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JP2011085597A - Inspection method and inspection device - Google Patents

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JP2011085597A
JP2011085597A JP2010286799A JP2010286799A JP2011085597A JP 2011085597 A JP2011085597 A JP 2011085597A JP 2010286799 A JP2010286799 A JP 2010286799A JP 2010286799 A JP2010286799 A JP 2010286799A JP 2011085597 A JP2011085597 A JP 2011085597A
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Japan
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circuit
input
signal
inspection
voltage
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JP2010286799A
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Japanese (ja)
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正明 ▲ひろ▼木
Masaaki Hiroki
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
  • Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To establish a simplified inspection method in which the need for setting up a prober at a wiring is dispensed with, and to provide an inspection device which uses the inspection method. <P>SOLUTION: Inspection is carried out by making electromotive force generated in a wiring of an element substrate due to electromagnetic induction, and thereby passing a current through the wiring. The inspection method includes impressing a voltage on a circuit or a circuit element in a contactless manner to make the circuit or a circuit element actuate; reading a voltage output from the circuit or circuit element in a contactless manner; and determining the quality of the circuit or a circuit element. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置が有する回路または回路素子を動作させ、該回路または回路素子の出力を読み取る測定方法と、該測定方法を用いて画素部が正常に動作するかどうかを検査する方法に関する。特に、非接触型の検査方法、及びそれを用いた非接触型の検査装置に関する。   The present invention relates to a measurement method for operating a circuit or a circuit element included in a semiconductor device and reading an output of the circuit or the circuit element, and a method for inspecting whether a pixel portion operates normally using the measurement method. In particular, the present invention relates to a non-contact type inspection method and a non-contact type inspection apparatus using the same.

近年、絶縁表面を有する基板上に形成された半導体膜(厚さ数〜数百nm程度)を用いて薄膜トランジスタ(TFT)を構成する技術が注目されている。その理由は、半導体装置の一つであるアクティブマトリクス型の半導体表示装置の需要が高まってきたことによる。アクティブマトリクス型の半導体表示装置には、代表的には液晶ディスプレイ、OLED(Organic Light Emitting Device)ディスプレイ、DMD(Digital Micromirror Device)が含まれる。   In recent years, a technique for forming a thin film transistor (TFT) using a semiconductor film (having a thickness of about several to several hundred nm) formed on a substrate having an insulating surface has attracted attention. This is because the demand for an active matrix semiconductor display device which is one of the semiconductor devices has increased. The active matrix semiconductor display device typically includes a liquid crystal display, an OLED (Organic Light Emitting Device) display, and a DMD (Digital Micromirror Device).

活性層に結晶構造を有する半導体膜を用いたTFT(結晶質TFT)は高い移動度が得られることから、同一基板上に機能回路を集積させて高精細な画像表示を行うアクティブマトリクス型の半導体表示装置を実現することが可能である。   A TFT (crystalline TFT) using a semiconductor film having a crystal structure as an active layer has high mobility. Therefore, an active matrix semiconductor that displays high-definition images by integrating functional circuits on the same substrate. A display device can be realized.

ところで、アクティブマトリクス型の半導体表示装置は、様々な製造工程を経て完成する。例えばアクティブマトリクス型の液晶ディスプレイの場合、半導体膜の成膜とパターン形成を行なうパターン形成工程と、カラー化を実現するためのカラーフィルタ形成工程と、半導体を含む素子を有する素子基板と、対向電極を有する対向基板との間に液晶を封入して液晶パネルを形成するセル組立工程と、セル組立工程において組み立てられた液晶パネルに、該液晶パネルを動作させるための駆動部品やバックライトを取り付け、液晶ディスプレイとして完成させるモジュール組み立て工程とを、主に有している。   Incidentally, an active matrix semiconductor display device is completed through various manufacturing processes. For example, in the case of an active matrix liquid crystal display, a pattern forming process for forming a semiconductor film and forming a pattern, a color filter forming process for realizing colorization, an element substrate having an element including a semiconductor, and a counter electrode A cell assembly process for forming a liquid crystal panel by enclosing a liquid crystal between a counter substrate and a liquid crystal panel assembled in the cell assembly process, and driving parts and a backlight for operating the liquid crystal panel are attached, It mainly has a module assembly process to be completed as a liquid crystal display.

そして液晶ディスプレイの種類によって多少の違いはあるが、上記各工程には、検査工程が含まれる。製品として完成する前に、工程の早い段階で不良品を見分けることができたら、そのパネルに関しては後の工程を省略することが可能である。よって検査工程は、コスト削減という観点から見て、非常に有効な手段である。   Although there are some differences depending on the type of liquid crystal display, each of the above steps includes an inspection step. If a defective product can be identified at an early stage of the process before it is completed as a product, the subsequent process can be omitted for the panel. Therefore, the inspection process is a very effective means from the viewpoint of cost reduction.

パターン形成工程に含まれる検査工程の1つに、パターン形成後の欠陥検査がある。   One inspection process included in the pattern formation process is a defect inspection after pattern formation.

パターン形成後の欠陥検査とは、パターン形成した後、半導体膜、絶縁膜または配線のパターン(以下、単にパターンと呼ぶ)の幅のばらつきによって動作不良が生じている箇所や、ゴミまたは成膜不良によって、配線が断線またはショートしている箇所を検出したり、検査対象である回路または回路素子が正常に動作するかどうかを特定するための検査である。   Defect inspection after pattern formation refers to a location where a malfunction occurs due to variation in the width of a semiconductor film, insulating film or wiring pattern (hereinafter simply referred to as a pattern), dust, or film formation failure after pattern formation. Thus, it is an inspection for detecting a location where the wiring is disconnected or short-circuited, or specifying whether the circuit or circuit element to be inspected normally operates.

このような欠陥検査は、主に光学式検査方法と、プローブ検査方法とに大別される。   Such defect inspection is mainly divided into an optical inspection method and a probe inspection method.

光学式検査方法は、基板上に形成されたパターンをCCD等で読み取り、基準となるパターンと比較して不良箇所(欠陥)を識別する検査方法である。また、プローブ検査方法は、基板側の端子に微細なピン(プローブ)を立てて、プローブ間の電流または電圧の大きさによって良否を判定する検査方法である。一般的に、前者は非接触型検査方法と呼ばれ、後者は触針型検査方法と呼ばれる。   The optical inspection method is an inspection method in which a pattern formed on a substrate is read by a CCD or the like and compared with a reference pattern to identify a defective portion (defect). Further, the probe inspection method is an inspection method in which fine pins (probes) are set up on terminals on the substrate side, and pass / fail is determined by the magnitude of current or voltage between the probes. In general, the former is called a non-contact type inspection method, and the latter is called a stylus type inspection method.

上記いずれの方法を用いても、素子基板の良否を判定することが可能である。
しかし、上記各検査方法にはそれぞれ短所がある。
Whichever method is used, the quality of the element substrate can be determined.
However, each inspection method has its disadvantages.

光学式検査方法は、何層ものパターンの形成が終了した後に検査を行なうと、下層に形成されたパターンを識別するのが困難であるため、不良箇所を検出し、回路または回路素子の良否を判定するのが難しい。かといって、パターンを形成するたび毎に検査を行なうと、検査工程自体が煩雑になり、製造工程全体にかかる時間も長くなってしまう。また、プローブ検査方法では、配線またはプローブ用の端子に直接プローブを立てるため、配線またはプローブ用の端子に傷がついて微細なゴミが生じることがある。検査工程において生じたゴミは、後の工程の歩留まりを低下させる原因になり、好ましくない。   In the optical inspection method, it is difficult to identify the pattern formed in the lower layer when the inspection is performed after the formation of the pattern of the layers is completed. Therefore, the defective portion is detected, and the quality of the circuit or the circuit element is determined. Difficult to judge. However, if the inspection is performed every time the pattern is formed, the inspection process itself becomes complicated, and the time required for the entire manufacturing process becomes longer. In the probe inspection method, since the probe is directly set on the wiring or the probe terminal, the wiring or the probe terminal may be damaged and fine dust may be generated. The dust generated in the inspection process is not preferable because it causes a decrease in the yield of the subsequent process.

上記問題に鑑み、本発明では、配線またはプローブ用の端子にプローブを立てないで済む、より簡便な検査方法の確立、及び該検査方法を用いる検査装置の提供を課題とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to establish a simpler inspection method that does not require a probe to be placed on a wiring or a probe terminal, and to provide an inspection apparatus that uses the inspection method.

本発明者は、プローブを立てなくても、電磁誘導によって素子基板の配線に起電力を生じさせることで、該配線に電流を流すことができるのではないかと考えた。   The present inventor has thought that even if a probe is not set up, an electromotive force is generated in the wiring of the element substrate by electromagnetic induction, thereby allowing a current to flow through the wiring.

具体的には、素子基板を検査するための、検査用の基板(検査用基板)を別途用意する。該検査用基板は入力用の1次コイル(本明細書中において、入力用1次コイルまたは第1の1次コイルと呼ぶ)と、出力用の2次コイル(以下、出力用2次コイルまたは第2の2次コイルと呼ぶ)を有している。また、検査対象である素子基板は、入力用の2次コイル(以下、入力用2次コイルまたは第1の2次コイルと呼ぶ)と、出力用の1次コイル(以下、出力用1次コイルまたは第2の1次コイルと呼ぶ)を有している。   Specifically, an inspection substrate (inspection substrate) for inspecting the element substrate is separately prepared. The inspection board includes an input primary coil (referred to herein as an input primary coil or a first primary coil) and an output secondary coil (hereinafter referred to as an output secondary coil or Called a second secondary coil). The element substrate to be inspected includes an input secondary coil (hereinafter referred to as an input secondary coil or a first secondary coil) and an output primary coil (hereinafter referred to as an output primary coil). Or a second primary coil).

なお、入力用1次コイル、入力用2次コイル、出力用1次コイル及び出力用2次コイルは、ともに、基板上に成膜した導電膜をパターニングすることで形成することができる。そして、本発明において、入力用1次コイル、入力用2次コイル、出力用1次コイル及び出力用2次コイルは、中心に磁性体を設けて磁路としたコイルではなく、中心に磁性体を設けないコイルを用いた。   Note that the input primary coil, the input secondary coil, the output primary coil, and the output secondary coil can all be formed by patterning a conductive film formed on the substrate. In the present invention, the primary coil for input, the secondary coil for input, the primary coil for output, and the secondary coil for output are not a coil having a magnetic path at the center but a magnetic path. The coil which does not provide is used.

そして、検査用基板が有する入力用1次コイルと、素子基板が有する入力用2次コイルを一定の間隔を空けて重ね合わせ、入力用1次コイルが有する2つの端子間に交流の電圧(交流電圧)を印加することで、入力用2次コイルが有する2つの端子間に起電力を生じさせる。   Then, the primary coil for input included in the inspection substrate and the secondary coil for input included in the element substrate are overlapped at a certain interval, and an AC voltage (alternating current) is applied between the two terminals of the primary coil for input. Voltage), an electromotive force is generated between the two terminals of the input secondary coil.

なおこの間隔は小さいほど望ましく、入力用1次コイルと入力用2次コイルは、間隔の制御が可能な限り近づけたほうが良い。   The smaller the interval, the better. The input primary coil and the input secondary coil should be as close as possible to control the interval.

なお、本明細書においてコイルに電圧が印加されるとは、該電圧がコイルの有する2つの端子間に印加されることを意味する。また、本明細書においてコイルに信号が入力されるとは、該信号の電圧がコイルの有する2つの端子間に印加されることを意味する。   In this specification, a voltage being applied to the coil means that the voltage is applied between two terminals of the coil. Further, in this specification, that a signal is input to the coil means that the voltage of the signal is applied between two terminals of the coil.

そして、入力用2次コイルに生じた起電力である交流の電圧を、素子基板において整流化した後適当に平滑化することで、素子基板が有する回路または回路素子を駆動させるための直流の電圧(以下、電源電圧と呼ぶ)として用いることが可能である。また、入力用2次コイルに生じた起電力である交流の電圧の波形を、波形整形回路等で適当に整形することで、素子基板が有する回路または回路素子を駆動させるための電圧を有する信号(以下、駆動信号と呼ぶ)として用いることが可能である。   Then, an AC voltage, which is an electromotive force generated in the input secondary coil, is rectified in the element substrate, and then smoothed appropriately, whereby a DC voltage for driving a circuit or a circuit element included in the element substrate is obtained. (Hereinafter referred to as power supply voltage). In addition, a signal having a voltage for driving a circuit or a circuit element included in the element substrate by appropriately shaping an AC voltage waveform, which is an electromotive force generated in the input secondary coil, using a waveform shaping circuit or the like. (Hereinafter referred to as a drive signal).

そして、この生成された駆動信号または電源電圧を、素子基板上に形成された回路または回路素子に供給する。回路または回路素子は、該駆動信号または電源電圧によって何らかの動作を行なう。そして検査したい該回路または回路素子の出力を、全て素子基板上に設けられた検査専用回路に入力する。   Then, the generated drive signal or power supply voltage is supplied to a circuit or a circuit element formed on the element substrate. The circuit or the circuit element performs some operation by the drive signal or the power supply voltage. Then, all the outputs of the circuit or circuit element to be inspected are input to an inspection-dedicated circuit provided on the element substrate.

なお、回路または回路素子が正常に動作するか否かを特定することができるのならば、該回路または回路素子のどの部分の電圧でも、回路または回路素子の出力として、検査専用回路に入力することができる。   If it is possible to specify whether or not the circuit or the circuit element operates normally, the voltage of any part of the circuit or the circuit element is input to the test-dedicated circuit as the output of the circuit or the circuit element. be able to.

一方、入力用2次コイルに生じた起電力である交流の電圧は、検査専用回路にも入力されている。そして検査専用回路は主に、(1)検査対象である回路または回路素子の出力を信号処理し、検査対象の回路または回路素子の動作状態を情報として有している信号(動作情報信号)を生成する手段と、(2)該動作情報信号を増幅する手段と、(3)増幅された該動作情報信号に従って、検査専用回路に入力された交流の電圧の振幅を変調させ、出力する手段を有している。なお本明細書において、交流の電圧を有する信号を交流の信号と呼び、変調させられた交流の信号を、被変調信号と呼ぶ。   On the other hand, an AC voltage, which is an electromotive force generated in the input secondary coil, is also input to the inspection dedicated circuit. The inspection-dedicated circuit mainly (1) performs signal processing on the output of the circuit or circuit element to be inspected and outputs a signal (operation information signal) having the operation state of the circuit or circuit element to be inspected as information Means for generating; (2) means for amplifying the operation information signal; and (3) means for modulating and outputting the amplitude of the alternating voltage input to the test-dedicated circuit according to the amplified operation information signal. Have. In this specification, a signal having an AC voltage is called an AC signal, and a modulated AC signal is called a modulated signal.

なお、(2)該動作情報信号を増幅する手段は必ずしも設ける必要はない。また本明細書において、(3)増幅された該動作情報信号に従って、検査専用回路に入力された交流の電圧の振幅を変調させ出力する手段を、以下、変調回路と呼ぶ。   Note that (2) means for amplifying the operation information signal is not necessarily provided. In the present specification, (3) means for modulating and outputting the amplitude of the AC voltage input to the test-dedicated circuit in accordance with the amplified operation information signal is hereinafter referred to as a modulation circuit.

検査専用回路から出力された交流の被変調信号は、素子基板に設けられた出力用1次コイルが有する2つの端子のうち、一方の端子に入力される。出力用1次コイルが有するもう一方の端子には、一定の電圧が与えられている。この状態で、素子基板が有する出力用1次コイルと検査用基板が有する出力用2次コイルとを一定の間隔を空けて重ね合わせることで、出力用2次コイルが有する2つの端子間に起電力を生じさせる。   The AC modulated signal output from the inspection dedicated circuit is input to one of the two terminals of the output primary coil provided on the element substrate. A constant voltage is applied to the other terminal of the primary coil for output. In this state, the output primary coil included in the element substrate and the output secondary coil included in the inspection substrate are overlapped with a certain distance therebetween, so that the output secondary coil is generated between the two terminals of the output secondary coil. Generate power.

なおこの間隔は小さいほど望ましく、出力用1次コイルと出力用2次コイルは、間隔の制御が可能な限り近づけたほうが良い。   The smaller the interval, the better. The output primary coil and the output secondary coil should be as close as possible to control the interval.

出力用2次コイルの一方の端子には一定の電圧が与えられている。そして、出力用2次コイルのもう一方の端子における電圧の値は、被変調信号の電圧によって定まる。よって、出力用2次コイルのもう一方の端子における電圧の値から、検査対象の回路または回路素子が、正常に動作するか否かを特定することができる。   A constant voltage is applied to one terminal of the output secondary coil. The voltage value at the other terminal of the output secondary coil is determined by the voltage of the modulated signal. Therefore, it is possible to specify whether or not the circuit or circuit element to be inspected normally operates from the voltage value at the other terminal of the output secondary coil.

なお、検査専用回路に入力される交流の電圧の周波数を高めると、検査専用回路から出力用1次コイルの端子に入力される被変調信号の周波数も高くなる。コイルのインピーダンスは、巻き数、サイズ等のコイルの設計や、コイルに入力される信号の周波数等、様々な要素によって決まる。そのため、検査専用回路に入力される変調前の交流の電圧の周波数の値は、コイルのインピーダンスの値を左右する他の要素との兼ね合いで決めるのが望ましい。   When the frequency of the alternating voltage input to the test dedicated circuit is increased, the frequency of the modulated signal input from the test dedicated circuit to the terminal of the output primary coil also increases. The impedance of the coil is determined by various factors such as the coil design such as the number of turns and the size, and the frequency of the signal input to the coil. Therefore, it is desirable that the frequency value of the AC voltage before modulation input to the test-dedicated circuit is determined in consideration of other factors that influence the impedance value of the coil.

なお、検査対象の回路または回路素子の動作状態によって、動作情報信号に直流の成分が含まれている場合がある。動作情報信号に直流の成分が含まれている場合でも、動作情報信号による変調によって生成された交流の被変調信号を出力用1次コイルの端子に入力することで、良否の情報を有する起電力を出力用2次コイルの端子間に生じさせることができる。   Depending on the operation state of the circuit or circuit element to be inspected, the operation information signal may contain a direct current component. Even when the operation information signal includes a direct current component, an electromotive force having good / bad information can be obtained by inputting the AC modulated signal generated by the modulation by the operation information signal to the terminal of the output primary coil. Can be generated between the terminals of the output secondary coil.

なお、必ずしも画素の動作状態を良品と不良品の2つに選り分けるのではなく、動作状態によって複数のランクに選り分けるようにしても良い。   Note that the operation state of the pixel is not necessarily classified into a non-defective product and a defective product, but may be classified into a plurality of ranks depending on the operation state.

なお、入力用1次コイルと、出力用2次コイルは、必ずしも同じ1つの検査用基板上に設けなくても良い。それぞれ異なる基板上に形成していても良い。   Note that the input primary coil and the output secondary coil are not necessarily provided on the same inspection substrate. They may be formed on different substrates.

なお、出力用1次コイル及び出力用2次コイルを設けずに、回路または回路素子が駆動することで生じる微弱な電磁波、または電界をモニターし、多数の回路または回路素子の中から、正常に動作していない箇所を検出することが可能である。   In addition, without providing the primary coil for output and the secondary coil for output, the weak electromagnetic wave or electric field generated by driving the circuit or circuit element is monitored, and the normal operation can be performed from among many circuits or circuit elements. It is possible to detect a portion that is not operating.

なお、この場合、電磁波または電界が有するあらゆる情報をモニターし、利用することができる。具体的に、電磁波または電界が有する情報として、周波数、位相、強度、時間など、様々な次元において収集することが可能である。本発明においては、多数の回路または回路素子の中から、正常に動作していない箇所を検出することが可能であるのならば、電磁波または電界が有する情報のうち、どのような情報でも利用することが可能である。   In this case, any information contained in the electromagnetic wave or electric field can be monitored and used. Specifically, information included in electromagnetic waves or electric fields can be collected in various dimensions such as frequency, phase, intensity, and time. In the present invention, any information of electromagnetic waves or electric fields is used as long as it is possible to detect a part that is not operating normally from a large number of circuits or circuit elements. It is possible.

なお回路または回路素子において生じる微弱な電磁波、または電界のモニターの仕方は、公知の方法を用いることができる。   A known method can be used for monitoring weak electromagnetic waves or electric fields generated in circuits or circuit elements.

本発明は上記構成によって、配線に直接プローブを立てなくても不良箇所を検出し、回路または回路素子の良否を判定することができるので、プローブを立てることで生じた微細なゴミにより、後の工程の歩留まりを低下させるのを防ぐことができる。なおかつ、光学式検査方法と異なり、1回の検査工程で全てのパターン形成工程の良否を判断することができるので、検査工程がより簡便化される。   The present invention can detect a defective portion and judge the quality of a circuit or a circuit element without directly setting a probe on the wiring by the above-described configuration. Decreasing the process yield can be prevented. In addition, unlike the optical inspection method, the quality of all pattern forming steps can be determined in one inspection step, so that the inspection step is further simplified.

本発明は上記構成によって、配線または端子に直接プローブを立てなくても、検査対象の回路または回路素子の動作の良否を判定することができるので、プローブを立てることで生じた微細なゴミにより、後の工程の歩留まりを低下させるのを防ぐことができる。なおかつ、光学式検査方法と異なり、1回の検査工程で全てのパターン形成工程の良否を判断することができるので、検査工程がより簡便化される。   Since the present invention can determine whether the operation of the circuit or circuit element to be inspected is good or not without setting up the probe directly on the wiring or the terminal, the fine dust generated by setting up the probe It is possible to prevent the yield of subsequent processes from being lowered. In addition, unlike the optical inspection method, the quality of all pattern forming steps can be determined in one inspection step, so that the inspection step is further simplified.

検査基板と素子基板の上面図。The top view of an inspection board and an element board. 検査基板と素子基板のブロック図。The block diagram of an inspection board and an element board. コイル拡大図。Coil enlarged view. 検査時における検査基板と素子基板の斜視図。The perspective view of the test | inspection board | substrate and element board | substrate at the time of a test | inspection. 波形整形回路の回路図。The circuit diagram of a waveform shaping circuit. 整流回路の回路図。The circuit diagram of a rectifier circuit. 交流から整流化されて脈流となった信号の経時変化。Change over time of the signal that has been rectified from alternating current and becomes a pulsating flow. 脈流の加算により生成された直流の信号の経時変化。Change over time of DC signal generated by adding pulsating flow. 検査専用回路の回路図。The circuit diagram of a test-dedicated circuit. 出力用パッドを有する検査専用回路の回路図。The circuit diagram of the circuit only for a test | inspection which has an output pad. 液晶ディスプレイの素子基板のブロック図。The block diagram of the element substrate of a liquid crystal display. OLEDディスプレイの素子基板のブロック図。The block diagram of the element board | substrate of an OLED display. 大型の素子基板の上面図。The top view of a large sized element substrate. 大型の素子基板の上面図。The top view of a large sized element substrate. 本発明の検査工程の流れを示すフローチャート。The flowchart which shows the flow of the inspection process of this invention. コイルの上面図及び断面図。The top view and sectional drawing of a coil. 検査装置のブロック図。The block diagram of an inspection apparatus. 整流回路の回路図。The circuit diagram of a rectifier circuit.

図1(A)に、本発明の検査を行なうための検査基板の上面図を示す。また、図1(B)に、検査される素子基板の上面図を示す。なお本実施の形態では、液晶ディスプレイが有する素子基板を例にとって、本発明の検査方法について説明するが、本発明の検査方法は、液晶ディスプレイに限って用いることができるわけではなく、半導体を用いて形成された半導体装置であるならば、どれでも用いることが可能である。   FIG. 1A shows a top view of an inspection substrate for performing the inspection of the present invention. FIG. 1B shows a top view of an element substrate to be inspected. Note that in this embodiment mode, the inspection method of the present invention is described using an element substrate included in a liquid crystal display as an example. However, the inspection method of the present invention is not limited to a liquid crystal display and uses a semiconductor. Any semiconductor device formed as described above can be used.

図1(A)に示した検査基板は、基板100上に、入力用1次コイル形成部101、出力用2次コイル形成部102、外部入力用バッファ103、外部出力用バッファ104、コネクター接続部105が設けられている。なお本明細書において検査基板とは、基板100と、基板100上に形成された回路または回路素子全てを含んでいる。   The inspection board shown in FIG. 1A has an input primary coil forming part 101, an output secondary coil forming part 102, an external input buffer 103, an external output buffer 104, and a connector connecting part on the board 100. 105 is provided. In the present specification, the inspection substrate includes the substrate 100 and all circuits or circuit elements formed on the substrate 100.

なお、検査基板が有する入力用1次コイル形成部101と出力用2次コイル形成部102の数及び配置は、図1(A)に示した構成に限定されない。入力用1次コイル形成部101と出力用2次コイル形成部102の数及び配置は、設計者が任意に設定することが可能である。   Note that the number and arrangement of the input primary coil forming portions 101 and the output secondary coil forming portions 102 included in the inspection board are not limited to the configuration shown in FIG. The number and arrangement of the input primary coil forming unit 101 and the output secondary coil forming unit 102 can be arbitrarily set by the designer.

図1(B)に示した素子基板は、基板110上に、信号線駆動回路111、走査線駆動回路112、画素部113、引きまわし配線114、コネクター接続部115、波形整形回路または整流回路116、入力用2次コイル形成部117、出力用1次コイル形成部118、検査専用回路119、コイル用配線120が設けられている。なお本明細書において素子基板とは、基板110と、基板110上に形成された回路または回路素子全てを含んでいる。なお、引きまわし配線114は、素子基板が有する画素部と駆動回路に駆動信号や電源電圧を供給するための配線である。   The element substrate illustrated in FIG. 1B is provided over a substrate 110 with a signal line driver circuit 111, a scan line driver circuit 112, a pixel portion 113, a lead-out wiring 114, a connector connection portion 115, a waveform shaping circuit, or a rectifier circuit 116. , An input secondary coil forming section 117, an output primary coil forming section 118, a test dedicated circuit 119, and a coil wiring 120 are provided. Note that in this specification, the element substrate includes the substrate 110 and all circuits or circuit elements formed on the substrate 110. Note that the lead wiring 114 is a wiring for supplying a drive signal and a power supply voltage to the pixel portion and the driver circuit included in the element substrate.

なお、素子基板が有する入力用2次コイル形成部117と出力用1次コイル形成部118の数及び配置は、図1(B)に示した構成に限定されない。入力用2次コイル形成部117と出力用1次コイル形成部118の数及び配置は、設計者が任意に設定することが可能である。   Note that the number and arrangement of the input secondary coil forming portions 117 and the output primary coil forming portions 118 included in the element substrate are not limited to the configuration illustrated in FIG. The number and arrangement of the input secondary coil forming section 117 and the output primary coil forming section 118 can be arbitrarily set by the designer.

コネクター接続部115には、検査工程の後の工程において、FPCまたはTAB等が接続される。なお、素子基板は検査工程終了後、コイル用配線120が物理的及び電気的に切り離されるように、点線A−A’において切断される。   FPC or TAB or the like is connected to the connector connecting portion 115 in a step after the inspection step. The element substrate is cut at a dotted line A-A ′ after the inspection process so that the coil wiring 120 is physically and electrically separated.

次に、検査工程における素子基板と検査基板の動作について説明する。なお検査工程における信号の流れを分かり易くするために、図1で示した素子基板と検査基板の構成を、図2にブロック図で示し、図1及び図2を参照して説明する。   Next, the operation of the element substrate and the inspection substrate in the inspection process will be described. In order to make it easy to understand the signal flow in the inspection process, the configuration of the element substrate and the inspection substrate shown in FIG. 1 is shown in a block diagram in FIG. 2, and will be described with reference to FIGS.

検査基板204において、信号源201または交流電源202から、コネクター接続部105に接続されるコネクターを介して、外部入力用バッファ103に検査用の交流の信号が入力される。検査用の交流の信号は、外部入力用バッファ103において緩衝増幅され、入力用1次コイル形成部101に入力される。   In the inspection board 204, an AC signal for inspection is input from the signal source 201 or the AC power source 202 to the external input buffer 103 via the connector connected to the connector connection unit 105. The AC signal for inspection is buffered and amplified in the external input buffer 103 and input to the input primary coil forming unit 101.

なお、図1及び図2では、入力された交流の信号を、外部入力用バッファ103において緩衝増幅してから、入力用1次コイル形成部101に入力するが、本発明はこの構成に限定されない。外部入力用バッファ103を設けずに、直接交流の信号を入力用1次コイル形成部101に入力しても良い。   1 and 2, the input AC signal is buffered and amplified in the external input buffer 103 and then input to the input primary coil forming unit 101. However, the present invention is not limited to this configuration. . An AC signal may be directly input to the input primary coil forming unit 101 without providing the external input buffer 103.

入力用1次コイル形成部101には、複数の入力用1次コイルが形成されている。各入力用1次コイルの2つの端子間に、交流の信号が印加される。   The input primary coil forming unit 101 is formed with a plurality of input primary coils. An AC signal is applied between the two terminals of each input primary coil.

一方、素子基板205が有する入力用2次コイル形成部117には、入力用1次コイル形成部101が有する複数の入力用1次コイルに対応した複数の入力用2次コイルが形成されている。入力用1次コイルに交流の信号が入力されると、電磁誘導により、各入力用2次コイルが有する2つの端子間に起電力である交流の電圧が生じる。   On the other hand, the input secondary coil forming unit 117 included in the element substrate 205 is formed with a plurality of input secondary coils corresponding to the plurality of input primary coils included in the input primary coil forming unit 101. . When an AC signal is input to the input primary coil, an AC voltage that is an electromotive force is generated between the two terminals of each input secondary coil due to electromagnetic induction.

入力用2次コイルにおいて発生した交流の電圧は、波形整形回路116aまたは整流回路116bに供給される。波形整形回路116aまたは整流回路116bでは、該交流の電圧を整形または整流化し、駆動信号または電源電圧を生成する。   The AC voltage generated in the input secondary coil is supplied to the waveform shaping circuit 116a or the rectifier circuit 116b. The waveform shaping circuit 116a or the rectifier circuit 116b shapes or rectifies the AC voltage to generate a drive signal or a power supply voltage.

生成された駆動信号または電源電圧は、コイル用配線120を介して引きまわし配線114に入力される。入力された駆動信号または電源電圧等は、引きまわし配線114を介して信号線駆動回路111、走査線駆動回路112、画素部113に供給される。   The generated drive signal or power supply voltage is input to the lead wiring 114 via the coil wiring 120. The input drive signal, power supply voltage, or the like is supplied to the signal line driver circuit 111, the scan line driver circuit 112, and the pixel portion 113 through the lead wiring 114.

なお画素部113には複数の画素が形成されており、各画素には画素電極が形成されている。なお、信号線駆動回路及び走査線駆動回路は、図1(A)及び図2に示した数に限定されない。   Note that a plurality of pixels are formed in the pixel portion 113, and a pixel electrode is formed in each pixel. Note that the number of signal line driver circuits and scan line driver circuits is not limited to the numbers illustrated in FIGS.

そして、信号線駆動回路111、走査線駆動回路112、画素部113が有する各回路または回路素子の出力が、検査専用回路119に入力される。   Then, the output of each circuit or circuit element included in the signal line driver circuit 111, the scanning line driver circuit 112, and the pixel portion 113 is input to the inspection dedicated circuit 119.

なお画素部113においては、例えばトランジスタの各端子の電圧や画素電極の電圧を、回路または回路素子の出力として検査専用回路119に入力することができる。ただし全ての画素において、回路または回路素子の出力を検査専用回路119に入力する必要はなく、任意に選択した画素においてのみ、回路または回路素子の出力を検査専用回路119に入力するようにしても良い。また、画素部113に実際の表示には用いない検査専用の画素(ダミー画素)を設け、検査専用の画素において回路または回路素子の出力を検査専用回路119に入力するようにしても良い。これは画素部113に限られず、素子基板が有する全ての回路または回路素子の出力を、検査専用回路119に入力する必要はなく、回路または回路素子のいくつかを選択し、その出力を検査専用回路119に入力するようにしても良い。また、実際の駆動には用いない検査専用の回路または回路素子を形成し、該検査専用の回路または回路素子の出力を検査専用回路119に入力するようにしても良い。   Note that in the pixel portion 113, for example, the voltage of each terminal of the transistor or the voltage of the pixel electrode can be input to the test-dedicated circuit 119 as an output of a circuit or a circuit element. However, in all the pixels, it is not necessary to input the output of the circuit or the circuit element to the inspection dedicated circuit 119, and the output of the circuit or the circuit element may be input to the inspection dedicated circuit 119 only in an arbitrarily selected pixel. good. Further, a pixel dedicated to inspection (dummy pixel) that is not used for actual display may be provided in the pixel portion 113, and an output of a circuit or a circuit element may be input to the inspection dedicated circuit 119 in the pixel dedicated to inspection. This is not limited to the pixel unit 113, and it is not necessary to input all the circuits or circuit element outputs of the element substrate to the test-dedicated circuit 119, and some of the circuits or circuit elements are selected and the output is dedicated to the test The signal may be input to the circuit 119. Alternatively, a circuit or circuit element dedicated to inspection that is not used for actual driving may be formed, and an output of the circuit or circuit element dedicated to inspection may be input to the circuit dedicated to inspection 119.

検査専用回路119は、入力された回路または回路素子の出力を信号処理し、検査対象の回路または回路素子の動作状態を情報として有している信号(動作情報信号)を生成する。そして該動作情報信号の振幅を増幅すし、変調回路121に入力する。なお、動作情報信号は必ずしも増幅する必要はなく、この場合、直接変調回路121に入力する。   The inspection dedicated circuit 119 performs signal processing on the output of the input circuit or circuit element, and generates a signal (operation information signal) having the operation state of the circuit or circuit element to be inspected as information. Then, the amplitude of the operation information signal is amplified and input to the modulation circuit 121. Note that the operation information signal is not necessarily amplified, and in this case, the operation information signal is directly input to the modulation circuit 121.

一方、検査専用回路119には、入力用2次コイルにおいて生成された交流の電圧が入力されている。該交流の信号は、検査専用回路119が有する変調回路121に入力される。   On the other hand, an alternating voltage generated in the input secondary coil is input to the inspection dedicated circuit 119. The AC signal is input to the modulation circuit 121 included in the inspection dedicated circuit 119.

そして、検査専用回路119は、変調回路121において入力された交流の電圧の振幅を、入力された該動作情報信号に従って変調させ、被変調信号として出力用1次コイル形成部118に入力する。   Then, the test dedicated circuit 119 modulates the amplitude of the AC voltage input in the modulation circuit 121 according to the input operation information signal, and inputs the modulated voltage to the output primary coil forming unit 118 as a modulated signal.

出力用1次コイル形成部118に入力された被変調信号の電圧は、具体的には、出力用1次コイル形成部118が有する複数の出力用1次コイルの、一方の端子に入力される。複数の出力用1次コイルが有するもう一方の端子には、一定の電圧が与えられている。   Specifically, the voltage of the modulated signal input to the output primary coil forming unit 118 is input to one terminal of the plurality of output primary coils included in the output primary coil forming unit 118. . A constant voltage is applied to the other terminal of the plurality of primary coils for output.

一方、検査基板204が有する出力用2次コイル形成部102には、出力用1次コイル形成部102が有する複数の出力用1次コイルに対応した複数の出力用2次コイルが形成されている。出力用1次コイルの2つの端子間に交流の電圧が入力されると、電磁誘導により、各出力用2次コイルが有する2つの端子間に起電力である交流の電圧が生じる。出力用2次コイルが有する2つの端子間に生じる交流の電圧は、回路または回路素子の動作状態を情報として有している。   On the other hand, a plurality of output secondary coils corresponding to the plurality of output primary coils included in the output primary coil forming unit 102 are formed in the output secondary coil forming unit 102 included in the inspection board 204. . When an AC voltage is input between the two terminals of the output primary coil, an AC voltage that is an electromotive force is generated between the two terminals of each output secondary coil due to electromagnetic induction. The AC voltage generated between the two terminals of the output secondary coil has the operation state of the circuit or circuit element as information.

出力用2次コイルの一方の端子には一定の電圧が与えられている。そして、出力用2次コイルのもう一方の端子における電圧は、外部出力用バッファ104において増幅され、検査部203に入力される。   A constant voltage is applied to one terminal of the output secondary coil. The voltage at the other terminal of the output secondary coil is amplified in the external output buffer 104 and input to the inspection unit 203.

なお、外部出力用バッファ104は必ずしも設ける必要はなく、出力用2次コイルのもう一方の端子における電圧を、増幅せずに直接検査部203に入力するようにしても良い。   The external output buffer 104 is not necessarily provided, and the voltage at the other terminal of the output secondary coil may be directly input to the inspection unit 203 without being amplified.

検査部203では、回路または回路素子の動作状態を情報として有する交流の電圧から、回路または回路素子の良否を判定したり、不良箇所の位置を突き止めることができる。   The inspection unit 203 can determine the quality of the circuit or the circuit element from the AC voltage having the operation state of the circuit or the circuit element as information, and can determine the position of the defective portion.

なお、検査専用回路に入力される交流の電圧の周波数を高めると、検査専用回路から出力用1次コイルの端子に入力される被変調信号の周波数も高くなる。コイルのインピーダンスは、巻き数、サイズ等のコイルの設計や、コイルに入力される信号の周波数等、様々な要素によって決まる。そのため、検査専用回路に入力される変調前の交流の電圧の周波数の値は、コイルのインピーダンスの値を左右する他の要素との兼ね合いで決めるのが望ましい。   When the frequency of the alternating voltage input to the test dedicated circuit is increased, the frequency of the modulated signal input from the test dedicated circuit to the terminal of the output primary coil also increases. The impedance of the coil is determined by various factors such as the coil design such as the number of turns and the size, and the frequency of the signal input to the coil. Therefore, it is desirable that the frequency value of the AC voltage before modulation input to the test-dedicated circuit is determined in consideration of other factors that influence the impedance value of the coil.

なお、検査対象の回路または回路素子の動作状態によって、動作情報信号に直流の成分が含まれている場合がある。動作情報信号に直流の成分が含まれている場合でも、動作情報信号による変調によって生成された交流の被変調信号を出力用1次コイルの端子に入力することで、良否の情報を有する起電力を出力用2次コイルの端子間に生じさせることができる。   Depending on the operation state of the circuit or circuit element to be inspected, the operation information signal may contain a direct current component. Even when the operation information signal includes a direct current component, an electromotive force having good / bad information can be obtained by inputting the AC modulated signal generated by the modulation by the operation information signal to the terminal of the output primary coil. Can be generated between the terminals of the output secondary coil.

なお、入力用1次コイルと、出力用2次コイルは、必ずしも同じ1つの検査用基板上に設けなくても良い。それぞれ異なる基板上に形成していても良い。   Note that the input primary coil and the output secondary coil are not necessarily provided on the same inspection substrate. They may be formed on different substrates.

また、図1及び図2では、複数の入力用1次コイルが形成されている部分を入力用1次コイル形成部とし、複数の出力用2次コイルが形成されている部分を出力用2次コイル形成部として、区別しているが、本発明の検査基板はこの構成に限定されない。複数の入力用1次コイルと複数の出力用2次コイルが混ざるように配置されている場合、複数の入力用1次コイルが形成されている部分と、複数の出力用2次コイルが形成されている部分を区別する必要はない。   1 and 2, a portion where a plurality of input primary coils are formed is defined as an input primary coil forming portion, and a portion where a plurality of output secondary coils are formed is defined as an output secondary coil. Although it distinguishes as a coil formation part, the test | inspection board | substrate of this invention is not limited to this structure. When a plurality of input primary coils and a plurality of output secondary coils are arranged so as to be mixed, a portion where a plurality of input primary coils are formed and a plurality of output secondary coils are formed. There is no need to distinguish the parts.

なお、駆動信号または電源電圧等が信号線駆動回路111、走査線駆動回路112、画素部113に入力されると、信号線駆動回路111、走査線駆動回路112及び画素部113が有する各回路または回路素子において、電磁波または電界が生じる。出力用1次コイル及び出力用2次コイルを設けずに、回路または回路素子が駆動することで生じる微弱な電磁波、または電界をモニターし、多数の回路または回路素子の中から、正常に動作していない箇所を検出することも可能である。   Note that when a drive signal, a power supply voltage, or the like is input to the signal line driver circuit 111, the scan line driver circuit 112, and the pixel portion 113, each circuit included in the signal line driver circuit 111, the scan line driver circuit 112, and the pixel portion 113 or An electromagnetic wave or an electric field is generated in the circuit element. Without providing a primary coil for output and secondary coil for output, it monitors weak electromagnetic waves or electric fields generated by driving a circuit or circuit element, and operates normally from many circuits or circuit elements. It is also possible to detect a missing part.

正常に動作していない回路または回路素子において生じる電界及び電磁波の強さは、正常に動作している回路または回路素子において生じる電界及び電磁波の強さと異なる。よって、各回路または回路素子において生じた電磁波及び電界の強度をモニターすることで、検査部203において良否を判定したり、不良箇所の位置を突き止めることができる。   The strength of the electric field and electromagnetic wave generated in a circuit or circuit element that is not operating normally differs from the strength of the electric field and electromagnetic wave generated in a circuit or circuit element that is operating normally. Therefore, by monitoring the intensity of the electromagnetic wave and electric field generated in each circuit or circuit element, the inspection unit 203 can determine pass / fail or locate the defective portion.

出力用1次コイル及び出力用2次コイルを設けない場合、図2では、検査専用回路119からの出力を、所定の端子(パッド)に入力する。そして、該パッドにおける電界または電磁波の強度を測定し、該測定値を検査部203に入力することで、検査部203において良否を判定したり、欠陥箇所の位置を検出することができる。   When the primary coil for output and the secondary coil for output are not provided, in FIG. 2, the output from the inspection dedicated circuit 119 is input to a predetermined terminal (pad). Then, by measuring the intensity of the electric field or electromagnetic wave in the pad and inputting the measured value to the inspection unit 203, the inspection unit 203 can determine pass / fail or detect the position of the defective portion.

なお、電磁波及び電界をモニターする方法は、回路または回路素子の良否を判定することができる程度の感度を有しているならば、どのような方法を用いても良い。   As a method for monitoring electromagnetic waves and electric fields, any method may be used as long as it has a sensitivity sufficient to determine whether a circuit or a circuit element is good or bad.

次に、入力用1次コイル、入力用2次コイル、出力用1次コイル及び出力用2次コイル(以下、単にコイルと総称する)の詳しい構成について説明する。   Next, detailed configurations of the input primary coil, the input secondary coil, the output primary coil, and the output secondary coil (hereinafter simply referred to as a coil) will be described.

図3にコイルの拡大図を示す。図3(A)に示したコイルは、曲線を描いて渦を巻いた状態になっており、コイルの両端にはコイル用端子301、302が形成されている。また、図3(B)に示したコイルは矩形を描いて渦を巻いた状態になっており、コイルの両端にはコイル用端子303、304が形成されている。   FIG. 3 shows an enlarged view of the coil. The coil shown in FIG. 3 (A) is in a state of spiraling in a curved shape, and coil terminals 301 and 302 are formed at both ends of the coil. In addition, the coil shown in FIG. 3B is in a state of spiraling in a rectangular shape, and coil terminals 303 and 304 are formed at both ends of the coil.

なお、本発明で用いるコイルは、コイルが有する配線全体が同一平面上に形成され、且つコイルが有する配線が渦を巻いていれば良い。よって、コイルが形成されている平面に対して垂直の方向から見たときに、コイルの有する配線が曲線を描いていても、角のある形を描いていても良い。   In addition, the coil used by this invention should just form the whole wiring which a coil has on the same plane, and the wiring which a coil has spirals. Therefore, when viewed from a direction perpendicular to the plane on which the coil is formed, the wiring of the coil may be curved or may have a cornered shape.

また、コイルの巻数、線幅及び基板上に占める面積は、設計者が適宜設定することができる。   Further, the number of turns of the coil, the line width, and the area occupied on the substrate can be appropriately set by the designer.

次に、素子基板と検査基板とを重ね合わせた様子を、図4(A)に示す。ただし、図1(B)及び図2に示した素子基板が、図3(A)に示したコイルを入力用2次コイル、出力用1次コイルとして有し、同じく図1(A)及び図2に示した検査基板が、図3(A)に示したコイルを入力用1次コイル、出力用2次コイルとして有する場合について示す。なお206は、検査基板204と、信号源、交流電源及び検査部とを接続するコネクターである。   Next, FIG. 4A shows a state in which the element substrate and the inspection substrate are overlaid. However, the element substrate shown in FIGS. 1B and 2 has the coil shown in FIG. 3A as an input secondary coil and an output primary coil. 2 shows a case where the inspection board shown in FIG. 2 has the coil shown in FIG. 3A as an input primary coil and an output secondary coil. Reference numeral 206 denotes a connector for connecting the inspection board 204 to a signal source, an AC power source, and an inspection unit.

図4(A)に示すとおり、検査基板204が有する入力用1次コイル形成部101と、素子基板205が有する入力用2次コイル形成部117は、一定の間隔を空けて重なっている。なおこの間隔は小さいほど望ましく、入力用1次コイル形成部101と、素子基板205が有する入力用2次コイル形成部117は、間隔の制御が可能な限り近づけたほうが良い。   As shown in FIG. 4A, the input primary coil forming unit 101 included in the inspection substrate 204 and the input secondary coil forming unit 117 included in the element substrate 205 overlap each other with a certain interval. It should be noted that this interval is preferably as small as possible. The input primary coil forming unit 101 and the input secondary coil forming unit 117 included in the element substrate 205 should be as close as possible to control the interval.

また、検査基板204が有する出力用2次コイル形成部102と、素子基板205が有する出力用1次コイル形成部118は、一定の間隔を空けて重なっている。なおこの間隔は小さいほど望ましく、出力用2次コイル形成部102と、出力用1次コイル形成部118は、間隔の制御が可能な限り近づけたほうが良い。   Further, the output secondary coil forming unit 102 included in the inspection substrate 204 and the output primary coil forming unit 118 included in the element substrate 205 are overlapped with each other with a certain interval. The smaller the interval, the better. The output secondary coil forming unit 102 and the output primary coil forming unit 118 should be as close as possible to control the interval.

なお、検査基板204と素子基板205の間隔は、両基板を固定することで保つようにしても良い。また、素子基板205と検査基板204のいずれか一方を固定し、検査基板204と素子基板205の間に一定の流量または圧力の流体を用いることで、間隔を保つようにしても良い。なお流体として、代表的には気体または液体を用いることができる。またその他に、粘性を有するゲルなどの流体を用いることも可能である。   The interval between the inspection substrate 204 and the element substrate 205 may be maintained by fixing both substrates. Alternatively, one of the element substrate 205 and the inspection substrate 204 may be fixed, and a fluid having a constant flow rate or pressure may be used between the inspection substrate 204 and the element substrate 205 to maintain the interval. Note that a gas or a liquid can be typically used as the fluid. In addition, it is also possible to use a fluid such as a viscous gel.

入力用1次コイル形成部101と入力用2次コイル形成部117とが重なっている部分の拡大図を、図4(B)に示す。208は入力用1次コイルであり、207は入力用2次コイルを示している。   FIG. 4B shows an enlarged view of a portion where the input primary coil forming unit 101 and the input secondary coil forming unit 117 overlap. Reference numeral 208 denotes an input primary coil, and 207 denotes an input secondary coil.

入力用1次コイル208と入力用2次コイル207は、配線の渦の巻く方向が同一になっているが、本発明はこの構成に限定されない。1次コイルと2次コイルの渦の巻く方向が逆であっても良い。   The input primary coil 208 and the input secondary coil 207 have the same winding direction of the wiring, but the present invention is not limited to this configuration. The winding direction of the primary coil and the secondary coil may be reversed.

また1次コイルと、2次コイルの間の間隔(Lgap)も設計者が適宜設定することができる。 Further, the designer can also set the distance (L gap ) between the primary coil and the secondary coil as appropriate.

出力用1次コイル形成部118の出力用1次コイルと、出力用2次コイル形成部102の出力用2次コイルも、図4(B)に示した入力用1次コイル208と入力用2次コイル207と同様に重ねることで、電磁結合させることができる。   The output primary coil of the output primary coil forming unit 118 and the output secondary coil of the output secondary coil forming unit 102 are also the input primary coil 208 and the input 2 coil shown in FIG. By superimposing like the next coil 207, it can electromagnetically couple.

次に、図2に示した波形整形回路116aの詳しい構成について説明する。   Next, a detailed configuration of the waveform shaping circuit 116a shown in FIG. 2 will be described.

図5に、図1及び図2で示した信号源201、入力用1次コイル形成部101、入力用2次コイル形成部117、波形整形回路116aの接続の様子を示す。
入力用1次コイル形成部101には、複数の入力用1次コイル208が設けられている。入力用2次コイル形成部117には、複数の入力用2次コイル207が設けられている。
FIG. 5 shows how the signal source 201, the input primary coil forming unit 101, the input secondary coil forming unit 117, and the waveform shaping circuit 116a shown in FIGS. 1 and 2 are connected.
The input primary coil forming unit 101 is provided with a plurality of input primary coils 208. The input secondary coil forming unit 117 is provided with a plurality of input secondary coils 207.

各入力用1次コイル208には、信号源201から検査用の交流の信号が入力されている。具体的には、信号源201から検査用の交流の信号の電圧が、各入力用1次コイル208が有する2つの端子間に印加される。入力用1次コイル208に交流の信号が入力されると、対応する入力用2次コイル207に起電力である交流の電圧が生じ、該交流の電圧が波形整形回路116aに印加される。   An AC signal for inspection is input from the signal source 201 to each input primary coil 208. Specifically, the voltage of the AC signal for inspection from the signal source 201 is applied between the two terminals of each input primary coil 208. When an AC signal is input to the input primary coil 208, an AC voltage as an electromotive force is generated in the corresponding input secondary coil 207, and the AC voltage is applied to the waveform shaping circuit 116a.

波形整形回路116aは、時間的に変化する量、すなわち電圧や電流等の波形を形成したり、整形したりするために用いる電子回路である。図5では、抵抗501、502、コンデンサ503を有し、各回路素子を組み合わせて積分型波形整形回路116aを構成している。むろん波形整形回路は図5に示した構成に限られない。また、電源回路と同様に、ダイオードを用いた検波回路を使用し、波形整形を行なっても良い。   The waveform shaping circuit 116a is an electronic circuit used for forming or shaping an amount that changes with time, that is, a waveform such as voltage or current. In FIG. 5, resistors 501 and 502 and a capacitor 503 are included, and an integrated waveform shaping circuit 116a is configured by combining each circuit element. Of course, the waveform shaping circuit is not limited to the configuration shown in FIG. Further, similarly to the power supply circuit, the waveform shaping may be performed using a detection circuit using a diode.

本発明で用いる波形整形回路116aは、入力された交流の起電力から、具体的にはクロック信号(CLK)、スタートパルス信号(SP)、ビデオ信号(Video Signals)を生成し、出力する。   Specifically, the waveform shaping circuit 116a used in the present invention generates and outputs a clock signal (CLK), a start pulse signal (SP), and a video signal (Video Signals) from the input AC electromotive force.

なお、波形整形回路116aでは、上述した信号に限定されず、任意の波形の信号を生成することが可能である。波形整形回路116aで生成される信号は、回路または回路素子の動作状態を確認することができる信号であれば良い。   Note that the waveform shaping circuit 116a is not limited to the signal described above, and can generate a signal having an arbitrary waveform. The signal generated by the waveform shaping circuit 116a may be any signal that can confirm the operation state of the circuit or the circuit element.

波形整形回路116aから出力された信号は、後段の回路(図1及び図2では、信号線駆動回路111、走査線駆動回路112、画素部113に入力される。   A signal output from the waveform shaping circuit 116a is input to a circuit in a subsequent stage (in FIG. 1 and FIG. 2, the signal line driver circuit 111, the scanning line driver circuit 112, and the pixel portion 113).

次に、図2に示した整流回路116bの詳しい構成について説明する。   Next, a detailed configuration of the rectifier circuit 116b illustrated in FIG. 2 will be described.

図6に、図1及び図2で示した交流電源202、入力用1次コイル形成部101、入力用2次コイル形成部117、整流回路116bの接続の様子を示す。入力用1次コイル形成部101には、複数の入力用1次コイル208が設けられている。入力用2次コイル形成部117には、複数の入力用2次コイル207が設けられている。   FIG. 6 illustrates a connection state of the AC power source 202, the input primary coil forming unit 101, the input secondary coil forming unit 117, and the rectifier circuit 116b illustrated in FIGS. The input primary coil forming unit 101 is provided with a plurality of input primary coils 208. The input secondary coil forming unit 117 is provided with a plurality of input secondary coils 207.

各入力用1次コイル208には、交流電源202から検査用の交流の信号が入力されている。入力用1次コイル208に交流の信号が入力されると、対応する入力用2次コイル207に起電力である交流の電圧が生じ、該交流の電圧が整流回路116bに印加される。   Each input primary coil 208 receives an AC signal for inspection from the AC power source 202. When an AC signal is input to the input primary coil 208, an AC voltage, which is an electromotive force, is generated in the corresponding input secondary coil 207, and the AC voltage is applied to the rectifier circuit 116b.

なお、本発明において整流回路とは、供給された交流の電圧から直流の電源電圧を生成する回路を意味する。なお直流の電源電圧とは、回路または回路素子に与えられる、一定の高さに保たれた電圧を意味する。   In the present invention, the rectifier circuit means a circuit that generates a DC power supply voltage from a supplied AC voltage. The DC power supply voltage means a voltage that is applied to a circuit or a circuit element and is maintained at a certain height.

図6で示した整流回路116bでは、ダイオード601と、コンデンサ602と、抵抗603とを有している。ダイオード601は入力された交流の電圧を整流化し、直流の電圧に変換する。   The rectifier circuit 116b illustrated in FIG. 6 includes a diode 601, a capacitor 602, and a resistor 603. The diode 601 rectifies the input AC voltage and converts it into a DC voltage.

図7(A)に、ダイオード601において整流化される前の、交流の電圧の時間変化を示す。また、図7(B)に、整流化された後の電圧の時間変化を示す。
図7(A)のグラフと図7(B)のグラフを比較してわかるように、整流化された後は、半周期毎に、電圧が0または一方の極性を有する値をとる、いわゆる脈流の電圧になっている。
FIG. 7A shows the change over time of the AC voltage before rectification in the diode 601. Further, FIG. 7B shows a time change of the voltage after rectification.
As can be seen by comparing the graph of FIG. 7A and the graph of FIG. 7B, after rectification, the voltage takes a value having zero or one polarity every half cycle. It is the voltage of the current.

図7(B)に示した脈流の電圧は、電源電圧として用いることが難しい。そこで通常では、コンデンサにおいて電荷を蓄えることによって、脈流を平滑化して直流の電圧に変換している。しかし、薄膜の半導体を用いて、脈流を十分に平滑化させることができる大容量のコンデンサを形成するには、コンデンサ自体の面積を非常に大きくする必要があり、現実的ではない。そこで、本発明では、整流化した後に位相の異なる脈流の電圧を合成(加算)し、電圧を平滑化する。上記構成により、コンデンサの容量が小さくても脈流を十分に平滑化させることができ、さらには、コンデンサを積極的に設けなくとも、脈流を十分に平滑化させることができる。   The pulsating voltage shown in FIG. 7B is difficult to use as the power supply voltage. Therefore, normally, the pulsating flow is smoothed and converted into a DC voltage by storing electric charge in the capacitor. However, in order to form a large-capacity capacitor that can sufficiently smooth the pulsating flow using a thin film semiconductor, it is necessary to increase the area of the capacitor itself, which is not practical. Therefore, in the present invention, after rectification, the pulsating voltages having different phases are synthesized (added) to smooth the voltages. With the above configuration, the pulsating flow can be sufficiently smoothed even when the capacitance of the capacitor is small, and further, the pulsating flow can be sufficiently smoothed without actively providing a capacitor.

図6では4つの1次コイルに、それぞれ位相の異なる交流の信号を入力することで、4つのダイオード601から位相の異なる4つの脈流の電圧を出力するようにする。そして、上記4つの脈流の電圧が加算されて、高さがほぼ一定に保たれた直流の電源電圧が生成され、後段の回路に出力される。   In FIG. 6, AC signals having different phases are input to the four primary coils, so that four pulsating voltages having different phases are output from the four diodes 601. Then, the four pulsating voltages are added to generate a DC power supply voltage whose height is kept substantially constant, and is output to a subsequent circuit.

なお図6では、4つのダイオード601から出力される、位相の異なる4つの脈流の信号を加算することで、電源電圧を生成していたが、本発明はこの構成に限定されない。位相分割の数はこれに限定されず、整流回路からの出力を、電源電圧として用いることができるぐらい平滑化することが可能であれば、位相分割の数は幾つでも良い。   In FIG. 6, the power supply voltage is generated by adding four pulsating signals having different phases output from the four diodes 601, but the present invention is not limited to this configuration. The number of phase divisions is not limited to this, and any number of phase divisions may be used as long as the output from the rectifier circuit can be smoothed so that it can be used as a power supply voltage.

図8に、複数の整流化された信号を加算しすることで得られる、電源電圧の時間変化を示す。図8(A)は、4つの位相の異なる脈流の電圧を加算することで、1つの電源電圧が生成されている例を示している。   FIG. 8 shows a time change of the power supply voltage obtained by adding a plurality of rectified signals. FIG. 8A shows an example in which one power supply voltage is generated by adding four pulsating voltages having different phases.

なお本発明の整流回路において生成される電圧は、複数の脈流を加算して生成されるため、直流以外の成分であるリプルが存在している。リプルとは電圧の最も高い電圧と最も低い電圧との差に相当する。リプルが小さければ小さいほど、整流回路において生成される電圧は直流に近づき、電源電圧として用いやすくなる。   Since the voltage generated in the rectifier circuit of the present invention is generated by adding a plurality of pulsating currents, ripples that are components other than direct current exist. The ripple corresponds to the difference between the highest voltage and the lowest voltage. The smaller the ripple is, the closer the voltage generated in the rectifier circuit is to direct current and the easier it is to use as the power supply voltage.

図8(B)に、8つの位相の異なる脈流の電圧を加算することで得られる、電源電圧の時間変化を示す。図8(A)に示した電源電圧の時間変化と比較して、リプルが小さくなっていることがわかる。   FIG. 8B shows a change in power supply voltage over time, which is obtained by adding eight pulsating voltages having different phases. It can be seen that the ripple is smaller than the time change of the power supply voltage shown in FIG.

図8(C)に、16の位相の異なる脈流の電圧を加算することで得られる、電源電圧の時間変化を示す。図8(B)に示した電源電圧の時間変化と比較して、リプルがさらに小さくなっていることがわかる。   FIG. 8C shows a time change of the power supply voltage obtained by adding 16 pulsating voltages having different phases. It can be seen that the ripple is further reduced as compared with the time change of the power supply voltage shown in FIG.

このように、多くの位相の互いに異なる脈流を加算することで、電源電圧のリプルが小さくなり、より直流化されることがわかる。よって、位相分割の数が多ければ多いほど、整流回路から出力される電源電圧が平滑化されやすい。また、コンデンサ602の容量が大きければ大きいほど、整流回路から出力される電源電圧が平滑化されやすい。   Thus, it can be seen that the ripples of the power supply voltage are reduced by adding many different pulsating flows having different phases, and the DC voltage is further increased. Therefore, the greater the number of phase divisions, the easier the power supply voltage output from the rectifier circuit is smoothed. Further, the larger the capacitance of the capacitor 602, the easier the power supply voltage output from the rectifier circuit is smoothed.

整流回路116bにおいて生成された電源電圧は、端子610、611から出力される。具体的には、端子610からグラウンドに近い電圧が出力され、端子611からは正の極性を有する電源電圧が出力される。なお、ダイオードの陽極と陰極を逆に接続することで、出力される電源電圧の極性を逆にすることができる。端子610、611に接続されているダイオード602は、端子612、613に接続されているダイオード601に対して、陽極と陰極が逆に接続されている。よって、端子612からグラウンドに近い電圧が出力され、端子613からは負の極性を有する電源電圧が出力される。   The power supply voltage generated in the rectifier circuit 116b is output from the terminals 610 and 611. Specifically, a voltage close to ground is output from the terminal 610, and a power supply voltage having a positive polarity is output from the terminal 611. The polarity of the output power supply voltage can be reversed by connecting the anode and cathode of the diode in reverse. The anode 602 and the cathode of the diode 602 connected to the terminals 610 and 611 are connected in reverse to the diode 601 connected to the terminals 612 and 613. Thus, a voltage close to ground is output from the terminal 612, and a power supply voltage having a negative polarity is output from the terminal 613.

なお、素子基板上には様々な回路または回路素子が形成されており、各回路または回路素子の種類または用途によって、回路または回路素子に供給するべき電源電圧の高さが異なる。図6に示した整流回路では、入力する交流の信号の振幅を調整することで、各端子にに入力される電圧の高さを調整することができる。
さらに、回路または回路素子によって接続する端子を変えることで、回路または回路素子に供給される電源電圧の高さを変えることができる。
Various circuits or circuit elements are formed on the element substrate, and the power supply voltage to be supplied to the circuits or circuit elements varies depending on the type or application of each circuit or circuit element. In the rectifier circuit shown in FIG. 6, the height of the voltage input to each terminal can be adjusted by adjusting the amplitude of the input AC signal.
Furthermore, the height of the power supply voltage supplied to the circuit or the circuit element can be changed by changing the terminal connected by the circuit or the circuit element.

本発明で用いる整流回路は、図6に示した半波整流回路に限定されない。本発明で用いる整流回路は、入力された交流の信号から直流の電源電圧を生成することができる回路であれば良い。   The rectifier circuit used in the present invention is not limited to the half-wave rectifier circuit shown in FIG. The rectifier circuit used in the present invention may be any circuit that can generate a DC power supply voltage from an input AC signal.

図18に、図6で示した以外の構成を有する整流回路の回路図を示す。図18(A)に示した整流回路は倍電圧全波整流回路901であり、2つのダイオード902、903を有している。また図18(A)に示した倍電圧全波整流回路は、コンデンサ904、905を有している。なおコンデンサの位置及びその数は、図18(A)に示したものに限定されない。   FIG. 18 shows a circuit diagram of a rectifier circuit having a configuration other than that shown in FIG. The rectifier circuit shown in FIG. 18A is a voltage doubler full-wave rectifier circuit 901 and includes two diodes 902 and 903. In addition, the voltage doubler full-wave rectifier circuit illustrated in FIG. Note that the positions and the number of capacitors are not limited to those shown in FIG.

ダイオード902のカソードと、ダイオード903のアノードは、共に入力用2次コイルの端子の1つに接続されている。倍電圧全波整流回路901を複数設け、出力を加算することによって、図6に示した半波整流回路に比べて2倍の直流電圧を得ることができる。   The cathode of the diode 902 and the anode of the diode 903 are both connected to one of the terminals of the input secondary coil. By providing a plurality of voltage doubler full-wave rectifier circuits 901 and adding the outputs, a DC voltage twice that of the half-wave rectifier circuit shown in FIG. 6 can be obtained.

図18(B)に示した整流回路はブリッジ整流回路911であり、4つのダイオード912、913、914、915を有している。4つのダイオード912、913、914、915はブリッジ回路を形成している。また図18(B)に示したブリッジ整流回路は、コンデンサ916を有している。なおコンデンサの位置及びその数は、図18(B)に示したものに限定されない。   The rectifier circuit illustrated in FIG. 18B is a bridge rectifier circuit 911 and includes four diodes 912, 913, 914, and 915. The four diodes 912, 913, 914, and 915 form a bridge circuit. In addition, the bridge rectifier circuit illustrated in FIG. 18B includes a capacitor 916. Note that the positions and the number of capacitors are not limited to those shown in FIG.

次に、図2に示した検査専用回路119の詳しい構成について説明する。   Next, a detailed configuration of the inspection dedicated circuit 119 shown in FIG. 2 will be described.

図9に、検査専用回路119の構成を示す。検査専用回路119は、検査対象である回路または回路素子の出力を信号処理し、検査対象の回路または回路素子の動作状態を情報として有している信号(動作情報信号)を生成する手段を有している。本実施の形態では、上記手段としてA/D変換回路223と、データフォーマット部224を用いる。   FIG. 9 shows the configuration of the inspection dedicated circuit 119. The inspection dedicated circuit 119 has means for performing signal processing on the output of the circuit or circuit element to be inspected and generating a signal (operation information signal) having the operation state of the circuit or circuit element to be inspected as information. is doing. In this embodiment, an A / D conversion circuit 223 and a data formatting unit 224 are used as the above means.

信号線駆動回路111、走査線駆動回路112、画素部113が有する回路または回路素子からのアナログの出力は、A/D変換回路223においてデジタル信号に変換される。デジタル信号はデータフォーマット部224に入力される。
なお、回路または回路素子からの出力が、アナログではなくデジタル信号である場合、該デジタル信号を直接データフォーマット部224に入力する。
Analog outputs from circuits or circuit elements included in the signal line driver circuit 111, the scan line driver circuit 112, and the pixel portion 113 are converted into digital signals by an A / D conversion circuit 223. The digital signal is input to the data format unit 224.
When the output from the circuit or circuit element is a digital signal instead of an analog signal, the digital signal is directly input to the data formatting unit 224.

なお、本実施の形態では、回路または回路素子から出力される信号を全てデジタルに変換し、データフォーマット部224においてデジタルの信号を用いて処理を行なっている。しかし本発明はこの構成に限定されない。回路または回路素子から出力される信号を全てアナログに変換し、データフォーマット部224においてアナログの信号を処理するようにしても良い。   Note that in this embodiment, all signals output from a circuit or circuit element are converted to digital, and the data format unit 224 performs processing using the digital signal. However, the present invention is not limited to this configuration. All signals output from the circuit or circuit element may be converted into analog, and the data format unit 224 may process the analog signal.

データフォーマット部224では、回路または回路素子に対応する入力されたデジタル信号を演算処理し、動作情報信号を生成する。動作情報信号とは、検査対象の回路または回路素子の動作状態を情報として有する信号である。なお動作情報信号は、具体的には、パラレルに入力されたデジタル信号を一旦記憶し、順に読み出すことによってシリアルに変換された信号であっても良いし、パラレルに入力されたデジタル信号の電圧を所定のタイミングに従って順に出力することで得られる信号であっても良い。また、検査対象となる回路または回路素子の出力が、全て同じ電圧を有するデジタル信号であるときと、1つでも異なる電圧を有するデジタル信号があるときとで、データフォーマット部224から出力される動作情報信号の電圧を変えるようにしても良い。いずれにしても、動作情報信号から検査対象である回路または回路素子の良否、さらには不良箇所の位置を把握することができれば良い。   In the data format unit 224, an input digital signal corresponding to a circuit or a circuit element is arithmetically processed to generate an operation information signal. The operation information signal is a signal having the operation state of the circuit or circuit element to be inspected as information. Specifically, the operation information signal may be a signal converted into a serial signal by temporarily storing digital signals input in parallel and sequentially reading them, or a voltage of a digital signal input in parallel. It may be a signal obtained by sequentially outputting in accordance with a predetermined timing. In addition, an operation output from the data formatting unit 224 when the outputs of the circuits or circuit elements to be inspected are all digital signals having the same voltage and when there is a digital signal having even one different voltage. The voltage of the information signal may be changed. In any case, it is only necessary to be able to grasp the quality of the circuit or circuit element to be inspected from the operation information signal, and the position of the defective portion.

データフォーマット部224から出力される動作情報信号は、バッファ222において増幅され、変調回路121に入力される。なおバッファ222を設けずに、データフォーマット部224からの出力を直接変調回路121に入力するようにしても良い。   The operation information signal output from the data format unit 224 is amplified in the buffer 222 and input to the modulation circuit 121. Note that the output from the data formatting unit 224 may be directly input to the modulation circuit 121 without providing the buffer 222.

一方、各入力用1次コイル208には、交流電源202から検査用の交流の信号が入力されている。入力用1次コイル208に交流の信号が入力されると、対応する入力用2次コイル207に起電力である交流の電圧が生じ、該交流の電圧が変調回路121に印加される。   On the other hand, an AC signal for inspection is input from each AC power source 202 to each input primary coil 208. When an AC signal is input to the input primary coil 208, an AC voltage that is an electromotive force is generated in the corresponding input secondary coil 207, and the AC voltage is applied to the modulation circuit 121.

変調回路121は、入力用2次コイル207から入力された交流の電圧の振幅を、データフォーマット部224またはバッファ222から入力された動作情報信号に従って変調させる手段を有している。図9では、上記手段としてトランジスタ220、221を有しているが、本発明はこの構成に限定されない。変調回路121は、入力用2次コイル207から入力された交流の電圧の振幅を、データフォーマット部224またはバッファ222から入力された動作情報信号に従って変調させることができれば、どのような構成を有していても良い。   The modulation circuit 121 has means for modulating the amplitude of the AC voltage input from the input secondary coil 207 in accordance with the operation information signal input from the data format unit 224 or the buffer 222. In FIG. 9, transistors 220 and 221 are provided as the above means, but the present invention is not limited to this structure. The modulation circuit 121 has any configuration as long as the amplitude of the AC voltage input from the input secondary coil 207 can be modulated according to the operation information signal input from the data format unit 224 or the buffer 222. May be.

図9に示した変調回路121は、バッファ222の出力が、トランジスタ220及び221のゲート電極に入力されている。トランジスタ220のソース領域とドレイン領域は、一方は入力用2次コイル207が有する第1の端子に接続されており、もう一方は出力用1次コイル210の第1の端子に接続されている。
トランジスタ221のソース領域とドレイン領域は、一方は出力用1次コイル210の第1の端子に接続されており、もう一方は一定の電圧が与えられている。
なお、この一定の電圧はグラウンドの電圧であっても良い。
In the modulation circuit 121 illustrated in FIG. 9, the output of the buffer 222 is input to the gate electrodes of the transistors 220 and 221. One of the source region and the drain region of the transistor 220 is connected to the first terminal of the input secondary coil 207, and the other is connected to the first terminal of the output primary coil 210.
One of the source region and the drain region of the transistor 221 is connected to the first terminal of the output primary coil 210, and the other is supplied with a constant voltage.
The constant voltage may be a ground voltage.

上記構成により、入力用2次コイル207から出力された交流の電圧が、動作情報信号によって変調され、被変調信号として出力用1次コイル210の第1の端子に入力される。なお、本実施の形態では、動作情報信号によって、入力用2次コイル207から出力された交流の電圧がスイッチングされ、被変調信号として出力用1次コイル210の第1の端子に入力されている。   With the above configuration, the AC voltage output from the input secondary coil 207 is modulated by the operation information signal and input to the first terminal of the output primary coil 210 as a modulated signal. In the present embodiment, the AC voltage output from the input secondary coil 207 is switched by the operation information signal, and is input to the first terminal of the output primary coil 210 as a modulated signal. .

また、入力用2次コイル207と、出力用1次コイル210がそれぞれ有する第2の端子には、共に同じ一定の電圧が与えられている。なおこの電圧は、グラウンドの電圧であっても良い。   Further, the same constant voltage is applied to the second terminals of the input secondary coil 207 and the output primary coil 210, respectively. This voltage may be a ground voltage.

出力用1次コイル210と、出力用2次コイル211とが電磁結合すると、出力用1次コイル211の2つの端子間に起電力である交流の電圧が生じる。該交流の電圧は、検査部203に入力される。   When the primary coil for output 210 and the secondary coil for output 211 are electromagnetically coupled, an alternating voltage that is an electromotive force is generated between the two terminals of the primary coil for output 211. The AC voltage is input to the inspection unit 203.

検査部203では、出力用2次コイル211から入力された交流の電圧から、検査対象の回路または回路素子が、正常に動作するか否かを特定することができる。   The inspection unit 203 can specify whether or not the circuit or circuit element to be inspected normally operates from the AC voltage input from the output secondary coil 211.

なお、検査専用回路に入力される交流の電圧の周波数を高めると、検査専用回路から出力用1次コイルの端子に入力される被変調信号の周波数も高くなる。コイルのインピーダンスは、巻き数、サイズ等のコイルの設計や、コイルに入力される信号の周波数など、様々な要素によって決まる。そのため、検査専用回路に入力される変調前の交流の電圧の周波数の値は、コイルのインピーダンスの値を左右する他の要素との兼ね合いで決めるのが望ましい。   When the frequency of the alternating voltage input to the test dedicated circuit is increased, the frequency of the modulated signal input from the test dedicated circuit to the terminal of the output primary coil also increases. The impedance of the coil is determined by various factors such as the coil design such as the number of turns and size, and the frequency of the signal input to the coil. Therefore, it is desirable that the frequency value of the AC voltage before modulation input to the test-dedicated circuit is determined in consideration of other factors that influence the impedance value of the coil.

なお、検査対象の回路または回路素子の動作状態によって、動作情報信号に直流の成分が含まれている場合がある。動作情報信号に直流の成分が含まれている場合でも、動作情報信号による変調によって生成された交流の被変調信号を出力用1次コイルの端子に入力することで、良否の情報を有する起電力を出力用2次コイルの端子間に生じさせることができる。   Depending on the operation state of the circuit or circuit element to be inspected, the operation information signal may contain a direct current component. Even when the operation information signal includes a direct current component, an electromotive force having good / bad information can be obtained by inputting the AC modulated signal generated by the modulation by the operation information signal to the terminal of the output primary coil. Can be generated between the terminals of the output secondary coil.

本実施の形態では、駆動回路である信号線駆動回路と走査線駆動回路を、素子基板が有している例について説明したが、本発明で検査する素子基板はこれに限定されない。素子基板が画素部のみを有している場合でも、本発明の検査方法を用いて検査することが可能である。また、TEGと称される単体素子または該単体素子を複合化した評価回路においても、本発明の検査方法及び検査装置を用いて動作状態を確認することが可能である。   In this embodiment mode, an example in which an element substrate has a signal line driver circuit and a scan line driver circuit which are driver circuits has been described; however, the element substrate to be inspected in the present invention is not limited thereto. Even when the element substrate has only the pixel portion, the inspection can be performed using the inspection method of the present invention. Further, even in a single element called TEG or an evaluation circuit in which the single elements are combined, the operation state can be confirmed using the inspection method and inspection apparatus of the present invention.

また、本実施の形態では液晶ディスプレイが有する素子基板の検査方法について説明したが、液晶ディスプレイ以外の半導体表示装置においても、本実施の形態で示した検査方法を用いて検査することが可能である。また半導体表示装置に限られず、基板上に形成された半導体の特性を利用した半導体装置であれば、本発明の検査方法を用いて検査することが可能である。なお、半導体装置には、ガラス基板上に成膜された半導体薄膜を用いた半導体装置であっても良いし、単結晶のシリコン基板に形成された半導体装置であっても良い。   In addition, although an inspection method for an element substrate included in a liquid crystal display has been described in this embodiment mode, a semiconductor display device other than a liquid crystal display can also be inspected using the inspection method described in this embodiment mode. . Further, the semiconductor device is not limited to a semiconductor display device, and any semiconductor device that uses the characteristics of a semiconductor formed on a substrate can be inspected using the inspection method of the present invention. Note that the semiconductor device may be a semiconductor device using a semiconductor thin film formed over a glass substrate, or may be a semiconductor device formed on a single crystal silicon substrate.

ただし、半導体装置の種類及び規格に合わせて、コイルの数及び設計を適宜設定する必要がある。また、入力用1次コイル形成部に入力する検査用の交流の信号の波形、周波数及び振幅も、半導体装置の種類及び規格に合わせて適宜設定する必要がある。   However, the number of coils and the design need to be set as appropriate in accordance with the type and standard of the semiconductor device. In addition, the waveform, frequency, and amplitude of the AC signal for inspection input to the input primary coil forming unit must be set as appropriate in accordance with the type and standard of the semiconductor device.

本発明は上記構成によって、配線に直接プローブを立てなくても良否を判定することができるので、プローブを立てることで生じた微細なゴミにより、後の工程の歩留まりを低下させるのを防ぐことができる。なおかつ、光学式検査方法と異なり、1回の検査工程で全てのパターン形成工程の良否を判断することができるので、検査工程がより簡便化される。   According to the present invention, it is possible to determine whether or not the probe is directly raised on the wiring by the above-described configuration, so that it is possible to prevent the yield of a subsequent process from being reduced due to fine dust generated by raising the probe. it can. In addition, unlike the optical inspection method, the quality of all pattern forming steps can be determined in one inspection step, so that the inspection step is further simplified.

以下に、本発明の実施例について説明する。   Examples of the present invention will be described below.

本実施例では、出力用1次コイル及び出力用2次コイルを設けずに、回路または回路素子が駆動することで生じる微弱な電磁波、または電界をモニターし、多数の回路または回路素子の中から、正常に動作していない箇所を検出する例について説明する。   In this embodiment, a weak electromagnetic wave or electric field generated by driving a circuit or a circuit element is monitored without providing a primary coil for output and a secondary coil for output, and from among many circuits or circuit elements. An example of detecting a part that is not operating normally will be described.

図10に、本実施例の素子基板と検査基板の構成を示す。図10に示した素子基板455は、検査専用回路419を有している。検査専用回路419は、検査対象である回路または回路素子の出力を信号処理し、検査対象の回路または回路素子の動作状態を情報として有している信号(動作情報信号)を生成する手段を有している。本実施例では、上記手段としてA/D変換回路473と、データフォーマット部474を用いる。   FIG. 10 shows the configuration of the element substrate and the inspection substrate of this example. The element substrate 455 illustrated in FIG. 10 includes an inspection dedicated circuit 419. The inspection dedicated circuit 419 has means for performing signal processing on the output of the circuit or circuit element to be inspected and generating a signal (operation information signal) having the operation state of the circuit or circuit element to be inspected as information. is doing. In this embodiment, an A / D conversion circuit 473 and a data format unit 474 are used as the above means.

本実施例において、素子基板455は信号線駆動回路411、走査線駆動回路412、画素部413を有している。そして、信号線駆動回路411、走査線駆動回路412、画素部413が有する回路または回路素子からのアナログの出力は、A/D変換回路473においてデジタル信号に変換される。デジタル信号はデータフォーマット部474に入力される。なお、回路または回路素子からの出力が、アナログではなくデジタル信号である場合、該デジタル信号を直接データフォーマット部474に入力する。   In this embodiment, the element substrate 455 includes a signal line driver circuit 411, a scanning line driver circuit 412, and a pixel portion 413. An analog output from a circuit or a circuit element included in the signal line driver circuit 411, the scan line driver circuit 412, and the pixel portion 413 is converted into a digital signal in the A / D conversion circuit 473. The digital signal is input to the data format unit 474. When the output from the circuit or circuit element is a digital signal instead of an analog signal, the digital signal is directly input to the data format unit 474.

なお、本実施例では、回路または回路素子から出力される信号を全てデジタルに変換し、データフォーマット部474においてデジタルの信号を処理している。しかし本発明はこの構成に限定されない。回路または回路素子から出力される信号をアナログに変換し、データフォーマット部474においてアナログの信号を処理しても良い。   In the present embodiment, all signals output from the circuit or circuit element are converted to digital, and the data format unit 474 processes the digital signal. However, the present invention is not limited to this configuration. A signal output from a circuit or a circuit element may be converted into analog, and the analog signal may be processed in the data format unit 474.

データフォーマット部474では、入力された回路または回路素子に対応する全てのデジタル信号を演算処理し、検査対象の回路または回路素子の動作状態を情報として有している動作情報信号を生成する。   The data format unit 474 performs arithmetic processing on all digital signals corresponding to the input circuit or circuit element, and generates an operation information signal having the operation state of the circuit or circuit element to be inspected as information.

データフォーマット部474から出力される動作情報信号は、バッファ472において増幅され、変調回路421に入力される。なおバッファ472を設けずに、データフォーマット部474からの出力を直接変調回路421に入力するようにしても良い。   The operation information signal output from the data format unit 474 is amplified in the buffer 472 and input to the modulation circuit 421. Note that the output from the data format unit 474 may be directly input to the modulation circuit 421 without providing the buffer 472.

一方、検査基板454が有する各入力用1次コイル458には、交流電源452から検査用の交流の信号が入力されている。入力用1次コイル458に交流の信号が入力されると、対応する素子基板455が有する入力用2次コイル457に起電力である交流の電圧が生じ、該交流の電圧が変調回路421に印加される。   On the other hand, an AC signal for inspection is input from the AC power supply 452 to each input primary coil 458 included in the inspection board 454. When an AC signal is input to the input primary coil 458, an AC voltage as an electromotive force is generated in the input secondary coil 457 included in the corresponding element substrate 455, and the AC voltage is applied to the modulation circuit 421. Is done.

変調回路421は、入力用2次コイル457から入力された交流の電圧の振幅を、データフォーマット部474またはバッファ472から入力された動作情報信号に従って変調させる手段を有している。図9では、上記手段としてトランジスタ470、471を有しているが、本発明はこの構成に限定されない。変調回路421は、入力用2次コイル457から入力された交流の電圧の振幅を、データフォーマット部474またはバッファ472から入力された動作情報信号に従って変調させることができれば、どのような構成を有していても良い。   The modulation circuit 421 has means for modulating the amplitude of the AC voltage input from the input secondary coil 457 according to the operation information signal input from the data format unit 474 or the buffer 472. In FIG. 9, transistors 470 and 471 are provided as the above means, but the present invention is not limited to this structure. The modulation circuit 421 has any configuration as long as it can modulate the amplitude of the AC voltage input from the input secondary coil 457 according to the operation information signal input from the data format unit 474 or the buffer 472. May be.

図9に示した変調回路421は、バッファ472の出力が、トランジスタ470及び471のゲート電極に入力されている。トランジスタ470のソース領域とドレイン領域は、一方は入力用2次コイル457が有する第1の端子に接続されており、もう一方は、素子基板455が有する出力用パッド458に接続されている。トランジスタ471のソース領域とドレイン領域は、一方は出力用パッド458に接続されており、もう一方は一定の電圧が与えられている。なお、この一定の電圧はグラウンドの電圧であっても良い。   In the modulation circuit 421 illustrated in FIG. 9, the output of the buffer 472 is input to the gate electrodes of the transistors 470 and 471. One of a source region and a drain region of the transistor 470 is connected to a first terminal included in the input secondary coil 457, and the other is connected to an output pad 458 included in the element substrate 455. One of a source region and a drain region of the transistor 471 is connected to the output pad 458, and the other is supplied with a constant voltage. The constant voltage may be a ground voltage.

また、入力用2次コイル457が有する第2の端子には、一定の電圧が与えられている。なおこの電圧は、グラウンドの電圧であっても良い。   A constant voltage is applied to the second terminal of the input secondary coil 457. This voltage may be a ground voltage.

上記構成により、入力用2次コイル457から出力された交流の電圧が、動作情報信号によって変調され、被変調信号として出力用パッド458に入力される。   With the above configuration, the AC voltage output from the input secondary coil 457 is modulated by the operation information signal and input to the output pad 458 as a modulated signal.

出力用パッド458において、微弱な電磁波または電界が生じている。検査基板454及び素子基板455とは別途設けられた測定部460において、該電磁波または電界をモニターし、データとして検査部453に入力する。検査部453では、該データから、検査対象の回路または回路素子が、正常に動作するか否かを特定することができる。   In the output pad 458, a weak electromagnetic wave or electric field is generated. The measurement unit 460 provided separately from the inspection substrate 454 and the element substrate 455 monitors the electromagnetic wave or electric field and inputs the data to the inspection unit 453 as data. The inspection unit 453 can specify whether or not the circuit or circuit element to be inspected normally operates from the data.

なお、この場合、電磁波または電界が有するあらゆる情報をモニターし、利用することができる。具体的に、電磁波または電界が有する情報として、周波数、位相、強度、時間など、様々な次元において収集することが可能である。本発明においては、多数の回路または回路素子の中から、正常に動作していない箇所を検出することが可能であるのならば、電磁波または電界が有する情報のうち、どのような情報でも利用することが可能である。   In this case, any information contained in the electromagnetic wave or electric field can be monitored and used. Specifically, information included in electromagnetic waves or electric fields can be collected in various dimensions such as frequency, phase, intensity, and time. In the present invention, any information of electromagnetic waves or electric fields is used as long as it is possible to detect a part that is not operating normally from a large number of circuits or circuit elements. It is possible.

なお回路または回路素子において生じる微弱な電磁波、または電界のモニターの仕方は、公知の方法を用いることができる。本実施例では、検査工程において回路または回路素子において生じる電界を、電気光学効果を利用して検出する例について説明する。具体的に本実施例では、ポッケルス・セルを用いて測定する例について説明する。   A known method can be used for monitoring weak electromagnetic waves or electric fields generated in circuits or circuit elements. In this embodiment, an example will be described in which an electric field generated in a circuit or a circuit element in an inspection process is detected using an electro-optic effect. Specifically, in this embodiment, an example in which measurement is performed using a Pockels cell will be described.

ポッケルス・セルとは、電気光学効果の1つであるポッケルス効果を用いた電気光学素子の1つである。なお電気光学素子とは、電界がかかると屈折率が変化する電気光学効果を利用した素子である。この性質を利用し、結晶に交流電圧やパルス電圧を加えて、光の変調やシャッター、円偏光の発生や検出に用いることができる。   The Pockels cell is one of electro-optic elements using the Pockels effect, which is one of the electro-optic effects. An electro-optical element is an element that utilizes an electro-optical effect in which a refractive index changes when an electric field is applied. Utilizing this property, an AC voltage or a pulse voltage can be applied to the crystal and used for light modulation, shutter, and generation and detection of circularly polarized light.

ポッケルス・セルは、第1電極、第2電極、強誘電体結晶であるポッケルス結晶を有している。第1電極と第2電極の間にポッケルス結晶が挟まれている。第1電極及び第2電極は、光を透過する導電性の材料で形成されている。   The Pockels cell has a first electrode, a second electrode, and a Pockels crystal that is a ferroelectric crystal. A Pockels crystal is sandwiched between the first electrode and the second electrode. The first electrode and the second electrode are formed of a conductive material that transmits light.

第1電極には一定の電圧が印加されている。そして、第1電極及び第2電極は、素子基板と並行に、なおかつ第2電極と出力用パッド458が重なるように配置されている。なお、第2電極は素子基板455と接するように配置してもよいし、一定の間隔を空けて配置するようにしても良い。また、第2電極と素子基板455の間に、緩衝材となるものを挟むようにしても良い。   A constant voltage is applied to the first electrode. The first electrode and the second electrode are arranged in parallel with the element substrate so that the second electrode and the output pad 458 overlap. Note that the second electrode may be disposed so as to be in contact with the element substrate 455 or may be disposed at a certain interval. Further, a buffer material may be sandwiched between the second electrode and the element substrate 455.

出力用パッド458から発せられる電界によって、ポッケルスセルの出力用パッド458と重なる部分において光の屈折率が変化する。この屈折率は出力用パッド458から発せられる電界の強度によって変化する。よって、ポッケルスセルにおける光の屈折率をモニターすることで、出力用パッド458から発せられる電界の強度を測定することができる。   Due to the electric field generated from the output pad 458, the refractive index of light changes in the portion overlapping the output pad 458 of the Pockels cell. This refractive index varies depending on the intensity of the electric field emitted from the output pad 458. Therefore, the intensity of the electric field generated from the output pad 458 can be measured by monitoring the refractive index of light in the Pockels cell.

具体的には、ポッケルスセルを透過する光のうち、素子基板に対して垂直な方向における光を、偏光ビームスプリッターなどの光学系を用いて分離し、その強度をモニターすることで、ポッケルスセルの屈折率を算出し、該屈折率からポッケルスセルに印加された電圧の大きさを求めることができる。そして、ポッケルスセルに印加された電圧の大きさから、不良箇所を検出することが可能である。   Specifically, among the light transmitted through the Pockels cell, the light in the direction perpendicular to the element substrate is separated using an optical system such as a polarization beam splitter, and the intensity of the Pockels cell is monitored. The refractive index is calculated, and the magnitude of the voltage applied to the Pockels cell can be determined from the refractive index. And it is possible to detect a defective part from the magnitude | size of the voltage applied to the Pockels cell.

なお、複数回にわたるモニターの結果に何らかの演算処理を施し、良否を判定するようにしても良い。   It should be noted that some arithmetic processing may be performed on the result of the monitoring over a plurality of times to determine whether it is acceptable or not.

また、検査対象である回路の出力を検査専用回路に入力し、該出力用パッドにおいて生じる電磁波または電界の強度を、電気光学素子を用いて測定することで、検査対象である回路または回路素子において、いちいちポッケルス・セルを用いてモニターする必要がなくなり、検査工程を簡便化及び迅速化することができる。   In addition, in the circuit or circuit element to be inspected, the output of the circuit to be inspected is input to the inspection dedicated circuit, and the intensity of the electromagnetic wave or electric field generated in the output pad is measured using an electro-optical element. Therefore, it is not necessary to monitor using the Pockels cell one by one, and the inspection process can be simplified and speeded up.

なお。ポッケルス結晶として、主に、NH42PO4、BaTiO3、KH2PO4(KHP)、KD2PO4(KDP)、LiNbO3、ZnOなどの結晶を用いることができる。しかし本実施例で用いることができるポッケルス結晶は上述したものに限定されない。ポッケルス効果を有する結晶であれば良い。 Note that. As the Pockels crystal, crystals such as NH 4 H 2 PO 4 , BaTiO 3 , KH 2 PO 4 (KHP), KD 2 PO 4 (KDP), LiNbO 3 , and ZnO can be mainly used. However, the Pockels crystals that can be used in this embodiment are not limited to those described above. Any crystal having the Pockels effect may be used.

また本実施例では、ポッケルス・セルを用いたが、電界の大きさを感知するための電気光学素子はこれに限定されない。電圧の印加により、その光学的特性が変化するという現象を利用した電気光学素子であれば、本発明の検査方法または検査装置に用いることが可能である。よって、液晶などを用いることも可能である。   In this embodiment, a Pockels cell is used. However, the electro-optic element for sensing the magnitude of the electric field is not limited to this. Any electro-optic element that utilizes the phenomenon that its optical characteristics change when voltage is applied can be used in the inspection method or inspection apparatus of the present invention. Therefore, liquid crystal or the like can be used.

なお、本実施例において、検査専用回路に入力される交流の電圧の周波数を高めると、検査専用回路から出力用パッドに入力される被変調信号の周波数も高くなる。   In this embodiment, when the frequency of the alternating voltage input to the test dedicated circuit is increased, the frequency of the modulated signal input from the test dedicated circuit to the output pad also increases.

本実施例では、検査用の駆動信号及び電源電圧について、液晶ディスプレイとOLEDディスプレイの場合を例にとって、より詳しく説明する。   In this embodiment, the driving signal and power supply voltage for inspection will be described in more detail by taking the case of a liquid crystal display and an OLED display as examples.

1次コイルと2次コイルの数は、素子基板の画素部と駆動回路の構造によって変わってくるため、各素子基板の規格に合わせて数を設定することが肝要である。   Since the number of primary coils and secondary coils varies depending on the structure of the pixel portion of the element substrate and the drive circuit, it is important to set the number according to the standard of each element substrate.

図11に、一般的な液晶ディスプレイの、素子基板の構成を示す。図11に示した素子基板は、信号線駆動回路700、走査線駆動回路701、画素部702を有している。   FIG. 11 shows a configuration of an element substrate of a general liquid crystal display. The element substrate illustrated in FIG. 11 includes a signal line driver circuit 700, a scanning line driver circuit 701, and a pixel portion 702.

画素部702には、複数の信号線と複数の走査線が形成されており、信号線と走査線で囲まれた領域が画素に相当する。なお、図11では複数の画素のうち、1つの信号線703と、1つの走査線704とを有する画素のみを代表的に示した。各画素はスイッチング素子となる画素TFTと、液晶セルの画素電極706を有している。   A plurality of signal lines and a plurality of scanning lines are formed in the pixel portion 702, and a region surrounded by the signal lines and the scanning lines corresponds to a pixel. Note that FIG. 11 representatively shows only a pixel having one signal line 703 and one scanning line 704 among a plurality of pixels. Each pixel has a pixel TFT serving as a switching element and a pixel electrode 706 of a liquid crystal cell.

画素TFT705のゲート電極は走査線704に接続されている。そして画素TFT705のソース領域とドレイン領域は、一方は信号線703に、もう一方は画素電極706に接続されている。   A gate electrode of the pixel TFT 705 is connected to the scanning line 704. One of the source region and the drain region of the pixel TFT 705 is connected to the signal line 703 and the other is connected to the pixel electrode 706.

信号線駆動回路700は、シフトレジスタ710、レベルシフタ711、アナログスイッチ712を有している。シフトレジスタ710、レベルシフタ711及びアナログスイッチ712には、電源電圧(Power supply)が与えられている。また、シフトレジスタ710には信号線駆動回路用のクロック信号(S−CLK)とスタートパルス信号(S−SP)が与えられている。アナログスイッチ712にはビデオ信号(Video signals)が与えられている。   The signal line driver circuit 700 includes a shift register 710, a level shifter 711, and an analog switch 712. A power supply voltage (Power supply) is applied to the shift register 710, the level shifter 711, and the analog switch 712. The shift register 710 is supplied with a clock signal (S-CLK) and a start pulse signal (S-SP) for the signal line driver circuit. Video signals (Video signals) are supplied to the analog switch 712.

シフトレジスタ710にクロック信号(S−CLK)とスタートパルス信号(S−SP)が入力されると、ビデオ信号のサンプリングのタイミングを決定するサンプリング信号が生成され、レベルシフタ711に入力される。サンプリング信号は、レベルシフタ711においてその電圧の振幅を大きくされ、アナログスイッチ712に入力される。アナログスイッチ712では、入力されたサンプリング信号に同期して、入力されたビデオ信号をサンプリングし、信号線703に入力する。   When the clock signal (S-CLK) and the start pulse signal (S-SP) are input to the shift register 710, a sampling signal that determines the sampling timing of the video signal is generated and input to the level shifter 711. The amplitude of the voltage of the sampling signal is increased in the level shifter 711 and input to the analog switch 712. The analog switch 712 samples the input video signal in synchronization with the input sampling signal and inputs it to the signal line 703.

一方、走査線駆動回路は、シフトレジスタ721と、バッファ722を有している。シフトレジスタ721、バッファ722には、電源電圧(Power supply)が与えられている。また、シフトレジスタ721には走査線駆動回路用のクロック信号(G−CLK)とスタートパルス信号(G−SP)が与えられている。   On the other hand, the scan line driver circuit includes a shift register 721 and a buffer 722. A power supply voltage (Power supply) is supplied to the shift register 721 and the buffer 722. The shift register 721 is supplied with a clock signal (G-CLK) and a start pulse signal (G-SP) for the scanning line driver circuit.

シフトレジスタ721にクロック信号(G−CLK)とスタートパルス信号(G−SP)が入力されると、走査線の選択のタイミングを決定する選択信号が生成され、バッファ722に入力される。バッファ722に入力された選択信号は、緩衝増幅されて走査線704に入力される。   When a clock signal (G-CLK) and a start pulse signal (G-SP) are input to the shift register 721, a selection signal for determining the timing for selecting a scanning line is generated and input to the buffer 722. The selection signal input to the buffer 722 is buffered and amplified and input to the scanning line 704.

走査線704が選択されると、選択された走査線704にゲート電極が接続された画素TFT705がオンになる。そして、信号線に入力されたサンプリングされたビデオ信号が、オンになっている画素TFT705を介して、画素電極706に入力される。   When the scanning line 704 is selected, the pixel TFT 705 whose gate electrode is connected to the selected scanning line 704 is turned on. Then, the sampled video signal input to the signal line is input to the pixel electrode 706 via the pixel TFT 705 that is turned on.

このように、信号線駆動回路700と、走査線駆動回路701と、画素部702が動作したときに、各回路または回路素子の出力(End Signals)
が検査専用回路730に入力される。そして検査専用回路において、各回路または回路素子の出力から動作情報信号が生成され、該動作情報信号によって被変調信号が生成される。そして、該被変調信号が出力用1次コイルに入力されることによって出力用2次コイルに生じた交流の電圧が、検査部に入力され、検査部において、各回路または回路素子の動作の良否の状態が確認される。なお、信号線駆動回路700と、走査線駆動回路701と、画素部702が動作したときに、各回路または回路素子において発生する電界または電磁波を何らかの手段を用いてモニターすることで、各回路または回路素子の状態の良否を判定することもできる。
As described above, when the signal line driver circuit 700, the scanning line driver circuit 701, and the pixel portion 702 are operated, outputs of the respective circuits or circuit elements (End Signals).
Is input to the inspection dedicated circuit 730. In the test-dedicated circuit, an operation information signal is generated from the output of each circuit or circuit element, and a modulated signal is generated by the operation information signal. Then, the AC voltage generated in the output secondary coil when the modulated signal is input to the output primary coil is input to the inspection unit, and the operation of each circuit or circuit element is checked in the inspection unit. The status of is confirmed. Note that, when the signal line driver circuit 700, the scan line driver circuit 701, and the pixel portion 702 are operated, an electric field or an electromagnetic wave generated in each circuit or circuit element is monitored by some means, so that each circuit or The quality of the circuit element can also be determined.

例えば、シフトレジスタ710が、複数のフリップフロップを用いて形成されている場合、S−CLKに同期して、最初のフリップフロップに与えられて記憶された電圧が、順に次の段のフリップフロップに送られ記憶される。このように、複数のフリップフロップが順に動作する。そして各フリップフロップが動作することで得られるサンプリング信号は、そのパルスの出現するタイミングが順にずれていく。前段のフリップフロップが正常に動作しないと、その後段のフリップフロップも正常に正常に動作しなくなる。よってこの場合、最終段のフリップフロップが動作することで得られたサンプリング信号を、出力(End Signals)として用いることができる。シフトレジスタが有するフリップフロップのいずれか1つが、不良箇所を有するするために正常に動作しないときの出力は、全てのフリップフロップが正常に動作するときとの出力と、その電圧の波形が異なる。   For example, when the shift register 710 is formed using a plurality of flip-flops, the voltage given to the first flip-flop and stored in the next flip-flop in order is synchronized with S-CLK. Sent and memorized. Thus, a plurality of flip-flops operate in order. In the sampling signal obtained by the operation of each flip-flop, the timings at which the pulses appear are sequentially shifted. If the preceding flip-flop does not operate normally, the succeeding flip-flop also does not operate normally. Therefore, in this case, the sampling signal obtained by operating the flip-flop at the final stage can be used as an output (End Signals). The output when any one of the flip-flops included in the shift register does not operate normally because it has a defective portion is different from the output when all the flip-flops operate normally in the waveform of the voltage.

図11に示した素子基板の場合、S−CLK、S−SP、G−CLK、G−SP及びビデオ信号を、検査用の駆動信号として各回路に入力している。なお、検査用の駆動信号は、上述した信号に限定されない。駆動に関わる信号ならば、検査用の駆動信号として用いることが可能である。例えば、上述した信号の他に、走査線の走査方向を切りかえるタイミングを決定する信号や、走査線への選択信号の入力方向を切りかえる信号などを入力しても良い。ただし、検査したい回路において、回路または回路素子の良否を判定できるような信号を入力することが肝要である。   In the case of the element substrate shown in FIG. 11, S-CLK, S-SP, G-CLK, G-SP, and a video signal are input to each circuit as drive signals for inspection. Note that the driving signal for inspection is not limited to the signal described above. Any signal related to driving can be used as a driving signal for inspection. For example, in addition to the signals described above, a signal for determining the timing for switching the scanning direction of the scanning line, a signal for switching the input direction of the selection signal to the scanning line, or the like may be input. However, it is important to input a signal that can determine whether the circuit or the circuit element is good or bad in the circuit to be inspected.

また、素子基板が有する全ての回路を検査するのではなく、その中の一部の回路を検査対象とする場合、該回路の状態の良否を判定することが可能であるならば、上述した全ての駆動信号を入力する必要はない。例えば、信号線駆動回路700が有するシフトレジスタ710のみを検査対象とするとき、検査用の駆動信号であるS−CLK、S−SPと、シフトレジスタ710用の検査用の電源電圧のみを、波形整形回路と整流回路において生成し、シフトレジスタ710に入力すれば良い。   In addition, when not all the circuits included in the element substrate are inspected but a part of the circuits to be inspected, it is possible to determine whether the state of the circuit is good or not. There is no need to input the drive signal. For example, when only the shift register 710 included in the signal line driver circuit 700 is to be inspected, only the inspection drive signals S-CLK and S-SP and the inspection power supply voltage for the shift register 710 are waveformd. It may be generated in the shaping circuit and the rectifier circuit and input to the shift register 710.

次に、図12に、一般的なOLEDディスプレイの、素子基板の構成を示す。
なお、図11ではデジタルのビデオ信号を用いて画像を表示するOLEDディスプレイの駆動回路を例に説明する。図12に示した素子基板は、信号線駆動回路800、走査線駆動回路801、画素部802を有している。
Next, FIG. 12 shows a configuration of an element substrate of a general OLED display.
Note that FIG. 11 illustrates an example of a driving circuit of an OLED display that displays an image using a digital video signal. The element substrate illustrated in FIG. 12 includes a signal line driver circuit 800, a scanning line driver circuit 801, and a pixel portion 802.

画素部802には、複数の信号線と、複数の走査線と、複数の電源線が形成されており、信号線と走査線と電源線とで囲まれた領域が画素に相当する。なお、図12では複数の画素のうち、1つの信号線807と、1つの走査線809と、1つの電源線808を有する画素のみを代表的に示した。各画素はスイッチング素子となるスイッチング用TFT803と、駆動用TFT804と、保持容量805と、OLEDの画素電極806を有している。   A plurality of signal lines, a plurality of scanning lines, and a plurality of power supply lines are formed in the pixel portion 802, and a region surrounded by the signal lines, the scanning lines, and the power supply lines corresponds to a pixel. Note that FIG. 12 representatively shows only a pixel having one signal line 807, one scanning line 809, and one power supply line 808 among the plurality of pixels. Each pixel has a switching TFT 803 serving as a switching element, a driving TFT 804, a storage capacitor 805, and a pixel electrode 806 of an OLED.

スイッチング用TFT803のゲート電極は走査線809に接続されている。
そしてスイッチング用TFT803のソース領域とドレイン領域は、一方は信号線807に、もう一方は駆動用TFT804のゲート電極に接続されている。
A gate electrode of the switching TFT 803 is connected to the scanning line 809.
One of the source region and the drain region of the switching TFT 803 is connected to the signal line 807 and the other is connected to the gate electrode of the driving TFT 804.

駆動用TFT804のソース領域とドレイン領域は、一方は電源線808に、もう一方は画素電極806に接続されている。そして、駆動用TFT804のゲート電極と電源線808とで保持容量805が形成されている。なお保持容量805は必ずしも形成する必要はない。   One of a source region and a drain region of the driving TFT 804 is connected to the power supply line 808 and the other is connected to the pixel electrode 806. A storage capacitor 805 is formed by the gate electrode of the driving TFT 804 and the power supply line 808. Note that the storage capacitor 805 is not necessarily formed.

信号線駆動回路800は、シフトレジスタ810、第1ラッチ811、第2ラッチ812を有している。シフトレジスタ810、第1ラッチ811及び第2ラッチ812には、それぞれ電源電圧(Power supply)が与えられている。また、シフトレジスタ810には信号線駆動回路用のクロック信号(S−CLK)とスタートパルス信号(S−SP)が与えられている。第1ラッチ811にはラッチのタイミングを決定するラッチ信号(Latch signals)とビデオ信号(Video signals)が与えられている。   The signal line driver circuit 800 includes a shift register 810, a first latch 811, and a second latch 812. The shift register 810, the first latch 811 and the second latch 812 are each supplied with a power supply voltage (Power supply). The shift register 810 is supplied with a clock signal (S-CLK) and a start pulse signal (S-SP) for the signal line driver circuit. The first latch 811 is supplied with a latch signal (Latch signals) and a video signal (Video signals) for determining the latch timing.

シフトレジスタ810にクロック信号(S−CLK)とスタートパルス信号(S−SP)が入力されると、ビデオ信号のサンプリングのタイミングを決定するサンプリング信号が生成され、第1ラッチ811に入力される。   When a clock signal (S-CLK) and a start pulse signal (S-SP) are input to the shift register 810, a sampling signal that determines the sampling timing of the video signal is generated and input to the first latch 811.

なお、シフトレジスタ810からのサンプリング信号を、バッファ等によって緩衝増幅してから、第1ラッチ811に入力するようにしても良い。サンプリング信号が入力される配線には、多くの回路あるいは回路素子が接続されているために負荷容量(寄生容量)が大きい。この負荷容量が大きいために生ずるタイミング信号の立ち上がりまたは立ち下がりの”鈍り”を防ぐために、このバッファは有効である。   Note that the sampling signal from the shift register 810 may be buffered and amplified by a buffer or the like and then input to the first latch 811. Since many circuits or circuit elements are connected to the wiring to which the sampling signal is input, the load capacitance (parasitic capacitance) is large. This buffer is effective in preventing “dullness” of the rise or fall of the timing signal caused by the large load capacity.

第1ラッチ811は複数のステージのラッチを有している。第1ラッチ811では、入力されたサンプリング信号に同期して、入力されたビデオ信号をサンプリングし、各ステージのラッチに順に記憶していく。   The first latch 811 has a plurality of stages of latches. In the first latch 811, the input video signal is sampled in synchronization with the input sampling signal, and is sequentially stored in the latch of each stage.

第1ラッチ811の全てのステージのラッチにビデオ信号の書き込みが一通り終了するまでの時間を、ライン期間と呼ぶ。実際には、上記ライン期間に水平帰線期間が加えられた期間をライン期間に含むことがある。   The time until video signal writing is completed in all the latches of the first latch 811 is called a line period. Actually, the line period may include a period in which a horizontal blanking period is added to the line period.

1ライン期間が終了すると、第2ラッチ812にラッチ信号が入力される。この瞬間、第1ラッチ811に書き込まれ保持されているビデオ信号は、第2ラッチ812に一斉に送出され、第2ラッチ812の全ステージのラッチに書き込まれ、保持される。   When one line period ends, a latch signal is input to the second latch 812. At this moment, the video signals written and held in the first latch 811 are sent to the second latch 812 all at once, and are written and held in the latches of all stages of the second latch 812.

ビデオ信号を第2ラッチ812に送出し終えた第1ラッチ811には、シフトレジスタ810からのサンプリング信号に基づき、ビデオ信号の書き込みが順次行われる。   In the first latch 811 which has finished sending the video signal to the second latch 812, the video signal is sequentially written based on the sampling signal from the shift register 810.

この2順目の1ライン期間中には、第2ラッチ812に書き込まれ、保持されているビデオ信号がソース信号線に入力される。   During the second line period, the video signal written and held in the second latch 812 is input to the source signal line.

一方、走査線駆動回路は、シフトレジスタ821と、バッファ822を有している。シフトレジスタ822、バッファ822には、電源電圧(Power supply)が与えられている。また、シフトレジスタ821には走査線駆動回路用のクロック信号(G−CLK)とスタートパルス信号(G−SP)が与えられている。   On the other hand, the scan line driver circuit includes a shift register 821 and a buffer 822. A power supply voltage (Power supply) is supplied to the shift register 822 and the buffer 822. The shift register 821 is supplied with a clock signal (G-CLK) and a start pulse signal (G-SP) for the scanning line driver circuit.

シフトレジスタ821にクロック信号(G−CLK)とスタートパルス信号(G−SP)が入力されると、走査線の選択のタイミングを決定する選択信号が生成され、バッファ822に入力される。バッファ822に入力された選択信号は、緩衝増幅されて走査線809に入力される。   When a clock signal (G-CLK) and a start pulse signal (G-SP) are input to the shift register 821, a selection signal for determining the timing for selecting a scanning line is generated and input to the buffer 822. The selection signal input to the buffer 822 is buffered and amplified and input to the scanning line 809.

走査線809が選択されると、選択された走査線809にゲート電極が接続されたスイッチング用TFT803がオンになる。そして、信号線に入力されたビデオ信号が、オンになっているスイッチング用TFT803を介して、駆動用TFT804のゲート電極に入力される。   When the scanning line 809 is selected, the switching TFT 803 whose gate electrode is connected to the selected scanning line 809 is turned on. Then, the video signal input to the signal line is input to the gate electrode of the driving TFT 804 via the switching TFT 803 that is turned on.

駆動用TFT804は、ゲート電極に入力されたビデオ信号の有する1または0の情報に基づいて、そのスイッチングが制御される。駆動用TFT804がオンのときに、電源線の電位が画素電極に与えられる。駆動用TFT804がオフのとき、電源線の電位が画素電極に与えられない。   Switching of the driving TFT 804 is controlled based on 1 or 0 information included in the video signal input to the gate electrode. When the driving TFT 804 is on, the potential of the power supply line is applied to the pixel electrode. When the driving TFT 804 is off, the potential of the power supply line is not applied to the pixel electrode.

このように、信号線駆動回路800と、走査線駆動回路801と、画素部802が動作したときに、各回路または回路素子の出力(End Signals)
が検査専用回路830に入力される。そして検査専用回路において、各回路または回路素子の出力から動作情報信号が生成され、該動作情報信号によって被変調信号が生成される。そして、該被変調信号が出力用1次コイルに入力されることによって出力用2次コイルに生じた交流の電圧が、検査部に入力され、検査部において、各回路または回路素子の動作の良否の状態が確認される。なお、信号線駆動回路800と、走査線駆動回路801と、画素部802が動作したときに、各回路または回路素子において発生する電界または電磁波を何らかの手段を用いてモニターすることで、各回路または回路素子の状態の良否を判定することもできる。
As described above, when the signal line driver circuit 800, the scanning line driver circuit 801, and the pixel portion 802 are operated, outputs of each circuit or circuit element (End Signals).
Is input to the inspection dedicated circuit 830. In the test-dedicated circuit, an operation information signal is generated from the output of each circuit or circuit element, and a modulated signal is generated by the operation information signal. Then, the AC voltage generated in the output secondary coil when the modulated signal is input to the output primary coil is input to the inspection unit, and the operation of each circuit or circuit element is checked in the inspection unit. The status of is confirmed. Note that, when the signal line driver circuit 800, the scan line driver circuit 801, and the pixel portion 802 are operated, an electric field or an electromagnetic wave generated in each circuit or circuit element is monitored by some means, so that each circuit or The quality of the circuit element can also be determined.

図12に示した素子基板の場合、S−CLK、S−SP、G−CLK、G−SP、ラッチ信号及びビデオ信号を、検査用の駆動信号として各回路に入力している。なお、検査用の駆動信号は、上述した信号に限定されない。駆動に関わる信号ならば、検査用の駆動信号として用いることが可能である。例えば、上述した信号の他に、走査線の走査方向を切りかえるタイミングを決定する信号や、走査線への選択信号の入力方向を切りかえる信号などを入力しても良い。ただし、検査したい回路において、回路または回路素子の良否を判定できるような信号を入力することが肝要である。   In the case of the element substrate shown in FIG. 12, S-CLK, S-SP, G-CLK, G-SP, a latch signal, and a video signal are input to each circuit as drive signals for inspection. Note that the driving signal for inspection is not limited to the signal described above. Any signal related to driving can be used as a driving signal for inspection. For example, in addition to the signals described above, a signal for determining the timing for switching the scanning direction of the scanning line, a signal for switching the input direction of the selection signal to the scanning line, or the like may be input. However, it is important to input a signal that can determine whether the circuit or the circuit element is good or bad in the circuit to be inspected.

また、素子基板が有する回路を全て検査するのではなく、その中の一部の回路を検査対象とする場合、該一部の回路のみを動作させるような駆動信号のみを入力すれば良く、上述した駆動信号を全て入力する必要はない。例えば、信号線駆動回路800が有するシフトレジスタ810のみを検査対象とするとき、検査用の駆動信号であるS−CLK、S−SPと、シフトレジスタ810用の検査用の電源電圧のみを、波形整形回路と整流回路において生成し、シフトレジスタ810に入力すれば良い。   In addition, when not all the circuits included in the element substrate are inspected but only a part of the circuits are to be inspected, only a driving signal for operating only the part of the circuit may be input. It is not necessary to input all the drive signals. For example, when only the shift register 810 included in the signal line driver circuit 800 is to be inspected, only the inspection drive signals S-CLK and S-SP and the inspection power supply voltage for the shift register 810 have waveforms. It may be generated in the shaping circuit and the rectifier circuit and input to the shift register 810.

なお電源電圧を、位相の異なる複数の脈流の信号を加算して生成している場合、加算する脈流の信号の数によっても1次コイルの数は変わってくる。   When the power supply voltage is generated by adding a plurality of pulsating signals having different phases, the number of primary coils varies depending on the number of pulsating signals to be added.

なお本発明の検査装置及び検査方法は、図11及び図12に示した構造を有する素子基板に限定するわけではない。本発明の検査装置及び検査方法は、非接触にて駆動信号と電源電圧を入力することで、各回路または回路素子の出力から動作情報信号を生成することができる半導体装置であれば良く、あらゆる種類及び規格の半導体装置に用いることが可能である。   The inspection apparatus and inspection method of the present invention are not limited to the element substrate having the structure shown in FIGS. The inspection apparatus and inspection method of the present invention may be any semiconductor device that can generate an operation information signal from the output of each circuit or circuit element by inputting a drive signal and a power supply voltage in a non-contact manner. It can be used for semiconductor devices of types and standards.

本実施例は、実施例1と自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by freely combining with the first embodiment.

本実施例では、大型の素子基板を用いて複数の表示用の基板を形成する場合において、検査終了後の基板の切断について説明する。   In this embodiment, when a plurality of display substrates are formed using a large element substrate, cutting of the substrate after completion of the inspection will be described.

図13に、本実施例の、切断前の大型の素子基板の上面図を示す。1001は画素部、1002は走査線駆動回路、1003は信号線駆動回路である。また1004で示した領域には、複数の入力用2次コイルと、複数の出力用1次コイル、波形整形回路、整流回路、検査専用回路等の、検査工程のときのみ用い、検査工程終了後は用いない回路または回路素子が形成されている。   FIG. 13 shows a top view of a large element substrate before cutting according to this embodiment. Reference numeral 1001 denotes a pixel portion, 1002 denotes a scanning line driver circuit, and 1003 denotes a signal line driver circuit. The area indicated by 1004 is used only in the inspection process, such as a plurality of input secondary coils, a plurality of output primary coils, a waveform shaping circuit, a rectifier circuit, and an inspection dedicated circuit. Circuits or circuit elements that are not used are formed.

図13において、点線で示すラインにおいて素子基板を切断することで、1つの素子基板から9つの表示用の基板が形成される。なお、本実施例では、1つの基板から9つの表示用の基板を形成している例について示しているが、本実施例はこの数に限定されない。   In FIG. 13, nine display substrates are formed from one element substrate by cutting the element substrate along a line indicated by a dotted line. Note that, in this embodiment, an example in which nine display substrates are formed from one substrate is shown, but this embodiment is not limited to this number.

なお切断の際に、引きまわし配線とコイル用配線とが物理的及び電気的に切り離されるように切断され、破壊されている。そして図13では、領域1004が、素子基板の切断後、表示用には用いない基板の方に設けられている。   At the time of cutting, the lead-out wiring and the coil wiring are cut and destroyed so as to be physically and electrically separated. In FIG. 13, a region 1004 is provided on a substrate that is not used for display after the element substrate is cut.

素子基板である大型基板の切断の仕方について、図13とは異なる例について説明する。1101は画素部、1102は走査線駆動回路、1103は信号線駆動回路である。また1104で示した領域には、複数の入力用2次コイルと、複数の出力用1次コイル、波形整形回路、整流回路、検査専用回路等の、検査工程のときのみ用い、検査工程終了後は用いない回路または回路素子が形成されている。   An example different from FIG. 13 will be described with respect to how to cut a large substrate which is an element substrate. Reference numeral 1101 denotes a pixel portion, 1102 denotes a scanning line driver circuit, and 1103 denotes a signal line driver circuit. The area indicated by 1104 is used only during the inspection process, such as a plurality of input secondary coils, a plurality of output primary coils, a waveform shaping circuit, a rectifier circuit, and an inspection dedicated circuit. Circuits or circuit elements that are not used are formed.

図14において、点線で示すラインにおいて素子基板を切断することで、1つの素子基板から9つの表示用の基板が形成される。なお、本実施例では、1つの基板から9つの表示用の基板を形成している例について示しているが、本実施例はこの数に限定されない。   In FIG. 14, nine display substrates are formed from one element substrate by cutting the element substrate along a line indicated by a dotted line. Note that, in this embodiment, an example in which nine display substrates are formed from one substrate is shown, but this embodiment is not limited to this number.

なお切断の際に、引きまわし配線とコイル用配線とが物理的及び電気的に切り離されるように切断され、破壊されている。そして図14では、領域1104が、基板の切断ライン上に設けられており、検査終了後に切断され、破壊される。
検査終了後、領域1104に形成されている回路または回路素子は不要であるので、完成した半導体装置の動作に何ら支障はきたさない。
At the time of cutting, the lead-out wiring and the coil wiring are cut and destroyed so as to be physically and electrically separated. In FIG. 14, the region 1104 is provided on the cutting line of the substrate and is cut and destroyed after the inspection is completed.
After the inspection is completed, a circuit or a circuit element formed in the region 1104 is unnecessary, so that there is no problem in the operation of the completed semiconductor device.

なお、波形整形回路または整流回路も、切断後、半導体装置に用いられる方の基板に残されていても良いし、半導体装置には用いない方の基板上に形成されていても良い。また、切断後、破壊されていても良い。   Note that the waveform shaping circuit or the rectifier circuit may be left on the substrate used for the semiconductor device after cutting, or may be formed on the substrate not used for the semiconductor device. Moreover, it may be destroyed after cutting.

本実施例は、実施例1または2の構成と自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by freely combining with the configuration of Embodiment 1 or 2.

本実施例では、本発明の検査工程の順序について、フローチャートを用いて説明する。   In this embodiment, the order of the inspection process of the present invention will be described using a flowchart.

図15に、本発明の検査工程のフローチャートを示す。まず、検査前の作製工程が終了した後、検査用の電源電圧または駆動信号を検査対象の回路または回路素子に入力する。   FIG. 15 shows a flowchart of the inspection process of the present invention. First, after the manufacturing process before the inspection is completed, a power supply voltage or a driving signal for inspection is input to the circuit or circuit element to be inspected.

そして、検査用の電源電圧または駆動信号を入力することで検査対象である回路または回路素子を動作させて、その出力を検査専用回路に入力し、検査専用回路において動作情報信号を生成する。   Then, a circuit or circuit element to be inspected is operated by inputting a power supply voltage or a driving signal for inspection, and an output thereof is input to the inspection dedicated circuit, and an operation information signal is generated in the inspection dedicated circuit.

そして、検査専用回路に入力された交流の信号の振幅を該動作情報信号に従って変調することで、被変調信号を生成し、出力用1次コイルに入力する。そして、出力用1次コイルと出力用2次コイルを電磁結合させ、出力用2次コイルにおいて生じた交流の電圧を検査部に入力する。   Then, a modulated signal is generated by modulating the amplitude of the AC signal input to the test-dedicated circuit in accordance with the operation information signal, and input to the output primary coil. The primary coil for output and the secondary coil for output are electromagnetically coupled, and the AC voltage generated in the secondary coil for output is input to the inspection unit.

検査部に入力された該交流の信号から、検査部において良否と、さらには不良箇所の位置を特定することができる。具体的には、正常に動作している回路素子を用いた場合に検査部に入力される交流の信号の振幅と、実際に検査する回路素子を用いた場合に検査部に入力される交流の信号の振幅とを比較する。なおこのとき、同じ回路または回路素子どうしで、検査部に入力される交流の信号の振幅を比較するようにしても良いし、シミュレーションにより算出された理論値から導出した振幅の値と、実際の測定によって得られた振幅の値とを比較するようにしても良い。   From the alternating-current signal input to the inspection unit, it is possible to identify the quality of the inspection unit and the position of the defective portion. Specifically, the amplitude of the AC signal input to the inspection unit when using a normally operating circuit element and the AC input to the inspection unit when using a circuit element that is actually inspected are used. Compare the amplitude of the signal. At this time, the amplitude of the AC signal input to the inspection unit may be compared between the same circuit or circuit elements, or the amplitude value derived from the theoretical value calculated by simulation and the actual value may be compared. You may make it compare with the value of the amplitude obtained by the measurement.

そして比較した結果、検査部に入力される交流の信号の電圧の振幅が著しく異なった場合、その異なる振幅に対応する回路または回路素子を、不良箇所と判断する。   As a result of comparison, when the amplitude of the voltage of the AC signal input to the inspection unit is significantly different, the circuit or circuit element corresponding to the different amplitude is determined as a defective portion.

よって、回路または回路素子の動作状態と、さらには不良箇所の位置を同時に特定することも可能となる。なおこのとき、回路または回路素子の良否の判断基準は、本発明を実施する者が適宜設定することが可能であり、不良箇所が1つでも存在した場合に不良と判断することも可能であるし、ある一定の数の不良箇所が存在した場合に不良と判断することも可能である。 Therefore, it is possible to simultaneously specify the operation state of the circuit or the circuit element and further the position of the defective portion. At this time, the criteria for determining the quality of the circuit or the circuit element can be appropriately set by a person who implements the present invention, and can be determined to be defective when there is even one defective portion. However, when there is a certain number of defective portions, it can be determined as defective.

良と判断された場合は、検査が終了したものとみなされ、検査工程後の作製工程が開始される。   When it is determined to be good, it is considered that the inspection has been completed, and the manufacturing process after the inspection process is started.

不良と判断された場合、工程からはずし製品として完成させない(ロットアウト)か、不良の原因を特定するかが選択される。なお、1つの大型基板から複数の製品を作製しようとする場合は、基板切断後に良品と不良品を選り分け、不良品はロットアウトとなる。   If it is determined to be defective, it is selected whether to remove the product from the process and not complete the product (lotout) or to specify the cause of the defect. When a plurality of products are to be manufactured from one large substrate, a non-defective product and a defective product are selected after cutting the substrate, and the defective product becomes a lot-out.

不良の原因を特定し、修復(リペア)が可能だと判断された場合、リペア後、再び本発明の検査工程を行ない、上述した動作を繰り返すことができる。逆にリペアが不可能だと判断された場合、そこでロットアウトとなる。   When the cause of the defect is specified and it is determined that repair (repair) is possible, after the repair, the inspection process of the present invention is performed again, and the above-described operation can be repeated. On the other hand, if it is determined that repair is impossible, the lot is out.

本実施例は、実施例1〜3の構成と自由に組み合わせて実施することが可能である。   This embodiment can be implemented by freely combining with the configurations of the first to third embodiments.

本実施例では、本発明で用いるコイルと、該コイルが有する端子と配線(コイル用配線)との接続について、詳しく説明する。   In this embodiment, the coil used in the present invention and the connection between the terminal and the wiring (coil wiring) of the coil will be described in detail.

図16(A)では、絶縁表面上にコイル1601が形成され、該コイル1601を覆って前期絶縁表面上に層間絶縁膜1603を形成している。そして、該層間絶縁膜にコンタクトホールを形成して、層間絶縁膜上に、コンタクトホールを介してコイル1601と接続するように、コイル用配線1602を形成している。   In FIG. 16A, a coil 1601 is formed on the insulating surface, and an interlayer insulating film 1603 is formed on the insulating surface so as to cover the coil 1601. A contact hole is formed in the interlayer insulating film, and a coil wiring 1602 is formed on the interlayer insulating film so as to be connected to the coil 1601 through the contact hole.

図16(B)は、図16(A)の破線C−C’における断面図である。   FIG. 16B is a cross-sectional view taken along dashed line C-C ′ in FIG.

図16(C)では、絶縁表面上にコイル用配線1612が形成され、該コイル用配線1612を覆って前期絶縁表面上に層間絶縁膜1613を形成している。
そして、該層間絶縁膜にコンタクトホールを形成して、層間絶縁膜上に、コンタクトホールを介してコイル用配線1612と接続するように、コイル1611を形成している。
In FIG. 16C, a coil wiring 1612 is formed on the insulating surface, and an interlayer insulating film 1613 is formed on the previous insulating surface so as to cover the coil wiring 1612.
A contact hole is formed in the interlayer insulating film, and a coil 1611 is formed on the interlayer insulating film so as to be connected to the coil wiring 1612 via the contact hole.

図16(D)は、図16(C)の破線D−D’における断面図である。   FIG. 16D is a cross-sectional view taken along dashed line D-D ′ in FIG.

なお本発明において用いられるコイルの作製方法は、上述した方法に限定されない。絶縁膜をパターニングすることで渦状の溝を形成し、該溝を覆って導電性を有する膜を前記絶縁膜上に形成する。その後、前記導電性の膜を、前記絶縁膜が露出するまでエッチングまたはCMP法を用いて研磨することで、前記溝においてのみ導電性の膜が残るようにする。この溝において残った導電性の膜をコイルとして用いることも可能である。   Note that the method for manufacturing the coil used in the present invention is not limited to the above-described method. A spiral groove is formed by patterning the insulating film, and a conductive film is formed on the insulating film so as to cover the groove. Thereafter, the conductive film is polished by etching or CMP until the insulating film is exposed, so that the conductive film remains only in the groove. It is also possible to use the conductive film remaining in this groove as a coil.

本実施例は、実施例1〜4の構成と自由に組み合わせて実施することが可能である。   The present embodiment can be implemented by freely combining with the configurations of the first to fourth embodiments.

本実施例では、本発明の検査方法を用いて検査を行なうための、検査装置の構成について説明する。   In the present embodiment, the configuration of an inspection apparatus for performing inspection using the inspection method of the present invention will be described.

図17に本発明の検査基板のブロック図を示す。図17に示した本発明の検査装置1700は、信号源または交流電源1702と、入力用1次コイル1720と、出力用2次コイル1721とを有している。さらに、入力用1次コイル1720と素子基板1703が有する入力用2次コイル1722を、また出力用2次コイル1721と素子基板1703が有する出力用1次コイル1723を、それぞれ一定の間隔をおいて重ね合わせることのできる手段(基板固定手段1704)を有している。さらに、素子基板1703において生成された被変調信号によって、出力用2次コイル1721において生成された交流の電圧から、良否を判定する手段(検査部1705)を有している。   FIG. 17 shows a block diagram of the inspection board of the present invention. The inspection apparatus 1700 of the present invention shown in FIG. 17 has a signal source or AC power source 1702, an input primary coil 1720, and an output secondary coil 1721. Further, the input primary coil 1720 and the input secondary coil 1722 included in the element substrate 1703 and the output secondary coil 1721 and the output primary coil 1723 included in the element substrate 1703 are spaced apart from each other by a certain interval. Means (substrate fixing means 1704) that can be superposed is provided. Furthermore, a unit (inspection unit 1705) for determining pass / fail from the AC voltage generated in the output secondary coil 1721 by the modulated signal generated in the element substrate 1703 is provided.

なお、本実施例では信号源または交流電源1702を検査装置170の一部とみなしたが、本発明の検査装置は、信号源または交流電源1702を含んでいなくとも良い。   In this embodiment, the signal source or AC power source 1702 is regarded as a part of the inspection device 170, but the inspection device of the present invention may not include the signal source or AC power source 1702.

信号源または交流電源1702において生成される交流の信号は、検査基板1701が有する外部入力用バッファ1706に入力される。入力された交流の信号は、外部入力用バッファ1706において増幅または緩衝増幅され、検査基板1701が有する入力用1次コイル1720に入力される。   An AC signal generated in the signal source or AC power supply 1702 is input to an external input buffer 1706 included in the inspection board 1701. The input AC signal is amplified or buffer-amplified in the external input buffer 1706 and input to the input primary coil 1720 included in the inspection board 1701.

一方、検査基板1701と素子基板1703は、入力用1次コイル1720と、入力用2次コイル1722とが一定の間隔をおいて重なるように、基板固定手段1704によってその位置が定められる。   On the other hand, the positions of the inspection substrate 1701 and the element substrate 1703 are determined by the substrate fixing means 1704 so that the input primary coil 1720 and the input secondary coil 1722 overlap each other at a constant interval.

そして、入力用2次コイル1722において生じた交流の電圧により生成された電源電圧または駆動信号が、素子基板1703が有する回路または回路素子1712に入力される。なお素子基板1703が有する、電源電圧または駆動信号を生成する回路については、発明の実施の形態において既に詳しく述べているので、ここでは説明を省略する。   Then, a power supply voltage or a drive signal generated by an alternating voltage generated in the input secondary coil 1722 is input to a circuit or a circuit element 1712 included in the element substrate 1703. Note that a circuit for generating a power supply voltage or a drive signal included in the element substrate 1703 has already been described in detail in the embodiment of the invention, and thus description thereof is omitted here.

回路または回路素子1712からの出力は、検査専用回路1730に入力される。検査専用回路1730は変調回路1731を有している。検査専用回路1730は、回路または回路素子1712からの出力から動作情報信号を生成し、変調回路1731に入力する。   An output from the circuit or circuit element 1712 is input to a test-dedicated circuit 1730. The inspection dedicated circuit 1730 has a modulation circuit 1731. The inspection dedicated circuit 1730 generates an operation information signal from the output from the circuit or the circuit element 1712 and inputs the operation information signal to the modulation circuit 1731.

一方、入力用2次コイル1722において生じた交流の電圧は、変調回路1731に入力される。変調回路1731では、入力された交流の電圧を動作情報信号によって変調することで、被変調信号を生成する。生成された被変調信号は、出力用1次コイル1723に入力される。   On the other hand, the AC voltage generated in the input secondary coil 1722 is input to the modulation circuit 1731. The modulation circuit 1731 generates a modulated signal by modulating the input AC voltage using an operation information signal. The generated modulated signal is input to the output primary coil 1723.

一方、検査基板1701と素子基板1703は、出力用1次コイル1723と、出力用2次コイル1721とが一定の間隔をおいて重なるように、基板固定手段1704によってその位置が定められる。   On the other hand, the positions of the inspection substrate 1701 and the element substrate 1703 are determined by the substrate fixing means 1704 so that the output primary coil 1723 and the output secondary coil 1721 overlap each other at a constant interval.

そして、出力用1次コイル1723において交流の電圧が生じる。該交流の電圧は、外部出力用バッファ1732において増幅または緩衝増幅され、検査部1705に入力される。   Then, an AC voltage is generated in the output primary coil 1723. The AC voltage is amplified or buffer amplified in the external output buffer 1732 and input to the inspection unit 1705.

そして、検査部1705では、検査部1705に入力された交流の電圧を数値化し、データ(測定値)として検査部1705が有する演算部1709に送る。   In the inspection unit 1705, the AC voltage input to the inspection unit 1705 is digitized and sent as data (measured value) to the arithmetic unit 1709 included in the inspection unit 1705.

演算部1709では、入力された測定値をもとに、良否を判定する。具体的な例を挙げると、正常に動作している回路素子を用いた場合に検査部に入力される交流の信号をメモリー等に記憶しておき、実際に検査する回路素子を用いた場合に検査部に入力される交流の信号の振幅と比較する。また、同じ回路または回路素子どうしで、検査部に入力される交流の信号の振幅を比較するようにしても良いし、シミュレーションにより算出された理論値から導出した振幅の値と、実際の測定によって得られた振幅の値とを比較するようにしても良い。   The arithmetic unit 1709 determines pass / fail based on the input measurement value. As a specific example, when a circuit element that is operating normally is used, an AC signal input to the inspection unit is stored in a memory or the like, and a circuit element that is actually inspected is used. Compare with the amplitude of the AC signal input to the inspection unit. Further, the amplitude of the AC signal input to the inspection unit may be compared between the same circuits or circuit elements, or the amplitude value derived from the theoretical value calculated by simulation and the actual measurement. You may make it compare with the value of the obtained amplitude.

なお、上述した比較の方法はほんの一例であり、本発明はこれに限定されない。検査部に入力される交流の信号の振幅が、正常な回路素子を用いた場合に検査部に入力される交流の信号の振幅と比べて、著しく異なっている回路素子を検出することができれば良い。   The above-described comparison method is only an example, and the present invention is not limited to this. It is only necessary to detect a circuit element in which the amplitude of the AC signal input to the inspection unit is significantly different from the amplitude of the AC signal input to the inspection unit when a normal circuit element is used. .

そして比較した結果、検査部に入力される交流の信号の電圧の振幅が著しく異なった場合、その異なる振幅に対応する回路または回路素子を、不良と判断する。なお実際には、正常の回路の場合でも、検査部に入力される交流の信号の電圧の振幅は、ある一定の周期ごとに変化している場合が多い。その場合、周期毎に振幅の平均値を求め、その周期毎の平均値を正常な回路素子のものと比較するようにしても良い。比較の仕方は、どのような方法を用いても良い。   As a result of comparison, if the amplitude of the voltage of the AC signal input to the inspection unit is significantly different, the circuit or circuit element corresponding to the different amplitude is determined to be defective. Actually, even in the case of a normal circuit, the amplitude of the voltage of the AC signal input to the inspection unit often changes every certain period. In that case, an average value of amplitude may be obtained for each period, and the average value for each period may be compared with that of a normal circuit element. Any method may be used for the comparison.

なお、回路または回路素子において生じる電界または電磁波をモニターし、良否を判定する場合、出力用1次コイル1723、出力用2次コイル1721、外部出力用バッファ1732は設ける必要はない。そして、この場合、素子基板1703に出力用パッドを設け、変調回路1723から出力される被変調信号を、出力用パッドに入力する。   Note that when the electric field or electromagnetic wave generated in the circuit or the circuit element is monitored to determine whether it is good or bad, the output primary coil 1723, the output secondary coil 1721, and the external output buffer 1732 need not be provided. In this case, an output pad is provided on the element substrate 1703, and the modulated signal output from the modulation circuit 1723 is input to the output pad.

そして、検査装置において測定部を設け、該出力用パッドにおいて生じた電磁波または電界を、該測定部においてモニターし、データとして検査部1705が有する演算部1709に送る。演算部1709では、入力されたデータをもとに、回路または回路素子の動作の状態、さらには不良箇所の位置を特定する。   Then, a measurement unit is provided in the inspection device, and an electromagnetic wave or an electric field generated in the output pad is monitored in the measurement unit and sent as data to a calculation unit 1709 included in the inspection unit 1705. The arithmetic unit 1709 specifies the operation state of the circuit or the circuit element and further the position of the defective portion based on the input data.

本実施例は、実施例1〜5の構成と自由に組み合わせて実施することが可能である。   The present embodiment can be implemented by freely combining with the configurations of the first to fifth embodiments.

Claims (3)

第1の基板上に設けられた第1のコイルが有する2つの端子間に、第1の交流電圧を印加し、
前記第1のコイルと、第2の基板上に設けられた第2のコイルとを一定の間隔をおいて重ね合わせ、前記第2のコイルが有する2つの端子間に第2の交流電圧を生じさせ、
前記第2の交流電圧から電源電圧または駆動信号を生成し、前記電源電圧または前記駆動信号を、検査専用回路が有する変調回路と、回路または回路素子とに入力し、
前記回路または前記回路素子の出力を前記検査専用回路に入力して動作情報信号を生成し、
前記変調回路において、前記動作情報信号に従って入力された前記電源電圧または前記駆動信号を変調して被変調信号を生成し、
前記被変調信号を、前記第2の基板上に設けられた第3のコイルが有する2つの端子の一方に入力し、
前記第3のコイルと、前記第1の基板上に設けられた第4のコイルとを一定の間隔をおいて重ね合わせ、前記第4のコイルが有する2つの端子間に第3の交流電圧を生じさせ、
前記第3の交流電圧を読み取ることで前記回路または前記回路素子の状態を検査することを特徴とする検査方法。
A first AC voltage is applied between two terminals of the first coil provided on the first substrate,
The first coil and the second coil provided on the second substrate are overlapped at a certain interval to generate a second AC voltage between two terminals of the second coil. Let
A power supply voltage or a drive signal is generated from the second AC voltage, and the power supply voltage or the drive signal is input to a modulation circuit included in a test-dedicated circuit and a circuit or a circuit element.
The operation information signal is generated by inputting the output of the circuit or the circuit element to the test-dedicated circuit,
In the modulation circuit, the power supply voltage or the drive signal input according to the operation information signal is modulated to generate a modulated signal,
The modulated signal is input to one of two terminals of a third coil provided on the second substrate,
The third coil and the fourth coil provided on the first substrate are overlapped at a certain interval, and a third AC voltage is applied between two terminals of the fourth coil. Give rise to
An inspection method comprising inspecting a state of the circuit or the circuit element by reading the third AC voltage.
請求項1において、
前記電源電圧は、前記第2の交流電圧を整流化して生成され、
前記駆動信号は、前記第2の交流電圧を整形して生成されることを特徴とする検査方法。
In claim 1,
The power supply voltage is generated by rectifying the second AC voltage,
The inspection method, wherein the drive signal is generated by shaping the second AC voltage.
請求項1または2において、
前記回路または前記回路素子は、画素部、走査線駆動回路、または信号線駆動回路に含まれる回路または回路素子であることを特徴とする検査方法。
In claim 1 or 2,
The inspection method, wherein the circuit or the circuit element is a circuit or a circuit element included in a pixel portion, a scanning line driver circuit, or a signal line driver circuit.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58145142A (en) * 1982-02-24 1983-08-29 Fujitsu Ltd Test of lsi
JPH01297626A (en) * 1988-05-26 1989-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Active matrix array and its inspection method
JPH0555327A (en) * 1991-08-26 1993-03-05 Toshiba Corp Method for screening semiconductor device
JPH06308530A (en) * 1993-04-23 1994-11-04 Tokyo Kasoode Kenkyusho:Kk Device for inspecting substrate
JPH0727871U (en) * 1993-11-02 1995-05-23 日本航空電子工業株式会社 IC card structure
JPH08278342A (en) * 1995-04-06 1996-10-22 Okano Denki Kk Inspection method for conductor circuit board and inspection apparatus therefor
JP2000055964A (en) * 1998-08-10 2000-02-25 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Inspection apparatus for electrode structure for thin display device and its inspection method

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58145142A (en) * 1982-02-24 1983-08-29 Fujitsu Ltd Test of lsi
JPH01297626A (en) * 1988-05-26 1989-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Active matrix array and its inspection method
JPH0555327A (en) * 1991-08-26 1993-03-05 Toshiba Corp Method for screening semiconductor device
JPH06308530A (en) * 1993-04-23 1994-11-04 Tokyo Kasoode Kenkyusho:Kk Device for inspecting substrate
JPH0727871U (en) * 1993-11-02 1995-05-23 日本航空電子工業株式会社 IC card structure
JPH08278342A (en) * 1995-04-06 1996-10-22 Okano Denki Kk Inspection method for conductor circuit board and inspection apparatus therefor
JP2000055964A (en) * 1998-08-10 2000-02-25 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Inspection apparatus for electrode structure for thin display device and its inspection method

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