JP2008184378A - 高純度トリクロロシランの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原料ガスとして、塩化水素を含有するガス、または水素と四塩化珪素を含有するガスを使用し、流動層反応炉内で金属シリコン粉末と反応させ、生成ガス冷却工程、クルード蒸発缶による固液分離、精留工程を経て高純度のトリクロロシランを製造するに際し、缶内の液面上方に上部蒸留機能(棚段、充填層など)を有するクルード蒸発缶を使用して、上部蒸留機能から四塩化珪素の比率が高いサイドカット液を抜き取り、塔頂部からトリクロロシランの比率(濃度)を高めたクルード蒸発缶塔頂液を取り出し、これを原料液として精留工程へ送る。
【選択図】なし
Description
5:フィード管
8:凝縮系
9:蒸発トレイ
10:外釜(加熱室)
14:沈降室
17:還流液配管
18:留出配管
Claims (5)
- 塩化水素を含有する原料ガス、または水素と四塩化珪素を含有する原料ガスによって金属シリコン粉末を流動させる流動層反応炉内でトリクロロシランを生成させ、トリクロロシラン、四塩化珪素を含有する生成ガスを流動層反応炉から取り出した後に生成ガス冷却工程で凝縮させることにより、トリクロロシランと四塩化珪素を含有するクルード液を回収し、クルード液をクルード蒸発缶で固液分離し、その液体部分を精留工程へ送って精留することにより高純度のトリクロロシランを製造する高純度トリクロロシランの製造方法であって、
クルード蒸発缶内の液面上方に上部蒸留機能を有しており、
上部蒸留機能からサイドカット液を抜き取り、
上部蒸留機能の塔頂部からトリクロロシランを含有するクルード蒸発缶塔頂液を取り出して、これを前記液体部分として精留工程へ送ることを特徴とする高純度トリクロロシランの製造方法。 - 水素と四塩化珪素を含有する原料ガスによって金属シリコン粉末を流動させる流動層反応炉内でトリクロロシランを生成させ、トリクロロシラン、未反応の四塩化珪素および水素を含有する生成ガスを流動層反応炉から取り出した後に生成ガス冷却工程で凝縮させることにより、トリクロロシランと未反応の四塩化珪素を含有するクルード液を回収し、クルード液をクルード蒸発缶で固液分離し、その液体部分を精留工程へ送って精留することにより高純度のトリクロロシランを製造する高純度トリクロロシランの製造方法であって、
クルード蒸発缶内の液面上方に上部蒸留機能を有しており、
上部蒸留機能からサイドカット液を抜き取って、これを流動層反応炉の原料ガスの一部とし、
上部蒸留機能の塔頂部からトリクロロシランを含有するクルード蒸発缶塔頂液を取り出して、これを前記液体部分として精留工程へ送ることを特徴とする高純度トリクロロシランの製造方法。 - サイドカット液の主成分が四塩化珪素であることを特徴とする請求項1または2に記載の高純度トリクロロシランの製造方法。
- トリクロロシラン濃度がクルード液におけるよりもサイドカット液において低く、四塩化珪素濃度がクルード液におけるよりもクルード蒸発缶塔頂液において低いことを特徴とする請求項1または2に記載の高純度トリクロロシランの製造方法。
- 生成ガス冷却工程で分離された水素を、流動層反応炉の原料ガスの一部として用いることを特徴とする請求項2に記載の高純度トリクロロシランの製造方法。
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