩基性基を有する色素誘導体であれば特に限定はない。
〔一般式(5)中、Pは、m価の、有機顔料残基、アントラキノン骨格、アクリドン骨格、又はトリアジン骨格等であり、mは、1〜4の整数であり、Lは、一般式(6)、(7)、又は(8)で示される群から選ばれる置換基である。〕
Xは、−SO2−、−CO−、−CH2−、−CH2NHCOCH2−、−CH2NHSO2CH2−、又は直接結合であり、
Y0は、−NH−、−O−、又は直接結合であり、
nは、1〜10の整数であり、
Y1は、−NH−、−NR19−Z−NR20−、又は直接結合であり、
R19、及びR20は、それぞれ独立に、水素結合、置換基を有しても良い炭素数1〜36のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜36のアルケニル基、又は置換基を有しても良いフェニル基であり、
Zは、置換基を有しても良いアルキレン基、又は置換基を有しても良いアリーレン基であり、
R11、R12は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有しても良い炭素数1〜30のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜30のアルケニル基、又はR11とR12とが一体となって更なる窒素、酸素、若しくは硫黄原子を含む、置換基を有しても良い複素環であり、
R13、R14、R15、及びR16は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有しても良い炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜20のアルケニル基、置換基を有しても良い炭素数6〜20のアリーレン基であり、
R17は、水素原子、置換基を有しても良い炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数2〜20のアルケニル基であり、
R18は、上記一般式(6)で示される置換基、又は上記一般式(7)で示される置換基であり、
Qは、水酸基、アルコキシル基、上記一般式(6)で示される置換基、又は上記一般式(7)で示される置換基である。〕
ピペリジンメタノール、ピペコリン酸、イソニペコチン酸、イソニペコチン酸メチル、イソニペコチン酸エチル、2−ピペリジンエタノール、ピロリジン、3−ヒドロキシピロリジン、N−アミノエチルピペリジン、N−アミノエチル−4−ピペコリン、N−アミノエチルモルホリン、N−アミノプロピルピペリジン、N−アミノプロピル−2−ピペコリ
ン、N−アミノプロピル−4−ピペコリン、N−アミノプロピルモルホリン、N−メチルピペラジン、N−ブチルピペラジン、N−メチルホモピペラジン、1−シクロペンチルピペラジン、1−アミノ−4−メチルピペラジン、又は1−シクロペンチルピペラジン等が挙げられる。
一般式(10): −COCl
一般式(11): −CH2NHCOCH2Cl
一般式(12): −CH2Cl
分散を行う前に、ニーダー、3本ロールミル等の練肉混合機を使用した前分散、2本ロールミル等による固形分散、又は顔料への塩基性誘導体、及び/又は分散剤の処理を行ってもよい。又、ハイスピードミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ロールミル、石臼式ミル、超音波分散機等のあらゆる分散機や混合機が顔料分散体を製造するために利用できる。前記の顔料分散体に用いることができる各種溶剤としては、有機溶剤、水等が挙げられる。また、活性エネルギー線硬化型組成物に用いる場合、活性エネルギー線硬化性の液状モノマーや液状オリゴマーを溶剤代わりの媒体として用いてもよい。
(実施例1)
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、n−ブチルアクリレート200部、メチルメタクリレート800部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を80℃に加熱して、ジメルカプトペンタエリスリトール(1,3−プロパンジオール,2,2−ビス(メルカプトメチル);CAS:19333−66−5)44部を添加して、12時間反応した。固形分測定により95%が反応したことを確認した(第一工程)。次に、第一工程で得られた化合物の固形分50%のメトキシプロピルアセテート溶液を500部、ピロメリット酸無水物10.9部、触媒として1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン1.40部を仕込み、120℃で7間反応させた。酸価の測定で98%以上の酸無水物がハーフエステル化するまで反応させた(第二工程)。反応溶液を冷却して、メトキシプロピルアセテートで固形分調整することにより分散剤1の固形分50%の溶液を得た。得られた分散剤の酸価は25、重量平均分子量は20000であった。
(実施例2〜5)
表1に記載した原料と仕込み量を用いた以外は実施例1と同様にして合成を行い、分散剤2〜5の固形分50%の溶液を得た。
EA:エチルアクリレート
BA:ブチルアクリレート
tBA:t−ブチルアクリレート
2MTA:2−メトキシエチルアクリレート
MMA:メチルメタクリレート
BMA:n−ブチルメタクリレート
BzMA:ベンジルメタクリレート
St:スチレン
2EHMA:2−エチルヘキシルメタクリレート
MAA:メタクリル酸
PMA:ピロメリット酸二無水物
BTA:1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物
BPDA:3,3′,4,4′−ビフェニルトリカルボン酸無水物
TMEG:エチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル
BTDA:3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
DSDA:3,3′,4,4′−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物
BPAF :9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二酸無水物
TMA:トリメリット酸無水物
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、ジメルカプトペンタエリスリトール(1,3−プロパンジオール,2,2−ビス(メルカプトメチル);CAS:19333−66−5)168部、BPDA(3,3′,4,4′−ビフェニルトリカルボン酸無水物)235部、PGMAc(メトキシプロピルアセテート)930部、触媒としてモノブチルスズオキシド0.2部を仕込み、窒素ガスで置換した後、120℃で5時間反応させた(第一工程)。酸価の測定で95%以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を固形分換算で373部、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート200部、t−ブチルアクリレート200部、2−メトキシエチルアクリレート200部、メチルメタクリレート400部、PGMAc100部を仕込み、反応容器内を80℃に加熱して、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.2部を添加し、12時間反応した(第二工程)。固形分測定により95%が反応したことを確認した。反応溶液を冷却して、メトキシプロピルアセテートで固形分調整することにより分散剤6の固形分50%の溶液を得た。得られた分散剤の酸価は25、重量平均分子量は21000であった。
(実施例7〜10)
表2に記載した原料と仕込み量を用いた以外は実施例6と同様にして合成を行い、分散剤7〜10の固形分50%の溶液を得た。
PMA:ピロメリット酸二無水物
BTA:1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物
BPDA:3,3′,4,4′−ビフェニルトリカルボン酸無水物
TMEG:エチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル
BTDA:3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
DSDA:3,3′,4,4′−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物
BPAF :9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン二酸無水物
TMA:トリメリット酸無水物
2HPMA:2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
EA:エチルアクリレート
BA:ブチルアクリレート
tBA:t−ブチルアクリレート
2MTA:2−メトキシエチルアクリレート
MMA:メチルメタクリレート
BMA:n−ブチルメタクリレート
BzMA:ベンジルメタクリレート
St:スチレン
MAA:メタクリル酸
(比較例1)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、ジメチルテレフタレート559部、プロピレングリコール420部、グリセリン21.2部、酢酸亜鉛0.2部、テトラブチルオルソチタネート0.025部を仕込み、窒素気流下にて撹拌しながら160〜220℃でエステル交換反応を行った。理論量のメタノールの95%(175g)以上が留出したらこのフラスコ内を徐々に減圧し、1〜3トール、240℃で3時間反応を行い、末端に水酸基を有するポリエステルを得た。次にフラスコ内を窒素で減圧解除を行い、200℃まで徐々に冷却した。200℃になったら無水コハク酸65部を加え1時間反応し、酸価40、重量平均分子量12000の比較分散剤1を得た。(比較例2)
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4フラスコに、シクロヘキサノン75部、ネオペンチルグリコール17.8部、無水ピロメリット酸31.9部を仕込み、150〜160℃に昇温し、窒素ガス雰囲気下、5時間反応を行った。樹脂酸価が334以下になった時点で冷却し、ε−カプロラクトン249.7部、テトラブチルチタネート0.6部を加え、150℃で5時間攪拌を行った。加熱残分が76%以上になった時点で冷却し、シクロヘキサノン625部を加え、酸価54、重量平均分子量12900の比較分散剤2を得た。なお、本比較例2で調製した比較分散剤2は、前記特許文献2に記載の分散剤に相当する。
撹拌機、還流冷却管、ガス導入管、温度計、滴下ロートを備えた4口フラスコに、キシレン19.8部、オクタノール2.1部、ε−カプロラクトン77.9部テトラブチルチタネート0.16部を仕込み150〜160℃に昇温し窒素ガス雰囲気下、5時間反応させ加熱残分が78%以上になっているのを確認した後、冷却しポリエステルモノオールを得た。合成したポリエステルモノオールを31.86部、無水トリメリット酸0.98部を仕込み窒素雰囲気下150〜160℃で反応を行った。樹脂酸価が22.7以下になった時点でYED122(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名アルキルフェノールモノグリシジルエーテル、エポキシ当量250)、2.55部を仕込み同じ温度で反応を行った。樹脂酸価が1.1以下になった時点で無水トリメリット酸1.96部を仕込み、同じ温度で反応を行い、樹脂酸価が38.7以下になった時点でYED122、5.1部を仕込み、同じ温度で反応を行い、樹脂酸価が1.8以下になった時点で無水トリメリット酸3.92部を仕込み、同じ温度で反応を行い、樹脂酸価が60.1以下になった時点で冷却し、キシレンを53.6部加え、反応を終了させた。酸価58.9、重量平均分子量11000の比較分散剤3を得た。なお、本比較例3で調製した比較分散剤3は、前記特許文献3に記載の分散剤に相当する。
(比較例4)
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、n−ブチルメタクリレート200部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を80℃に加熱して、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール12部を添加して、12時間反応した。固形分測定により95%が反応したことを確認した。次に、ピロメリット酸無水物12部、シクロヘキサノン224部、触媒として1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン0.40部を追加し、120℃で7時間反応させた。酸価の測定で98%以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了し酸価28、重量平均分子量5800の比較分散剤4を得た。なお、本比較例4で調製した比較分散剤4は、前記特許文献5に記載の分散剤に相当する。
色素成分である銅フタロシアニン50部をクロロスルホン化した後、アミン成分であるN,N−ジメチルアミノプロピルアミン14部と反応させて、下記一般式(25)に示す塩基性基を有する色素誘導体1を62部得た。
一般式(25):
色素成分である銅フタロシアニン50部をクロロメチル化した後、アミン成分であるジブチルアミン40部と反応させて、下記一般式(26)に示す塩基性置換基を有する色素誘導体2を95部得た。
一般式(26):
色素成分であるキナクリドン50部をクロロアセトアミドメチル化した後、アミン成分であるN−メチルピペラジン40部と反応させて、下記一般式(27)に示す塩基性置換基を有する色素誘導体3 103部を得た。
一般式(27):
色素成分としてジフェニルジケトピロロピロールを、アミン成分としてN−アミノプロピルモルホリンを使用し、製造例1と同様の方法により、下記一般式(28)に示す塩基性置換基を有する色素誘導体4を得た。
一般式(28):
上記塩基性基を有する色素誘導体等の製造例1〜4と同様の方法により、下記に示す塩基性置換基を有する、色素誘導体、アントラキノン誘導体、アクリドン誘導体、およびトリアジン誘導体を得た。
(塩基性置換基を有する色素誘導体5)
一般式(29):
一般式(30):
一般式(31):
一般式(32):
一般式(33):
(塩基性置換基を有する色素誘導体10)
一般式(34):
表3に示すように、顔料(C.I.Pigment Blue 15:3)、実施例1〜10にて合成した分散剤1〜10、製造例1〜10で合成した塩基性置換基を有する色素誘導体1〜10、およびメトキシプロピルアセテートを配合し、2mmφジルコニアビーズ100部を加えペイントコンディショナーで3時間分散し、顔料組成物1〜10作成した。
比較例1〜4にて合成したカルボキシル基を有する比較分散剤1〜4を用いた以外は、実施例11〜20と同様に顔料組成物11〜14を作成した。
本発明の顔料組成物の性能を評価するために、得られた組成物の粘度をB型粘度計(25℃、回転速度100rpm)で、ヘイズをヘイズメーター( 光透過率20%)で測定
し、初期粘度およびヘイズで分散体の性能を評価した(粘度は低いほど良好。ヘイズは小さいほど良好)。初期粘度およびヘイズは分散後1日室温で放置後に測定、経時粘度は1週間50℃に放置後に測定を行った。結果を表3に示す。
実施例1の分散剤を10部(固形分0.5部)、ATO粉体(球状粒子、一次粒子径20nm)40部、メトキシプロピルアセテート50部と、2mmφジルコニアビーズ100部を加え、ペイントコンディショナーで3時間分散し、固形分50%の顔料組成物15を作製した。
表4に示す組成で作製した以外は、実施例21と同様にして、固形分50%の顔料組成物16〜19を作製した。
表4に示す組成で作製した以外は、実施例21と同様にして、固形分50%の顔料組成物20〜23を作製した。
本発明の顔料組成物15〜23の性能を評価するために、得られた組成物の粘度をB型粘度計(25℃、回転速度100rpm)で、ヘイズをヘイズメーターで測定し、初期粘度およびヘイズで分散体の性能を評価した(粘度は低いほど良好。ヘイズは小さいほど良好)。初期粘度およびヘイズは分散後1日室温で放置後に測定、経時粘度は1週間50℃に放置後に測定を行った。結果を表4に示す。
ATO:アンチモン含有酸化スズ
ITO:スズ含有酸化インジウム
PTO:リン含有酸化スズ
GZO:ガリウム含有酸化亜鉛
Claims (9)
- 分子内に2つ以上の水酸基と2つ以上のチオール基とを有する化合物(a)の存在下に、エチレン性不飽和単量体(b)をラジカル重合して得られる、片末端領域に2つ以上の水酸基を有するビニル重合体(A)中の水酸基と、
カルボン酸無水物(c)の酸無水物基と、
を反応させて生成される顔料用分散剤。 - 分子内に2つ以上の水酸基と2つ以上のチオール基とを有する化合物(a)中の水酸基と、
カルボン酸無水物(c)中の酸無水物基と、
を反応させて得られるカルボキシル基とチオール基を有する化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体(b)をラジカル重合して生成される顔料用分散剤。 - カルボン酸無水物(c)がトリカルボン酸無水物またはテトラカルボン酸二無水物であることを特徴とする請求項1または2に記載の顔料用分散剤。
- テトラカルボン酸無水物が、下記一般式(1)又は一般式(2)で表されることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の顔料用分散剤。
一般式(1)
[一般式(1)中、kは1又は2である。]
一般式(2)
[一般式(2)中、R1は、直接結合、−O−、−CO−、−COOCH2CH2OCO−
、−SO2−、−C(CF3)2−、式:
で表される基、又は式:
で表される基である。]
- トリカルボン酸無水物が、下記一般式(3)で表されることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の顔料用分散剤。
一般式(3)
[一般式(3)中、kは1又は2である。]
- エチレン性不飽和単量体が、下記一般式(4)で表わされる単量体を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の顔料用分散剤。
一般式(4)
[一般式(4)中、R2は、炭素原子数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、又
は炭素数6〜15の脂環式のアルキル基である。] - エチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなるビニル重合体部分の重量平均分子量が、1000〜10000である請求項1〜6のいずれか一項に記載の顔料用分散剤。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の顔料用分散剤と、顔料(P)とを含有する顔料組成物。
- 請求項8に記載の顔料組成物をワニスに分散させてなる顔料分散体。
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