JP2010518190A - ポリシロキサンブロックコポリマー類 - Google Patents

Abstract

【課題】ポリシロキサンブロックコポリマーの提供。
【解決手段】本発明はポリシロキサンブロックとポリカチオン性ブロックとを含む新規の両親媒性ブロックコポリマーを包含する。該ポリカチオン性ブロックはジアリルジアルキルアンモニウム誘導体から形成される。前記形成されたブロックコポリマーは特に髪及び皮膚のようなケラチン基質のトリーティング又はコンディショニングに有用である。
【選択図】なし

Description

本発明はポリシロキサンのブロックとポリカチオン性のブロックとを含む新規両親媒性ブロックコポリマーに関する。該ポリカチオン性ブロックはジアリルジアルキルアンモニウム誘導体から形成される。該形成されたブロックコポリマーは特に髪又は皮膚のようなケラチン基質のトリートニング又はコンディショニングとして有用である。

コンディショニングシャンプーは一段階で髪を洗浄し及び調子を整える。一段階で髪の洗浄及びコンディショニングの両方を達成する従来の方法には問題がある。よくシロキサンが利用される、コンディショニング剤は、シャンプーに配合された界面活性剤の洗浄作用により、すすぎ水で洗い流される。この問題を解決するために、カチオン性ポリマーのような沈着剤は、コンディショニング剤がより効果的に髪に留まるようにシャンプー中でコンディショニング剤と一緒になり、そうすることで、すすぎサイクルにおいて洗い流されないようにされ得る。

前記組合せは米国特許第５，５７３，７０９号明細書、米国特許第５，９７７，０３８号明細書、米国特許第６，２００，５５４号明細書、米国特許第６，４５１，２９８号明細書並びに米国特許第５，３０２，３２２号明細書、及び米国特許出願公開第２００６／０１２３５６４号明細書並びに米国特許出願公開第２００５／０００２８７１号明細書に開示されている。

困ったことがコンディショニングシャンプーの改良において見出される。例えば、多くのカチオン性ポリマーは髪上に蓄積し、望まない“汚れ”に覆われているような感じを生じる傾向がある。カチオン性ポリマーは好ましくはこの問題を最小限にするために、一定限界で使用される。このことは得られるコンディショニングの総合的な恩恵を制限する可能性がある。さらには、２つの別々の原料（カチオン性ポリマーとシリコーン）の使用でシャンプー製剤における費用面に高額であり不都合である影響を及ぼす。ヘアコンディショナーの湿潤滑性の水準はこれらコンディショナーをすすぎ流してから得られるものと比較できず、しばしばシャンプー中のシリコーン／カチオン性ポリマー錯体は不透明な製剤を与える。

米国特許第５，５７３，７０９号明細書 米国特許第５，９７７，０３８号明細書 米国特許第６，２００，５５４号明細書 米国特許第６，４５１，２９８号明細書 米国特許第５，３０２，３２２号明細書 米国特許出願公開第２００６／０１２３５６４号明細書 米国特許出願公開第２００５／０００２８７１号明細書

本発明に開示のポリシロキサンブロックとポリカチオン性ブロックとを含む両親媒性ブロックコポリマーはコンディショニングシャンプーのための従来技術と関連する多くの上記問題を解決する。

両親媒性ブロックコポリマーは化粧品に用いることが知られている。疎水性セグメントと親水性セグメントとを含むこれら両親媒性ブロックコポリマーは米国特許出願公開第２００３／０２２５１６８号明細書、米国特許出願公開第２００４／００３９１０１号明細書、米国特許出願公開第２００４／０００９１３６号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２１７２８５号明細書及び米国特許出願公開第２００４／０２０２６３４号明細書に開示されている。

カチオン性官能基を有するポリシロキサンもまた公知であり、及び日本国特許出願公開１９９５００２９６４号公報、並びに日本国特許出願公開１９９８２９１９６７号公報、及び国際公開第９９／３２５３９号パンフレットに開示されている。これら変性ポリシロキサンは、米国特許出願公開２００６／０１２３５６４号明細書に開示されているもののように髪の脱色剤又は染色剤組成物におけるコンディショニング剤として用いられることが知られている。

更に、ポリシロキサンセグメントとブロックコポリマーセグメントとから形成されるブロックコポリマーは公知であり、例えば米国特許第５，７６０，１３６号明細書に記載されている。この参考文献はジアリルジアルキルアンモニウムモノマーから導かれるポリシロキサンブロック及びポリカチオン性ブロックを含むブロックコポリマーを開示していない。

本発明による両親媒性ブロックコポリマーは、ポリシロキサンブロックと、ジアリルジアルキルアンモニウムモノマーから誘導されたポリカチオン性ブロックとから形成され、コンディショニング剤の蓄積から生じ得る望ましくない副作用の数を減少させながらケラチン基質（髪及び皮膚）の最適な洗浄及びコンディショニングを提供する。

本発明は両親媒性ブロックコポリマーを対象とし、該両親媒性ブロックコポリマーを含むコンディショニングシャンプーを対象とし、両親媒性ブロックコポリマーケラチン基質コンディショニング剤及び両親媒性ブロックコポリマーケラチン基質コンディショニング沈着補助剤を対象とする。

本発明は両親媒性ブロックコポリマーを対象とするものであって、
ａ）式（Ｉ）

（式中、ｎは２及び１０，０００の間の数である。）で表される一種のシロキサンブロックポリマー及び
ｂ）式（ＩＩ）

（式中、
Ｒ₃及びＲ₄はお互いに独立して水素原子、又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し、
Ｒ₅及びＲ₆は、独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１８を有するアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミドアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、及び
Ｙ^-はアニオンを表す。）で表される少なくとも一種のカチオン性モノマーから形成さ
れるカチオン性ブロックポリマー
を含む両親媒性ブロックコポリマーを対象としている。

好ましい実施態様によれば、両親媒性ブロックコポリマーは
ａ）式（Ｉａ）

（式中、
Ｒ₁及びＲ₂は独立して、アルキル基、アルコキシ基、フェニルアルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルアリール基、アルキルアミン基、アルキルヒドロキシ基、ポリオキシアルキレン基及びポリアルキレンポリアミン基を表し、
ｎは２乃至１０、０００の数である。）で表される一種のシロキサンブロックポリマー、及び
ｂ）式（ＩＩａ）

（式中、
Ｒ₃及びＲ₄はお互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し、
Ｒ₅及びＲ₆は、独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１８を有するアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミドアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、
Ｙ^-はアニオンを表す。）で表される少なくとも一種のカチオン性モノマーから形成さ
れるカチオン性ブロックポリマー
を含む。

前記両親媒性ブロックコポリマーはまた下記

（式中、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、ｎ及びＹ^-は上記の様に定義され、
ｘは２乃至１０００の整数であり、
Ｌは連結基を表す。）で表される構造によって定義され得る。

連結基は少なくとも一種の２価の連結基である。連結基はまたヘテロ原子、例えば硫黄原子、窒素原子、酸素原子、又はそれらの組合せを含み得る。結合基は好ましくはいわゆる連鎖移動剤の誘導体を含める。

例えば、シロキサンブロックポリマーがチオール基で終わるとしたら、それは反応してカチオン性ブロックポリマーと共有結合を形成する。このように形成された両親媒性ブロックコポリマーにおける連結基はその後チオールの誘導体であるチオエーテルを含有する。

例えば、式（III）の連結基は以下の

（式中、ｘは１乃至１０である。）のような構造を有し得る。

本発明の更なる態様は
Ａ）少なくとも
ｉ）式（Ｉ）で表されるシロキサンブロックポリマー、及び
ｉｉ）式（ＩＩ）で表されるカチオン性モノマーの少なくとも一種から形成されるカチオン性ブロックポリマー
を含む両親媒性ブロックコポリマー、及び
Ｂ）洗浄用界面活性剤、
を含むヘアコンディショニングシャンプー組成物に関するものである。

加えて、上記の両親媒性ブロックコポリマーを含むケラチン基質コンディショナー又はケラチン基質コンディショナー沈着補助剤は本発明の態様である。

本発明の中で様々な方法が具体化されている：
最初の方法は、
ａ）式（Ｉ）で表されるシロキサンブロックポリマー、及び
ｂ）式（ＩＩ）で表されるカチオン性モノマーの少なくとも一種から形成されるカチオン性ブロックポリマー
を含む両親媒性ブロックコポリマーの生成用の方法を対象とする。

前記生成方法は式（Ｉ）で表されるシロキサンポリマーブロック及び開始剤の存在下で式（ＩＩ）で表されるカチオン性モノマーを重合する段階を含み、シロキサンブロックポリマーは連鎖移動基で終了している。

第２の方法は、式（Ｉ）で表されるシロキサンブロックポリマーと少なくとも式（ＩＩ）で表されるカチオン性モノマーの一種から形成されるカチオン性ブロックポリマーとを含む両親媒性ブロックコポリマーを前記基質上に適用することによってケラチン基質をコンディショニングする方法を対象にする。

総ての％、部数及び割合は、他の明記が無ければ、本発明のシャンプー組成物の全質量に基づいている。掲載された原料に関連する全てのそういった質量は機能レベルに基づいており、それ故、特記することがなければ、商業的に含まれ得るキャリアや副産物は含まない。

ケラチン基質は髪、皮膚、指の爪又は足指の爪である。

両親媒性ブロックコポリマーは疎水性ブロックと親水性ブロックとを含むブロックコポリマーとして定義される。

用語“ブロックコポリマー”はその範囲の中に単一ポリマー分子を形成するために連結された２種以上の異なる重合体構成単位を含む。前記ブロックコポリマーはジ−、トリ−及びマルチ−ブロックポリマーである。ブロックコポリマーは直線状、グラフト状、櫛状、星様の構造であり得る。

用語“ポリマーブロック”とはブロックポリマーの複数のブロックの中の１つを言う。ポリマーブロックは親水性又は疎水性である。例えば、ブロックコポリマーはカチオン性ポリマーブロック−シロキサンポリマーブロック−ジブロックコポリマー又はカチオン性ポリマーブロック−シロキサンポリマーブロック−カチオン性ポリマーブロック−トリブロックコポリマーであり得る。

用語“疎水性”及び“親水性”とは、この発明のブロックコポリマーに適用される場合、通常の意味で使用される。従って、親水性は、ポリマーに言及した場合、ポリマーが水と結合又は吸収する強い傾向を有し、結果的にポリマー溶液又は膨れ及び／又はゲルの形成をもたらすことを意味する。この特性は極性又はイオン性モノマーから生成されるポリマーの特徴である。同様に、疎水性とは、疎水性ブロックに言及した場合、ポリマーが水に対抗し、及び水に溶解せず、又は水によって膨れないことを意味する。この特性は相対的に非極性であるモノマーから生成したポリマーの特徴である。

疎水性ブロックは水に溶ける又はわずかに溶けるモノマーを含むシロキサンに由来する。シロキサン疎水性ブロックは、いったん、結果としてブロックが形成されると、不溶であるか又は水中で膨潤性でないという特性を有する。疎水性の又はシロキサンのポリマーブロックは付加的なエチレン系（ｅｔｈｙｌｅｎｉｃａｌｌｙ）不飽和モノマーから形成され得る。疎水性の又はシロキサンのポリマーブロックは同様にグラフト化、更に官能基化及び／又は架橋されて得る。

本発明の両親媒性ブロックコポリマーの親水性ブロックはジアリルアルキルアンモニウムモノマーに由来する。両親媒性ブロックはジアルキルアミンから形成され、続いて４級化され得る。両親媒性ブロックは親水性ポリマーブロックがその親水性を維持する限りは、イオン性及び又は非イオン性の付加的なエチレン系（ｅｔｈｙｌｅｎｉｃａｌｌｙ）不飽和モノマーから同様に形成され得る。親水性ポリマーブロックはまたグラフト状、ランダム状又は更に官能基化及び／又は架橋され得る。

本発明の形成された両親媒性ブロックコポリマーはグラフト化、架橋化、直鎖化又は構造化され得る。

構造化及び非構造化という用語はしばしばポリマー形成の架橋特性を言及するために使用される。

本発明の両親媒性ブロックコポリマーは少なくとも２つのポリマーブロック又はセグメントを含む。

疎水性の又はシロキサンのポリマーブロックは式（Ｉ）（式中、ｎは２乃至１０，０００である）で表されるブロックであり、及び親水性ブロックは式（ＩＩ）（式中、Ｒ₃及
びＲ₄はお互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し、Ｒ₅及びＲ₆は、独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１８を有するアルキル基、ヒドロキ
シアルキル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミドアルキル基、又はアルコキシアルキル基を表し、及びＹ^-はアニオンを表す。）で表されるカチオン性モノマーの少なく
とも一種から形成されるカチオン性ポリマーブロックである。それ故、ポリシロキサンは非置換である。

両親媒性ブロックコポリマーの更に詳しい１つの例は
ａ）式（Ｉａ）、（式中、Ｒ₁及びＲ₂は独立してアルキル基、フェニルアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルアリール基、アルキルアミン基、アルキルヒドロキシ基、ポリオキシアルキレン基及びポリアルキレンポリアミンを表し、ｎは２乃至１０，０００の数である）で表されるシロキサンブロックポリマー、及び
ｂ）式（ＩＩａ）、（式中、Ｒ₃及びＲ₄はお互いに独立して水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し、Ｒ₅及びＲ₆は、独立して、水素原子、又は炭素原子数１乃至１８のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミドアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、及びＹ^-はアニオンを表す。）で表されるカ
チオン性モノマーの少なくとも一種から形成されるカチオン性ブロックポリマー
を含む。

シロキサンポリマーブロック
シロキサンポリマーブロック又はセグメントは付加的なモノマーから形成され得る。付加的なモノマーはシリコーンを含み得る。シロキサンブロックポリマーは1種より多いシ
ロキサンブロックを含み得る。例えば、シロキサンブロックポリマーはポリジメチルシロキサンブロックとポリメチルフェニルシロキサンブロックとを含むか、又はポリジビニルシロキサンブロックとポリジメチルシロキサンブロックとを含み得る。

シロキサンブロックは例えば、ポリアルキルシロキサン、ポリアリールシロキサン、ポリアルキルアリールシロキサン、ポリエーテルシロキサンコポリマー及びその混合物であり得る。

Ｒ₁及びＲ₂は同じ又は異なり得、及び独立してアルキル基、アルコキシ基、アリール基
、アリールオキシ基、アルキルアリール基、アルキルアミン基、アルキルヒドロキシ基、ポリオキシアルキレン基、及びポリアルキレンポリアミンであり得る。

アルキル基は直線状の又は枝分かれの炭素原子数１乃至２０のアルキル基として定義される。例えば、アルキル基は炭素原子数１乃至４の、炭素原子数１乃至８の、炭素原子数１乃至１２の又は炭素原子数１乃至１４のアルキル基であり得る。

炭素原子数１乃至２０のアルキル基は、直鎖の又は枝分かれのアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、第二−ブチル基、第三−ブチル基、アミル基、イソアミル基又は第三−アミル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基又はエイコシル基である。

例えば、シロキサンブロックはポリジメチルシロキサン又はポリジエチルシロキサンであり得る。ポリジメチルシロキサンはまたジメチコンとして知られている。

メチル基、エチル基及びプロピル基又はその混合物は特にＲ₁及びＲ₂として適している。

アリール基はフェニル基又はアルキル置換されたフェニル基であり得る。

アリール化シリコーンは約１．４６又はそれより高い、特に約１．５２又はそれより高い屈折率を有する髪の光沢特性を高めることで知られている。

ポリメチルフェニルシロキサンはアリール化シロキサンの１つの例である。

アルキルアリール基は例えばメチル基、エチル基、第三−ブチル基で置換されたフェノールであり得る。

ポリオキシアルキレンは例えば、ポリプロピレンオキシド及び／又はポリエチレンオキシドである、ポリオキシアルキレンはポリジアルキルシロキサンに変性され得る。もう１つの方法として、アルキレンオキシドの混合物はポリシロキサン塩基を変性するために使用され得る。例えば、ポリプロピレン又はポリエチレンオキシドは変性ポリジメチルシロキサンを変性するために使用され得る。これらの原料はジメチコンコポリマーとして知られている。それ故に、ポリシロキサンブロックはジメチコンコポリマーを含み得る。

アルコキシ基は炭素原子数１乃至４の枝分かれの又は直線状のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基並びにｎ−ブトキシ基及び第三−ブトキシ基であり得る。

アリールオキシ基は例えば、フェノキシ基又はアルキル基置換のフェノキシ基であり得る。

アルキルアミン基は、例えば、アミンによって置換された炭素原子数１乃至４の枝分かれの又は直線状のアルキル基である。アルキル鎖の一種以上のアミン置換基は該鎖上のどこにでもおこり得、例えば末端であり得る。

アルキルヒドロキシ基は、例えば、ヒドロキシ基によって置換された炭素原子数１乃至４の枝分かれの又は直線状のアルキル基である。アルキル鎖の一種以上のヒドロキシ置換
基は該鎖上のどこでも生じ得、例えば末端である。

ポリアルキレンポリアミン基はアミンによって中断されたアルキレン鎖である。

例えば、式（ＩＶ）

（前記式中、
Ｒ₁、Ｒ₂及びｎは前記に定義されたものであり、
Ｒ７はヒドロキシ基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し得、
Ｒ₈は置換基−（ＣＨ₂）_1-4−ＮＲ₉−（ＣＨ₂）−_1-4−ＮＲ₉Ｒ₁₀を表し、
ｙは１乃至１００００の整数であり、
Ｒ₉及びＲ₁₀は同じ又は異なり及び水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表
す。）はシロキサン上のポリアルキレンポリアミン置換の代表である。

両親媒性ブロックコポリマーのシロキサンブロックは例えば式（ＩＶ）に従うものであり得る。

Ｒ₁及びＲ₂がメチル基であるとき、前記ポリマー（ＩＶ）は時々“アモジメチコン”として参照される。

適したシロキサンが開示されている参考文献は米国特許第２，８２６，５５１号明細書、米国特許第３，９６４，５００号明細書、米国特許第４，３６４，８３７号明細書、及び英国特許第８４９，４３３号明細書に含まれる。全体として参照することによって本明細書に組み込まれるのは、１９８４年にペトラルカシステムズインコーポレーテッド（Ｐｅｔｒａｒｃｈ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．）によって頒布された“シリコン化合物”である。

シロキサンブロックの繰返し単位数は約２乃至約１００００で変化し、例えば、約１０乃至５０００及び約２０乃至約１０００である。

カチオン性ブロックは、少なくとも部分的には、モノマーから誘導されたジアリルジアルキルアンモニウムから少なくも形成されている。

例えば、ジアリルジアルキルアンモニウム種の具体的なモノマーとしてはジアリルジメチルアンモニウムクロリド（ＤＡＤＭＡＣ）、ジアリルジエチルアンモニウムクロリド、ジアリルジメチルブロマイド、ジアリルジメチルアンモニウムスルフェート、ジアリルジメチルアンモニウムホスフェート、ジアリルジ（２−エトキシエチル）アンモニウムクロリド及びジアリルジ（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムクロリドである。最も好ましいカチオン性モノマーはＤＡＤＭＡＣである。

対イオンのＹ^-は実際にはどんな対イオンでもあり得る。Ｙ^-は、クロリド、ブロマイド、ヨージド、置換された又は未置換のアリールスルホネート、スルフェート、アルキルスルホネート、例えばメチルスルホネート、エチルスルホネート、カルボキシレート、ナイトレート、ホスフェート、テトラフルオロボレート、テトラアルキルボレート、テトラア
リールボレート、パークロレート、及びヘキサフルオロホスフェートに制限されるものではないが、これらによって表される対イオンであり得る。

カチオン性ブロックにおける繰返し単位の数は約２乃至５０００の範囲である。例えば、繰返し単位は約２乃至約１０００又は約１０乃至約５００の範囲であり得る。

親水性又はカチオン性ポリマーブロックはホモポリマー又はランダムコポリマー、ブロックコポリマー又はグラフトポリマー若しくはコポリマーであり得る。

カチオン性ポリマーブロックはどんな分子量であり得る。好ましい平均分子量は約５００ｇ／ｍｏｌ乃至約１，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、約５００ｇ／ｍｏｌ乃至約５００，０００ｇ／ｍｏｌ、約８００ｇ／ｍｏｌ乃至約５００，０００ｇ／ｍｏｌ及びより好ましくは約８００ｇ／ｍｏｌ乃至１００，０００ｇ／ｍｏｌ、例えば約８００ｇ／ｍｏｌ乃至約１００００ｇ／ｍｏｌ又は約１０００ｇ／ｍｏｌ乃至約５０００ｇ／ｍｏｌである。

ジアリルジアルキルアンモニウムポリマーブロックは適した重合過程の何れかによって各々合成され得る。ジアリルジアルキルアンモニウムポリマーは例えば、溶液重合、油中水懸濁液重合によって、又は油中水エマルジョン重合によってゲルポリマーとして製造され得る。溶液重合によってゲルポリマーが製造されるとき、開始剤がモノマー溶液中に導入される。

前記ジアリルジアルキルアンモニウムポリマーブロックは、例えば、欧州特許出願公開第１５０９３３号明細書、欧州特許出願公開第１０２７６０号明細書、欧州特許出願公開第１２６５２８号明細書に記載されている方法に従って、懸濁液重合によってビーズ状に又は油中水エマルジョン重合によって油中水エマルジョン状若しくは分散状に各々製造され得る。

前記ジアリルジアルキルアンモニウムブロックは慣用のラジカル重合によって又は制御重合によって合成され得る。

前記ブロックが初めに形成され得、続いて末端ブロックコポリマーを形成するために共有結合し得る。

ジアリルアルキルアンモニウムモノマーに加えて、他のエチレン系不飽和モノマーは親水性ブロックコポリマーのカチオン性ブロックを形成するために使用され得る。

例えば、非イオン性、アニオン性、又はカチオン性モノマーはジアリルジアルキルアンモニウム繰返し単位を含むカチオン性ブロックに包含され得る。

具体的な非イオン性モノマーは例えば（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、（メタ）アルリレートエステル及びＮ−ビニルピロリドンである。例えば、（メタ）アクリレートエステルはメチル（メタ）アルリレート及びエチル（メタ）アクリレートである。

付加的なカチオン性モノマーは酸付加塩、又はエーテルジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート又はジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリルアミドの第４級アンモニウム塩から選択され得る。

代表例は、ジメチルアミノエチルアクリレートメチルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルアクリレートメチルスルフェート第４級塩、ジメチルアミノエチルアクリレート
ベンジルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルアクリレート硫酸塩、ジメチルアミノエチルアクリレート塩酸塩、ジメチルアミノエチルメタクリレートメチルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルメタクリレートメチルスルフェート第４級塩、ジメチルアミノエチルメタクリレートベンジルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルメタクリレート硫酸塩、ジメチルアミノエチルメタクリレート塩酸塩、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレートメチルクロリド第４級塩、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートメチルクロリド第４級塩、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドメチルスルフェート第４級塩、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド硫酸塩又はジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩酸塩を含むカチオン性荷電の又は潜在的カチオン性荷電のモノマーである。

前記アニオン性モノマーはどのエチレン性不飽和のカルボン酸又はスルホン酸でもあり得る。例えば、アニオン性モノマーは（メタ）アクリル酸又は２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸であり得る。

前記カチオン性ブロックポリマーはランダムな、構造的な、又は様々なブロックからなる。例えばカチオン性ブロックはＤＡＤＭＡＣとジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートのアンモニウム塩のランダム若しくはブロックコポリマー、ＤＡＤＭＡＣのホモポリマーブロック、ＤＡＤＭＡＣとアクリルアミドのランダム若しくはブロックコポリマー、又はＤＡＤＡＣとアクリル酸とのランダム若しくはブロックコポリマーであり得る。

形成された親水性ブロックコポリマー
形成されたブロック親水性コポリマーは、髪に塗布したときに刺激性、有毒性又はその他有害性がなく、組成物の他の成分と相溶性がよく、一般の使用及び貯蔵条件下で化学的安定であり、及びケラチン基質上に沈着されることが可能であり、及びケラチン基質の調子を整えることがが好ましい。

形成されたブロック親水性コポリマーはまた水溶性又は水分散性であることもまた好ましい。

シロキサンブロックのカチオン性ブロックに対する質量比は変動する。シロキサンブロックのカチオン性ブロックに対する質量比は、形成された親水性ブロックコポリマーの全質量に基づいて、約１：１００乃至約１００：１に変動し得、例えば約１：１０乃至約１０：１である。更に、想定される質量比は約１：４乃至４：１、約１：３乃至３：１、約１：２乃至２：１又は約１：１であり得る。

形成された親水性ブロックコポリマーの全分子量は用途に応じて幅広く変動する。

シロキサン単位のカチオン性単位に対する繰り返し単位のモル比は幅広く変動し得る。例えば、約１：１００乃至約１００：１、約１：２５乃至約２５：１、約１：１０乃至約１０：１に変変動する。モル比は約１：３乃至約３：１に想定される。親水性ブロックコポリマーが過剰量のカチオン性繰返し単位、例えばカチオン単位ごとに対して１シロキサン繰返し単位を有する場合には、前記比率は約１：２である。過剰量のカチオン性単位が好ましいものであり得る。

本発明のこれら親水性ブロックコポリマーは特に洗浄剤、トリーティング、又はケラチン基質保護剤として有用である。

上記のように、本発明の親水性ブロックコポリマーはコンディショニングシャンプー中
の洗浄用界面活性剤と組み合わされ得る。そのようなコンディショニングシャンプーは、洗浄が完了した後に髪上に沈着及び髪上に残るコンディショニング剤を配合したシャンプー組成物を含む。

シャンプーへの親水性ブロックコポリマーの配合はそれ自体コンディショニング剤として、及び付加的なコンディショニング剤を髪に供給するための沈着補助剤として有益であることが見出されてきた。

髪用のコンディショニング剤は、例えば、シリコーン、ポリジメチルシロキサンのようなポリジオルガノシロキサン、ヒドロキシ官能性のシリコーン、及びアミノ官能性のシリコーンである。該シリコーンは、約０．０１質量％から５．０質量％の範囲で変動する量で使われ得、好ましくは約０．０１質量％から３．０質量％の範囲で変動する量で使われ得る。

付加的なコンディショニング剤は、例えば上記したような該シリコンのようなものであり、それは本発明のコンディショニング親水性ブロックコポリマーとは異なるものだが、本発明のブロックコポリマーと結合し得る。

本発明の親水性ブロックコポリマーはシャンプーとして使用される場合、洗浄用界面活性剤と組み合わせられる。本発明の親水性ブロックコポリマーの重要な利点の一つは多様な界面活性剤との相溶性である。

相溶性によって、安定した溶液が本発明の親水性コポリマーを用いて形成され得ることが重要である。

本発明の親水性ブロックコポリマーは例えばヘアコンディショニングシャンプー組成物へ、全組成物に基づいて約０．０１乃至約５．０質量％の範囲の量で加えられ得る。より好ましくは約０．０１乃至約２．５質量％、又は０．０１乃至１．０質量％の範囲であり得る。

親水性ブロックコポリマーの製造
親水性ブロックコポリマーは適した末端ポリシロキサンの存在下でジアリルジアルキルアンモニウムモノマーを重合することによって形成され得る。本発明の目的のため連鎖移動基で適切に末端処理されるということは、チオール基、ザンテート基、ジチオエステル基、トリチオエステル基、ジチオカルバメート基、２級アルコール基又はニトロキシル基を備えた末端又はペンダント末端を意味する。例えば、米国特許第６，８５８，６９６号明細書はザンテート基を備えたポリシロキサン誘導体を開示している。

チオール末端疎水性ブロックは、例えば、末端二重結合又は末端水素基を有するポリシロキサン樹脂をチオ酢酸、チオベンゼン酸、チオプロピル酸、チオブチル酸、チオ吉草酸又は２級アルコールのような試薬で処理することによって合成され得る。合成は、例えば日本国特許出願番号第０９０３１１４５（１９９５）号公報及びインジュンデュ（Ｙｉｎｇ Ｊｕｎ Ｄｕ）ら、ジャーナルオブアプライドポリマーサイエンス、２００３年、５９４頁に記載されている。

二重結合又はヒドロキシ基で末端処理された様々な平均分子量のポリシロキサンが市販されている。例えば、シルテック（Ｓｉｌｔｅｃｈ）コーポレーションはＳｉｌｍｅｒ（登録商標）ＯＨ及びＳＩＬＭＥＲ ＶＩＮの商標名で様々な反応性ポリシロキサンを提供している。

その後、ブロックコポリマーは開始剤と適した末端ポリシロキサンブロックの存在下で、カチオン性電荷のジアリルジアルキルアンモニウムモノマーを重合することによって直接形成され得る。

ポリシロキサンブロックがチオール基のようなペンダント鎖移動基でグラフト化することもまた可能である。例えばＤＡＤＭＡＣのようなカチオン性モノマーは続いてグラフト化カチオン性ブロックを備えたグラフトブロックコポリマーを得るためにチオールペンダント基を備えたポリシロキサンポリマーの存在化で重合される。

重合開始剤は、加熱、光若しくは電磁放射又は酸化剤若しくは還元剤によって活性化するようなどの開始剤でもあり得る。

典型的な開始剤は、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−２，４，−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビス−２−アミジノプロパンヒドロクロリド、ジメチルアゾビスイソブチレート、アゾビスイソブチルアミジンヒドロクロリド及び４，４’−アゾビス−４−シアノバレリアン酸のようなアゾビス化合物、及びベンゾイルペルオキシド、ベンゾイル２，４−ジクロロペルオキシド、ジ−第三−ブチルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、アセチルペルオキシド、ジイソプロピルジカルボネートペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、第三−ブチルヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ｐ−メンタンヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカルボネート、第三−ブチルペルオキシラウレート、ジ−第三−ブチルペルオキシフタレート、ジベンジルオキシド及び２，５−ジメチルへキサン−２，５−ジヒドロペルオキシドのようなペルオキシド開始剤、及びベンゾイルペルオキシド−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ペルオキソジスルホン酸−亜硫酸水素ナトリウム及びパースルフェートの過硫酸塩のような酸化還元開始剤、及び、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩である。光開始剤もまた想定される。

反応溶媒は、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン及びテトラデカンのような脂肪族炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタン及びシクロヘキサンのような脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン及びキシレンのような芳香族炭化水素、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン、トリクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン及び２，４−ジクロロトルエンのようなハロゲン化された炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル、アセトン及びメチルエチルケトンのようなケトン、及びジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォキシド、及びメタのノール、エタノール、プルパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、第二−ブタノール、及び第三−ブタノールのようなアルコールを含む。溶媒への界面活性剤の添加もまた想定される。これらは単独で又はそれらの混合物として使用され得る。混合溶媒が好ましい。

洗浄用界面活性剤
洗浄用界面活性剤はアニオン性、非イオン性、両性又は双性イオン性界面活性剤、又はその混合物であり得る。洗浄用界面活性剤の目的はシャンプー組成物に洗浄作用を提供することである。本明細書で使用される洗浄用界面活性剤という語句は、主として乳化界面活性剤、すなわち、乳化作用を提供し、及び低い洗浄性能を有する界面活性剤から、これら界面活性剤を区別することを意味する。ほとんどの界面活性剤は洗浄性及び乳化性の両方を有していることが認められる。該界面活性剤が本願で役立つに十分な洗浄能力をも持っているのであれば、本願から乳化界面活性剤を除外するつもりはない。

洗浄用界面活性剤はシャンプー組成物の質量に対して約５％乃至約５０％、例えば約８％乃至約３０％、又は約１０％乃至約２５％含まれ得る。

アニオン性界面活性剤
本明細書のシャンプー組成物中の使用に適しているアニオン性洗浄用界面活性剤成分は、ヘアケア又は他のパーソナルケア洗浄用組成物使用されることが知られているものを含む。シャンプー組成物のアニオン性界面活性剤成分の濃度は十分な望まれる洗浄性及び気泡性を提供するべきであり、該組成物の質量に対して約５乃至約５０％、好ましくは約８％乃至約３０％、さらに好ましくは約１０％乃至約２５％、なお一層好ましくは約１２％乃至約２２％、及び最も好ましくは約７％乃至約２０％の範囲である。

シャンプー組成物中の使用に適しているアニオン性界面活性剤はアルキル基及びアルキルエーテルスルフェートである。これら原料は各式ＲＯＳＯ₃Ｍ及びＲＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_xＳＯ₃Ｍを有しており、式中、Ｒは炭素原子数８乃至２４のアルキル基又はアルケニル基を
表し、ｘは１乃至１０の整数であり、及びＭはアンモニウムのようなカチオン、トリエタノールアミンのようなアルカノールアミン、ナトリウム及びカリウムのような一価の金属カチオン、及びマグネシウム及びカルシウムのような多価の金属カチオンを表す。界面活性剤の溶解性は選ばれた特定のアニオン性洗浄用界面活性剤及びカチオンに依存する。

Ｒはアルキル基及びアルキルエーテルスルフェートの両方において、炭素原子数約８乃至約１８であり得、例えば、炭素原子数約１０乃至約１６、炭素原子数約１２乃至約１４の偶数である。アルキルエーテルスルフェートはエチレンオキシドと炭素原子数約８乃至約２４を有する１価アルコールとの縮合生成物として得られる。アルコールは合成され得、又は例えばココナッツ油、パーム核油、獣脂等の油脂から抽出することができる。ココナッツ油又はパーム核油から抽出されたラウリルアルコール及び直鎖アルコールが好ましい。この様なアルコールはエチレンオキシドのモル比で、及び約０乃至約１０、好ましくは約１乃至約５、更に好ましくは約２乃至３で反応させられ、及びもたらされた分子種の混合物は、例えばアルコールのモルあたり平均３モルのエチレンオキシドを持っており、それは硫酸化及び中和される。

本発明のシャンプー組成物中で使用され得るアルキルエーテルスルフェートの具体的な非制限例は、ココナッツアルキルトリエチレングリコールエーテルスルフェート、タロウアルキルトリエチレングリコールエーテルスルフェート、タロウアルキルヘキサオキシエチレンスルフェート及びアルキルジエチレングリコールエーテルスルフェートのナトリウム及びアンモニウム塩を含む。典型的なアルキルエーテルスルフェートは個々の化合物の混合物を含み、該化合物は炭素原子数約１０乃至約１６の平均アルキル鎖長及びエチレンオキシドの約１乃至約４モルの平均エトキシル化度を有する混合物中の化合物である。

他の適したアニオン性洗浄用界面活性剤は式［Ｒ₁−ＳＯ₃−Ｍ］（式中、Ｒ₁は炭素原
子数約８乃至約２４、例えば、約１０乃至約１８を有する直鎖又は枝分かれ鎖の飽和脂肪族炭化水素基を表し、及びＭは明細書中に前記したカチオンを表す。）に従う有機硫酸反応生成物の水溶性塩である。この様な洗浄用界面活性剤の非制限例は、炭素原子数約８乃至約２４、好ましくは炭素原子数約１２乃至約１８を有したイソ−、ネオ−及びｎ−パラフィンを含むメタン系の炭化水素の有機硫酸反応生成物の塩、及び漂白及び加水分解を含む従来のスルホン化方法に従って得られた、例えばＳＯ₃又はＨ₂ＳＯ₄ようなスルホン化
剤である。好ましいものは炭素原子数１０乃至炭素原子数１８のｎ−パラフィンスルホン化アルカリ金属及びアンモニウムである。

さらに他の適したアニオン性洗浄用界面活性剤はイセチオン酸でエステル化された脂肪酸と水酸化ナトリウムで中和される反応生成物であって、例えば、前記脂肪酸はココナッ
ツ油又はパーム核油由来であって、例えばココナッツ油又はパーム核油由来である脂肪酸中のメチルタウリドの脂肪酸アミドのナトリウム又はカリウム塩である。他の類似のアニオン性界面活性剤は米国特許第２，４８６，９２１号明細書、米国特許第２，４８６，９２２号明細書、及び米国特許第２，３９６，２７８号明細書に開示されている

シャンプー組成物中の使用に適した他のアニオン性洗浄用界面活性剤は、例えば
Ｎ−オクタデシルスルホコハク酸二ナトリウム、ラウリルスルホコハク酸二ナトリウム、ラウリルスルホコハク酸二アンモニウム、Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシルスルホコハク酸四ナトリウム、スルホコハク酸ナトリウムのジアミルエステル、スルホコハク酸ナトリウムのジヘキシルエステル、及びスルホコハク酸ナトリウムのジオクチルエステルを含むコハク酸塩（ｓｕｃｃｉｎｎａｔｅｓ）である。

他の適したアニオン性洗浄用界面活性剤は炭素原子数約１０乃至約２４を有するオレフィンスルホネートを含む。この文中の、“オレフィンスルホネート”という語句は、錯体形成していない三酸化硫黄を用いてアルファ−オレフィンのスルホン化に続いて、該反応中で形成されてきたどんなスルホンでも加水分解されて対応するヒドロキシ−アルカンスルフォネートになるというような条件で該酸性反応混合物を中和することによって製造することができる化合物をさす。三酸化硫黄は液体状又は気体状であり得、そして一般的に、必ずしも必要ではないが、不活性の希釈剤、例えば、液体状で使用する場合は液体ＳＯ₂、塩素化炭化水素等によって、又は気体状で使用する場合は空気、窒素、気体ＳＯ₂等によって薄められる。オレフィンスルホン酸塩をもたらすアルファ−オレフィンは炭素原子数約１０乃至約２４のモノオレフィンであり、好ましくは炭素原子数約１２乃至約１６である。好ましくは、それらが直鎖オレフィンである。真のアルカンスルホン酸塩及びヒドロキシ−アルカンスルホン酸塩の割合に加えて、オレフィンスルホン酸塩は、反応条件、反応剤の割合、出発物質オレフィンの性質、及び貯蔵したオレフィンの及びスルホン化過程中の副反応の不純物に依存した二硫酸アルケンのような他の原料の軽微な量を含むことができる。アルファ−オレフィンスルホン酸塩混合物の非制限例は米国特許第３，３３２，８８０号明細書に開示されている。

シャンプー組成物中の使用に適したアニオン性洗浄用界面活性剤の他の分類はベータ−アルキロキシアルカンスルフォネートである。これら界面活性剤は式

（式中、
Ｒ₁は炭素原子数約６乃至約２０の直鎖アルキル基を表し、
Ｒ₂は炭素原子数約１乃至約３、好ましくは炭素原子数１の低級アルキル基を表し、及
び
Ｍは明細書中に前記した水溶性カチオンを表す。）で表される化合物と同じである。

シャンプー組成物中の使用に適したアニオン性洗浄用界面活性剤の他の分類はアルキルグリセリルエーテルスルホネート界面活性剤（本明細書では“ＡＧＳ”界面活性剤とも云う）、その誘導体又はその塩である。ＡＧＳ界面活性剤はスルホネート又はスルホネート塩群を含むアルキルグリセリルエーテル由来である。これら化合物はスルホネート基も同様に含むグリセロールのアルキルモノエーテルとして記載することができる。これらＡＧＳ界面活性剤は以下の構造と同じとして記載することができる：

式中、Ｒは炭素原子数約１０乃至約１８、好ましくは炭素原子数約１１乃至約１６、及び最も好ましくは炭素原子数約１２乃至約１４の飽和又は不飽和の直鎖、枝分かれ鎖、又は環状のアルキル基を表し、及びＸはアンモニウム、モノ−アルキル置換のアンモニウム、ジ−アルキル置換のアンモニウム、トリ−アルキル置換のアンモニウム、テトラ−アルキル置換のアンモニウム、アルカリ金属、アルカリ性金属、及びこの混合物からなる群から選択されるカチオンである。より好ましくは、該アルキルラジカル、上記式のＲのアルキル基は飽和及び直鎖である。

シャンプー組成物中の使用のためのアニオン性洗浄用界面活性剤はラウリル硫酸アンモニウム、ラウリルエーテル硫酸アンモニウム（エトキシル化の程度は種々である）、ラウレス硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸トリエチルアミン、ラウレス硫酸トリエチルアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウレス硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウレス硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸ジエタノールアミン、ラウレス硫酸ジエタノールアミン、ラウリン酸モノグリセリド硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウレス硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム、ラウレス硫酸カリウム、ラウリルサルコシンナトリウム、ラウロイルサルコシンナトリウム、ラウリルサルコシン、ココイルサルコシン、ココイル硫酸アンモニウム、ラウロイル硫酸アンモニウム、ココイル硫酸ナトリウム、ラウロイル硫酸ナトリウム、ココイル硫酸カリウム、ラウリル硫酸カリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ココイル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、及びその組み合わせを含む。

洗浄用界面活性に最も一般的に使用されるものに一部はラウリル硫酸ナトリウム、ラウレス−１硫酸ナトリウム（１モルのエチレンオキシドを備えたラウリル基）、ラウレス−２−硫酸ナトリウム（２モル（ｍｏｅｓ）のエチレンオキシドを備えたラウリル基）、ラウレス−２−硫酸ナトリウム（３モルのエチレンオキシドを備えたラウリル基）、及び対応するアンモニウム塩である。

本明細書でシャンプー組成物中の使用に適した両性又は双性イオン洗浄用界面活性剤はヘアケア又は他のパーソナルケア洗浄において使用されることで知られているものを含む。この様な両性洗浄用界面活性剤の濃度は好ましくは、該組成物の質量に対して、約０．５％乃至約２０％、好ましくは約１％乃至約１０％の範囲である。適した双性イオン又は両性界面活性剤の非制限例は米国特許第５，１０４，６４６号明細書及び米国特許第５，１０６，６０９号明細書に記載されている。

両性界面活性剤
シャンプー組成物中の使用に適した両性洗浄用界面活性剤は当技術分野で公知であり、脂肪族第２及び第３アミンの誘導体として広く記載されたこれらの界面活性剤を含み、そこでは脂肪族ラジカルは直鎖又は枝分かれ鎖であることが可能であり、かつそこでは脂肪族置換基の一種が炭素原子数約８乃至約１８を含み、一種はアニオン性水可溶性基、たとえばカルボキシ基、スルホン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、又はホスホン酸塩を含む。本発明に用いられる両性洗浄用界面活性剤は例えば、ココアンホアセテート、ココアンホジアセテート、ラウロアンホアセテート、ラウロアンホジアセテート、アルキルアミノアルカン
酸、アルキルアミノアルカノエート及びその混合物を含む。アルキルアミノアルカノエートの例はコカミノプロピオン酸である。

双性イオン界面活性剤
シャンプー組成物中の使用に適した双性イオン洗浄用界面活性剤は当技術分野で公知であり、脂肪族第４アンモニウム、ホスホニウム、及びスルホニウム化合物として広く記載されたこれらの界面活性剤を含み、そこでは脂肪族ラジカルは直鎖又は枝分かれ鎖であることが可能であり、かつそこでは脂肪族置換基の一種が炭素原子数約８乃至約１８を含み、一種はアニオン性水可溶性基、例えばカルボキシ基、スルホン酸塩、硫酸塩、リン酸塩、又はホスホン酸塩を含む。ベタインのような双性イオンが好ましい。特に好ましいベタインはコカミドプロピルベタインである。

本発明のシャンプー組成物は更に明細書中に記載のアニオン性洗浄用界面活性剤成分と組み合わせて用いるさらなる界面活性剤を包含してもよい。適した所望の界面活性剤は非イオン性界面活性剤及びカチオン性界面活性剤を含む。ヘアケア又はパーソナルケア製品中で用いられる当技術分野で公知であるこの様なあらゆる界面活性剤は、もし、所望の付加的な界面活性剤がシャンプー組成物の必須成分と化学的にも物理的にも相溶性があり、又は製品の性能、見た目、又は安定性を過度に損なわない限り使用され得る。シャンプー組成物中の所望による付加的な界面活性剤の濃度は、望むクリーニング能力又は気泡性、選択した所望の界面活性剤、望まれる製品密度、組成物中の他成分の存在及び当該分野で既知の他の要素に伴って変動し得る。

シャンプー組成物中の使用に適した他のアニオン性、双性イオン性、両性又は所望による付加的な界面活性剤はＭ．Ｃ．出版社刊行の「マカチョンズ、エマルシファイアーズアンドでタージェンツ、１９８９アニュアル」（ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ’ｓ，Ｅｍｕｌｓｉｆｉｅｒｓ ａｎｄ Ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ，１９８９ Ａｎｎｕａｌ）、及び米国特許第３，９２９，６７８号明細書、米国特許第２，６５８，０７２号明細書、米国特許第２，４３８，０９１号明細書、米国特許第２，５２８，３７８号明細書に記載されている。

ポリアルキレンオキシドアルキルエーテル
本発明に記載の前記組成物は一種以上のポリアルキレンオキシドアルキルエーテルを含み得る。ポリアルキレンオキシドアルキルエーテルはポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールアルキルエーテル、及びその組合せである。

ポリアルキレンオキシドアルキルエーテルに用いられる具体例はＰＰＧ−１５ステアリルエーテル（ユニケマ（Ｕｎｉｑｅｍａ）社からアラーモルＥ（Ａｒｌａｍｏｌ Ｅ）（登録商標）として入手可能）、ポリオキシプロピレン（９）デシルエーテル、ポリオキシプロピレン（４）ポリオキシエチレン（６）セチルエーテル、及びポリオキシエチレン（１２）ビヘニルエーテルを含む。

本発明の組成物は水性のキャリアを含み得る。キャリアの階級及び種類は他成分との相溶性及び製品の他の望まれる特性に従って選択される。

本発明に有用なキャリアは水及び低級アルキルアルコールの水溶液を含む。本明細書で有用な低級アルキルアルコールは炭素原子数１乃至６の一価アルコール、例えばエタノール及びプロパノールである。

水性キャリアは実質的には水である。好ましくは脱イオン水が使用される。ミネラルカチオンを含む天然源からの水もまた製品の望まれる性能によって使用され得る。本発明の
組成物は約２０％乃至約９５％、好ましくは約４０％乃至約９２％、及びより好ましくは約６０％乃至約９０％の水性キャリアを含有する。

該組成物のｐＨは好ましくは約４乃至約９、より好ましくは約４．５乃至約７．５である。緩衝液及び他のｐＨ調整剤を望ましい要求ｐＨを実現するために含むことができる。

添加成分
本発明のシャンプー組成物は更に一種以上の所望によるヘアケア又はパーソナルケア製品中に使用することで知られている成分を、もし、該添加成分が明細書中に記載された必須成分と科学的にも物理的にも相溶性があるり、又は製品の性能、見た目、又は安定性を過度に損なわない限り含まれ得る。この様な所望による成分の個々の濃度はシャンプー組成物の質量に対して約０．００１％乃至約１０％の範囲であり得る。

シャンプー組成物中で用いられる所望による成分の非制限例は、カチオン性ポリマー、例えば（本発明の両親媒性ブロックコポリマーに加えて）カチオン性でん粉、粒子、コンディショニング剤（炭化水素油、脂肪酸エステル、シリコーン）、ふけ防止剤、懸濁化剤、粘度調節剤、染料、不揮発性溶液又は希釈剤（水溶性及び非水溶性）、真珠光沢補助剤、フォームブースター、追加の界面活性剤又は非イオン性共界面活性剤、殺シラミ剤、ｐＨ調整剤、香料、防腐剤、キレート剤（ｃｈｅｌａｎｔｓ）、たんぱく質、皮膚活性化剤、日焼け防止剤、ＵＶ吸収剤、及びビタミンを含む。

でん粉はシャンプー及び皮膚製剤中で用いられる所望の成分である。でん粉は実質的には、例えば穀物、塊茎、根、豆及び果実のようなどの源からも由来し得る。天然源としては、トウモロコシ、えんどう豆、ジャガイモ、サツマイモ、バナナ、大麦（ｂｒｌｅｙ）、小麦、米、サゴ、アマランス、タピオカ（ｔａｉｏｃａ）、クズウコン、カンナ、ソルガム及びワキシーであり得る。該源はそれらの高アミロース品種又は高アミロペクチン品種が含まれる。高アミロペクチン品種はとは、本発明の目的からすれば、少なくともアミロペクチンを約６０質量％、又は少なくとも７０％含んでいることを意味する。高アミロース（ａｍｙｌａｓｅ）は４０質量％より多いアミロースを含んでいる。例えば、ジャガイモでん粉は約８０％のアミロペクチンと約２０％のアミラーゼを含んでいる。それ故、ジャガイモでん粉は高アミロペクチン品種のでん粉でありえる。でん粉は、例えばアニオン性、カチオン性、又は非イオン性誘導体を含む。非イオン性でん粉誘導体は例えばアルキレンオキシドを使用して誘導体化される。

でん粉のアニオン性変性は当技術分野で公知のどんな試薬、例えばアルケニルコハク酸無水物、無機リン酸塩、硫酸塩（ｓｕｌｆｔｅ）、ホスホン酸塩、スルホン酸塩及びクロロ酢酸ナトリウム、によってもなされ得る。

カチオン性変性は、アミノ基、イミノ基、アンモニウム基、スルホニウム基、又はホスホニウム基を含む試薬を含む当技術分野で公知のどんな試薬によってもなされ得る。この様なカチオン性誘導体はエーテル結合又はエステル結合を介して付着する１級、２級、３級及び４級アミン並びにスルホニウム基及びホスホニウム基を含む窒素含有基を備えたそれらのものを含む。カチオン性変性、特に３級アミノ又は４級アンモニウムエーテル化、は３−クロロ，−２−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド及びそれに類するもので処理することによって製造される。でん粉上の置換基のカチオン性度は約０．１乃至約４と幅広く変動し得る。

でん粉は酸化剤又は酵素加水分解のような、当技術分野で公知のどの方法によっても分子量を減らすために加水分解され得る。でん粉はまた分子量を増加するために、非分解され、及びさらにもっと架橋され得る。

でん粉は全製剤の約０．１乃至約５質量％の範囲の量でヘアコンディショニング製剤中に使用され得る。

製作法
本発明のシャンプー組成物は、界面活性剤又はコンディショニング組成物、又は他の類似の組成物を製造する当技術分野で公知の様々な製造及び混合技術又は方法を使用して製造することができる。

使用方法
本発明のシャンプー組成物は髪又は皮膚の洗浄用及びコンディショニング用の慣用の方法で使用される。髪又は皮膚の洗浄用及びコンディショニング用の組成物の有効量は好ましくは水で湿っていた髪又は皮膚に塗布され、続いて洗い流される。この様な有効量は約１ｇ乃至約５０ｇ、好ましくは約１ｇ乃至約２０ｇの範囲である。髪への塗布は、ほとんど又は総ての髪が組成物に接触するように髪を通して組成物を作用させることを含む。

髪の洗浄及びコンディショニングするための方法は
ａ）水で髪を湿らす段階
ｂ）髪へ有効量のシャンプー組成物を塗布する段階、及び
ｃ）水を用いて髪からシャンプー組成物を洗い流す段階
を含む。これらの段階は望ましい洗浄及びコンディショニングの恩恵を達成するために望まれる限り何度も繰り返すことができる。

本発明の両親媒性ブロックコポリマーは皮膚及び髪用のコンディショニング剤として有用であるのみでなく、他のコンディショニング剤用の沈着補助剤としても有用である。

実施例に本発明の具体的な態様を例証するが、しかしその限定することを目的とするものではない。総ての例示されたシャンプー組成物は慣用的な製剤及び混合技術によって製造することができる。成分量は質量パーセントとして記載し、及び希釈剤、充填材などの微量の材料は除いた。

Ａ） チオール末端ポリシロキサンの合成
実施例１
ビニル末端官能基ポリシロキサンのチオールへの転化
ビニル末端官能基ポリジメチルシロキサン（Ｓｉｌｍｅｒ（登録商標）ＶＩＮ１００、シルテック（Ｓｉｌｔｅｃｈ）社製）２０ｇをトルエン２０ｍＬに溶解させた。ここへアゾビスイソブチロニトリル５５０ｍｇ及びチオ酢酸０．８ｍＬを添加した。混合物に３０分間窒素を散布し、続いて８０度で６時間加熱した。それを氷／水中で冷却し、メタノールで３回洗浄した。残りの溶媒を真空下で除去した。
１５ｇの生成物をトルエン２０ｍＬに溶解し、そして１０％のメタノール水酸化ナトリウム２ｍＬを加えた。混合物に窒素を散布しながら８時間攪拌した。それをメタノールで３回洗浄した。残った溶媒は真空下で除去した。

実施例２
ビニル末端官能基ポリジメチルシロキサン（Ｓｉｌｍｅｒ ＶＩＮ ２００、シルテック社製）２０ｇのトルエン２０ｍＬ溶液にアゾビスイソブチロニトリル４１３ｍｇ及びチオ酢酸０．６ｍＬを添加した。混合物に窒素を３０分間散布し、続いて８０℃で７時間加熱した。それを冷まし、メタノールで３回洗浄した。残りの溶媒を真空下で除去した。この生成物２．０ｇのリチウムアルミニウムヒドリド（ＬＡＨ）を保持している２ｍＬエー
テル溶液に５０ｍｇＬＡＨを添加し、そしてその混合物を室温で４８時間攪拌した。該混合物をそれから濾過し、及び溶媒を真空下で除去した。

ヒドロキシ末端官能性ポリジメチルシロキサンのチオールへの転化
実施例３
ヒドロキシ末端官能性ポリジメチルシロキサンのチオールへの転化
ヒドロキシ末端官能性ポリジメチルシロキサン（ＳＩＬＭＥＲ ＯＨ１００、シルテック社製）２０ｇをジクロロメタン５０ｍＬに溶解した。ここにピリジン２ｍＬとｐ−トルエンスルホニルクロリド４．０ｇを加えた。この混合物を室温で２４時間攪拌した。生成物をメタノールで３回洗浄し、残った溶媒を真空下で除去した。
５ｇの生成物をトルエン１５ｍＬに溶解し、そしてチオ酢酸カリウム０．４５ｇのメタノール１．５ｍＬ溶液を加えた。混合物に３０分間窒素を散布し、そして１０５度で２４時間攪拌した。混合物を冷まし、メタノールで３回洗浄し、そして残った溶媒を真空下で除去した。生成物をトルエン１０ｍＬに溶解し、そして１０％メタノール水酸化カリウム１ｍＬを加えた。混合物を３０分間散布し、続いて１時間還流した。これを氷槽で冷却し、続いてメタノールで３回洗浄し、残りの溶媒を真空下で除去した。

Ｂ） ポリジメチルシロキサン及びジアリルジメチルアンモニウムクロリド（ＤＡＤＭＡＣ）のブロックコポリマーの合成
実施例４
重合用フラスコに、実施例１のチオール末端官能性ポリジメチルシロキサン４．０ｇ、乾燥ＤＡＤＭＡＣ６．０ｇ、ｎ−ブタノール２０ｍＬ、及び２，２’−アゾビズ（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロリド１６４ｍｇを入れた。ＤＡＤＭＡＣを溶解させた後、混合物に３０分間窒素を散布し、続いて７０℃で２４時間攪拌した。これを冷ました。生成物をアセトンで沈殿させ、そして濾過した。この白色固体を真空下で一晩乾燥した。生成物を１時間ＴＨＦ１００ｍＬで攪拌し、続いてろ過し、ＴＨＦで洗浄しそして真空下で乾燥させた。ポリシロキサン及びＤＡＤＭＡＣの様々な追加の両親媒性トリブロックコポリマーを開始ポリシロキサン及びポリジメチルシロキサン（ＯＨ又はビニル末端）の平均分子量を変えて合成した。ポリジメチルシロキサン及びポリＤＡＤＭＡＣのトリブロックコポリマーを以下の表Ｉに示すように形成した：
表Ｉ．ポリシロキサン及びポリＤＡＤＭＡＣのトリブロックコポリマー

¹⁾該官能性ポリシロキサンはシルテックコーポレーションから購入。
²⁾該Ｍ_nは出発物質のＭ_nである

Ｃ） ポリジメチルシロキサン及びジアリルジメチルアンモニウム／ジメチルアミノエ
チルメタクリレートのブロックコポリマーの合成
実施例１７
１０００ｍＬのフラスコにチオール末端官能性ポリジメチルシロキサン（分子量６０００まで）５０ｇを入れた。これに乾燥させたジアリルジメチルアンモニウムクロリド５０ｇのｎ−ブタノール２００ｍＬの分散液、ジメチルアミノエチルメタクリレート５０ｇ、ｎ−ブタノール１７５ｍＬ、及び２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン（ａｍｉｎｄｉｎｏｐｒｏｐａｎｅ））ジヒドロクロリド２．５ｇを加えた。この混合物に１時間窒素を散布し、続いて８０℃で６．５時間攪拌した後、温度を３０分間で１００℃に上昇させた。溶液は真空下で除去した。

実施例１８
実施例１８はジアリルジメチルアンモニウムクロリド２５ｇ及びジメチルアミノエチルメタクリレート７５ｇを使用したことを除いて上記実施例１７と同じである。

Ｄ） 使用結果
両親媒性ブロックコポリマー（トリブロックポリＤＡＤＭＡＣ−ポリジメチルシロキサン−ポリＤＡＤＭＡＣ）を２イン１シャンプー製剤として髪上で試験した。

表ＩＩに２イン１シャンプーの製剤を示す。本発明の両親媒性ブロックコポリマーを０．０５及び０．１質量％濃度で以下の製剤に加えた。両親媒性ブロックコポリマーを以下のように配合した製剤に、両親媒性ブロックコポリマーをカチオン性ポリマー０．０５及び０．０１質量％（カチオン性セルロース、ポリクオタニウム１０又はグアーヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド）及び２質量％のポリジメチルシロキサンに置き換えた対照シャンプー製剤と比較した。

１）アンモニウムラウリルエーテル（３エトキシレート単位）硫酸
２）アンモニウムラウリル硫酸

シャンプーのｐＨは５．５まで調整した。塩化ナトリウムを使用してシャンプーの粘度をおおよそ６０００ｃｐｓまで調整した。０．１乃至約２０．０ミクロンの範囲内である
ポリシロキサン滴径が達成されるまで、ポリシロキサンとポリクオタニウム１０又はグアーヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリドポリクオタニウム１０を持つ対照性剤は均質化された。

表ＩＩＩに両親媒性ブロックコポリマーでトリートした髪の測定値及び持続性及びシリコーンの蓄積の結果、及び湿った及び乾燥した場合の髪上でのコーミングエネルギーにおける減少を示した。
表ＩＩＩ：ポリＤＡＤＭＡＣ−シロキサン−ポリＤＡＤＭＡＣブロックコポリマーコンディショニング特性

¹⁾蓄積及び持続性の評価はシャンプーを望ましい時間塗布し、そしてシャンプーした一房の髪を十分にすすいだ。一房の髪は続いて５分間染料溶液（ピラゾールボルドー）に浸した。一房の髪は染料溶液から取り出され、そして染料がもはや溶出しなくなるまですすいだ。一房の髪は次に５分間イソプロピルアルコール／水（ＩＰＡ／Ｈ₂Ｏ）溶液に浸さ
れ、そして水道水ですすいだ。ＩＰＡ／Ｈ₂Ｏ溶液の染料吸光度は測定され、髪ｇあたり
μｇ染料は較正曲線によって計算された。
²⁾上記１）の記載同じ方法で決定される。両親媒性ブロックコポリマーは追加の２質量％のポリジメチルシロキサンと共に形成された。
³⁾容積指数％は１２ｇの髪の一房上にＤＩＡ−ＳＴＲＯＮ ＭＴＴ１７５引張試験機を使用して測定された。トリートしていない一房の髪の引張応力を、トリートした一房の髪と比較した。２つの違いが容積指数％である。
⁴⁾安定性評価は１ヶ月間４０℃のオーブン中に製剤されたシャンプーを設置しておこない、そして製剤されたシャンプーの安定性と透明度を記した。
⁵⁾湿った又は乾いた一房の髪のコーミング分析はミニテンシルテスターダイアストロン（ＭＩＮＩ−ＴＥＮＳＩＬＥ ＴＥＳＴＥＲ ＤＩＡＳＴＲＯＮ）を用いて行った。他の試験総てにおいて、一房の髪はヨーロッパ人のブラウン色の８インチの長さのものであり、一度もトリートしてない髪である。湿った髪の場合のコーミング測定は、評価のために、初めに対照シャンプーを、続いてポリマー含んだシャンプーで該一房の髪の毛を洗浄した跡に測定された。該方法は５ｇの濡れた髪に対して１ｇの検討中のシャンプーを塗布し、続いて泡を作りながら１分間指でやさしくこすることにある。その後、髪の一房はぬるま湯で３０秒間すすいだ。過剰の水は指で絞り、そして髪の一房はミニテンシルテスターに設置された。トリートしていないもの及びトリートしたものの湿ったサンプル間のコーミングエネルギーの違いは測定され比較された。測定値は３通りなされた。乾いた一房の髪のコーミング分析は、髪の一房を測定前に乾燥させたことを除いて湿ったときと同様に実行された。

表ＩＶ
２及び１の製剤中の両親媒性ブロックの減少で処理された髪の湿ったコーミングエネルギー値中の測定された減少を示した。
実施例１７及び実施例１８はブロックコポリマーが０．５質量％添加されたことを除いて表ＩＩ中のように、２と１のシャンプー中で製剤された。対照は両親媒性ブロックポリマー単独で及びカチオン性ジャガイモでん粉との組合せを用いて行われた。
表ＩＶにおける試験は表ＩＩＩに記載されている同じ手順を用いて実行された。

結果の概要
両親媒性ブロックコポリマーは：
・市販されているカチオン性コンディショニングポリマー（ＰＱ−１０又はカチオン性グァーガム）と２％のポリジメチルシロキサンを使用する濃度よりも十分に低い活性濃度（０．０５質量％）において良好な乾いたコンディショニング及び適度に湿ったコンディショニング特性を示し、
・低い持続性及び保持性を示し、
・とても低い濃度において良好な湿った場合の及び乾いた場合のコーミング力の減少を示し。
・ポリシロキサンコンディショニング剤と組み合わせて使用されるとき、髪へ適量のシリコーンを供給することができ、
・適度にボリュームを出す効果を示し、及び
・安定な製剤を形成し、
・カチオン性でん粉と組み合わせたとき、相乗効果を示した。

Claims (10)

1. ａ）式（Ｉ）
   

   

   （式中、
   ｎは２と１０，０００の間の数を表す。）で表される少なくとも一種のシロキサンブロックポリマー、及び
   ｂ）式（ＩＩ）
   

   

   （式中、
   Ｒ₃及びＲ₄はお互いに独立して水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
   Ｒ₅及びＲ₆は、独立して、水素原子、または１ないし１８の炭素原子数を有するアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミドアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、及び
   Ｙ^-はアニオンを表す。）で表される少なくとも一種のカチオン性モノマーから形成さ
   れるカチオン性ブロックポリマーを含む両親媒性ブロックコポリマー。
2. ａ）式（Ｉａ）
   

   

   （式中、Ｒ₁及びＲ₂は独立してアルキル基、アルコキシ基、フェニルアルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルアリール基、アルキルアミン基、アルキルヒドロキシ基、ポリオキシアルキレン基及びポリアルキレンポリアミン基を表し、
   ｎは２と１０，０００の間の数である。）で表されるシロキサンブロックポリマー、及び
   ｂ）式（ＩＩａ）
   

   

   （式中、
   Ｒ₃及びＲ₄はお互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、
   Ｒ₅及びＲ₆は、独立して、水素原子又は１ないし１８の炭素原子数を有するアルキル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミドアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、及び
   Ｙ^-はアニオンを表す。）で表される少なくとも一種のカチオン性モノマーから形成さ
   れるカチオン性ブロックポリマーを含む請求項１に記載の両親媒性ブロックコポリマー。
3. 前記式（ＩＩ）で表されるカチオン性モノマーがジアリルジメチルアンモニウムクロリド（ＤＡＤＭＡＣ）、ジアリルジエチルアンモニウムクロリド、ジアリルジメチルアンモニウムブロマイド、ジアリルジメチルアンモニウムサルフェート、ジアリルジメチルアンモニウムホスフェート、ジアリルジ（２−エトキシエチル）アンモニウムクロリド及びジアリルジ（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムクロリドからなるモノマーの群から選択される、請求項１又は請求項２に記載の両親媒性ブロックコポリマー。
4. 前記２番目のカチオン性モノマーがジメチルアミノエチルアクリレートメチルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルアクリレートメチルサルフェート第４級塩、ジメチルアミノエチルアクリレートベンジルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルアクリレート硫酸塩、ジメチルアミノエチルアクリレート塩酸塩、ジメチルアミノエチルメタクリレートメチルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルメタクリレートメチルサルフェート第４級塩、ジメチルアミノエチルメタクリレートベンジルクロリド第４級塩、ジメチルアミノエチルメタクリレート硫酸塩、ジメチルアミノエチルメタクリレート塩酸塩、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリレートメチルクロリド第４級塩、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートメチルクロリド第４級塩、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドメチルサルフェート第４級塩、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド硫酸塩又はジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩酸塩である、請求項１に記載の両親媒性ブロックコポリマー。
5. 式（ＩＩＩ）
   

   

   （式中、
   Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、ｎ及びＹ^-が請求項２で定義された通りであり、
   ｘは２と１，０００の間の整数であり、及び
   Ｌは連結基を表す。）で表される両親媒性ブロックコポリマー。
6. 式
   

   

   （式中、ｘは１ないし１０の数である。）で表される構造に相当する、請求項５に記載の両親媒性ブロックコポリマー。
7. Ａ）少なくとも
   ｉ）式（Ｉ）で表されるシロキサンブロックポリマー、及び
   ｉｉ）式（ＩＩ）で表されるカチオン性モノマーの少なくとも一種から形成されるカチオン性ブロックポリマー
   を含む両親媒性ブロックコポリマーと、
   Ｂ）洗浄用界面活性剤
   とを含むヘアコンディショニングシャンプー組成物。
8. 界面活性剤がラウリル硫酸アンモニウム、ラウレス−１硫酸ナトリウム、ラウレス−２−硫酸ナトリウム、ラウレス−２−硫酸ナトリウム、及び相当するアンモニウム塩、ラウリル硫酸トリエチルアミン、ラウレス硫酸トリエチルアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウレス硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウレス硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸ジエタノールアミン、ラウレス硫酸ジエタノールアミン、ラウリン酸モノグリセリド硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウレス硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム、ラウレス硫酸カリウム、ラウリルサルコシンナトリウム、ラウロイルサルコシンナトリウム、ラウリルサルコシン、ココイルサルコシン、ココイル硫酸アンモニウム、ラウロイル硫酸アンモニウム、ココイル硫酸ナトリウム、ラウロイル硫酸ナトリウム、ココイル硫酸カリウム、ラウリル硫酸カリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ココイル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、トリデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、及びその組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の組成物。
9. 請求項１に記載の両親媒性ブロックコポリマーを含むケラチン基質コンディショナー。
10. 前記基質上に請求項１に記載の両親媒性ブロックコポリマーを塗布することによってケラチン基質をコンディショニングする方法。