JP2009035524A - 新規なビカルバゾール誘導体、それを用いたホスト材料および有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Abstract
Description
そこで、この問題を解決する目的で、近年リン光材料による有機EL素子の検討がなされている(非特許文献1)。
リン光材料は、従来の蛍光材料と異なり、三重項励起状態を使用することができるため量子効率が非常に高く、エネルギー失活がほとんどなく内部発光量子収率でほぼ100%に達する材料である。
しかし、このリン光材料は、濃度消光を起こしやすいため蛍光材料と同様にホスト材料との併用が必要になってくる。
高効率発光を得るためには、輸送材料やホスト材料の最適化を図らないといけないが、リン光材料は蛍光材料と異なり三重項エネルギーを完全に閉じこめないと満足な効果が得られない。特に青色の材料に関してはエネルギーレベルが非常に高い。そのためにこれまで使用していた4,4′−ジ(N−カルバゾリル)−1,1′−ビフェニル(CBP)では十分なエネルギーの閉じこめができない。これまでこの青色リン光エネルギーを満足に閉じこめる事ができるワイドギャップ化されたホスト材料はほとんどなく、青色リン光材料の開発を妨げる一つの要因になっていた。
そこで、本発明者らは、化学構造式上、ねじれ構造をもつ化合物が前記目的にかなう化合物となる可能性を考え、請求項1の化合物を開発したが、この基本的構造またはそれに近い化合物について、ケミカルアブストラクト検索を行なったが、該当化合物に関する文献は発見できなかった。
で示されるビカルバゾール誘導体に関する。
本発明の第2は、下記一般式(1)
で示されるビカルバゾール誘導体よりなるホスト材料に関する。
本発明の第3は、下記一般式(1)
で示されるビカルバゾール誘導体を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
本発明における炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、iso−プロピルオキシ、n−ブチルオキシ、iso−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、n−ペンチルオキシ、iso−ペンチルオキシ、2,2−ジメチルプロピルオキシ、n−ヘキシルオキシ、2−メチルペンチルオキシ、3−メチルペンチルオキシ、4−メチルペンチルオキシ、2,2−ジメチルブチルオキシ、2,3−ジメチルブチルオキシ、3,3−ジメチルブチルオキシなどを挙げることができる。
本発明における炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキルアミノ基としては、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロピルアミノ、iso−プロピルアミノ、n−ブチルアミノ、iso−ブチルアミノ、sec−ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、n−ペンチルアミノ、iso−ペンチルアミノ、2,2−ジメチルプロピルアミノ、n−ヘキシルアミノ、2−メチルペンチルアミノ、3−メチルペンチルアミノ、4−メチルペンチルアミノ、2,2−ジメチルブチルアミノ、2,3−ジメチルブチルアミノ、3,3−ジメチルブチルアミノなどを挙げることができる。
本発明の有機EL素子の発光を効率よく取り出すために、陽極または陰極の少なくとも一方の電極は透明もしくは半透明であることが好ましい。
正孔注入材料としては、下記化学式に示されるPEDOT−PSS(ポリマー混合物)やDNTPDを挙げることができる。
電子輸送材料としては、下記化学式に示すAlq3、TAZ、DPBなどを挙げることができる。
また本発明化合物を電子注入層として使用する場合は、上記の電子注入材料と併用することもできる。
3,5−ビス(3−9H−カルバゾール−9−イル−フェニル)ピリジン(35DCzPPy)の合成
(1)9−(3−ブロモフェニル)−9H−カルバゾール(mCzPBr)の合成
精製はカラムクロマトグラフィー法で行い(展開溶媒比:n−ヘキサン/トルエン=6/1)、無色の粘体の目的生成物を得た。収率:13.7g,81.8%。
(2)9−{3−〔4,4,5,5−テトラメチル−(1,3,2)ジオキサボロラン−2−イル〕−フェニル}−9H−カルバゾール(mCzPDOB)の合成
ジパラジウム(0)〔Pd2(dba)3〕(0.841g,0.918mmol)、トリシクロヘキシルホスフィン(1.03g,3.67mmol)と無水1,4−ジオキサン(200mL)を入れて、窒素気流下80℃で24時間反応させた。その後、反応溶液に水を注ぎ,酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒をエバポレーターで除去した。
精製はカラムクロマトグラフィー法〔展開溶媒:トルエン/n−ヘキサン=2/1(2回)〕を行い、白色固体の目的生成物を得た。収率:9.29g,82.2%
(3)3,5−ビス(3−9H−カルバゾール−9−イル−フェニル)ピリジン(35DCzPPy)の合成
精製はカラムクロマトグラフィー法(展開溶媒:クロロホルム)を行い,白色粉末の目的生成物を得た。収率:1.69g,98.8%。
図1に35DCzPPyの吸収曲線を、図2に35DCzPPyのフォトルミネッセンス(PL)曲線を示す。表1に35DCzPPyの電気化学特性を、表2に35DCzPPyの熱特性を示す。(表1および表2は実施例3にまとめて掲げる。)
2,6−ビス(3−9H−カルバゾール−9−イル−フェニル)ピリジン(26DCzPPy)の合成
精製はカラムクロマトグラフィー法(以下の混合割合の混合溶媒を用いて、1回目〜4回目までの展開を行った。展開溶媒比:クロロホルム/n−ヘキサン=1/2;2/3;1/1;2/1)を行い、白色粉末の目的生成物を得た。収率:1.71g,99.9mol%
図1に26DCzPPyの吸収曲線を、図2に26DCzPPPyのフォトルミネッセンス(PL)曲線を示す。表1に26DCzPPyの電気化学特性を、表2に26DCzPPyの熱特性を示す(表1および表2は実施例3にまとめて掲げる。)。
2−メチル−4,6−ビス(3−9H−カルバゾール−9−イル−フェニル)ピリミジン(DCzPMPm)の合成
精製はカラムクロマトグラフィー法(以下の混合割合の混合溶媒を用いて、1回目と2回目の展開溶媒を行った。展開溶媒比:クロロホルム/n−ヘキサン=2/1;4/1)を行い、白色粉末の目的生成物を得た。収率:1.21g,94.9%
図1にDCzPMPmの吸収曲線を、図2にDCzPMPmのフォトルミネッセンス(PL)曲線を示す。表1にDCzPMPmの電気化学特性を、表2にDCzPMPmの熱特性を示す。
Eg:エネルギーギャップ、
Ea:エネルギーアフィニティ(電子親和力)
エネルギーギャップ(Eg)については、蒸着機で作成した薄膜を紫外−可視吸光度計で薄膜の吸収曲線を測定する。その薄膜の短波長側の立ち上がりのところに接線を引き、求まった交点の波長W(nm)を次の式に代入し目的の値を求める。それによって得た値がEgになる。
Eg=1240÷W
例えば接線を引いて求めた値W(nm)が470nmだったとしたらこの時のEgの値は
Eg=1240÷470=2.63(eV)
と言うことになる。
IP(イオン化ポテンシャル)はイオン化ポテンシャル測定装置(例えば理研計器AC−3)を使用して測定し、測定するサンプルがイオン化を開始したところの電圧(eV)の値を読む。
Ea(電子親和力)は、IpからEgを引いた値である。
3,3′−ジ−9H−カルバゾール−9−イル−[1,1′;3′,1″]ターフェニル(DmCzPB)の合成
図3にDmCzPBのUV吸収曲線とフォトルミネッセンス(PL)曲線を示す。表3にDmCzPBの電気化学特性を、表4にDmCzPBの熱特性を示す。
Tg(二次転移温度)については、DSC(Diffirential Scanning Calorimeter 示差熱量計)中にサンプルを加え、溶融させたものを急冷し、2〜3回繰り返すとガラス転移を表すカーブがチャート上に現れるので、そのカーブを接線で結び、その交点の温度をTgとして採用する。
Tm(融点)は、同じくDSCにサンプルを加え、昇温していくと吸熱カーブが現れるのでその極大のところとの温度を読んで、その温度をTmとする。
Td(分解温度)は、DTA(Differential thermal analyzer 示差熱分析装置)にサンプルを加え、加熱していくとサンプルが熱によって分解し、重量が減少しだす。その減少が開始しだしたところの温度を読んで、その温度をTdとする。
ホスト材料に実施例1の3,5−ビス(3−9H−カルバゾール−9−イル−フェニル)ピリジン(35DCzPPy)、実施例2の2,6−ビス(3−9H−カルバゾール−9−イル−フェニル)ピリジン(26DCzPPy)、実施例3の2−メチル−4,6−ビス(3−9H−カルバゾール−9−イル−フェニル)ピリミジン(DCzPMPm)をそれぞれ用いた下記の実施例4〜6の青色リン光素子を作成した。また比較のためホスト層に4,4′′′−ビス(9H−カルバゾール−9−イル)−1,1′:2′,1″:2″,1′′′−クォーターフェニル(4CzPBP)を用いた下記比較例1の青色リン光素子を作りそれぞれの性能を評価した。4CzPBPの構造式を以下に示す。
比較例1
Ref.1.○:ITO/TPDPES(20nm)/3DTAPBP(30nm)/4CzPBP:FIrpic(13wt%)(10nm)/tetra−mPyPhBP(40nm)/LiF(0.5nm)/Al(100nm);
実施例5
Device1.◇:ITO/TPDPES(20nm)/3DTAPBP(30nm)/35DCzPPy:FIrpic(13wt%)(10nm)/tetra−mPyPhBP(40nm)/LiF(0.5nm)/Al(100nm);
実施例6
Device2.△:ITO/TPDPES(20nm)/3DTAPBP(30nm)/26DCzPPy:FIrpic(13wt%)(10nm)/tetra−mPyPhBP(40nm)/LiF(0.5nm)/Al(100nm);
実施例7
Device3.□:ITO/TPDPES(20nm)/3DTAPBP(30nm)/DCzPMPm:FIrpic(13wt%)(10nm)/tetra−mPyPhBP(40nm)/LiF(0.5nm)/Al(100nm).
これらの素子の
電流密度−電圧特性は図4に、
輝度−電圧特性は図5に、
電力効率−電圧特性は図6に、
電流効率−電圧特性は図7に、
電力効率−輝度特性は図8に、
外部量子効率−輝度特性は図9に、
ELスペクトルは図10に、
ELスペクトル(拡大)は図11に、
それぞれ示す。
これらの素子の100cd/m2における電気化学特性を表5に、1000cd/m2における電気化学特性を表6に示す。
Q.E.=Quantum Efficiency:外部量子効率
Current density:CE:電流効率
35DCzPPyについては4CzPBPに比べて電流密度が大きいので電子の移動度が大きいと考えられる。しかし電力効率、外部量子効率が劣るのは、素子中でのホールと電子のキャリアバランスが適正でないからで、これは素子の膜厚を検討すれば改善されると考えられる。26DCzPPyとDCzPMPmについては、電力効率、量子効率から4CzPBPと同等もしくはそれ以上の性能を有するものと判断できる。
ホスト材料に実施例4の3,3′−ジ−9H−カルバゾール−9−イル−[1,1′;3′,1″]ターフェニル(DmCzPB)を用いた下記の青色リン光素子を作成した。また比較のためホスト材料に4,4′′′−ビス(9H−カルバゾール−9−イル)−1,1′:2′,1″:2″,1′′′−クォーターフェニル(4CzPBP)を用いた下記の青色リン光素子を作りその性能を評価した。電子輸送層の3,3″,5,5″−テトラ(ピリジン−3−イル)−1,1′:2′,1″−ターフェニル(BmPyPB)の構造式を以下に示す。
Device4.■:[ITO/TPDPES:10wt%TBPAH(20nm)/3DTAPBP(20nm)/4CzPBP:11wt%FIrpic(10nm)/BmPyPB(50nm)/LiF(0.5nm)/Al(100nm)]
Ref.2.◇:[ITO/TPDPES:10wt%TBPAH(20nm)/3DTAPBP(20nm)/DmCzPB:11wt%FIrpic(10nm)/BmPyPB(50nm)/LiF(0.5nm)/Al(100nm)]
前記TPDPESは、Poly〔oxy−1,4−phenylenesulfonyl−1,4−phenyleneoxy−1,3−phenylene(phenylimino)(1,1′−biphenyl)−4,4′−diyl(phenylimino)−1,3−phenylene〕のことであり、下記の構造式で示される。
電流密度−電圧特性は図12に、
輝度−電圧特性は図13に、
電力効率―電圧特性は図14に、
電流効率−電圧特性は図15に、
ELスペクトルは図16に、
それぞれ示す。
これらの素子の100cd/m2と1000cd/m2における電気化学特性を表7に示す。
2 陽極(ITO)
3 発光層
4 陰極
5 正孔輸送層(ホール輸送層)
6 電子輸送層
7 正孔注入層(ホール注入層)
8 電子注入層
9 正孔ブロック層(ホールブロック層)
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