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JP2008156753A - 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のスパッタリングターゲット - Google Patents

光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のスパッタリングターゲット Download PDF

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JP2008156753A JP2007308895A JP2007308895A JP2008156753A JP 2008156753 A JP2008156753 A JP 2008156753A JP 2007308895 A JP2007308895 A JP 2007308895A JP 2007308895 A JP2007308895 A JP 2007308895A JP 2008156753 A JP2008156753 A JP 2008156753A
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隆之 坪田
Takeshi Owaki
武史 大脇
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秀夫 藤井
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Abstract

【課題】耐環境性に優れた光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体などを提供することを目的とする。
【解決手段】光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜を、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなるものとし、Ag合金反射膜の、特定光波長における耐光性と特定条件における耐湿熱性との耐環境性を向上させる。
【選択図】図1

Description

本発明は、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、このAg合金反射膜を有している光情報記録媒体およびこのAg合金反射膜形成用のスパッタリングターゲットに関する。本発明で言う反射膜とは、反射膜および半透過反射膜(半透過膜)を含む包括的な表現である。本発明は、特に耐光性や耐湿熱性などの耐環境性が優れ、この耐環境性が要求される、反射膜、この反射膜を有している光情報記録媒体、及びこの反射膜の形成用のスパッタリングターゲットに好適である。
Ag合金系の反射膜材料は、光ディスク(以下、光情報記録媒体とも言う)などの反射膜として、他の材料に比して、高反射率、高透過率、低吸収率〔吸収率=100%−(反射率+透過率)〕、高熱伝導率などの優れた特性を有する。
ただ、このようなAg合金反射膜を有する光ディスクにおいては、これら高性能を長期に亙って維持できる、長期信頼性を向上させることが重要な技術課題となっている。そして、この長期信頼性に最も影響を与えるのが、Ag合金反射膜の耐湿熱性や耐光性などの耐環境性の向上である。
例えば、光ディスクの使用が、高温高湿の環境下になるほど、Ag合金反射膜から、反射膜に接する樹脂層側へのAgの拡散、凝集が生じやすくなる。このAgの拡散、凝集は、Ag合金反射膜の表面粗度増加や不連続膜化を生じ、反射率が低下して、反射膜や半透過反射膜としての機能が著しく劣化する、という問題がある。
また、光ディスクの使用が、蛍光灯などの光照射環境下になっても、この光照射によって、上記Ag合金反射膜から、反射膜に接する樹脂層側へのAgの拡散、凝集が生じやすくなる。このAgの拡散、凝集は、やはり反射率の低下を招き、反射率の低下が、再生信号を検出可能な反射率の下限を下回った時点で、信号を再生することが不可能となる、という問題がある。
反射膜としてのAgの特定の希土類元素の含有による合金化、あるいはAg合金の改良により特性を向上させることは、従来から種々提案されている。例えば、Ag−Cu−Au−(Nd、Sn、Ge)などのAg合金反射膜、Ag−(Bi、Sb)−(Cu、Au)、Ag−(Bi、Sb)−(希土類:Nd、Y)−(Cu、Au)などのAg合金反射膜が提案されている(特許文献1、2参照)。
また、レーザーマーキングのパワーを低下させるために、反射膜であるAg合金の熱伝導率を低減させることも提案されている。具体的には、Agに、Ge、Si、Sn、Pb、Ga、In、Tl、Sb、Biを添加して熱伝導率を低減するものである(特許文献3参照)。また、同様に、Agに、Cr、Ti、Si、Ta、Nb、Pt、Ir、Fe、Re、Sb、Zr、Sn、Niを添加して熱伝導率を低減する方法も提案されている(特許文献4参照)。
しかしながら、これら従来のAg合金からなる反射膜は、耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を向上させる目的の開示がない。また、後述するごとく、光情報記録媒体において、特に、金属反射膜と紫外線硬化樹脂層または有機色素記録層とが直接接触する場合に、従来のAg合金からなる反射膜は、これら耐環境性が劣化しやすい。
この金属反射膜と紫外線硬化樹脂層または有機色素記録層とが直接接触する場合のAg合金反射膜の耐環境性低下の課題に対して、Li を含有させたAg合金反射膜とすることが提案されている(特許文献5)。ここでは、より具体的には、Li を0. 01〜10原子%含有するAg 合金とすることが提案されている。また、更に、Bi: 0. 005〜0. 8原子%、希土類金属元素(Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu) を合計で0. 1〜2原子%、Cu、Au、Rh、Pd、Ptから選ばれる1種以上を合計で0. 1〜3原子%、各々選択的に含有することも開示されている。
特開2002-15464号公報 特開2004-139712 号公報 特開1992-252440 号公報 特開1992-28032号公報 特開2006-48899号公報
しかしながら、本発明者らが知見したところによれば、この特許文献5のLiを含有させたAg合金からなる反射膜は、これに更に、Bi 、希土類金属元素、Cu、Auなどの貴金属類元素などを含有させたとしても、より長期に亙る使用を想定した光ディスクの耐湿熱性や耐光性などの耐環境性が不十分である。即ち、Liを含有させたAg合金からなる反射膜は、確かに耐環境性が向上するものの、比較的短時間で耐環境性が低下して、優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持できないという課題がある。
この理由は、特許文献5における耐湿熱性や耐光性などの耐環境性の試験時間が短過ぎることが大きな一因である。このように耐環境性の評価試験時間が短いと、実際に長期に亙って使用された際の光ディスクの耐環境性と、正確に相関させることができないこととなる。
例えば、特許文献5では、耐光性の評価を、成膜されたAg合金膜の上層に紫外線硬化樹脂層を積層したものについて、紫外・可視光の照射試験によって、分光反射率と分光透過率との変化率を測定している。ただ、その照射条件は、照射照度:120W/m2 、照射温度:80℃、照射時間:144 時間であり、この照射試験時間が短過ぎる。
また、この特許文献5では、耐凝集性(耐湿熱性)の評価を、成膜されたAg合金膜の上層に紫外線硬化樹脂層を積層したものについて、高温高湿(温度:80℃、湿度:90%RH、保持時間:48時間での試験を施しているものの、この保持試験時間が短過ぎる。
このため、Ag合金反射膜を有している光ディスクにおいて、Ag合金反射膜と前記樹脂層とが直接接触する場合でも、優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持できるという意味での、耐環境性の向上が求められている。
本発明はこのような事情に着目してなされたもので、その目的は、特に金属反射膜と前記樹脂層とが直接接触する場合でも、優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持できる、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、この反射膜を有している光情報記録媒体、及び、この反射膜形成用のスパッタリングターゲットを提供しようとするものである。
この目的を達成するための本発明Ag合金反射膜の要旨は、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなることとする。
上記目的を達成するための本発明光情報記録媒体は、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなるAg合金反射膜を有していることである。
本発明におけるAg合金反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットは、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1.5原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなるAg合金からなることである。
本発明では、優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持できることを、耐環境性の向上という。本発明では、光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜を、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素と、Biとを複合して含むAg合金反射膜とすることによって、この効果を達成する。
これら特定の選択された元素を所定量含むAg合金反射膜では、反射膜側や半透過膜側のAgが、隣接する紫外線硬化樹脂層または有機色素記録層などの樹脂層側へ拡散、凝集する劣化モードが抑制される。これによって、本発明Ag合金反射膜は、耐湿熱性と耐光性とを合わせた耐環境性を向上させ、この優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持することができる。
実際の再生専用型光ディスクの断面構造では、ポリカーボネート(以下、単にPCとも言う)基体上にAg合金の反射膜を成膜し、この反射膜の上に紫外線(UV)で硬化する樹脂層をスピンコートし、PC基体と貼り合わせる。また、追記型光ディスクでは、PC基体(以下、PC基板とも言う)上に有機色素記録層などの樹脂層をスピンコートし、この上にAg合金の反射膜を成膜し、更に、この反射膜の上に紫外線(UV)で硬化する樹脂層をスピンコートし、PC基板と貼り合わせる。
また、上記断面構造を互いに貼り合わせ、記録層を2層とし記録容量を増やしたタイプもある。即ち、再生専用光ディスクでは、基板上にAg合金の半透過反射膜を成膜し、この反射膜の上に紫外線(UV)で硬化する樹脂層をスピンコートし、Ag合金またはAl合金の反射膜を成膜した基板と貼り合わせて、互いに積層する。追記型光ディスクも同様に、PC基板上に有機色素記録層とAg合金の半透過膜を積層したものを、Ag合金の反射膜と有機色素記録層とを成膜した基板と貼り合わせて、互いに積層したり、PC基板上に有機色素記録層とAg合金の半透過膜を積層したものの上に有機色素記録層やAg合金反射膜を積層したりする。
このように、上記樹脂層に対してAg半透過膜およびAg反射膜(以下、両者をまとめて単にAg反射膜と言う)が直接接する光ディスクの場合には、湿熱環境や光照射環境のいずれでも、反射膜側のAgが上記樹脂層側へ拡散し、凝集する、Ag反射膜の劣化モードが存在する。言い換えると、Ag反射膜や、これを用いた光情報記録媒体の耐久性を向上させるためには、このような、反射膜側のAgが樹脂層側へ拡散、凝集する、前記劣化モードを抑制することが必要である。
従来において、特許文献5を除いて、光ディスクの耐湿熱性や耐光性を向上させたAg合金反射膜が提案されてこなかった、あるいは、耐湿熱性や耐光性を向上できなかったのは、Ag合金からなる反射膜を有する光ディスクの耐湿熱性や耐光性の評価試験の方法にもよる。
即ち、従来から、Ag合金からなる反射膜を有する光ディスクの耐湿熱性や耐光性の評価試験では、ポリカーボネートなどの基板上にAg薄膜のみを形成した単膜が用いられていた。しかし、このようなポリカーボネートなどの基板上にAg薄膜のみを形成した単膜による試験評価では、反射膜のAgが直接接する樹脂層側へ拡散して凝集する前記した劣化モードが存在乃至発生しない。このため、このような従来の単膜による評価試験条件では、当然ながら、耐湿熱性や耐光性の評価を正確にできない。
これに対して、光情報記録媒体の耐環境性を正確に評価するためには、Ag合金と接する樹脂層を形成した形状(状態)とし、Agが樹脂層側へ拡散して凝集する劣化モードが発生可能な状態で試験を実施する必要がある。そして、この時の反射特性の変化を測定、評価する必要がある。
即ち、Ag合金膜と樹脂層とを互いに接触させた状態で順にポリカーボネートなどの基板上に積層した光情報記録媒体(試験体)に対して、耐光性としては紫外線など特定波長の光を照射し、この照射前後での光情報記録媒体の反射率の変化(反射率の絶対値変化)を測定、評価する。また、耐湿熱性としては、上記光情報記録媒体を湿熱環境下に置き、光情報記録媒体の反射率の変化を測定、評価する。この耐光性と耐湿熱性とを両者とも有することが耐環境性として必要である。
本発明Ag合金反射膜に含まれる、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素とBiとは、これら耐光性と耐湿熱性との後述する評価基準を基に、これを満たさない、他の希土類元素の種類やその含有量などに対して、選択、区別されたものであると言える。言い換えると、従来のポリカーボネートなどの基板上にAg薄膜のみを形成した単膜による試験では、本発明に係るW、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素とBiとの耐環境性に対する有意差はつかない。この点、前記した劣化モードが存在乃至発生する、上記本発明に係る試験条件によって始めて、本発明に係るW、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素とBiとの効果の優位性が、他の元素と区別した上で認識できるとも言える。
本発明は、このように、前記した劣化モードが生じる光情報記録媒体での反射特性を正確に評価した上で、上記要旨のように、Ag合金反射膜の組成を決定している。このため、前記したAgが紫外線硬化樹脂層側へ拡散して凝集する劣化モードを抑制して、光情報記録媒体用Ag合金反射膜の耐湿熱性と耐光性とを合わせた耐環境性を向上させ、この優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持することができる。
また、このような反射膜を有している光情報記録媒体では、記録媒体自体の耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を向上させ、この優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持することが可能となる。更に、反射膜形成用のスパッタリングターゲットを、このAg反射膜と、ほぼ同じ組成範囲のAg合金とすることによって、耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を向上させた本発明Ag合金反射膜の成膜が可能となる。
本発明の各要件の意味や実施態様につき以下に順に説明する。
(光情報記録媒体)
本発明が対象とする光情報記録媒体につき説明する。本発明が対象とする光情報記録媒体は、前提として光ディスクを意味する。この光ディスクにはいくつかの種類があるが、記録再生原理から大きくは、再生専用型、追記型、書換型の3種類に分類される。本発明は、反射膜の成分組成に特徴があり、光情報記録媒体としての前提となる、あるいは具備すべき光ディスクの構造や形状自体は、市販乃至公知のものが選択、適用できる。
この中、再生専用型光ディスクは、例えばポリカーボネートなどの透明プラスチック (透明樹脂) 基板上に設けた凹凸の記録ピットによって記録データを形成した後に、Ag合金反射膜を設けた構造を有している。なお、反射膜としては、Ag以外にも、Al、Au等を主成分とする反射膜があるが、本発明では対象とはしない。また、基板は、ポリカーボネートなどの樹脂基板でなくても、ガラス、アルミ、カーボンなどの基板でも良い。
図1は、この再生専用型光ディスクの断面構造の1 例を示す模式図である。図1において、1と5とはポリカーボネート基板、2は本発明が対象とするAg合金の半透明反射膜、3は紫外線(UV)で硬化する樹脂接着剤層、4は本発明が対象とするAg合金の全反射膜である。
再生専用型光ディスクにおいて、データ読み出しは、矢印で図示するディスクに照射されたレーザー光の位相差や反射差を検出することにより行う。それぞれ個別の記録ピットを形成した透明プラスチック基板5上に反射膜4を設けたものが、前記した断面構造として、PC基板5上にAg合金の反射膜4を成膜し、この反射膜4の上に紫外線(UV)で硬化する樹脂層3をスピンコートしたものである。
図1では、これに、更に、半透明反射膜 (半透過膜) を設けた透明プラスチック基板1を貼り合わせて2層に記録したデータを読み出すタイプを示している。これは、図1に示すように、断面構造として、PC基板1上に、Ag合金の半透過膜2を成膜し、この半透過膜2を、紫外線(UV)で硬化する樹脂層を介して前記PC基板5上のAg合金全反射膜4に貼り合わせて積層したものである。
(Ag合金反射膜組成)
本発明Ag合金反射膜の化学成分組成について、以下に説明する。本発明Ag合金反射膜の化学成分組成は、上記の通り説明した、光情報記録媒体用反射膜として、耐環境性や初期反射率などの基本的特性を有するために、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなるものとする。
W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Ni:
本発明Ag合金反射膜は、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%、必須に含有する。これらの元素は、後述するBiと共存(併用)することにより、Ag合金反射膜の耐環境性を向上させる効果がある。
W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niは、酸化物を形成しやすいため、これら合金元素が、反射膜や半透過膜と接する紫外線硬化樹脂層中の酸素と反応して酸化物を形成して安定化させる。これによって、反射膜側や半透過膜側のAgが前記酸素と反応して紫外線硬化樹脂層側へ拡散、凝集する、前記劣化モードを抑制する効果が大きいものと推考される。しかも、これら合金元素はこの効果を長期間に亙って持続する作用がある。この結果、Ag合金反射膜の優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持でき、本発明で言う耐環境性が向上する。この効果はBiと共存(併用)することにより、より一層発揮される。
これらの元素の含有量は、その効果を発揮させるために、0.1原子%以上含有させる。しかし、これら元素が多過ぎると、反射性能や半透過などの基本特性を低下させる。このため、これら元素を5原子%を越えて含有させる必要は無い。
Bi:
本発明Ag合金反射膜は、上記W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niの元素に更に加えて、Biを必須に0.005〜1原子%含有する。Biは、前記上記W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niの元素と共存(併用)することにより、Ag合金反射膜の耐環境性を向上させる効果がある。Biも、上記W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niの元素と同様に酸化物生成自由エネルギーが比較的小さく、酸化物を形成しやすい。このため、反射膜や半透過膜と接する紫外線硬化樹脂層中の酸素と反応して酸化物を形成して安定化させる。これによって、反射膜側や半透過膜側のAgが前記酸素と反応して紫外線硬化樹脂層側へ拡散、凝集する、前記劣化モードを抑制するものと推考される。
Biの含有量は、この効果を発揮させるために、0.005原子%以上含有させる。しかし、Biが多過ぎると、反射性能や半透過などの基本膜特性を低下させる。このため、Biを1原子%を越えて含有させる必要は無い。
本発明Ag合金反射膜では、これらW、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niの元素と、Bi以外は不純物である。したがって、これらの元素以外の組成は、残部がAgおよび不可避的不純物からなる。
(Ag合金反射膜の成膜)
本発明Ag合金反射膜は、PCなどの基板表面に、Ag合金からなるスパッタリングターゲットをスパッタリング乃至蒸着して成膜される。この際、スパッタリングターゲットを、本発明スパッタリングターゲットとして、前記した本発明組成のAg反射膜とほぼ同じ組成範囲のAg合金からなるものとすれば、本発明組成のAg反射膜が得られやすい。
即ち、Ag合金反射膜を、本発明Ag合金として成膜するスパッタリングターゲットとしては、Ag合金反射膜の各元素の含有量に対応して、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1.5原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなるものとすることが好ましい。
この際、Biだけは、その特有の問題として、反射膜の膜厚が厚いほどスパッタリングされるBiがロスしやすくなり、Ag合金反射膜のBi含有量の方がターゲットのBi含有量よりも少なくなりやすい。このため、このロス分を見込んで、反射膜の膜厚によって、ターゲットの方のBi含有量を、Ag合金反射膜のBi含有量よりも多めにすることが好ましい。したがって、ターゲットの方の上記Bi含有量の上限は、上記の通り、Ag合金反射膜のBi含有量の上限よりも多めに設定している。
なお、成膜可能であれば、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素、あるいはBiから各々別々になるか、あるいは、それらを含む、複数の種類のスパッタリングターゲットを用い、成膜の結果として、本発明組成のAg反射膜を得るようにしても良い。
スパッタリング乃至蒸着方法は、これら薄膜の成膜法として公知および汎用されている方法が適宜使用できる。しかし、成膜の安定性では、DCマグネトロンスパッタリング法を用いることが好ましい。
使用するスパッタリングターゲットは、前記した本発明組成のAg反射膜と同じか、これに対応する組成範囲のAg合金や、各合金元素から各々なる純金属、あるいは合金を一旦溶解して、板状など適宜の形状に製造するか、スプレーフォーミングなどの溶製法あるいは粉末冶金法によって、板状など適宜の形状に製造できる。
成膜された本発明Ag合金反射膜は、前記した、本発明光情報記録媒体として、光情報記録媒体として必要な断面構造や表面構造に、更に制作される。
(耐光性評価試験)
このように、本発明が対象とする光情報記録媒体 (光ディスク) は幾つかの種類があるものの、本発明における前記耐光性評価試験は、これら光情報記録媒体の種類にかかわらず、再現性のために、共通する条件とする。また、前記したAgが紫外線硬化樹脂層側へ拡散して凝集する劣化モードが発生しやすく、かつ、この劣化モードを長期に亙り抑制できる耐環境性向上効果が検証できる条件とする。このような条件とすれば、本発明が対象とする光情報記録媒体 (光ディスク) への適用適否の評価基準として、再現性良く適用できる。この点は、後述する耐湿熱性評価試験も同様である。
本発明における耐光性評価試験は、Ag合金膜と紫外線硬化樹脂層とを接触させた状態で順にポリカーボネート基板上に積層した光情報記録媒体に対して、波長がより短い次世代向けの波長405nmの光と現行向け波長650nmの光とを、少なくとも200時間照射し、この照射後の光情報記録媒体の反射率の変化を測定する。
この照射前後での光情報記録媒体の反射率の変化が、半透過膜として平均膜厚が15nmのAg合金膜(反射膜)では、波長405nmの光では、3.5%以下(以内)であることを必須とし、好ましくは2%以下(以内)として、本発明の耐環境性性能の選択基準とする。また、波長650nmの光では、反射率の変化が1.5%以下であることを必須とし、好ましくは1%以下として、本発明の耐環境性性能の選択基準とする。
また、全反射膜として平均膜厚が60nmと比較的厚いAg合金膜(反射膜)では、波長405nmの光では、この照射前後での光情報記録媒体の反射率の変化が3%以下であることを必須とし、好ましくは1%以下として、本発明の耐環境性の耐光性性能の選択基準とする。また、波長650nmの光では、反射率の変化が1%以下であることを必須とし、好ましくは0.5%以下として、本発明の耐環境性性能の選択基準とする。
これら積層した光情報記録媒体に対して蛍光灯光を照射する。反射率の測定波長は、次世代光ディスク(Blu-ray 、HD-DVD)でデータの読み出し書き込みに使用される405nm、及び現行DVD に使用される650nmとした。
この耐光性試験の条件は、上記波長の光を照射できる色温度6700Kの蛍光灯をディスクから60mmの距離に保持し、蛍光灯光を照射する。試験温度は25℃で、上記した通り、照射保持時間は最低でも200時間を目安とし、これよりも長い400時間などを併用して評価しても良い。
そして、この照射前後での光情報記録媒体の反射率の測定を、日本分光 (株) 製のV−570可視・紫外分光光度計を用い、次世代光ディスクおよび現行DVDでのデータの読み出し、書き込み波長にて測定する。
(耐湿熱性評価試験)
耐湿熱性試験の条件は、耐光性に使用したのと同じ積層条件からなる光情報記録媒体を、温度80℃、湿度90%RHの湿熱環境下に200時間保持した。
そして、この湿熱環境下での保持前後における光情報記録媒体の反射率の変化(反射率の絶対値変化)が、半透過膜として平均膜厚が15nmのAg合金膜(反射膜)では、波長405nmの光で、2%以下であることを必須とし、好ましくは1%以下として、本発明の耐環境性性能の選択基準とする。また、波長650nmの光では、この湿熱環境下での保持前後における光情報記録媒体の反射率の変化(反射率の絶対値変化)が1%以下であることを必須とし、好ましくは0.5%以下として、本発明の耐環境性性能の選択基準とする。
また、全反射膜として平均膜厚が60nmと比較的厚いAg合金膜(反射膜)では、波長405nmの光では、この湿熱環境下での保持前後における光情報記録媒体の反射率の変化(反射率の絶対値変化)が、1%以下であることを必須とし、好ましくは0.5%以下として、本発明の耐環境性の耐湿熱性性能の選択基準とする。波長650nmの光では、この湿熱環境下での保持前後における光情報記録媒体の反射率の変化(反射率の絶対値変化)が0.5%以下であることを必須とし、好ましくは0.3%以下として、本発明の耐環境性性能の選択基準とする。
この湿熱環境保持前後での光情報記録媒体の反射率の測定は、耐光性と同様に、日本分光 (株) 製V−570可視・紫外分光光度計を用い、次世代光ディスクおよび現行DVDでのデータの読み出し、書き込み波長にて測定する。
(その他の評価試験条件)
これら耐光性と耐湿熱性の両評価試験に使用する光情報記録媒体試験体は、再現性のために同じものを使用することが好ましい。また、基板は再現性のためには、対象とする光情報記録媒体 (光ディスク) に使用されている基板と同じ基板を選択することが好ましい。これは基板の種類だけでなく、厚み×径も同様である。例えば、光情報記録媒体に汎用されるポリカーボネート基板では、厚み×径は、汎用されている0.6〜1.1mm厚×8〜12cm径の範囲で良い。
また、Ag合金反射膜の上層に積層させて互いに接触させる、紫外線硬化樹脂層も、再現性のためには、対象とする光情報記録媒体 (光ディスク) に使用されている紫外線硬化樹脂と同じ樹脂を選択することが好ましい。これは紫外線硬化樹脂の種類だけでなく層の厚みも同様である。例えば、前記した再生専用型光ディスクのタイプでポリカーボネート基板の場合に汎用されている、紫外線硬化樹脂の厚み30〜120μm の範囲で良い。
(初期反射率:基本特性)
本発明が対象とする光情報記録媒体 (光ディスク) では、以上説明した耐環境性もさることながら、基本的な特性として、当然ながら高い初期反射率が要求される。この点、本発明反射膜も、この要求を満たす高い初期反射率を有することが好ましい。
光情報記録媒体の初期反射率の測定は、日本分光 (株) 製V−570可視・紫外分光光度計を用い、次世代光ディスクおよび現行DVDでのデータの読み出し(読み取り)波長にて、絶対反射率を測定し、初期反射率とする。
このように測定した初期反射率として、本発明Ag合金反射膜では、半透過膜として平均膜厚が15nmのAg合金膜(反射膜)では、405nm波長の光照射では20%以上、650nm波長の光照射では58%以上を各々合格ラインの選択基準とする。また、全反射膜として平均膜厚が60nmと比較的厚いAg合金膜(反射膜)では、405nm波長の光照射では77%以上、650nm波長の光照射では90%以上を各々合格ラインの選択基準とする。
以下に、本発明の実施例を説明する。表1 〜8に示す各Ag−X合金膜を、各例とも共通して、ポリカーボネート樹脂基板上に、DCマグネトロンスパッタリング法を用いて各々成膜し、この上層に紫外線硬化樹脂層を積層したものの耐久性を試験、評価した。これらの結果を表1〜表8の各表に、発明例、比較例別に各々示す。
Ag−X合金膜の膜組成:
各表に示す、各Ag−X合金膜の膜組成は、誘導結合プラズマ(Inductively Coupled Plasma:ICP)質量分析法によって分析した。詳細には、Ag合金膜を分析試料として、これを硝酸:純水=1:1の酸溶液中に溶解し、この酸溶液を200℃のホットプレート上で加熱し、分析試料が酸溶液中に完全に溶解したことを確認してから室温まで冷却して、セイコーインスツルメント製ICP質量分析装置SPQ−8000を使用してAg合金膜中に含まれる各合金元素量を測定した。
成膜:
各例とも共通して、ポリカーボネート樹脂基板は、0.6mm厚×12cm径のものを用いた。スパッタリングに用いたターゲットは、表1 、2 に示す各Ag−X合金合金膜と同じ組成のものを溶製、製作して各々用いた。各Ag−X合金膜は平均膜厚が15nmに成膜した。このAg−X合金膜の上層に、Ag−X合金膜と接触する形で、市販のソニーケミカル社製: 紫外線硬化樹脂、型番:SK6500の層を50μm(ミクロン)積層したものを、耐光性および耐湿熱性の評価試験用試料に各々用いた。
Unaxis社製、商品名:Cube Starである、DCマグネトロンスパッタリング装置による各Ag-X合金膜成膜条件は、共通して、基板温度:22℃、Arガス圧:2mTorr、成膜パワー密度1W/cm2 、背圧:5 ×10-6Torr以下としし、成膜時間によって膜厚を制御した。
初期反射率(純Ag反射膜の反射率に対する割合:%)、耐光性と耐湿熱性の反射率(試験前後での反射率の変化:%)は、各々前記した具体的な条件、方法で測定した。
初期反射率:
表1、3、5、7の初期反射率評価では、半透過膜として平均膜厚が15nmのAg合金膜(反射膜)で、405nm波長の光照射で、初期反射率が20%以上を○、20%未満を×、650nm波長の光照射で、初期反射率が58%以上を○、58%未満を×として評価した。
表2、4、6、8の初期反射率評価では、全反射膜として平均膜厚が60nmと比較的厚いAg合金膜(反射膜)で、405nm波長の光照射で、初期反射率が77%以上を○、77%未満を×、650nm波長の光照射で、初期反射率が90%以上を○、90%未満を×として評価した。
耐光性:
表1、3の耐光性評価では、半透過膜として平均膜厚が15nmのAg合金膜(反射膜)の、405nm波長の光照射400時間後で、反射率変化が2%以内を◎、2%超から3.5%以下の範囲を○、3.5%を超えるものを×、として評価した。また、650nm波長の光照射400時間後で、反射率変化が1%以内を◎、1%超から1.5%以下の範囲を○、1.5%を超えるものを×、として各々評価した。
表2、4の耐光性評価では、全反射膜として平均膜厚が60nmのAg合金膜(反射膜)の、405nm波長の光照射400時間後で、反射率変化が1%以内を◎、1%超から3%以下の範囲を○、3%を超えるものを×、として評価した。また、650nm波長の光照射400時間後で、反射率変化が0.5%以内を◎、0.5%超から1%以下の範囲を○、1%を超えるものを×、として各々評価した。
耐湿熱性:
表5、7の耐湿熱性評価では、半透過膜として平均膜厚が15nmのAg合金膜(反射膜)の、前記湿熱環境下での200時間保持前後における405nm波長の光照射で、反射率変化が1%以内を◎、1%超から2%以下の範囲を○、2%を超えるものを×、として評価した。また、前記湿熱環境下での200時間保持前後における650nm波長の光照射で、反射率変化が0.5%以内を◎、0.5%超から1%以下の範囲を○、1%を超えるものを×、として各々評価した。
表6、8の耐湿熱性評価では、全反射膜として平均膜厚が60nmのAg合金膜(反射膜)の、前記湿熱環境下での200時間保持前後における405nm波長の光照射で、反射率変化が0.5%以内を◎、0.5%超から1%以下の範囲を○、1%を超えるものを×、として評価した。また、前記湿熱環境下での200時間保持前後における650nm波長の光照射で、反射率変化が0.3%以内を◎、0.3%超から0.5%以下の範囲を○、0.5%を超えるものを×、として各々評価した。
表1、2、5、6の発明例1〜28は、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niを、Biとともに適正量含有している、同じ反射膜組成の発明例である。表3、4、7、8の各比較例30〜43は、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niを含むが、含有量が下限を下回って少な過ぎる同じ反射膜組成の比較例か、含有量が上限を上回って多すぎる同じ反射膜組成の比較例である。表3、4、7、8の各比較例44、45は、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niを含まず、他の希土類元素であるNd、Yなどを含有量だけは適正量含む同じ反射膜組成の比較例である。また、表3、4、7、8の各比較例46は、前記特許文献5に相当する、Liを含有するAg反射膜例である。
これら表1、2の発明例1〜28と、表3、4の比較例29〜46との対比、表5、6の発明例1〜28と、表7、8の比較例29〜46との対比の通り、発明例は比較例に比して、耐環境性が優れている。即ち、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niを必須として適正含有量含む上記各発明例は、上記各比較例に比して、初期反射率が同等であっても、耐光性試験と耐湿熱性試験とにおける反射率変化が著しく低く、耐環境性が優れている。
上記発明例は、耐光性や耐湿熱性などは試験時間が200時間もの長期に亙っても、また、特に耐光性試験時間が400時間もの長期に亙っても、耐環境性が優れている。しかも、これらの結果は、平均膜厚が異なる15nmの半透過膜と平均膜厚が60nmの全反射膜の場合、あるいは波長が異なる405nmと650nm波長の光照射の場合でも、全て共通している。
したがって、これらの実施例の結果から、発明例1〜28のAg合金反射膜では、反射膜側のAgが隣接する紫外線硬化樹脂層側へ拡散、凝集する劣化モードが抑制され、耐湿熱性と耐光性とを合わせた耐環境性を向上させ、これら優れた耐環境性を長期に亙って維持できることが裏付けられる。また、本発明において、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niの特定元素を、反射膜の耐環境性の長期維持の観点から選別、選択することの意義も、その適正含有量範囲の意義を含めて裏付けられる。
これに対して、各比較例は、初期反射率か耐環境性かのいずれかが劣っている。比較例29の純Ag反射膜は、初期反射率は高いものの、耐環境性が劣っている。比較例30、32、34は、Bi含有量が少な過ぎ、耐環境性が劣っている。比較例31、33、35は、Bi含有量が多過ぎ、初期反射率や耐環境性が劣っている。比較例36、38、40、42は、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niの含有量が少な過ぎ、耐環境性が劣っている。比較例37、39、41、43は、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niの含有量が多過ぎ、初期反射率や耐環境性が劣っている。比較例44、45は、Biの他に、希土類元素としてGd、Ndを合わせて含有するため、初期反射率は高いものの、耐環境性が劣っている。Li
したがって、これらの実施例の結果から、本発明のAg合金反射膜では、反射膜側のAgが隣接する紫外線硬化樹脂層側へ拡散、凝集する劣化モードが抑制され、耐湿熱性と耐光性とを合わせた耐環境性を向上させ、これら優れた耐環境性を長期に亙って維持できることが裏付けられる。そして、本発明Ag合金反射膜における、Biと、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niとの含有の意義、そして、これら各元素乃至各同効元素の含有量あるいは合計含有量の下限と上限および範囲の意義が裏付けられる。
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本発明によれば、特に耐光性や耐湿潤性などの耐環境性が優れた、光情報記録媒体用Ag合金反射膜、このAg合金反射膜を有している光情報記録媒体およびこのAg合金反射膜形成用のスパッタリングターゲットを提供できる。したがって、このような耐環境性が要求される、反射膜、この反射膜を有している光情報記録媒体、及びこの反射膜の形成用のスパッタリングターゲットに好適、有用である。
再生専用型光ディスクの断面構造を示す模式図である。
符号の説明
1--ポリカーボネート基板、2--半透明反射膜(Ag合金)、3--樹脂層、
4--全反射膜(Ag合金)、5--ポリカーボネート基板

Claims (3)

  1. 光情報記録媒体に用いられるAg合金反射膜であって、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなることを特徴とする耐環境性に優れた光情報記録媒体用Ag合金反射膜。
  2. W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなるAg合金反射膜を有していることを特徴とする耐環境性に優れた光情報記録媒体。
  3. Ag合金反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットであって、W、Ti、V、Mn、Zr、Cr、Niから選ばれる一種または二種以上の元素を合計で0.1〜5原子%含有するとともに、Biを0.005〜1.5原子%含有し、残部がAgおよび不可避的不純物からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015118790A1 (ja) * 2014-02-10 2015-08-13 三菱電機株式会社 接合材、接合方法、および電力用半導体装置
JP2019502029A (ja) * 2015-11-10 2019-01-24 マテリオン アドバンスド マテリアルズ ジャーマニー ゲーエムベーハー 銀合金系スパッタリングターゲット

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100568392B1 (ko) * 2002-06-24 2006-04-05 가부시키가이샤 코베루코 카겐 은 합금 스퍼터링 타겟 및 그의 제조 방법
US7514037B2 (en) 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
JP3993530B2 (ja) * 2003-05-16 2007-10-17 株式会社神戸製鋼所 Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP2006294195A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Kobe Steel Ltd 光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット
JP2007335061A (ja) * 2006-05-16 2007-12-27 Sony Corp 光情報記録媒体とそのBCA(BurstCuttingArea)マーキング方法
WO2008026601A1 (en) * 2006-08-28 2008-03-06 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Ag ALLOY REFLECTION FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND SPUTTERING TARGET FOR Ag ALLOY REFLECTION FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM FORMATION
JP2008117470A (ja) * 2006-11-02 2008-05-22 Sony Corp 光情報記録媒体および光情報記録媒体の製造方法、BCA(BurstCuttingArea)マーキング方法
JP4540687B2 (ja) * 2007-04-13 2010-09-08 株式会社ソニー・ディスクアンドデジタルソリューションズ 読み出し専用の光情報記録媒体
JP4694543B2 (ja) * 2007-08-29 2011-06-08 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット、およびその製造方法
JP4833942B2 (ja) * 2007-08-29 2011-12-07 株式会社コベルコ科研 Ag基合金スパッタリングターゲット
JP2009076129A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Kobe Steel Ltd 読み出し専用の光情報記録媒体
US8399100B2 (en) * 2007-09-25 2013-03-19 Kobe Steel, Ltd. Reflection film, reflection film laminate, LED, organic EL display, and organic EL illuminating instrument
JP5046890B2 (ja) * 2007-11-29 2012-10-10 株式会社コベルコ科研 Ag系スパッタリングターゲット
JP2009228107A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Kobe Steel Ltd 圧粉磁心用鉄基軟磁性粉末およびその製造方法ならびに圧粉磁心
JP5331420B2 (ja) 2008-09-11 2013-10-30 株式会社神戸製鋼所 読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の半透過反射膜形成用スパッタリングターゲット
JP2010225572A (ja) * 2008-11-10 2010-10-07 Kobe Steel Ltd 有機elディスプレイ用の反射アノード電極および配線膜
US8530023B2 (en) 2009-04-14 2013-09-10 Kobe Steel, Ltd. Optical information recording medium and sputtering target for forming reflective film for optical information recording medium
JP5719179B2 (ja) * 2010-01-25 2015-05-13 株式会社神戸製鋼所 反射膜積層体

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004339585A (ja) * 2003-05-16 2004-12-02 Kobe Steel Ltd Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP2005048231A (ja) * 2003-07-28 2005-02-24 Ishifuku Metal Ind Co Ltd スパッタリングターゲット材

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0428032A (ja) 1990-05-24 1992-01-30 Daicel Chem Ind Ltd 光情報記録媒体
JPH04252440A (ja) 1991-01-28 1992-09-08 Hitachi Maxell Ltd 光情報記録媒体
JP2001126315A (ja) * 1999-10-26 2001-05-11 Victor Co Of Japan Ltd 光学的情報記録媒体
JP3365762B2 (ja) 2000-04-28 2003-01-14 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用の反射層または半透明反射層、光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲット
JP3655907B2 (ja) 2002-08-20 2005-06-02 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用反射膜と半透過反射膜、および光情報記録媒体
TWI368819B (en) * 2003-04-18 2012-07-21 Target Technology Co Llc Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium
JP4379602B2 (ja) * 2003-08-20 2009-12-09 三菱マテリアル株式会社 半透明反射膜または反射膜を構成層とする光記録媒体および前記反射膜の形成に用いられるAg合金スパッタリングターゲット
JP2005293646A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光記録媒体およびその製造方法
JP4320003B2 (ja) 2004-06-29 2009-08-26 株式会社神戸製鋼所 光情報記録媒体用半透過反射膜と反射膜、及び光情報記録媒体、並びにスパッタリングターゲット

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004339585A (ja) * 2003-05-16 2004-12-02 Kobe Steel Ltd Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP2005048231A (ja) * 2003-07-28 2005-02-24 Ishifuku Metal Ind Co Ltd スパッタリングターゲット材

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015118790A1 (ja) * 2014-02-10 2015-08-13 三菱電機株式会社 接合材、接合方法、および電力用半導体装置
JP5866075B2 (ja) * 2014-02-10 2016-02-17 三菱電機株式会社 接合材の製造方法、接合方法、および電力用半導体装置
US10043775B2 (en) 2014-02-10 2018-08-07 Mitsubishi Electric Corporation Bonding material, bonding method and semiconductor device for electric power
JP2019502029A (ja) * 2015-11-10 2019-01-24 マテリオン アドバンスド マテリアルズ ジャーマニー ゲーエムベーハー 銀合金系スパッタリングターゲット
JP7094220B2 (ja) 2015-11-10 2022-07-01 マテリオン アドバンスド マテリアルズ ジャーマニー ゲーエムベーハー 銀合金系スパッタリングターゲット

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