JP2008512567A - 剃刀の刃先及び剃刀の刃上に所定の層を堆積する方法 - Google Patents

Abstract

剃刀の刃の剃刀の刃先に所定の層を堆積させる方法であって、この層が２つの成分からなる方法を開示している。少なくとも第１及び第２のスパッタターゲットを備える密閉容器内において、それぞれのスパッタターゲットは刃先に堆積される成分の少なくとも１つを備え、稼動の際には成分を密閉容器内に放散するように設けられている。この方法は、剃刀の刃がそれぞれのターゲットの近傍に交互に移動されるステップを備えている。

Description

本発明は、剃刀の刃先及び剃刀の刃上に所定の層を堆積する方法に関する。

剃刀の刃は通常、硬いコーティングに覆われたセラミック又は鋼の基板から作られている。また、有機材料の外側層が硬いコーティング上に堆積されることも多く、髭剃りの際における剃刀の刃の肌に対する摩擦を軽減している。この有機材料層はＰＴＦＥ材料であることが多い。

硬いコーティングは通常、主に強化コーティングとして作用し、よって刃を強化し、その寿命期待値を改善する。例えばクロム−白金合金のような、非常に良好な強化特性を与える特定の材料は、従来は剃刀の刃先をクロム−白金合金のスパッタリングターゲットの前に配置し、該ターゲットをスパッタしてクロム−白金を堆積することによって剃刀の刃先上に堆積されていた。しかし、堆積されたコーティングのクロムと白金との比率は、ターゲット中のクロムと白金との比率によって固定されている。

本発明の目的は、少なくとも２つの成分を備える硬い層の、剃刀の刃上への堆積のための新しい方法を提供することである。

このために、本発明は剃刀の刃の剃刀の刃先上に所定の層を堆積させる方法を提供し、前記層は少なくとも２つの成分からなり、少なくとも第１及び第２のスパッタターゲットを備える密閉容器内において、前記スパッタターゲットのそれぞれは、前記刃先上に堆積される前記成分のうちの少なくとも１つを備えるとともに、稼動の際には前記密閉容器内に前記成分を放散するように設けられ、前記方法は、両方のターゲットの稼動下において、剃刀の刃が、それぞれのターゲットの近傍において交互に通過するように前記第１及び第２のターゲットに対して動かされるステップ（ａ）を備えている。

この方法は、変化する特性を有するコーティング層を、手動でスパッタターゲット及び／又は刃先を置き換えることなく設計することを可能としている。また、この方法は、同時に多くの剃刀の刃先のコーティングをすることを可能としている。

また、本発明による方法の特定の実施形態において、一の実施形態は次の特徴を使用している。
− 前記第１及び第２のスパッタターゲットは、希ガスイオンの衝撃によって作用する。
− ステップ（ａ）の間に、前記ターゲットの近傍の磁気装置によって磁場が作られる。
− 磁気装置のそれぞれは、対向する磁性を有する２つの側部磁石の間に配置された少なくとも１つの中央磁石を含み、前記側部磁石は前記中央磁石より強い。
− 密閉容器は、第１、第２、第３及び第４のスパッタターゲットを備え、前記第１及び第３のスパッタターゲットは互いに対向するとともに、前記第１の成分を担持し、前記第２及び第４のスパッタターゲットは互いに対向するとともに、前記第２の成分を担持し、前記第１、第２、第３、及び第４のターゲットのそれぞれは磁気装置を有し、前記第２、第３、および第４のスパッタターゲットの前記磁気装置は同じ極性である。
− 前記第１、第２、第３、及び第４のターゲットは密閉容器内に固定されており、剃刀の刃は密閉容器に対して回転され、よって前記第１、第２、第３、及び第４のターゲットのそれぞれの前を連続的に通過する。
− 刃は、４ｒｐｍ以上の回転速度で回転される。
− 前記第２の成分は金属であり、前記第２及び第４のターゲットは、０．５〜２０Ａの大きさを有する直流電流によって稼動される。
− 前記第１の要素は炭素であり、前記第１及び第３のターゲットはグラファイトを備え、前記第１及び第３のターゲットは、０．５〜２０Ａの大きさを有する直流電流によって稼動される。
− 前記第２の成分は有機材料に対する改良された接着性を提供し、ステップ（ａ）の間に、前記第１及び第２のターゲットに印加される電流の大きさの比は減少する。
− 前記金属はクロムである。
− 刃先は１００〜１０００Ｖの直流電圧を印加される。
− 刃先はパルス状の直流電圧を印加される。
− 前記層は前記成分の所定の比率を有し、それぞれのターゲットは所定の稼動パラメータの下で稼動され、前記方法は、ステップ（ａ）の前にステップ（ｅ）を含み、ステップ（ｅ）において、前記稼動パラメータは前記比率を提供するように選択されている。
− ステップ（ａ）に先立って、剃刀の刃はカルーセル内に積み重ねられている。
− さらに、前記方法はスパッタエッチのステップ（ｂ）を備え、ステップ（ｂ）において、材料は、前記第２のターゲットの稼動と刃上への直流電圧の供給とを同時に行うことによって、刃から取り除かれる。
− ステップ（ｂ）はステップ（ａ）の前に実施される。
− また、前記方法はステップ（ｃ）をさらに備え、ステップ（ｃ）において前記成分のうちの少なくとも１つを備える追加的な層が、この追加的な層の成分を備えるターゲットのみを稼動することによって堆積される。
− ステップ（ｃ）はステップ（ａ）の前に実施される。
− ステップ（ａ）はステップ（ｃ）の前に実施される。
− 前記方法はステップ（ｄ）をさらに備え、ステップ（ｄ）において有機材料を備える外側の層は前記コーティングの上に供されている。

別の特徴によれば、本発明は、剃刀の刃先、及び、
− 少なくとも主に炭素を備える第１の成分と、主に所定の金属を備える第２の成分とからなる少なくとも所定の金属を含有する層と、
− 前記所定の金属を含有する層に接している有機材料からなる少なくとも外側層と、
を備えるコーティングを備える剃刀の刃に関し、前記金属は前記有機材料に対する改善された接着特性を呈し、所定の金属を含有する層に置いて金属の比率は外側層が近づくにつれて増加している。

様々な実施形態において、１つの実施形態は下記の特徴のうちの１つ及び／又はいくつかを使用することができる。
− 前記金属はクロムである。
− 前記コーティングは少なくとも、前記成分のうちの少なくとも１つからなる追加的な層を備える。
− 刃はステンレス鋼からなる。

本発明の他の特徴及び利点は、以下の記載、図面及び特許請求の範囲から明らかであろう。

図において、対応する又は同様の要素には同じ符号が付されている。

図１は、本発明による方法の実施のために使用されるスパッタ装置の水平断面図である。スパッタ装置は、例えば円筒形状の内壁１を有する密閉容器を備え、この密閉容器内では低圧雰囲気を形成することができる。密閉容器は、互いに２つずつが向かい合うとともに交差した関係で配置されたスパッタターゲット２、３、４、５を備えている。例えば、少なくとも２つのスパッタターゲットを有するインラインのスパッタ装置のような別のいかなる好適な装置も、本発明による方法の実施のために使用することができる。

互いに向かい合う第１のターゲット２及び第３のターゲット４は、主に剃刀の刃先に堆積される第１の成分を備える。例えば、第１のターゲット２及び第３のターゲット４は、良好な硬さ及び強度特性を提供する材料を備えている。第１及び第３のスパッタターゲットは、例えばグラファイトの形態の炭素を備えている。

互いに向かい合う第２のスパッタターゲット３及び第４のスパッタターゲット５は、主に剃刀の刃先上に堆積される第２の成分を備えている。例えば、第２のスパッタターゲット３及び第４のスパッタターゲット５は、剃刀の刃先又は／及び有機材料上の第１の成分の良好な接着性を提供している。第２および第４のスパッタターゲットは、例えばクロム、ニオビウム、又はタングステンのような、例えば金属を備えている。

第１、第２、第３、及び第４のターゲットは、単元素ターゲットとすることができ、又は刃先上に堆積される少なくとも２つの要素の化合物を含む化合物ターゲットとすることもできる。

スパッタターゲット２、３、４、５のそれぞれは、これらターゲットと壁部１との間に配置されたマグネトロン１２、１３、１４、１５上にそれぞれ取り付けられている。マグネトロンは、剃刀の刃先に堆積される成分の堆積速度を上げるように作用させることができる。

実施形態においては、所定の極性がマグネトロンの３つに対して選択され、反対の極性が第４のマグネトロンに対して選択される。

例えばマグネトロンを、図１から明らかなように、反対の極性を有する２つのより強い側部磁石１２ｂ及び１２ｃによって周囲を囲まれた中央磁石１２ａのように、３つの磁石を備える形式の不均衡マグネトロンとすることができる。また、マグネトロン１３、１４、１５も不均衡マグネトロンである。

上述したのと同様の方法で、４つのマグネトロンのうちの３つの中央磁石は所定の極性を有し、他のマグネトロンの中央磁石は反対の極性を有している。例えば、中央磁石１２ａ、１５ａ、及び１４ａはＳ極に選ばれ、中央磁石１３ａはＮ極に選ばれている。もちろん、側部磁石の極性は対応して選ばれている。

ターゲットは、ターゲットに接続された（図示されていない）直流電力供給装置によってターゲット上に提供された直流電流の供給によって稼動することができる。ターゲットのそれぞれは選択的に若しくは同時に直流電力供給装置に接続することができる。

装置は真空ポンプ６を備え、この真空ポンプ６は密閉容器中に所定の真空度を提供することができる。

また、装置はアルゴン原子の供給源７を備え、このアルゴン原子の供給源７は密閉容器の中に所定の圧力のアルゴンを放散する。別の希ガスを使用することもできる。

装置内には回転するカルーセル８を配置することができ、このカルーセル８は、例えば垂直な軸（ｚ）の周りに回転するように、可動に設けられている。カルーセルは装置の一部分であるか、又は堆積工程のための装置の内部に着脱可能に保持することができる。カルーセルはバヨネット（図１に示す場合には８つのバヨネット）を保持しており、バヨネットは、コートされる積み重ねられた機械的剃刀に使用されるタイプの剃刀の刃を保持している。このようにして、同一の堆積工程の間に多くの剃刀の刃先をコートすることができる。

カルーセルは、剃刀の刃に直流電圧のバイアスをかけることができる直流電力供給装置１１に接続されている。

例えば剃刀の刃１０は、例えばステンレス鋼のような導電性を有する材料からなり、先端１０ｃに向かって収斂する２つの側面１０ａ、１０ｂの鋭い端部を提供する研磨工程に予備的に供されていても良い（例えば図４及び図５を参照のこと）。剃刀の刃は、装置内において先端１０ｃが密閉容器の壁部（及びターゲット）の方に向くように、バヨネットに装填されている。

スパッタデポジションの原理によれば、図３に示すように、スパッタターゲット（例えばクロムターゲット３）が稼動したときに、アルゴンイオンは前記ターゲットに衝撃し、ターゲットの成分の原子及びイオン１９を密閉容器中に放散させる。ターゲットの原子は、アルゴンイオンからの運動量の移転によってターゲットの原子が得た速度（線束の加速度成分）、及び濃度勾配（線束の拡散成分）の故に刃の方へ向かって移動する。また、ターゲットのイオンは、かけられたバイアスによって剃刀の刃にひきつけられる。ターゲットの原子は、剃刀の刃が炭素ターゲット（例えば図１の炭素ターゲット２）及びクロムターゲット（例えば図１のクロムターゲット５）のそれぞれの近辺を通過したときに、既にグラファイト原子２０（図３では黒い点）及び他のクロム原子２１（図３では白い点）が堆積した刃先９上に堆積する。

剃刀の刃先が密閉容器中に装填されると、密閉容器は閉塞され、ポンプ６によって真空に引かれ、約１０^−５Ｔｏｒｒの基底圧力に到達する。

予備的なスパッタエッチのステップを実施し、剃刀の刃の先端１０ｃ及び側面１０ａ、１０ｂを洗浄すること、及び／又は剃刀の刃の先端１０ｃ及び側面１０ａ、１０ｂから幾分かの材料を取り除くことができる。

２つの成分のうちの少なくとも一方からなる中間層の予備的なスパッタデポジションのステップを実施することもできる。内部圧力は３ｘ１０^−３Ｔｏｒｒに設定される。第２のスパッタターゲット３及び５は１．５Ａの直流電流によって稼動され、カルーセルが約５．５ｒｐｍで回転する間に、３００Ｖの直流電圧が剃刀の刃にかけられる。密閉容器の壁部およびターゲット２及び４は接地されている。稼動パラメータ及び同時の速い回転速度（通常４〜４０ｒｐｍ）によってすべての剃刀の刃先上において同じスパッタデポジションが可能である。第２のスパッタターゲットにかけられた直流電流を切ることによって、及び第１のスパッタターゲット２、４に直流電流をかけ、剃刀の刃上の直流電圧の供給及び回転を継続することによって、第２の成分からなる中間層上に第１の成分（例えば炭素）からなる第２の層を提供することができる。

このように、ほとんど搬送処理を必要とせずに、それぞれが１つの成分を有する２つの均一な層を非常に大量の剃刀の刃先にコートすることが可能である。

また、装置は両方の成分を所定の比率で備える、均一な層を堆積するために使用することができる。稼動パラメータは前記比率を提供するために選択される。このコーティングは剃刀の刃上に直接生成することができ、又は、上述のように成分のうちの１つからなる中間層上に生成することもできる。

中間層の堆積の後も、カルーセルは依然として５．５ｒｐｍの速度で回転しており、クロムを含有するスパッタターゲット３、５は０．５〜２０Ａの直流電流によって稼動される。炭素を含有するスパッタターゲット２、４は０．５〜２０Ａの直流電流によって稼動される。約１００〜２０００Ｖの負の直流電圧が刃にかけられる。

それぞれのターゲットに印加される強度の比は、均一なコーティング中の成分の所定の比率を提供するために選択される。このように、この方法によって、生産中においてコーティング特性を様々な顧客要求に簡単に合わせることを可能にしている。例えば、ある国々ではより腐食耐性に優れる特性が必要とされる場合があり、これらの国々に対して製造される剃刀の刃に対して耐腐食性を有する材料の量を増加するように、行程パラメータを簡単に適応させることができる。

均一な層の堆積の終わりには、両方の成分の濃度の比を、様々なターゲットに印加される強度の比を変化させることによって変えることができる。成分のうちの１つ（例えばクロム）がＰＴＦＥのような有機物の外側コーティングに対して良好な接着性を提供する場合には、その成分の相対的な濃度をＰＴＦＥコーティングの接着度を改善するために増加することができる。

また、最表層を、２つの成分のうちの１つのみ（例えばクロム）を備える形で提供することもできる。密閉容器の中の圧力は３ｘ１０^−３Ｔｏｒｒである。クロムのスパッタターゲット３及び５は、１．５Ａの直流電流によって稼動される。１０〜１０００Ｖの直流電圧が刃上にかけられる。炭素ターゲット２及び４は接地される。カルーセルは依然として約５．５ｒｐｍで回転する。

クロムの最表層は、硬質のコーティングの堆積後に剃刀の刃上に通常堆積されるＰＴＦＥのような外側の有機物コーティングに対して良好な接着性を提供するために使用される。

堆積後には、コートされた剃刀の刃をスパッタエッチすることができる。アルゴンガスの圧力及び刃上にかけられる直流電圧の設定の後、クロムのスパッタターゲットが稼動され、炭素のスパッタターゲットは接地される。

このように、幾分かの材料はコーティング層の最表層から除去され、刃が再び先鋭化される。

最後に、フッ素化されたポリマーの最終コーティングが刃の刃先のスパッタデポジットされたフィルム上につけられる。ポリマーの適用は、スプレーによる方法の後、焼鈍することによってなされる。

本発明による剃刀の刃の例は図４及び図５に見ることができる。

図４においては、ステンレス鋼製の刃１０はクロム及びグラファイトの形態の炭素からなる３０〜２００ｎｍ厚みの均一な層１６でコーティングされている。

図５において、ステンレス構成の刃１０は、２０〜３０ｎｍの厚みのクロムの中間層１８でコーティングされている。クロム−炭素層１６は、均一な炭素及びクロムからなる第１の部分１６ａを備えている。１０ｎｍの第２の部分１６ｂにおいては、クロムの濃度がＰＴＦＥ層１７との界面まで増加している。

もちろん、本発明は２つの成分のみを使用する形態に限られるわけではない。

直流電圧の代わりに、直流の連続成分からなるパルス状の直流バイアス及び直流の連続成分上に重畳されたパルス成分を、約５０〜２５０Ｈｚの周波数で剃刀の刃上にかけることができる。

２つの詳細な工程の例について後述する。

［例１］
回転カルーセル上に刃のバヨネットを装填した後、チャンバーは１０−５Ｔｏｒｒの基底圧力まで真空に引かれる。アルゴンガスがスパッタエッチのステップのためにチャンバーに導入される。刃のバヨネットの回転が１１ｒｐｍの一定の速度で開始され、２つのＣｒターゲットが直流電流制御の下で稼動され、直流電圧がステンレス鋼製の刃上に４分間かけられる。

スパッタエッチのステップが終わると、チャンバーの圧力は３ｍＴｏｒｒに調節される。３００Ｖの直流電圧が回転する刃上にかけられている間に、Ｃｒのターゲット１及び３は１．５アンペアの直流電流制御の下で稼動される。堆積時間を調整することによって、２０ｎｍのＣｒ層がサンプルの刃先に堆積される。

Ｃｒ層の堆積の後に、Ｃターゲット２及び４にスイッチが入れられる。２つのＣターゲット（２及び４）及び２つのＣｒターゲット（１及び３）は、Ｃｒターゲットには１．２アンペアの、Ｃターゲットには６アンペアの電流で同時に稼動される。４５０Ｖの直流電圧が回転する刃にかけられる。堆積時間を調整することによって、５０ｎｍのＣｒ−Ｃの均一な合金フィルムがＣｒ層上に堆積される。Ｃｒ−Ｃ層の最表面に、５００ｎｍのフッ化ポリマーの最終層（ＰＴＦＥ）が堆積され、主に刃の表面の低い摩擦を提供する。

同一の堆積バッチに置かれた、ステンレス鋼製の刃と同一の成分及び熱処理のステンレス鋼製の金属片での成分分析は、Ｃｒ−Ｃ層について７０原子％Ｃ及び３０原子％Ｃｒの成分を呈した。

また、上述のように堆積された１００ｎｍの合計フィルム厚み（Ｃｒ層＋Ｃｒ−Ｃ層）を有するステンレス鋼製の金属片は、ＸＰナノインデンター（ＸＰ Ｎａｎｏ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ）を使用する極微小圧痕測定にも使用される。最終的な刃の状態をシミュレートする金属片での測定は結果的に、Ｃｒ−Ｐｔ合金のスパッタリングターゲットから堆積された、同じコーティング厚みのＣｒ−Ｐｔをコートされた従来の金属片に比べて、刃のコーティングシステムの硬度は３０〜５０％高かった。

刃の切れ特性及び強度の研究に使用された試験の結果は、標準的なＣｒ−Ｐｔコートの刃に比べて新しいＣｒ−Ｃフィルムでコートされた刃に対する改善を示した。一連の試験において、各カット（ｃｕｔ）に対する刃の荷重を測定するための、ロードセルを使用した移動するフェルト上での刃の繰り返しカッティング動作を含む特定の試験では、結果的に最初の１０カットに対して標準的なＣｒ−Ｐｔコーティングがされた姉妹刃の加重範囲より少なくとも５％低い加重範囲を示した。この結果は、新しいＣｒ−Ｃのコーティングをされた刃が、カッティング動作中により効果的な方法でカッティング性能（例えば形状及び完全性）を維持するということを示している（表１参照）。

また、上述の試験の間の、１０カットの後の刃先に負わされた損傷が光学顕微鏡の方法で評価された。刃先の損傷は、材料の欠け面積の形（例えば、壊れて刃先から取り除かれた材料）で定量化された。Ｃｒ−Ｃをコートされた刃は、標準的な生産のＣｒ−Ｐｔのコーティングを有する刃に比べて、材料の欠け面積は８５％減少していた。この結果は、新しいＣｒ−Ｃのコーティングを有する刃の耐久性が増加したことを示している（表１参照）。

髭剃り性能評価において行われた平面における髭剃り試験は、新しい刃を備える髭剃りは従来生産の髭剃りに比べて、快適さ、密着度、刺激、１カットあたりの切り傷の数、及び全体的な意見において良好な結果を示した。

［例２］
回転カルーセル上に刃のバヨネットを装填した後、チャンバーは１０−５Ｔｏｒｒの基底圧力まで真空に引かれる。アルゴンガスがスパッタエッチのステップのためにチャンバーに導入される。刃のバヨネットの回転が１１ｒｐｍの一定の速度で開始され、２つのＣｒターゲットが直流電流制御の下で稼動され、直流電圧がステンレス鋼製の刃上に４分間かけられる。

スパッタエッチのステップが終わると、チャンバーの圧力は３ｍＴｏｒｒに調節される。３００Ｖの直流電圧が回転する刃上にかけられている間に、Ｃｒのターゲット１及び３は１．５アンペアの直流電流制御の下で稼動される。堆積時間を調整することによって、２０ｎｍのＣｒ層がサンプルの刃先に堆積される。

Ｃｒ層の堆積の後に、Ｃターゲット２及び４にスイッチが入れられる。２つのＣターゲット（２及び４）及び２つのＣｒターゲット（１及び３）は、Ｃｒターゲットには２．８５アンペアの、各Ｃターゲットには１．５アンペアの電流で同時に稼動される。４５０Ｖの直流電圧が回転する刃にかけられる。堆積時間を調整することによって、６０ｎｍのＣｒ−Ｃの均一な合金フィルムがＣｒ層上に堆積される。Ｃｒ−Ｃ層の最表面に、５００ｎｍのフッ化ポリマーの最終層（ＰＴＦＥ）が堆積され、主に刃の表面の低い摩擦を提供する。

同一の堆積バッチに置かれた、ステンレス鋼製の刃と同一の成分及び熱処理のステンレス鋼製の金属片での成分分析は、Ｃｒ−Ｃ層について１７原子％Ｃ及び８３原子％Ｃｒの組成を呈した。

また、上述のように堆積された１００ｎｍの合計フィルム厚み（Ｃｒ層＋Ｃｒ−Ｃ層）を有する鋼金属片は、ＸＰナノインデンター（ＸＰ Ｎａｎｏ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ）を使用する極微小圧痕測定にも使用される。最終的な刃の状態をシミュレートする金属片での測定は結果的に、Ｃｒ−Ｐｔ合金のスパッタリングターゲットから堆積された、同じコーティング厚みのＣｒ−Ｐｔをコートされた従来の金属片に比べて、刃のコーティングシステムの硬度は３０〜６０％高かった。

刃の切れ特性及び強度の研究に使用された試験の結果は、標準的生産のＣｒ−Ｐｔコートされた刃に比べて新しいＣｒ−Ｃフィルムでコートされた刃に対する改善を示していた。一連の試作において、各カット（ｃｕｔ）に対する刃の荷重を測定するための、ロードセルを使用した移動するフェルト上での刃の繰り返しカッティング動作を含む特定の試験では、結果的に最初の１０カットに対して標準的生産のＣｒ−Ｐｔコーティングされた刃の加重範囲より少なくとも１０％低い加重範囲を示した。この結果は、新しいＣｒ−Ｃのコーティングをされた刃が、カッティング動作中により効果的な方法でカッティング性能（例えば形状及び完全性）を維持するということを示している（表２参照）。

また、上述の試験の間の、１０カットの後の刃先に負わされた損傷が光学顕微鏡の方法で評価された。刃先の損傷は、材料の欠け面積の形（例えば、壊れて刃先から取り除かれた材料）で定量化された。Ｃｒ−Ｃをコートされた刃は、標準的な生産のＣｒ−Ｐｔのコーティングを有する刃に比べて、材料の欠け面積は９０％減少していた。この結果は、新しいＣｒ−Ｃのコーティングを有する刃の耐久性が増加したことを示している（表２参照）。

髭剃り性能評価において行われた平面における髭剃り試験は、新しい刃を備える髭剃りは従来生産の髭剃りに比べて、快適さ、密着度、刺激、１カットあたりの切り傷の数、及び全体的な意見において良好な結果を示した。

本発明の１つの特定の実施形態による方法を実施するために設けられた装置の水平断面図である。 図１の装置の垂直断面図である。 コーティング工程中の刃の概念図である。 本発明の１つの実施形態による剃刀の刃の断面図である。 本発明の別の実施形態による剃刀の刃の断面図である。

符号の説明

２、３、４、５・・・スパッタターゲット
９・・・カルーセル
１０・・・剃刀の刃
１２、１３、１４、１５・・・磁気装置
１２ａ・・・中央磁石
１２ｂ、１２ｃ・・・側部磁石
１６・・・均一な層（所定の金属を含有する層）
１７・・・ＰＴＦＥ層（外側の層）
１８・・・中間層（追加的な層）

Claims (25)

1. 剃刀の刃の剃刀の刃先上に所定の層を堆積させるための方法であって、
   前記層は、少なくとも２つの成分を備え、
   少なくとも第１及び第２のスパッタターゲットを備える密閉容器の中において、前記スパッタターゲットのそれぞれは、前記刃先に堆積される前記成分の少なくとも１つを備えるとともに、稼動の際には前記密閉容器の中に前記成分を放散するように設けられ、
   前記方法は、両方の前記ターゲットの稼動下において、前記剃刀の刃が、前記第１及び第２のターゲットに対して動かされ、交互にそれぞれのターゲットの近傍を通過するステップ（ａ）を備えていることを特徴とする方法。
2. 前記第１及び第２のスパッタターゲットは、希ガスイオンの衝撃によって作用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記ステップ（ａ）の間に、前記ターゲットの近傍の磁気装置によって磁気場が生成されていることを特徴とする請求項２に記載の方法。
4. 前記磁気装置のそれぞれは、２つの側部磁石の間に、これら側部磁石とは反対の極性を有して配置された中央磁石を少なくとも含み、前記側部磁石は前記中央磁石より強いことを特徴とする請求項３に記載の方法。
5. 前記密閉容器は第１、第２、第３、第４のスパッタターゲットを備え、前記第１及び第３のターゲットは互いに対向しているとともに、前記第１の成分を担持し、前記第２及び第４のスパッタターゲットは互いに対向しているとともに、前記第２の成分を担持し、前記第１、第２、第３及び第４のターゲットのそれぞれは磁気装置を有し、前記第２、第３、及び第４のスパッタターゲットの前記磁気装置は同じ極性であることを特徴とする請求項３又は４に記載の方法。
6. 前記第１、第２、第３、及び第４のターゲットは密閉容器内に固定され、剃刀の刃は密閉容器に対して回転され、よって前記第１、第２、第３、及び第４のターゲットのそれぞれの前を連続的に通過することを特徴とする請求項５に記載の方法。
7. 前記刃は、４ｒｐｍ以上の回転速度で回転されていることを特徴とする請求項６に記載の方法。
8. 前記第２の成分は金属であり、前記第２及び第４のターゲットは、０．５〜２０Ａの大きさを有する直流電流によって稼動されていることを特徴とする請求項５〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記第１の要素は炭素であり、前記第１及び第３のターゲットはグラファイトを備え、前記第１及び第３のターゲットは、０．５〜２０Ａの大きさを有する直流電流によって稼動されていることを特徴とする請求項５〜８のいずれか一項に記載の方法。
10. 前記第２の成分は有機材料に改良された接着性を提供し、ステップ（ａ）の間に、前記第１及び第２のターゲットに印加される前記電流の大きさの比は減少することを特徴とする請求項８又は９に記載の方法。
11. 前記金属はクロムであることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
12. 前記刃は１００〜２０００Ｖの直流電圧を印加されていることを特徴とする請求項５〜１１のいずれか一項に記載の方法。
13. 刃はパルス状の直流電圧を印加されていることを特徴とする請求項５〜１１のいずれか一項に記載の方法。
14. 前記層は所定の比率の前記成分を有し、それぞれのターゲットは所定の稼動パラメータの下で稼動され、前記方法は、ステップ（ａ）の前にステップ（ｅ）をさらに含み、該ステップ（ｅ）は、前記稼動パラメータを、前記比率を提供するように選択するステップであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
15. ステップ（ａ）に先立って、剃刀の刃がカルーセル（９）内に積み重ねられることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
16. スパッタエッチのステップ（ｂ）をさらに備え、該ステップ（ｂ）において、材料は、前記第２のターゲットの稼動と刃上への直流電圧の供給とを同時に行うことによって、刃から取り除かれることを特徴とすることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記ステップ（ｂ）は前記ステップ（ａ）の前に実施されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
18. ステップ（ｃ）をさらに備え、該ステップ（ｃ）において、前記成分のうちの少なくとも１つを備える追加的な層が、該追加的な層の成分を備えるターゲットのみを稼動することによって堆積されていることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
19. 前記ステップ（ｃ）は、前記ステップ（ａ）の前に実施されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
20. 前記ステップ（ａ）は、前記ステップ（ｃ）の前に実施されることを特徴とする請求項１８に記載の方法。
21. ステップ（ｄ）をさらに備え、該ステップ（ｄ）において、有機材料を備える外側の層が設けられることを特徴とする請求項１〜２０のいずれか一項に記載の方法。
22. 剃刀の刃先と、コーティングとを備え、
    該コーティングは、
    少なくとも主に炭素を備える第１の成分と、主に所定の金属を備える第２の成分とからなる、少なくとも所定の金属を含有する層と、
    少なくとも、前記所定の金属を含有する層に接している有機材料からなる外側層と、を備え、
    前記金属は前記有機材料との改善された接着特性を呈し、
    前記所定の金属を含有する層において金属の比率が、外側層が近づくにつれて増加していることを特徴とする、剃刀の刃。
23. 前記金属はクロムであることを特徴とする請求項２２に記載の剃刀の刃。
24. 前記コーティングは、前記成分のうちの少なくとも１つからなる追加的な層を少なくとも備えていることを特徴とする請求項２２又は２３に記載の剃刀の刃。
25. 前記刃はステンレス鋼からなることを特徴とする請求項２２〜２４のいずれか一項に記載の剃刀の刃。

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