JP2010048940A - 光学装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】接着剤による結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光導波路素子が実装基板に実装された光学装置を提供すること。
【解決手段】実装基板10上に、光導波路素子20と、光ファイバー30(他の光学素子)と、を実装させる。実装基板10の実装面に、実装する光導波路素子20の位置決めをする凸状の第1位置決め部12Aと、実装する光ファイバー30の位置決めをする凸状の第2位置決め部12Bと、を配設させる。実装基板10の実装面に、光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)と第1接着領域42Aとの間に位置する領域に、第1接着剤40Aを堰止めるための凸状の第1堰止め部14A(第1堰止め領域)を配設させる。
【選択図】図1
【解決手段】実装基板10上に、光導波路素子20と、光ファイバー30(他の光学素子)と、を実装させる。実装基板10の実装面に、実装する光導波路素子20の位置決めをする凸状の第1位置決め部12Aと、実装する光ファイバー30の位置決めをする凸状の第2位置決め部12Bと、を配設させる。実装基板10の実装面に、光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)と第1接着領域42Aとの間に位置する領域に、第1接着剤40Aを堰止めるための凸状の第1堰止め部14A(第1堰止め領域)を配設させる。
【選択図】図1
Description
本発明は、光学装置に関するものである。
従来、光通信モジュールと呼ばれる光学装置は、例えば、実装基板に、光導波路素子を光学的に結合させつつ実装させた構成となっている。具体的には、例えば、光導波路素子と光ファイバとを効率よく光学実装する目的で、光導波路素子と光ファイバとの光学的に結合できるように光導波路素子と光ファイバとを位置決めするための溝が形成した実装基板を作製し、光導波路素子と光ファイバとを前記溝に嵌め込むことで両者を光学的に実装することが提案されている(例えば、特許文献1)。
特開2006−39078
光導波路素子は、接着剤により実装基板に固定・実装されることから、当該接着剤が実装基板の実装面上で光導波路素子からはみ出し広がってしまうことがある。
そこで、本発明の課題は、接着剤による結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光導波路素子が実装基板に実装された光学装置を提供することである。
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項1に係る発明は、
実装基板と、
前記実装基板の実装面上に実装され、他の素子と光学的に結合される結合部となる端面を側面に持つ光導波路素子と、
第1接着剤により前記光導波路素子を前記実装基板に接着させる第1接着領域と、
前記結合部となる端面と前記第1接着領域との間に位置する前記実装基板の実装面に設けられ、前記第1接着剤を堰止めるための第1堰止め領域と、
を備える光学装置。
請求項1に係る発明は、
実装基板と、
前記実装基板の実装面上に実装され、他の素子と光学的に結合される結合部となる端面を側面に持つ光導波路素子と、
第1接着剤により前記光導波路素子を前記実装基板に接着させる第1接着領域と、
前記結合部となる端面と前記第1接着領域との間に位置する前記実装基板の実装面に設けられ、前記第1接着剤を堰止めるための第1堰止め領域と、
を備える光学装置。
請求項2に係る発明は、
前記第1堰止め領域が、凸状部材で構成されることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
前記第1堰止め領域が、凸状部材で構成されることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
請求項3に係る発明は、
前記第1堰止め領域が、それ以外の領域よりも前記第1接着剤に対する接触角が大きい領域である請求項1に記載の光学装置。
前記第1堰止め領域が、それ以外の領域よりも前記第1接着剤に対する接触角が大きい領域である請求項1に記載の光学装置。
請求項4に係る発明は、
前記第1堰止め領域が、前記第1接着領域を取り囲んで設けられる請求項1に記載の光学装置。
前記第1堰止め領域が、前記第1接着領域を取り囲んで設けられる請求項1に記載の光学装置。
請求項5に係る発明は、
前記第1堰止め領域が、前記第1接着剤を堰止めると共に前記結合部となる端面以外の前記実装基板の実装面上の領域へ案内する領域である請求項1に記載の光学装置。
前記第1堰止め領域が、前記第1接着剤を堰止めると共に前記結合部となる端面以外の前記実装基板の実装面上の領域へ案内する領域である請求項1に記載の光学装置。
請求項6に係る発明は、
前記他の素子として前記実装基板の実装面上に実装されると共に、前記光導波路素子に光学的に結合される光学素子と、
第2接着剤により前記光学素子を前記実装基板に接着させる第2接着領域と、
前記結合部となる端面と前記第1接着領域との間に位置する前記実装基板の実装面に設けられ、前記第第2接着剤を堰止めるための第2堰止め領域と、
をさらに備える請求項1に記載の光学装置。
前記他の素子として前記実装基板の実装面上に実装されると共に、前記光導波路素子に光学的に結合される光学素子と、
第2接着剤により前記光学素子を前記実装基板に接着させる第2接着領域と、
前記結合部となる端面と前記第1接着領域との間に位置する前記実装基板の実装面に設けられ、前記第第2接着剤を堰止めるための第2堰止め領域と、
をさらに備える請求項1に記載の光学装置。
請求項1に係る発明によれば、接着剤による結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光導波路素子が実装基板に実装される。
請求項2に係る発明によれば、簡易な構成で、堰止め領域により接着剤の堰止めが実現される。
請求項3に係る発明によれば、光導波路素子の実装への影響を抑えつつ、堰止め領域により接着剤の堰止めが実現される。
請求項4に係る発明によれば、光導波路素子から接着剤のはみ出し自体が抑制される。
請求項5に係る発明によれば、接着剤量が多くなっても、接着剤による結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制される。
請求項6に係る発明によれば、光学素子を実装するための接着剤による結合面(光導波路素子の結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光学素子も実装基板に実装される。また、光導波路素子を実装するための接着剤と光学素子を実装するための接着剤との混合による接着不良も抑制される。
請求項2に係る発明によれば、簡易な構成で、堰止め領域により接着剤の堰止めが実現される。
請求項3に係る発明によれば、光導波路素子の実装への影響を抑えつつ、堰止め領域により接着剤の堰止めが実現される。
請求項4に係る発明によれば、光導波路素子から接着剤のはみ出し自体が抑制される。
請求項5に係る発明によれば、接着剤量が多くなっても、接着剤による結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制される。
請求項6に係る発明によれば、光学素子を実装するための接着剤による結合面(光導波路素子の結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光学素子も実装基板に実装される。また、光導波路素子を実装するための接着剤と光学素子を実装するための接着剤との混合による接着不良も抑制される。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、実質的に同一の機
能・作用を持つ部材には、全図面を通して同じ符合を付与し、重複する説明を省略する場
合がある。
能・作用を持つ部材には、全図面を通して同じ符合を付与し、重複する説明を省略する場
合がある。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る光学モジュール(光学装置)を示す概略3面図であり、A)が平面図、(B)が正面図、(C)が側面図である。図2は、第1実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がA−A端面図である。
図1は、第1実施形態に係る光学モジュール(光学装置)を示す概略3面図であり、A)が平面図、(B)が正面図、(C)が側面図である。図2は、第1実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がA−A端面図である。
第1実施形態に係る光学モジュール101(光学装置)は、図1に示すように、例えば、シリコン基板等から構成される実装基板10上に、光導波路素子20と、光ファイバー30(他の光学素子)と、が実装されている。光導波路素子20と光ファイバー30は、互いの端面(光が伝搬する端面)を光学的に結合され実装基板10上に、所謂光学実装されている。
なお、本実施形態では、入射導波路部及び出射導波路部が各々2つ有する多モード型の導波路20A(リッジ型)を持つ光導波路素子20(つまり、入出力部がそれぞれ2つ有する素子)を採用しており、1つの光導波路素子20の対向する2つの側面にそれぞれ2本の光ファイバー30が光学的に結合されており、計4本の光ファイバー30が実装される形態を説明するが、これに限定されるわけではなく、光導波路素子20の種類に応じて変更される。
実装基板10と光導波路素子20とは、第1接着剤40Aにより光導波路素子20の中央部を実装基板10の実装面に固定させて実装させている。この第1接着剤40Aにより固定された領域が第1接着領域42Aである。
一方、実装基板10と光ファイバー30とは、第2接着剤40Bにより光ファイバーの端部を除く外周面を実装基板10の実装面に固定させて実装させている。この第2接着剤40Bにより固定された領域が第2接着領域42Bである。
また、光導波路素子20と光ファイバー30とは、第3接着剤40Cにより接着されて光学的な結合が行われており、当該第3接着剤40Cにより結合部42Cが構成されている。
実装基板10は、図2に示すように、実装基板10の実装面には、実装する光導波路素子20の位置決めをする凸状の第1位置決め部12Aと、実装する光ファイバー30の位置決めをする凸状の第2位置決め部12Bと、が配設さている。
第1位置決め部12Aは、実装される矩形板状の光導波路素子20の四隅(実装される側の4つの角部)の接触して位置決めを行うために4つ配設されている。そして、第1位置決め部12Aには、実装される矩形板状の光導波路素子20の四隅(実装される側の4つの角部)が各々嵌まり込むための立方体状(又は直方体状)の切欠き13が形成されている。この第1位置決め部12A(この切欠き13)に、実装される矩形板状の光導波路素子20の四隅が嵌まり込むことで、位置決めがなされる。
第1位置決め部12Aにより位置決めされる光導波路素子20の高さ(実装基板10の実装面からの高さ)は、結合させる他の光学素子(例えば光ファイバ等))の中心と高さが同じとなるように調整され設定される。
一方、第2位置決め部12Bは、実装される円筒状(円柱状)の光ファイバーの外周面に接触して位置決めを行うため、当該光ファイバー30の長さ方向に沿って設けられている。通常、第2位置決め部12Bは、1本の光ファイバーにつき2つ配設されるが、本実施形態では、光導波路素子20の対向する2つの側面毎に、それぞれ2本の光ファイバー30が並列して実装しているため、並列して配設される2本の光ファイバー30毎に3本、計6本配設されている。
実装基板10の実装面には、光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)と第1接着領域42Aとの間に位置する領域に、第1接着剤40Aを堰止めるための凸状の第1堰止め部14A(第1堰止め領域)が配設されている。具体的には、第1堰止め部14Aは、例えば、第1接着領域42Aと光導波路素子20及び光ファイバー30の結合部42Cとを隔てるように、光導波路素子20における結合部42Cとなる端面を持つ側面の対向方向に直交する方向に沿って当該結合部42Cと第1接着領域42Aとを遮って配設されている。
第1堰止め部14Aの高さは、光導波路素子20の実装に影響を与えない高さであることがよく、具体的には、例えば、光導波路素子20が第1位置決め部12Aに嵌め込まれて位置決めされた状態(実装された状態)で、第1堰止め部14Aの上面が光導波路素子20と接触(圧力がかからない状態での接触)又は接触しない高さであることがよい。
なお、第1堰止め部14Aは、光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面を有する光導波路素子20の対向する2つの側面の双方と第1接着領域42Aとの間のそれぞれに配設されている。
実装基板10の実装面には、光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)と第2接着領域42Bとの間に位置する領域に、第2接着剤40Bを堰止めるための凸状の第2堰止め部14B(第2堰止め領域)が配設されている。具体的には、第2堰止め部14Bは、例えば、第2接着領域42Bと光導波路素子20及び光ファイバー30の結合部42Cとを隔てるように、光ファイバー30の長さ方向に直交する方向に沿って当該結合部42Cと第2接着領域42Bとを遮って配設されている。
第2堰止め部14Bの高さは、光ファイバー30の実装に影響を与えない高さであることがよく、具体的には、例えば、光ファイバー30が第2位置決め部12Bにはめ込まれて位置決めされた状態(実装された状態)で、第2堰止め部14Bの上面が光ファイバー30と接触(圧力がかからない状態での接触)又は接触しない高さであることがよい。
なお、第2堰止め部14Bは、各光ファイバー30毎に設けられており、本実施形態では4つ配設されている。
実装する光導波路素子20は、例えば、基板上に、下部電極(第1電極)、下部クラッド層(第1クラッド層)、光導波路、上部クラッド層(第2クラッド層)、及び上部電極(第2電極)を順次積層した積層体で構成された公知の光導波路素子が適用される。
具体的には、光導波路素子20としては、例えばマッハ−ツェンダ型の導波路デバイス、モード変換型の導波路デバイス、分岐スイッチ型の導波路デバイス、Multi−Mode Interferometer型の導波路デバイスなどの公知のデバイスが適用される。
また、光ファイバー30も、公知のものが採用される。なお、本実施形態では、他の光学素子として光ファイバー30のみを実装した形態を説明しているが、これに限られず、他の光学素子として受光素子、発光素子であってもよく、またこれらを組み合わせて実装させた形態であってもよい。
本実施形態に係る光学モジュール101は、次のように作製される。例えば、実装基板10に溶解又は融解させた樹脂を塗布して樹脂層を形成した後、これをフォトリソグラフィとエッチング(例えば、RIE:リクティブイオンエッチング)等により切削し、第1位置決め部12A、第2位置決め部12B、第1堰止め部14A、第2堰止め部14Bを形成することができる。また、感光性樹脂(例えば感光性ポリイミドなど)の塗布とリソグラフィの繰り返しによって作製する方法もある。なお、各部位は、実装基板(例えばシリコン基板)表面を直接切削して形成してもよい。
次に第1接着剤40Aを実装面の中央部(第1位置決め部12A及び第1堰止め部14Aよりも内側の実装面)に滴下した後、光導波路素子20を第1位置決め部12Aに嵌め込むと共に接着して実装する。
次に、第2接着剤40Bを実装面の端部(第2位置決め部の内側であって第2堰止め部14Bの外側の実装面)に滴下すると共に、第3接着剤40Cを光導波路素子20の光が伝搬する端面に付着させた後、光ファイバー30を第2位置決め部12B間に嵌め込むと共に接着して実装すると共に、光ファイバー30と光導波路素子20のとの互いの端面(光が伝搬する端面、即ち光入出力端面)を接触させると共に接着させが光学的に結合させる。
これにより、本実施形態に係る光学モジュール101が作製される。なお、光ファイバー30を接着するための第2接着剤40Bは、光ファイバー30を第2位置決め部12Bへ嵌め込んで、光導波路素子20と光学的に結合した後、当該結合部を避けて光ファイバー30上から塗布してもよい。
ここで、光導波路素子20及び実装基板10を接着するための第1接着剤40Aと、光ファイバー30及び実装基板10を接着するための第2接着剤40Bと、光導波路素子20及び光ファイバー30(光学素子)を接着するための第3接着剤40Cと、はそれぞれに対し要求される特性は異なっている。
具体的には、例えば、光導波路素子20と実装基板10との接着では、接着剤の硬化収縮率が重要な特性である。光導波路素子20と実装基板10の接着では、他の場所の接着と異なり、広い面積を接着することになることから、接着剤の硬化収縮による応力の発生が光導波路素子20に悪影響を与えることがある。具体的には、例えば、応力の発生により光導波路素子20の導波路形状が変形して導波路素子の応答波形がくずれたり、光導波路素子20の挿入損失が増加したりすることがある。特に、大きな応力がかかった場合には、光導波路素子20や実装基板10にヒビが入いる場合もある。このため、第1接着剤40Aとしては、他種よりも硬化収縮率の小さいエポキシ系接着剤がよい。
例えば、光ファイバー30と実装基板10との接着では、接着剤の粘度が重要な特性であり、接着剤が不用意に広がってはならない。このため、第2接着剤40Bとしては、粘度が300cps以上(望ましくは1000cps以上)のものがよい。
例えば、光導波路素子20と光ファイバー30との接着では、接着剤の屈折率と光の透過率が重要な特性である。光導波路素子20と光ファイバー30(光学素子)との接着において、接着剤に光透過性が低く屈折率が特定の範囲内にないと、光導波路素子と光ファイバとの結合損失が増加し、モジュールの光学特性を低下させる原因となることがある。接着剤の屈折率は使用する光導波路素子の材料にもよるが、例えば、有機材料を用いる光導波路素子の場合、第3接着剤40Cとしては、屈折率が1.46以上1.70以下で、且つ透過率が60%以上(望ましくは90%以上)のものを適用することがよい。
また、光導波路素子と実装基板との接着や、光導波路素子20と光ファイバー30との接着においては、接着剤の粘度が高すぎる (接着剤に弾力がある状態:例えば粘度が10000cpsを超えた状態)と、光導波路素子20が実装基板10へ正確に実装(第1位置決め部12Aへの嵌め込み)がうまくいないことがある。また、光導波路素子20と光ファイバー30との端面間距離を正確に合せることが難しくなることがある。このため、第1接着剤40A及び第3接着剤40Cは、粘度が1000cps以下のものがよい。
なお、光ファイバー30と実装基板10との接着や、光導波路素子20と光ファイバー30との接着では、各々の位置合せは実装基板10(位置決め部)で行っているため、接着剤の硬化収縮率が問題となることはない。また、接着剤の屈折率や光透過性は、光を伝搬させない部分の接着(光導波路素子20と実装基板10との接着や、光ファイバー30と実装基板10との接着)では考慮する必要のない特性である。
以上説明した本実施形態に係る光学モジュール101では、実装基板10の実装面に、光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)と第1接着領域42Aとの間に位置する領域に、第1接着剤40Aを堰止めるための凸状の第1堰止め部14A(第1堰止め領域)が配設されている。このため、光導波路素子20が実装される際、例えば、第1接着剤40Aを実装基板10の実装面上に滴下したときや、光導波路素子20を実装したときに第1接着剤40Aが実装基板10の実装面上で広がっても、第1堰止め部14Aにより堰止められ光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)へ到達することが抑制される。したがって、光導波路素子20を実装基板10に接着するための第1接着剤40Aによる結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光導波路素子が実装基板に実装される。結果、結合部42C(互いに結合される光導波路素子20端面や光ファイバー30端面)への第1接着剤40Aの付着・汚染による、屈折率の不整合や、光の散乱に起因する光導波路素子20と光ファイバー30との結合損失の増加が抑制される。
また、本実施形態に係る光学モジュール101では、実装基板10の実装面に、光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)と第2接着領域42Bとの間に位置する領域に、第2接着剤40Bを堰止めるための凸状の第2堰止め部14B(第2堰止め領域)が配設されている。このため、光ファイバー30(光学素子)が実装される際、例えば、第2接着剤40Bを実装基板10の実装面上に滴下したときや、光ファイバー30(光学素子)を実装したときに第2接着剤40Bが実装基板10の実装面上で広がっても、第2堰止め部14Bにより堰止められ光導波路素子20と光ファイバー30と結合部となる端面(つまり結合部42C)へ到達することが抑制される。したがって、光ファイバー30(光学素子)を実装基板10に接着するための第2接着剤40Bによる結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光導波路素子が実装基板に実装される。結果、結合部42C(互いに結合される光導波路素子20端面や光ファイバー30端面)への第2接着剤40Bの付着・汚染による、屈折率の不整合や、光の散乱に起因する光導波路素子20と光ファイバー30との結合損失の増加が抑制される。
ここで、特定の異なる未硬化の接着剤が不用意に広がり混ざってしまうと、接着剤の物性が変化するだけでなく、接着剤の硬化不良の原因ともなるが、本実施形態では、上記第1堰止め部14Aや第2堰止め部14Bにより、各接着剤が堰止められることから、互いに混ざり合うことが抑制され、各接着剤の物性変化や、各接着剤の硬化不良が抑制される。
なお、本実施形態に係る光学モジュール101では、第1堰止め部14Aは、一列で配設した形態を説明したが、これに限られるものではない。例えば、図3に示すように、光導波路素子20の結合部42Cとなる端面を持つ側面の対向方向に2列以上の第1堰止め部14Aを配設した形態(本形態では2列)であってもよい。第2堰止め部14Bも同様である。
また、本実施形態に係る光学モジュール101では、第1堰止め部14Aは、第1位置決め部12Aとは独立して配設した形態を説明したが、これに限られるものではない。例えば、図4に示すように、第1堰止め部14Aを「コ」の字状に屈曲させると共に、第1位置決め部12Aと連結して配設した形態であってもよいし、図5に示すように、第1堰止め部14Aを第1位置決め部12Aに直線状に連結して配設した形態であってもよい。これらの形態では、第1堰止め部14Aは、光導波路素子20の結合部42Cとなる端面を持つ側面の対向方向に対する直交方向で向き合う2つの第1位置決め部12Aと連結して配設させている。第2堰止め部14Bも同様である。
また、図6に示すように、第1堰止め部14Aを、「コ」字状に屈曲させると共に光導波路素子20結合部42Cとなる端面を持つ側面の対向方向で向き合う2つの第1位置決め部12Aと連結して配設させた形態であってもよい。但し、この形態では、光導波路素子20の両端部(結合部42Cとなる端面を持つ側面の対向方向に直交する方向の両端部)で第1接着剤40Aにより接着させる(つまり、第1接着領域42Aを当該両端部とする)。第2堰止め部14Bも同様である。
(第2実施形態)
図7は、第2実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がF−F端面図である。
図7は、第2実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がF−F端面図である。
第2実施形態は、図7に示すように、実装基板10の実装面に対して、第1接着剤40Aに光導波路素子20の第1接着領域42Aを点在させると共に、当該点在させた第1接着領域42Aをそれぞれ取り囲んで第1堰止め部14Aを配設した形態である。なお、本実施形態では、光導波路素子20の実装領域(4つの第1位置決め部12Aで囲まれる領域)内に四隅と中央部に計5つの第1接着領域42Aが配設されている。そして、第1堰止め部14A(中央部を除く四隅の第1堰止め部14A)は、それぞれ第1位置決め部12Aの一部を構成して配設させている。なお、第1接着領域42Aは、5つに限られず、1つでも、2つ以上であってもよい。
これら以外は、第1実施形態と同様なので説明を省略する。なお、第2堰止め部14Bも同様に配設してもよい。
本実施形態では、実装基板10の実装面に、第1接着領域42Aを取り囲んで第1堰止め部14Aを配設させている。このため、全ての方向の広がる第1接着剤40Aが第1堰止め部14Aにより堰止めされることから、光導波路素子20から第1接着剤40Aのはみ出し自体が抑制される。
(第3実施形態)
図8は、第3実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がG−G端面図である。
図8は、第3実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がG−G端面図である。
第3実施形態は、図8に示すように、実装基板10の実装面に対して、光導波路素子20を接着するための次第1接着剤を堰止めると共に、光導波路素子20の結合部42Cとなる端面を持つ側面以外の実装基板10の実装面上の領域へ案内するように、第1堰止め部14Aを配設した形態である。
具体的には、例えば、平面形状が「V」字状の第1堰止め部14Aを、その頂点(平面形状での頂点)が光導波路素子20の実装領域(4つの第1位置決め部12Aで囲まれる領域)中央部側を向き、その反対側を光導波路素子20の結合部42Cとなる端面を持つ側面側に向くように配設させている。言い換えれば、光導波路素子20の結合部42Cとなる端面を持つ側面の対向方向に傾斜すると共に、光導波路素子20の実装領域(4つの第1位置決め部12Aで囲まれる領域)中央部から光導波路素子20の結合部42Cとなる端面を持つ側面側に向かって光導波路素子20の実装領域外側に広がって、第1堰止め部14Aを配設する。
これら以外は、第1実施形態と同様なので説明を省略する。なお、第2堰止め部14Bも同様に配設してもよい。
本実施形態では、実装基板10の実装面に、光導波路素子20を接着するための次第1接着剤を堰止めると共に、光導波路素子20の結合部42Cとなる端面を持つ側面以外の実装基板10の実装面上の領域へ案内するように、第1堰止め部14Aを配設させている。このため、第1接着剤40Aが堰止められるだけでなく、その流れが分散されて第1堰止め部14Aにより案内されることから、第1接着剤40Aの第1堰止め部14Aの乗り越えが抑制される。したがって、第1接着剤40Aの量が多くなっても、第1接着剤40Aによる結合面(他の素子との結合部となる端面)への汚染が抑制されつつ、光導波路素子20が実装される。
(第4実施形態)
図9は、第4実施形態に係る光学モジュール(光学装置)を示す概略3面図であり、A)が平面図、(B)が正面図、(C)が側面図である。図10は、第4実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がH−H端面図である。
図9は、第4実施形態に係る光学モジュール(光学装置)を示す概略3面図であり、A)が平面図、(B)が正面図、(C)が側面図である。図10は、第4実施形態に係る実装基板を示す概略図であり、(A)が平面図、(B)がH−H端面図である。
第4実施形態に係る光学モジュール102(光学装置)は、図9及び図10に示すように、例えば、第1堰止め領域として他の領域よりも第1接着剤40Aに対する接触角が大きい第1堰止め部16Aと、第2堰止め領域として他の領域よりも第2接着剤40Bに対する接触角が大きい第2堰止め部16Bと、が配設された実装基板10を具備する形態である。
第1堰止め部16Aは他の領域(例えば光導波路素子20の実装領域内での他の領域)よりも第1接着剤40Aに対する接触角が大きい領域であるが、水に対する接触角で特性を代表させると、水に対する第1堰止め部16Aの接触角と他の領域との接触角との差は少なくとも15度以上(望ましくは20度以上)であることがよい。また、水に対する第1堰止め部16Aの接触角自体は、110度以上であることがよい。
第2堰止め部16Bは他の領域(例えば光ファイバー30の実装領域内での他の領域)よりも第2接着剤40Bに対する接触角が大きい領域であるが、水に対する接触角で特性を代表させると(つまり、以下の値は水に対する接触角である)水に対する第2堰止め部16Bの接触角と他の領域との接触角との差は少なくとも15度以上(望ましくは20度以上)であることがよい。また、水に対する第2堰止め部16Bの接触角自体は、110度以上であることがよい。
上記接触角を持つ第1堰止め部16A及び第2堰止め部16Bは、例えば、使用する接着剤に対して濡れ性の低い材料等を層状に形成して構成される。当該材料としては、エポキシ系接着剤やアクリル系接着剤などの接着剤に対して全般的に濡れ性が低い、フッ素化合物を採用することがよい。このフッ素化合物としては、フッ素化ポリイミド、テトラフルオロエチレン-パーフルオロメチルビニルエーテル共重合体(MFA)、テトラフルオロエチレン-パーフルオロエチルビニルエーテル共重合体(EFA)、ポリエチレン・テトラフルオロエチレン(ETFE)ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)などが挙げられる。
ここで、接触角は、動的接触角試験機(FIBRO System社製、FIBRO1100 DAT MK II)を用いて、測定対象物表面に水を3μLを滴下し、滴下後0.1秒後の時点での接触角を測定した値である。
これら以外は、第1実施形態と同様であるため説明を省略する。
以上説明した本実施形態に係る光学モジュール102では、実装基板10の実装面に、他の領域に比べ、各接着剤に対する接触角が大きい領域、即ち濡れ性が低い領域として、第1堰止め部16A及び第2堰止め部16Bを設けている。このため、第1堰止め部16A及び第2堰止め部16Bにより、各接着剤が弾かれることで堰止められる。また、第1堰止め部16A及び第2堰止め部16Bは、上記如く、使用する接着剤に対して濡れ性の低い材料等を層状に形成して構成されることから、光導波路素子20や光ファイバー30の実装への影響を抑えつつ、各接着剤の堰止めが実現される。
なお、本実施形態における第1堰止め部16A及び第2堰止め部16Bは、第1乃至第3実施形態と同様の形成領域(形成パターン)で形成され得る。また、本実施形態と第1乃至第3実施形態とを組み合わせた形態、即ち、例えば、凸状部表面を使用する接着剤に対して濡れ性の低い材料で被覆処理を施し、他の領域よりも各接着剤に対する接触角が大きい表面を持つ凸状部を、堰止め部(堰止め領域)とする形態であってもよい。
以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。
[実施例1]
−光導波路素子(光導波路デバイス)の作製−
有機電気光学材料(非線形光学材料)の溶液として、シクロヘキサノン、ポリスルホン、及び[3−シアノ−2−ジシアノメチリデン−4−{trans,trans−[3−(2−(4−N,N−ジエチルアミノフェニル)ビニル)シクロヘク−2−エチリデン]−1−プロペニル}−5−メチル−5−(4−シクロヘキシルフェニル)−2,5−ジヒドロフランを、前記すべての材料の総質量を100質量部としてそれぞれ、83質量部、14質量部、及び3質量部からなる溶液(以下、PSI溶液)を調製した。
−光導波路素子(光導波路デバイス)の作製−
有機電気光学材料(非線形光学材料)の溶液として、シクロヘキサノン、ポリスルホン、及び[3−シアノ−2−ジシアノメチリデン−4−{trans,trans−[3−(2−(4−N,N−ジエチルアミノフェニル)ビニル)シクロヘク−2−エチリデン]−1−プロペニル}−5−メチル−5−(4−シクロヘキシルフェニル)−2,5−ジヒドロフランを、前記すべての材料の総質量を100質量部としてそれぞれ、83質量部、14質量部、及び3質量部からなる溶液(以下、PSI溶液)を調製した。
ここで、PSI溶液を石英基板上に塗布し、120℃で加熱したサンプルを作製し、屈折率をプリズムカップリング法により測定したところ、屈折率は1.65であった。
次に、下部電極として金をスパッタしたシリコン基板上に、下部クラッド層として屈折率1.54のアクリル系紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射して膜厚3.5μmの樹脂硬化膜を得た。
次に、下部クラッド層上に前記PSI溶液を塗布した後、加熱・硬化させて、膜厚3.3で屈折率1.64の導波路層を形成した。そして、導波路層に対し、フォトリソグラフィに続くRIE(リアクチディブイオンエッチング)を施し、入射導波路部及び出射導波路部が各々2つ有する多モード型の導波路(リッジ型:図1参照)をパターニングした。導波路の膜厚は5μmであり、リッジ高さは3μmであった。
次に、導波路上に、下部クラッド層と同様にして紫外線硬化樹脂を塗布し、膜厚3.5μm厚の上部クラッド層を作製した。
次に、上部クラッド層上に、2つの上部電極をフォトリソグラフィに続くリフトオフによって多モード型の導波路と重なるようにそれぞれ形成した後、ポーリング処理(分極配向処理)を施し、ダイシングによりウエハーからチップを切出すことで、電気光学効果を有する光導波路素子(光導波路デバイス)を作製した。
−実装基板の作製−
シリコン基板を準備し、感光性ポリイミドを塗布すると共に、リソグラフィーにより、導波路素子及び光ファイバーを位置決めするための凸状の位置決め部(第1位置決め部、第2位置決め部)、導波路素子及び光ファイバーの固定・実装するための接着剤を堰止めるための凸状の堰止め部(第1堰止め部、第2堰止め部)をそれぞれ形成した(図2参照)。なお、導波路素子を位置決めするための位置決め部は、当該光導波路素子の光導波路の中心が実装基板の実施面から62.5μmとなるように形成させた。また、各堰止め部は、幅20μm、高さ50μmで形成した。
シリコン基板を準備し、感光性ポリイミドを塗布すると共に、リソグラフィーにより、導波路素子及び光ファイバーを位置決めするための凸状の位置決め部(第1位置決め部、第2位置決め部)、導波路素子及び光ファイバーの固定・実装するための接着剤を堰止めるための凸状の堰止め部(第1堰止め部、第2堰止め部)をそれぞれ形成した(図2参照)。なお、導波路素子を位置決めするための位置決め部は、当該光導波路素子の光導波路の中心が実装基板の実施面から62.5μmとなるように形成させた。また、各堰止め部は、幅20μm、高さ50μmで形成した。
−実装基板への各部材の実装−
実装基板の中央部に、2液性のエポキシ系接着剤(商品名:EP30、粘度400−500cps)を滴下し、光導波路素子を実装基板側へ押し付けつつ、光導波路素子用の位置決め部に嵌め込んだ(図1参照)。このとき、エポキシ系接着剤は堰止め部により堰止められ、光導波路素子の入出力端面を持つ側面以外の側面側へはみ出したが、当該に入出力端面を持つ側面は到達しなかった。
実装基板の中央部に、2液性のエポキシ系接着剤(商品名:EP30、粘度400−500cps)を滴下し、光導波路素子を実装基板側へ押し付けつつ、光導波路素子用の位置決め部に嵌め込んだ(図1参照)。このとき、エポキシ系接着剤は堰止め部により堰止められ、光導波路素子の入出力端面を持つ側面以外の側面側へはみ出したが、当該に入出力端面を持つ側面は到達しなかった。
次に、室温(25度)で2液性のエポキシ系接着剤を硬化させて、光導波路素子を実装基板に接着(固定・実装)させた後、光ファイバー用の位置決め部内で堰止め部よりも外側に、光硬化型アクリル系接着剤(商品名:NOA63、粘度2000cps)を滴下すると共に、光ファイバーの端面に光硬化型アクリル系接着剤(商品名:NOA72、屈折率1.54で透過率が95%、粘度155cps)を付着させ、光ファイバーを当該光ファイバー用の位置決め部にはめ込みつつ、光導波路素子の入出力端面に押し付けた。次に、紫外線を照射して、それぞれの接着剤を硬化させ、光ファイバーを光導波路素子と光学的に結合すると共に実装基板に固定・実装した。このとき、光ファイバーを実装基板に接着するための接着剤は、光導波路素子の入出力端面を持つ側面には到達しなかった。
このようにして光学モジュールを作製した。得られた光学モジュールを観察したところ、光導波路素子と光ファイバーを接着するための接着剤は、光導波路素子の入出力端面を持つ側面に付着しておらず、また互いに接触もしておらず、当該光導波路素子と光ファイバーの接着不良は生じていなかった。
[実施例2]
実施例1の実装基板の作製において、フッ素化ポリイミドを塗布・硬化させた後、フォトリソグラフィーとRIEにより、堰止め部(第1堰止め部、第2堰止め部)を形成した以外は(図10参照)、実施例1と同様にして光学モジュールを作製した。フッ素化ポリイミドからなる堰止め部の厚みは1μm、幅20μmとした。
実施例1の実装基板の作製において、フッ素化ポリイミドを塗布・硬化させた後、フォトリソグラフィーとRIEにより、堰止め部(第1堰止め部、第2堰止め部)を形成した以外は(図10参照)、実施例1と同様にして光学モジュールを作製した。フッ素化ポリイミドからなる堰止め部の厚みは1μm、幅20μmとした。
得られた光学モジュールを観察したところ、光導波路素子と光ファイバーを接着するための接着剤は、光導波路素子の入出力端面を持つ側面に付着しておらず、また互いに接触もしておらず、当該光導波路素子と光ファイバーの接着不良は生じていなかった。
なお、フッ素化ポリイミドで構成された堰止め部(第1堰止め部、第2堰止め部)の水に対する接触角は、110度であった。
10 実装基板
12A 第1位置決め部
12B 第2位置決め部
14A 第1堰止め部
14B 第2堰止め部
16A 第1堰止め部
16B 第1堰止め部
20 光導波路素子
20A 導波路
30 光ファイバー
40A 第1接着剤
40B 第2接着剤
40C 第3接着剤
42A 第1接着領域
42B 第2接着領域
42C 結合部
101 光学モジュール
102 光学モジュール
12A 第1位置決め部
12B 第2位置決め部
14A 第1堰止め部
14B 第2堰止め部
16A 第1堰止め部
16B 第1堰止め部
20 光導波路素子
20A 導波路
30 光ファイバー
40A 第1接着剤
40B 第2接着剤
40C 第3接着剤
42A 第1接着領域
42B 第2接着領域
42C 結合部
101 光学モジュール
102 光学モジュール
Claims (6)
- 実装基板と、
前記実装基板の実装面上に実装され、他の素子と光学的に結合される結合部となる端面を側面に持つ光導波路素子と、
第1接着剤により前記光導波路素子を前記実装基板に接着させる第1接着領域と、
前記結合部となる端面と前記第1接着領域との間に位置する前記実装基板の実装面に設けられ、前記第1接着剤を堰止めるための第1堰止め領域と、
を備える光学装置。 - 前記第1堰止め領域が、凸状部材で構成されることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
- 前記第1堰止め領域が、それ以外の領域よりも前記第1接着剤に対する接触角が大きい領域である請求項1に記載の光学装置。
- 前記第1堰止め領域が、前記第1接着領域を取り囲んで設けられる請求項1に記載の光学装置。
- 前記第1堰止め領域が、前記第1接着剤を堰止めると共に前記結合部となる端面以外の前記実装基板の実装面上の領域へ案内する領域である請求項1に記載の光学装置。
- 前記他の素子として前記実装基板の実装面上に実装されると共に、前記光導波路素子に光学的に結合される光学素子と、
第2接着剤により前記光学素子を前記実装基板に接着させる第2接着領域と、
前記結合部となる端面と前記第1接着領域との間に位置する前記実装基板の実装面に設けられ、前記第第2接着剤を堰止めるための第2堰止め領域と、
をさらに備える請求項1に記載の光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008211743A JP2010048940A (ja) | 2008-08-20 | 2008-08-20 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008211743A JP2010048940A (ja) | 2008-08-20 | 2008-08-20 | 光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010048940A true JP2010048940A (ja) | 2010-03-04 |
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ID=42066089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2008211743A Pending JP2010048940A (ja) | 2008-08-20 | 2008-08-20 | 光学装置 |
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|---|---|
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2015114645A (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-22 | 住友電気工業株式会社 | 光コネクタ保持具、光コネクタモジュール、光学基板モジュール及び光モジュール。 |
| JP2015138237A (ja) * | 2014-01-24 | 2015-07-30 | 株式会社ニコン | 分波素子 |
| WO2023188174A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | 住友大阪セメント株式会社 | 光導波路素子及びそれを用いた光変調デバイス並びに光送信装置 |
-
2008
- 2008-08-20 JP JP2008211743A patent/JP2010048940A/ja active Pending
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