[go: up one dir, main page]

JP2008066365A - Method for forming light emitting device - Google Patents

Method for forming light emitting device Download PDF

Info

Publication number
JP2008066365A
JP2008066365A JP2006239914A JP2006239914A JP2008066365A JP 2008066365 A JP2008066365 A JP 2008066365A JP 2006239914 A JP2006239914 A JP 2006239914A JP 2006239914 A JP2006239914 A JP 2006239914A JP 2008066365 A JP2008066365 A JP 2008066365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light emitting
emitting element
emitting device
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006239914A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4835333B2 (en
Inventor
Yoshiki Sato
芳樹 里
Masatsugu Ichikawa
将嗣 市川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nichia Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Nichia Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nichia Chemical Industries Ltd filed Critical Nichia Chemical Industries Ltd
Priority to JP2006239914A priority Critical patent/JP4835333B2/en
Publication of JP2008066365A publication Critical patent/JP2008066365A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4835333B2 publication Critical patent/JP4835333B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Led Devices (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

【課題】 電気泳動沈着により、光取り出し効率を向上させた発光装置を形成する。
【解決手段】 本発明は、発光素子と、蛍光物質と、を備えた発光装置の形成方法であって、上記蛍光物質と透光性材料とを含む第一の溶液中に、上記発光素子を配置させる第一の工程と、上記第一の溶液中における電気泳動により、蛍光物質を上記発光素子に堆積させる第二の工程と、透光性材料を主材料として含む第二の溶液中に、上記蛍光物質が堆積された発光素子を配置させる第三の工程と、上記第二の溶液中における電気泳動により、上記蛍光物質の堆積物に、上記第二の溶液に含まれる透光性材料を含浸させる第四の工程と、を有することを特徴とする。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To form a light emitting device with improved light extraction efficiency by electrophoretic deposition.
The present invention provides a method for forming a light emitting device including a light emitting element and a fluorescent material, wherein the light emitting element is placed in a first solution containing the fluorescent material and a light transmitting material. A first step of disposing, a second step of depositing a fluorescent substance on the light emitting element by electrophoresis in the first solution, and a second solution containing a translucent material as a main material. A third step of arranging the light emitting element on which the fluorescent material is deposited and electrophoresis in the second solution, the translucent material contained in the second solution is added to the deposit of the fluorescent material. And a fourth step of impregnation.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、発光素子と、その発光素子からの光によって励起されて発光する蛍光物質と、を備えた発光装置およびその形成方法に関する。   The present invention relates to a light emitting device including a light emitting element and a fluorescent substance that emits light when excited by light from the light emitting element, and a method for forming the same.

近年、窒化ガリウム系化合物半導体を用いて構成された発光素子チップと蛍光物質とを組み合わせることにより、白色系の混色光を発光する発光装置が開発されている。この発光装置は、発光素子から出力される青色系の光の一部を蛍光物質により波長変換して、その波長変換された黄色系の光と発光素子チップからの青色系の光との混色により、白色系の光を発光させるものである。   In recent years, a light-emitting device that emits white-color mixed light by combining a light-emitting element chip configured using a gallium nitride-based compound semiconductor and a fluorescent material has been developed. In this light emitting device, a part of blue light output from the light emitting element is wavelength-converted by a fluorescent material, and the wavelength-converted yellow light and blue light from the light emitting element chip are mixed. , White light is emitted.

例えば、下記特許文献1(特開2004−88013号公報)に記載の発光装置は、粒子状蛍光体を含む透光性材料の溶液にて形成させた蛍光体層を有する。具体的には、発光素子の上に、透光性材料を含む粒子状蛍光体の溶液を滴下(ポッティイング)した後、その透光性材料を硬化させることにより、粒子状蛍光体が、透光性材料を結着材として固定されてなる蛍光体層が形成される。このようにして配置された蛍光体層には、粒子状蛍光体や透光性材料が存在しない空洞が生じることがある。このような空洞は、発光素子からの光あるいは蛍光体からの光を減衰させる。そのため、上記発光装置は、蛍光体層内に散在する空洞の部分に、上記透光性材料と実質的に同じ材料が含浸されて形成された発光装置とされている。これにより、蛍光体層内に散在する空洞の部分が無くなり、蛍光体層において光を損失させることなく、光取りだし効率を向上させた発光装置とすることができる。   For example, a light emitting device described in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-88013) includes a phosphor layer formed of a solution of a light-transmitting material including a particulate phosphor. Specifically, a particulate phosphor solution containing a light-transmitting material is dropped on the light-emitting element (potting), and then the light-transmitting material is cured, so that the particulate phosphor is transparent. A phosphor layer formed by fixing the light-sensitive material as a binder is formed. In the phosphor layer arranged in this manner, there may be a cavity in which no particulate phosphor or translucent material exists. Such a cavity attenuates light from the light emitting element or light from the phosphor. Therefore, the light-emitting device is a light-emitting device formed by impregnating substantially the same material as the light-transmitting material in the hollow portions scattered in the phosphor layer. As a result, there are no hollow portions scattered in the phosphor layer, and a light emitting device with improved light extraction efficiency can be obtained without losing light in the phosphor layer.

また、発光素子と蛍光物質とを備えた発光装置において、蛍光物質は、発光素子からの光により効率よく励起されるようにするため、発光素子の表面を被覆するように配置される。さらに、発光装置からの混色光が各方位において均一な色度にて観測されるようにするため、蛍光物質は、発光素子の発光面の各方位にできるだけ同じ量だけ配置される必要がある。   Further, in a light emitting device including a light emitting element and a fluorescent material, the fluorescent material is disposed so as to cover the surface of the light emitting element in order to be efficiently excited by light from the light emitting element. Further, in order to allow the mixed color light from the light emitting device to be observed with uniform chromaticity in each direction, the fluorescent material needs to be arranged in the same amount as much as possible in each direction of the light emitting surface of the light emitting element.

そこで、下記特許文献2(特開2003−69086号公報)に開示される発光装置は、支持体にフリップチップ実装された発光素子の透光性基板の側に、蛍光物質が含有された略均一な層厚の蛍光体層を有する。この蛍光体層は、電気泳動沈着により、発光素子の表面に蛍光物質および該蛍光物質を固着させる結着材を堆積させることにより形成される。以下、本特許文献に開示される蛍光体層の形成方法の概略を説明する。   Therefore, the light emitting device disclosed in the following Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-69086) is substantially uniform in which a fluorescent material is contained on the side of a light-transmitting substrate of a light emitting element flip-chip mounted on a support. It has a phosphor layer with a different thickness. This phosphor layer is formed by depositing a fluorescent substance and a binder for fixing the fluorescent substance on the surface of the light emitting element by electrophoretic deposition. Hereinafter, an outline of a method for forming a phosphor layer disclosed in this patent document will be described.

まず、支持体にフリップチップ実装された発光素子を被覆する導電膜を形成する。なお、この導電膜は、発光素子の表面が既に導電性であるときには、発光素子自体に電圧を印加すれば足りるため、必要ではない。次に、予め帯電された蛍光物質および結着材(例えば、樹脂)を含む電解液に、導電膜にて被覆された発光素子を浸漬させる。さらに、上記蛍光物質の帯電と異なる極性の電圧を導電膜に印加する。これにより、蛍光物質および結着材は、導電膜の方向に電気泳動されて発光素子の上に堆積する。最後に、発光素子に堆積した蛍光物質および結着材を乾燥させて蛍光体層とする。   First, a conductive film that covers a light-emitting element flip-chip mounted on a support is formed. Note that this conductive film is not necessary when a voltage is applied to the light emitting element itself when the surface of the light emitting element is already conductive. Next, the light-emitting element covered with the conductive film is immersed in an electrolytic solution containing a fluorescent material and a binder (for example, resin) that are charged in advance. Further, a voltage having a polarity different from the charging of the fluorescent material is applied to the conductive film. Accordingly, the fluorescent material and the binder are electrophoresed in the direction of the conductive film and are deposited on the light emitting element. Finally, the fluorescent material and the binder deposited on the light emitting element are dried to form a phosphor layer.

特開2004−88013号公報。Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-88013.

特開2003−69086号公報。JP2003-69086A.

しかしながら、特開2004−88013に記載される含浸の方法は、ポッティングなど、含浸される材料の自重による沈降および浸透を利用した方法によるため、多孔質な蛍光体層の部分の隅々まで浸透しにくい。特に、電気泳動沈着により形成された蛍光体層は、比較的粒子径が小さい蛍光体が密集して堆積されており、従来のポッティングなどの形成方法によれば、含浸させる材料が蛍光体層の隅々まで浸透しにくいという問題がある。その結果、蛍光体層内に空洞が生じてしまい、光取りだし効率が低下した発光装置が形成されてしまう。   However, the impregnation method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-88013 is based on a method that uses sedimentation and permeation due to the weight of the material to be impregnated, such as potting. Hateful. In particular, the phosphor layer formed by electrophoretic deposition is densely deposited with phosphors having a relatively small particle diameter. According to a conventional method such as potting, the material to be impregnated is the phosphor layer. There is a problem that it is difficult to penetrate to every corner. As a result, a cavity is generated in the phosphor layer, and a light emitting device with reduced light extraction efficiency is formed.

そこで、本発明は、発光装置の光取り出し効率を低下させることなく、電気泳動沈着により発光装置を形成するための方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a method for forming a light emitting device by electrophoretic deposition without reducing the light extraction efficiency of the light emitting device.

以上の目的を達成するために本発明に係る発光装置の形成方法は、蛍光物質と透光性材料とを含む第一の溶液中における電気泳動により、蛍光物質を上記発光素子に堆積させる第一の工程と、透光性材料を主材料として含む第二の溶液中における電気泳動により、上記蛍光物質の堆積物に、上記第二の溶液に含まれる透光性材料を含浸させる第二の工程と、を有する。   In order to achieve the above object, a method for forming a light emitting device according to the present invention is a first method in which a fluorescent substance is deposited on the light emitting element by electrophoresis in a first solution containing the fluorescent substance and a translucent material. And the second step of impregnating the fluorescent material deposit with the translucent material contained in the second solution by electrophoresis in a second solution containing the translucent material as a main material. And having.

上記第一の溶液または上記第二の溶液に含まれる透光性材料は、Al、Sn、Si、Ti、YあるいはPbから選択される少なくとも一種の元素を含む金属アルコキシドを含む材料であることが好ましい。   The translucent material contained in the first solution or the second solution is a material containing a metal alkoxide containing at least one element selected from Al, Sn, Si, Ti, Y, or Pb. preferable.

上記第一の溶液および上記第二の溶液にそれぞれ含まれる透光性材料の屈折率は、略同じであることが好ましい。   It is preferable that the refractive indexes of the translucent materials respectively contained in the first solution and the second solution are substantially the same.

上記蛍光物質の平均粒径が1μmから10μmであり、上記透光性材料の平均粒径が1nmから200nmであることが好ましい。   It is preferable that the fluorescent substance has an average particle diameter of 1 μm to 10 μm and the translucent material has an average particle diameter of 1 nm to 200 nm.

上記蛍光物質の屈折率と、上記透光性材料の屈折率が略同じであることが好ましい。   It is preferable that the refractive index of the fluorescent material and the refractive index of the translucent material are substantially the same.

本発明は、電気泳動沈着により形成された蛍光体層からの光取り出し効率を向上させた発光装置を容易に形成させることができる。   The present invention can easily form a light emitting device with improved light extraction efficiency from a phosphor layer formed by electrophoretic deposition.

本発明を実施するための最良の形態を、以下に図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための発光装置の形成方法を例示するものであって、本発明は発光装置の形成方法を以下に限定するものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the modes described below exemplify a method for forming a light emitting device for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention does not limit the method for forming the light emitting device to the following.

発光素子と、その発光素子と異なる波長を発光する蛍光物質を含有する蛍光体層と、上記発光素子を配置する支持体と、を備えた発光装置の形成方法について、光取り出し効率を向上させた発光装置を容易に得るため、本発明者らは種々の検討を行った。そして、本発明に係る発光装置の形成方法は、蛍光物質と透光性材料とを含む第一の溶液中に、発光素子を配置させる工程と、上記第一の溶液中における電気泳動により、蛍光物質を上記発光素子に堆積させる工程と、透光性材料を主材料として含む第二の溶液中に、上記蛍光物質が堆積された発光素子を配置させる工程と、上記第二の溶液中における電気泳動により、上記蛍光物質の堆積物に、上記第二の溶液に含まれる透光性材料を含浸させる工程と、を有する。電気泳動により含浸することにより、光取り出し効率を向上させた発光装置を形成することが容易にできる。   Light extraction efficiency has been improved for a method for forming a light-emitting device including a light-emitting element, a phosphor layer containing a phosphor that emits light having a wavelength different from that of the light-emitting element, and a support on which the light-emitting element is disposed. In order to easily obtain a light emitting device, the present inventors have made various studies. The method for forming a light emitting device according to the present invention includes a step of arranging a light emitting element in a first solution containing a fluorescent substance and a light transmissive material, and electrophoresis in the first solution. A step of depositing a substance on the light emitting element, a step of arranging the light emitting element on which the fluorescent material is deposited in a second solution containing a light-transmitting material as a main material, and an electricity in the second solution. Impregnating the fluorescent substance deposit with the translucent material contained in the second solution by electrophoresis. By impregnation by electrophoresis, a light emitting device with improved light extraction efficiency can be easily formed.

すなわち、本発明にかかる発光装置の形成方法は、透光性材料とともに蛍光物質を発光素子に堆積させた後、透光性材料を主な材料とし、蛍光物質を実質的に含まない電解溶液中での電気泳動により、透光性材料を蛍光物質の堆積物に含浸させる工程を有することを特に重要な構成とする。ここで、「蛍光物質が実質的に含まれない電解溶液」とは、蛍光物質を含有させることなく調整された電解液の他、第二の電解液に含まれる透光性材料の電気泳動沈着に影響を及ぼさない程度に蛍光物質が極微量に含まれた電解液を含むものとする。   That is, in the method for forming a light-emitting device according to the present invention, after a fluorescent material is deposited on a light-emitting element together with a light-transmitting material, the light-transmitting material is a main material and the electrolyte solution is substantially free of the fluorescent material. It is a particularly important structure to have a step of impregnating a light-transmitting material with a deposit of a fluorescent substance by electrophoresis in the above. Here, “electrolyte solution substantially free of fluorescent substance” means an electrophoretic deposition of a translucent material contained in the second electrolyte solution in addition to an electrolyte solution prepared without containing a fluorescent substance. The electrolyte solution contains a very small amount of fluorescent material to the extent that it does not affect

発光素子の表面のうち、蛍光物質を堆積させる面が導電性の材料とされているときは、発光素子自体に電圧を印加することにより、帯電された蛍光物質を電気泳動させて発光素子に堆積させることができる。また、サファイアなどの透光性基板に半導体を積層させてなる発光素子の非導電性の部位(例えば、フリップチップ実装された透光性基板の表面)に蛍光物質を堆積させるときには、発光素子の非導電性の部位を導電部材にて被覆した後、その導電部材に電圧を印加することにより、帯電された蛍光物質を電気泳動させて発光素子上に堆積させることができる。   When the surface of the light emitting element on which the fluorescent material is deposited is made of a conductive material, the charged fluorescent substance is electrophoresed and deposited on the light emitting element by applying a voltage to the light emitting element itself. Can be made. In addition, when a fluorescent material is deposited on a non-conductive portion of a light-emitting element in which a semiconductor is stacked on a light-transmitting substrate such as sapphire (for example, the surface of a light-transmitting substrate mounted with flip chip), After the non-conductive portion is covered with the conductive member, a voltage is applied to the conductive member, whereby the charged fluorescent substance can be electrophoresed and deposited on the light emitting element.

本形態の発光装置の形成方法において、発光素子を導電部材にて被覆する工程を有するとき、非透光性の導電部材を、透光性を有する部材に変換させる工程を有することが好ましい。例えば、電気泳動沈着の電解液に導電部材の材料を溶解させる材料を含有させることにより、導電部材を溶解させてイオン化させたり、導電部材を加熱することにより、発光素子の光に対して透光性を有する酸化物にしたりする工程を有することが好ましい。なお、導電部材が透光性であるとき、例えば、透光性導電部材の一種であるITO(インジウムと錫の複合酸化物)であるときには、このような工程は必要とされない。   In the method for forming a light-emitting device of this embodiment, when the light-emitting element is covered with a conductive member, it is preferable to include a step of converting a non-light-transmitting conductive member into a light-transmitting member. For example, by containing a material that dissolves the material of the conductive member in the electrolyte solution for electrophoresis deposition, the conductive member is dissolved and ionized, or the conductive member is heated to transmit light of the light emitting element. It is preferable to have the process of making it into the oxide which has property. When the conductive member is translucent, for example, when it is ITO (a composite oxide of indium and tin) which is a kind of translucent conductive member, such a step is not required.

非透光性の導電部材を、透光性を有する部材に変換させる工程を有することにより、非透光性の導電部材による光取り出し効率損失のない発光装置とすることができる。また、電気泳動沈着の工程の後、導電部材は、その導電性が著しく低下しているため、発光素子を駆動させたときに、電流が漏出することなく、信頼性の高い発光装置とすることができる。   By including the step of converting the non-light-transmitting conductive member into the light-transmitting member, a light-emitting device without loss of light extraction efficiency due to the non-light-transmitting conductive member can be obtained. In addition, after the electrophoretic deposition step, the conductive member has a significantly reduced conductivity. Therefore, when the light emitting element is driven, a current is not leaked and a highly reliable light emitting device is obtained. Can do.

なお、導電部材の上に堆積される蛍光物質は、発光素子からの光が照射される配置にあるものをいい、導電部材の表面に直に接して配置されるものだけでなく、導電部材あるいは発光素子と蛍光物質との間に透光性の他の部材などを介して配置されるものを含むものとする。また、蛍光物質は、蛍光物質自体が帯電されているか、極性のある透光性材料など、電解液中に含まれる他の帯電性材料により、電圧が印加される工程までに帯電されていればよい。   Note that the fluorescent material deposited on the conductive member is one that is disposed so as to be irradiated with light from the light emitting element, and is not limited to one that is disposed in direct contact with the surface of the conductive member. It shall include what is arrange | positioned through the other member etc. of translucency between a light emitting element and fluorescent substance. In addition, the fluorescent substance is charged by the process in which the voltage is applied by the fluorescent substance itself or by other chargeable materials contained in the electrolytic solution, such as a polar translucent material. Good.

図1は、本形態における発光装置の模式的な断面図である。本形態の発光装置は、支持体にフリップチップ実装された発光素子107と、その発光素子の発光観測面側を被覆する蛍光体層102と、備えた発光装置100である。なお、本形態の発光素子の実装形態は、フリップチップ実装に限定されることなく、発光素子の電極を発光観測面方向(支持体と反対側)に向けて実装する形態を含む。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device in this embodiment. The light-emitting device of this embodiment is a light-emitting device 100 including a light-emitting element 107 flip-chip mounted on a support, and a phosphor layer 102 that covers the light-emitting observation surface side of the light-emitting element. Note that the mounting mode of the light-emitting element according to the present embodiment is not limited to flip-chip mounting, but includes a mode in which the electrodes of the light-emitting element are mounted facing the light emission observation surface direction (the side opposite to the support).

図2から図7は、本形態の発光装置の製造方法における各工程を示す模式的な断面図である。以下、図面を参照しながら本形態における発光装置の製造方法を説明する。本形態の発光装置の製造方法は、少なくとも以下の工程1から工程5を有することを特徴とする。蛍光体層の形成方法として電気泳動沈着を利用すると、発光素子の周囲に蛍光体の分布状態が良好な蛍光体層を形成することができる。さらに、本形態における含浸の方法により、光取り出し効率を低下させることのない発光装置を容易に形成させることができる。   2 to 7 are schematic cross-sectional views showing respective steps in the method for manufacturing the light emitting device of the present embodiment. Hereinafter, a method for manufacturing a light-emitting device according to this embodiment will be described with reference to the drawings. The method for manufacturing a light-emitting device of this embodiment includes at least the following steps 1 to 5. When electrophoretic deposition is used as a method for forming the phosphor layer, a phosphor layer with a favorable phosphor distribution state can be formed around the light emitting element. Furthermore, by the impregnation method in this embodiment, a light-emitting device that does not reduce light extraction efficiency can be easily formed.

工程1.まず、有機金属材料のゾル溶液に蛍光物質を含有させた第一の電解液101aを調整する。これにより、蛍光物質を帯電させる。ここで、本形態における有機金属材料のゾルは、電気泳動沈着の後、乾燥させてゲル化させることにより蛍光物質の結着材ともなる。したがって、別工程にて蛍光物質を帯電させる必要はなく、結着材の材料自体で蛍光物質を容易に帯電させることができるため、作業性よく発光装置を製造することができる。   Step 1. First, a first electrolytic solution 101a in which a fluorescent material is contained in a sol solution of an organometallic material is prepared. Thereby, the fluorescent material is charged. Here, the sol of the organometallic material in this embodiment also becomes a binder for the fluorescent substance by drying and gelling after electrophoresis deposition. Therefore, it is not necessary to charge the fluorescent substance in a separate process, and the fluorescent substance can be easily charged with the binder material itself, so that the light emitting device can be manufactured with good workability.

本形態の電解液は、後述する導電部材を溶解させる物質を含むことが好ましい。なお、別の形態にあっては、有機金属を材料とするゾルの溶液そのものが導電部材を溶解させるものであってもよい。本形態の電解液は、例えば、導電部材をアルミニウムとするとき、有機金属を材料とするゾルを、アルミニウムアルコレートを材料とするアルミナゾルとしたり、電解液にアルミニウムを溶解させる酸やアルカリ、例えば、アルカリ土類金属のイオン(Mg2+など)を含んだ硝酸を含有させたりすることができる。 It is preferable that the electrolytic solution of this embodiment includes a substance that dissolves a conductive member described later. In another form, the sol solution itself made of an organic metal may dissolve the conductive member. For example, when the conductive member is made of aluminum, the electrolytic solution of the present embodiment is an sol made of an organic metal as an alumina sol made of an aluminum alcoholate, or an acid or alkali that dissolves aluminum in the electrolytic solution, for example, Nitric acid containing alkaline earth metal ions (such as Mg 2+ ) can be included.

本形態における透光性材料として好適に利用される金属アルコキシドは、Al、Sn、Si、Ti、Y、Pbあるいはアルカリ土類金属から選択される元素を構成元素として含む有機金属材料である。このような金属アルコキシドを電解液に含むことにより、電解液に水分を含む従来の形成方法と比較して、水素ガスなどの気泡を発生させることなく、光学特性を劣化させることのない良好な形状の蛍光体層を形成させることができる。また、このような金属アルコキシドは、加水分解などにより、ゾル溶液となったり、最終的にゲル化したりし易い。そのため、上記金属の群から選択される1種以上の元素を含む酸化物あるいは水酸化物からなる結着材により蛍光体が固着されてなる蛍光体層を形成させることが容易にできる。   The metal alkoxide suitably used as the translucent material in this embodiment is an organometallic material containing an element selected from Al, Sn, Si, Ti, Y, Pb, or alkaline earth metal as a constituent element. By including such a metal alkoxide in the electrolytic solution, it has a good shape without generating bubbles such as hydrogen gas and without deteriorating optical properties, compared to conventional forming methods in which the electrolytic solution contains moisture. The phosphor layer can be formed. Further, such metal alkoxide is likely to become a sol solution or finally gel by hydrolysis or the like. Therefore, it is possible to easily form a phosphor layer in which the phosphor is fixed by a binder composed of an oxide or hydroxide containing one or more elements selected from the metal group.

以下、電解液に含まれる具体的材料として、アルミニウムアルコレートを例にとり説明する。アルミニウムアルコレート、あるいはアルミニウムアルコキサイドと有機溶剤とを所定の割合で混合してなるアルミナゾル中に蛍光体を分散させた混合液を電解液とする。さらに、電解液は、例えば、イソプロピルアルコールを母液とする溶液に、有機溶剤としてアセトン、有機金属材料としてアルミナゾルおよび蛍光物質を含有させて混合溶液とすることが好ましい。   Hereinafter, aluminum alcoholate will be described as an example of a specific material contained in the electrolytic solution. A mixed liquid in which a phosphor is dispersed in an alumina sol obtained by mixing aluminum alcoholate or aluminum alkoxide and an organic solvent in a predetermined ratio is used as an electrolytic solution. Further, the electrolytic solution is preferably a mixed solution containing, for example, acetone as an organic solvent and alumina sol and a fluorescent substance as an organic metal material in a solution containing isopropyl alcohol as a mother liquid.

アルミニウムアルコレート(あるいはアルミニウムアルコキサイド)の一種であるアルミニウムイソプロポキサイド、アルミニウムエトキサイドあるいはアルミニウムブトキサイドは、常温で無色透明の液体であり、水酸化アルミニウムを生成し、その後、乾燥させると酸化アルミニウムを生成する。   Aluminum isopropoxide, aluminum ethoxide, or aluminum butoxide, which is a kind of aluminum alcoholate (or aluminum alkoxide), is a colorless and transparent liquid at room temperature, and produces aluminum hydroxide. Produces aluminum oxide.

アルミニウムイソプロポキサイドを含むゾル溶液に、蛍光体を含有させて電解液とし、その電解液中で蛍光体を帯電させることができる。さらに、その電解液中で電気泳動沈着させた後、ゲル化により生成するアルミニウムの酸化物や水酸化物を結着材として蛍光体を発光素子に固着させることができる。このゲル化は、加熱および乾燥により促進させることができる。   A phosphor can be contained in a sol solution containing aluminum isopropoxide to form an electrolytic solution, and the phosphor can be charged in the electrolytic solution. Furthermore, after electrophoretic deposition in the electrolytic solution, the phosphor can be fixed to the light-emitting element using an aluminum oxide or hydroxide generated by gelation as a binder. This gelation can be promoted by heating and drying.

次に、発光素子を所定の厚みにて被覆する導電部材を形成する。ここで、導電部材は、帯電された蛍光物質を発光素子の側に電気泳動させるために設けられるものである。したがって、発光素子を導電部材で被覆する形態は、導電部材が発光素子に直に接して配置される形態に限定されることなく、導電部材と発光素子との間に、他の部材(例えば、透光性の樹脂やガラスなど)を介して導電部材が発光素子に配置される形態を含むものとする。   Next, a conductive member that covers the light emitting element with a predetermined thickness is formed. Here, the conductive member is provided to cause the charged fluorescent material to be electrophoresed on the light emitting element side. Therefore, the form in which the light emitting element is covered with the conductive member is not limited to the form in which the conductive member is disposed in direct contact with the light emitting element, and other members (for example, for example, between the conductive member and the light emitting element) It is assumed that the conductive member is disposed in the light-emitting element through a light-transmitting resin or glass.

導電部材の厚みは、電気泳動沈着の開始から終了まで導電性を有し、且つ電気泳動沈着の工程後は、透光性を有する部材に変換されるように、電解液に含有されて導電部材を溶解させる物質の量、電気泳動沈着の工程における電圧、その電圧の印加時間などを考慮して決定される。   The thickness of the conductive member is contained in the electrolytic solution so that the conductive member has conductivity from the start to the end of the electrophoretic deposition, and is converted into a translucent member after the electrophoretic deposition step. The amount is determined in consideration of the amount of the substance that dissolves, the voltage in the electrophoresis deposition step, the application time of the voltage, and the like.

図2に示されるように、本形態における発光素子は、予め、その基板112側が発光観測面となるように、支持体103に対してフリップチップ実装されている。すなわち、発光素子は、その電極を、金、錫などの金属材料からなるバンプ106を介して支持体に設けられた導体配線に対向させ、荷重、超音波および熱を加えることにより溶着させてある。   As shown in FIG. 2, the light-emitting element in this embodiment is flip-chip mounted on the support 103 in advance so that the substrate 112 side becomes a light emission observation surface. That is, the light emitting element is welded by applying a load, an ultrasonic wave, and heat so that the electrode faces a conductor wiring provided on the support through a bump 106 made of a metal material such as gold or tin. .

発光素子を支持体に配置させた後、図3に示されるように、支持体103の導体配線104の上など、必要に応じて、発光素子107周辺の各部位を絶縁部材105にてマスクする。絶縁部材105の材料は、例えば、二酸化ケイ素からなる無機材料や、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂のような樹脂材料とすることが好ましい。   After the light emitting element is arranged on the support, as shown in FIG. 3, each part around the light emitting element 107 is masked with an insulating member 105 as necessary, such as on the conductor wiring 104 of the support 103. . The material of the insulating member 105 is preferably, for example, an inorganic material made of silicon dioxide, or a resin material such as a silicone resin or an epoxy resin.

蛍光物質を配置する所定の部位が露出されるようなマスクを施した後、図4に示されるように、導電部材108にて発光素子107の側面および上面を被覆する。本形態における導電部材108の配置方法として、例えば、蒸着法、スパッタリング、スクリーン印刷、インクジェット塗布、スプレー塗布あるいはそれらを組み合わせた方法を挙げることができる。   After applying a mask that exposes a predetermined portion where the fluorescent material is disposed, the conductive member 108 covers the side surface and the upper surface of the light emitting element 107 as shown in FIG. As an arrangement method of the conductive member 108 in this embodiment, for example, a vapor deposition method, sputtering, screen printing, inkjet coating, spray coating, or a combination thereof can be given.

導電部材の材料は、電解液に可溶な金属であり、且つ発光素子を形成している半導体の材料と接触抵抗が良好な金属、または発光素子を形成する半導体基板と密着性が良好な金属とすることが好ましい。このような導電部材の材料として、例えば、窒化物半導体と接触抵抗が良好なAl(アルミニウム)、Ti(チタン)あるいはW(タングステン)から選択された少なくとも一種を含む金属材料または合金が挙げられる。このように、発光素子からの光に対して透光性を有するものに変換することができる材料とすることにより、発光素子からの光が損失することなく、光取り出し効率の高い発光装置とすることができる。   The material of the conductive member is a metal that is soluble in an electrolytic solution and has good contact resistance with the semiconductor material forming the light emitting element, or metal with good adhesion to the semiconductor substrate that forms the light emitting element. It is preferable that As a material of such a conductive member, for example, a metal material or an alloy including at least one selected from Al (aluminum), Ti (titanium), and W (tungsten), which has good contact resistance with a nitride semiconductor, can be given. In this manner, by using a material that can convert light from a light-emitting element into a material having a light-transmitting property, a light-emitting device with high light extraction efficiency can be obtained without loss of light from the light-emitting element. be able to.

工程2.発光素子を被覆する導電部材108を第一の電解液101a中に配置させる。ここで、電解液中に配置させる部材は、少なくとも導電部材108で十分であるが、導電部材108に加え、発光素子107およびその発光素子107を搭載させた支持体103を電解液中に配置させてもよい。本形態においては、図6に示されるように、導電部材108、発光素子107およびその発光素子を搭載させた支持体103を第一の電解液101aに浸漬させる。なお、導電部材108は、外部の電源と電気的に接続させてある。   Step 2. A conductive member 108 covering the light emitting element is disposed in the first electrolytic solution 101a. Here, at least the conductive member 108 is sufficient as a member to be disposed in the electrolytic solution. In addition to the conductive member 108, the light emitting element 107 and the support 103 on which the light emitting element 107 is mounted are disposed in the electrolytic solution. May be. In this embodiment, as shown in FIG. 6, the conductive member 108, the light emitting element 107, and the support 103 on which the light emitting element is mounted are immersed in the first electrolytic solution 101a. Note that the conductive member 108 is electrically connected to an external power source.

工程3.蛍光物質の帯電と異なる極性の電圧を導電部材108に印加する。印加する電圧の大きさや電圧を印加する時間は、所望の色度の光を得るための蛍光体層の層厚や、作業性を考慮して調整される。本工程により、蛍光物質は、第一の電解液101aの中を電気泳動して、発光素子の上に堆積される。また、導電部材108は、電解液に導電部材を溶解させる成分が含有されているとき、その成分により徐々に溶解されていく。   Step 3. A voltage having a polarity different from that of charging of the fluorescent material is applied to the conductive member 108. The magnitude of the voltage to be applied and the time for applying the voltage are adjusted in consideration of the thickness of the phosphor layer for obtaining light of desired chromaticity and workability. Through this step, the fluorescent substance is electrophoresed in the first electrolytic solution 101a and deposited on the light emitting element. Further, when the conductive member 108 contains a component that dissolves the conductive member in the electrolytic solution, the conductive member 108 is gradually dissolved by the component.

具体的には、図5に示されるように、蛍光物質を含有させた第一の電解液101a中に、導電部材108により被覆された発光素子107を浸漬させた後、導電部材108に所定の電圧を印加する。ここで、支持体に施された導体配線を介して、それに電気的に接続された導電部材108に電圧を印加することが好ましい。これにより、導電部材108に電圧を印加することが容易にでき、帯電された蛍光物質は、導電部材108の方向に電気泳動する。そして、蛍光物質は、導電部材108の表面に、金属アルコキシドのゾルと共に堆積する。   Specifically, as shown in FIG. 5, after the light emitting element 107 covered with the conductive member 108 is immersed in the first electrolytic solution 101 a containing a fluorescent material, Apply voltage. Here, it is preferable to apply a voltage to the conductive member 108 electrically connected thereto via a conductor wiring provided on the support. Accordingly, it is possible to easily apply a voltage to the conductive member 108, and the charged fluorescent substance is electrophoresed in the direction of the conductive member 108. The fluorescent material is deposited on the surface of the conductive member 108 together with the metal alkoxide sol.

なお、導電部材108の上方に、その導電部材108に印加された電圧と異なる極性(すなわち、蛍光物質の帯電と同じ極性)の電極114を、電解液101aまたは電解液101b中に設ける。これにより、帯電された蛍光物質を電気泳動させることができる。   Note that an electrode 114 having a polarity different from the voltage applied to the conductive member 108 (that is, the same polarity as the charging of the fluorescent material) is provided above the conductive member 108 in the electrolytic solution 101a or the electrolytic solution 101b. Thereby, the charged fluorescent substance can be electrophoresed.

工程4.有機金属材料を主な材料とし、蛍光物質を実質的に含有しない第二の電解液101bを調整する。すなわち、有機金属材料のゾル溶液に蛍光物質を含有させない他は、上記第一の電解液101aと同じ有機金属材料を含む第二の電解液101bを調整する。そして、上記工程2から3と同様にして、図6に示されるように、第二の電解液101b中における電気泳動沈着をする。なお、導電部材に印加される電圧は、有機金属材料のゾル粒子の電荷と異なる電荷とする。これにより、上記第3の工程において堆積された蛍光物質の堆積層の空洞に第二の電解液101bに含まれる材料が含浸される。   Step 4. The second electrolyte solution 101b which contains an organic metal material as a main material and does not substantially contain a fluorescent material is prepared. That is, the second electrolyte solution 101b containing the same organometallic material as the first electrolyte solution 101a is prepared except that the fluorescent material is not contained in the sol solution of the organometallic material. Then, in the same manner as in the above steps 2 to 3, as shown in FIG. 6, electrophoretic deposition in the second electrolytic solution 101b is performed. Note that the voltage applied to the conductive member is different from the charge of the sol particles of the organometallic material. As a result, the material contained in the second electrolytic solution 101b is impregnated into the cavity of the phosphor layer deposited in the third step.

上記蛍光物質の平均粒径が1μmから10μmであるとき、上記透光性材料からなる粒子の平均粒径は、上記蛍光物質の平均粒径よりも小さい1nmから200nmであることが好ましい。このように、透光性材料の粒径を調整することにより、電気泳動により形成された蛍光物質の堆積物内の空洞に透光性材料を容易に含浸させることができるからである。   When the average particle diameter of the fluorescent material is 1 μm to 10 μm, the average particle diameter of the particles made of the translucent material is preferably 1 nm to 200 nm, which is smaller than the average particle diameter of the fluorescent material. Thus, by adjusting the particle size of the light-transmitting material, the light-transmitting material can be easily impregnated into the cavity in the fluorescent substance deposit formed by electrophoresis.

上記第一の電解液および上記第二の電解液にそれぞれ含まれる透光性材料の屈折率は、略同じであることが好ましい。さらに、上記蛍光物質の屈折率と、上記透光性材料の屈折率が略同じであることが好ましい。このように、各材料の屈折率差を小さくすることにより、全反射を抑制して蛍光体層からの光取りだし効率を向上させることができるからである。   It is preferable that the refractive indexes of the translucent materials contained in the first electrolytic solution and the second electrolytic solution are substantially the same. Furthermore, it is preferable that the refractive index of the fluorescent material and the refractive index of the translucent material are substantially the same. This is because, by reducing the difference in refractive index between the materials, total reflection can be suppressed and the light extraction efficiency from the phosphor layer can be improved.

工程5.上記工程4の後、第二の電解液から発光素子を取り出して、発光素子を被覆する導電部材あるいはその導電部材への堆積物を自然乾燥あるいは加熱する。高温の水蒸気を含む条件下で加熱することにより、電気泳動沈着後も残存している導電部材の透光性部材への変換を促進させることができる。また、堆積物に含まれる余分な溶媒を除去し、ゾル溶液のゲル化を促進させることにより蛍光体が結着され、発光素子に蛍光体層を形成することができる。なお、本工程後、導電部材は、発光素子の光を透過させれば、そのような分布状態あるいは膜厚で、ある程度残存していてもよい。   Step 5. After the step 4, the light emitting element is taken out from the second electrolytic solution, and the conductive member covering the light emitting element or the deposit on the conductive member is naturally dried or heated. By heating under conditions containing high-temperature water vapor, conversion of the conductive member remaining after electrophoresis deposition to a light-transmitting member can be promoted. Further, by removing excess solvent contained in the deposit and promoting gelation of the sol solution, the phosphor is bound, and a phosphor layer can be formed on the light emitting element. Note that after this step, the conductive member may remain to some extent in such a distribution state or film thickness as long as the light of the light emitting element is transmitted.

本形態にかかる発光装置の形成方法が、導電部材を透光性部材に変換する工程を有するものであるとき、蛍光体層の厚み方向に、導電部材が透光性化された物質の濃度変化領域が形成される。例えば、電解液に塩酸を含有させ、導電部材の材料をアルミニウムとすると、アルミニウムが塩酸により溶解された成分(例えば、アルミニウムイオン)の濃度変化領域が形成される。   When the method for forming a light-emitting device according to this embodiment includes a step of converting a conductive member into a light-transmitting member, a change in the concentration of a substance in which the conductive member is made transparent in the thickness direction of the phosphor layer A region is formed. For example, if hydrochloric acid is contained in the electrolytic solution and the material of the conductive member is aluminum, a concentration change region of a component (for example, aluminum ions) in which aluminum is dissolved by hydrochloric acid is formed.

このように、導電部材が透光性化された部材が含有された濃度変化領域は、発光素子の側で濃度が高く、発光素子から遠ざかるに従って徐々に濃度が低下する濃度分布となっている。なお、濃度変化領域における濃度分布の分析方法として、GDS(グロー放電発光分光分析)やSIMS(二次イオン質量分析)などを採用することができる。以下、本形態の各構成について詳述する。   As described above, the concentration changing region containing the translucent member of the conductive member has a concentration distribution in which the concentration is high on the light emitting element side and gradually decreases as the distance from the light emitting element increases. In addition, GDS (glow discharge emission spectroscopic analysis), SIMS (secondary ion mass spectrometry), etc. are employable as an analysis method of the density distribution in a density | concentration change area | region. Hereinafter, each structure of this form is explained in full detail.

(発光素子)
本形態における発光素子として、LEDチップについて説明する。LEDチップを構成する発光素子としては、ZnSeやGaNなど種々の半導体により形成された半導体発光素子を挙げることができるが、蛍光物質を使用する場合には、その蛍光物質を効率良く励起できる短波長が発光可能な窒化物半導体(InAlGa1−X−YN、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)が好適に挙げられる。半導体の材料やその混晶度によって発光波長を種々選択することができる。
(Light emitting element)
An LED chip will be described as a light emitting element in this embodiment. Examples of the light-emitting element that constitutes the LED chip include semiconductor light-emitting elements formed of various semiconductors such as ZnSe and GaN. When a fluorescent substance is used, a short wavelength that can efficiently excite the fluorescent substance. There can emit light nitride semiconductor (in X Al Y Ga 1- X-Y N, 0 ≦ X, 0 ≦ Y, X + Y ≦ 1) is preferably exemplified. Various emission wavelengths can be selected depending on the semiconductor material and the degree of mixed crystal.

このようなLEDチップは、基板に半導体材料を積層させてチップ化したものである。窒化物半導体を積層させるための基板の材料として、例えば、サファイア、スピネルなどの絶縁性基板や、GaN、SiC、Si、ZnOなどの導電性基板が好適に用いられる。窒化物半導体を結晶性良く積層させることができるため、窒化物半導体を積層させるための絶縁性基板としてサファイア基板が好適に利用される。本形態にかかる形成方法は、このような絶縁性基板を有する発光素子に対しても好適に利用される。さらに、本形態にかかる導電部材として、基板に対して密着性がよい金属材料が選択される。例えば、サファイア基板に対する導電部材として、アルミニウムが選択される。   Such an LED chip is formed by stacking a semiconductor material on a substrate. For example, an insulating substrate such as sapphire or spinel, or a conductive substrate such as GaN, SiC, Si, or ZnO is preferably used as the material for the substrate on which the nitride semiconductor is stacked. Since nitride semiconductors can be stacked with good crystallinity, a sapphire substrate is preferably used as an insulating substrate for stacking nitride semiconductors. The formation method according to this embodiment is also preferably used for a light-emitting element having such an insulating substrate. Further, a metal material having good adhesion to the substrate is selected as the conductive member according to this embodiment. For example, aluminum is selected as the conductive member for the sapphire substrate.

また、本形態にかかる発光素子は、半導体を基板に積層させてなる上述の発光素子の他、窒化物半導体を、銅およびタングステンを含む導電性の支持基板に接合させた発光素子とすることもできる。   The light-emitting element according to this embodiment may be a light-emitting element in which a nitride semiconductor is bonded to a conductive supporting substrate containing copper and tungsten, in addition to the above-described light-emitting element in which a semiconductor is stacked over a substrate. it can.

発光素子の基板の側面は、発光素子の光取り出し効率を考慮して傾斜面とされることがある。電気泳動沈着による形成方法により、ポッティングや印刷など他の形成方法と比較して、このような傾斜面にも均一な膜厚で蛍光体層を形成することができる。このような傾斜面を有する発光素子について、本形態における発光素子は、支持体に対して、傾斜面が上に向くように、即ち支持体の発光素子搭載面の反対側に向くように、配置されることが好ましい。これにより、傾斜面に配置される導電部材が上記電極114の方向に向けられるため、側面が傾斜されていない発光素子と比較して、発光素子の側面方向への蛍光物質の電気泳動が効率よく行われる。   The side surface of the substrate of the light emitting element may be inclined in consideration of the light extraction efficiency of the light emitting element. Compared with other forming methods such as potting and printing, the phosphor layer can be formed with a uniform film thickness on such an inclined surface by the forming method by electrophoretic deposition. About the light emitting element having such an inclined surface, the light emitting element in this embodiment is arranged so that the inclined surface faces upward with respect to the support, that is, the opposite side of the light emitting element mounting surface of the support. It is preferred that Accordingly, since the conductive member disposed on the inclined surface is directed toward the electrode 114, the electrophoresis of the fluorescent material in the side surface direction of the light emitting element is more efficient than the light emitting element whose side surface is not inclined. Done.

(支持体)
本形態における支持体103(以下、「サブマウント」と呼ぶ。)とは、少なくとも発光素子の電極と対面する側の面に導体配線104が施されており、フリップチップ実装された発光素子107を保持するための部材である。
(Support)
The support body 103 (hereinafter referred to as “submount”) in this embodiment is provided with a conductor wiring 104 on at least a surface facing the electrode of the light-emitting element, and the light-emitting element 107 that is flip-chip mounted is provided. It is a member for holding.

支持体の材料は、AlN、Al、SiC、GaAs、BN、C(ダイヤモンド)などが好ましい。より好ましくは、発光素子107と熱膨張係数がほぼ等しいもの、例えば、窒化物系半導体を材料とする発光素子に対して窒化アルミニウム(AlN)が選択される。これにより、支持体と発光素子との間に発生する熱応力の影響を緩和することができる。 The material of the support is preferably AlN, Al 2 O 3 , SiC, GaAs, BN, C (diamond) or the like. More preferably, aluminum nitride (AlN) is selected for a light-emitting element having a thermal expansion coefficient substantially equal to that of the light-emitting element 107, for example, a light-emitting element made of a nitride-based semiconductor. Thereby, the influence of the thermal stress which generate | occur | produces between a support body and a light emitting element can be relieve | moderated.

発光素子107は、サブマウント103に対してフリップチップ実装される。すなわち、サブマウント103の導体配線104にバンプ106を配置した後、発光素子107の正負一対の電極109、110がバンプ106を介して導体配線104に対向される。次に、超音波、熱および荷重を加えることにより、発光素子107とサブマウント103とが電気的および機械的に接続される。   The light emitting element 107 is flip-chip mounted on the submount 103. That is, after the bump 106 is disposed on the conductor wiring 104 of the submount 103, the pair of positive and negative electrodes 109 and 110 of the light emitting element 107 are opposed to the conductor wiring 104 through the bump 106. Next, the light emitting element 107 and the submount 103 are electrically and mechanically connected by applying ultrasonic waves, heat, and a load.

(蛍光体層)
本形態における蛍光体層102は、発光素子からの光の少なくとも一部を吸収して異なる波長を有する光を発する蛍光物質101を含有する部材である。蛍光体層は、レンズのような光学素子に配置させたり、光ファイバの先端に配置させたりすることもできる。このような蛍光体層102は、蛍光物質と、その蛍光物質を固着させるための結着材と、から形成されている。特に、本形態における結着材は、金属アルコキシドのゾル溶液のゲル化生成物とすることができる。また、蛍光体層の発光素子への固定を強化させるため、あるいは外部環境から保護するため、電気泳動沈着により形成された蛍光体層は、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの透光性樹脂やガラスなどの、他の透光性部材にて被覆されていることが好ましい。
(Phosphor layer)
The phosphor layer 102 in this embodiment is a member that contains a fluorescent material 101 that emits light having different wavelengths by absorbing at least part of light from the light emitting element. The phosphor layer can be disposed on an optical element such as a lens, or can be disposed on the tip of an optical fiber. Such a phosphor layer 102 is formed of a fluorescent material and a binding material for fixing the fluorescent material. In particular, the binder in this embodiment can be a gelled product of a metal alkoxide sol solution. In order to strengthen the fixation of the phosphor layer to the light emitting element or to protect it from the external environment, the phosphor layer formed by electrophoretic deposition is made of a translucent resin such as epoxy resin or silicone resin, glass, etc. It is preferable to coat with other translucent members.

本形態の蛍光物質は、発光素子の光を変換させるものであり、発光素子からの光をより長波長に変換させるものの方が効率がよい。発光素子からの光がエネルギーの高い短波長の可視光の場合、アルミニウム酸化物系蛍光体の一種であるセリウムで付活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(YAG:Ce)が好適に用いられる。特に、YAG:Ce蛍光体は、その含有量によってLEDチップからの青色系の光を一部吸収して補色となる黄色系の光を発するため、白色系の混色光を発する高出力な発光ダイオードを、比較的簡単に形成することができる。   The fluorescent substance of this embodiment converts light from the light emitting element, and it is more efficient to convert light from the light emitting element to a longer wavelength. When the light from the light-emitting element is high-energy short-wavelength visible light, an yttrium-aluminum-garnet-based phosphor (YAG: Ce) activated by cerium, which is a kind of aluminum oxide-based phosphor, is preferably used. It is done. Particularly, the YAG: Ce phosphor absorbs part of the blue light from the LED chip depending on its content and emits a yellow light that is a complementary color. Therefore, a high-power light emitting diode that emits a white light mixture Can be formed relatively easily.

本形態の形成方法における蛍光体は、電解液中を電気泳動しやすい形状および大きさとされていることが好ましい。特に、電解液中での電気泳動について、蛍光体の形状は、ほぼ球形の粒子状とされていることが好ましい。   It is preferable that the phosphor in the forming method of the present embodiment has a shape and size that facilitates electrophoresis in the electrolytic solution. In particular, for electrophoresis in an electrolytic solution, it is preferable that the phosphor has a substantially spherical particle shape.

なお、本明細書中における蛍光体の粒径とは、体積基準粒度分布曲線により得られる値であり、体積基準粒度分布曲線は、レーザ回折・散乱法により蛍光体の粒度分布を測定し得られるものである。具体的には、気温25℃、湿度70%の環境下において、濃度が0.05%であるヘキサメタリン酸ナトリウム水溶液に蛍光体を分散させ、レーザ回折式粒度分布測定装置(SALD−2000A)により、粒径範囲0.03μm〜700μmにて測定し得られたものである。   In addition, the particle size of the phosphor in the present specification is a value obtained by a volume-based particle size distribution curve, and the volume-based particle size distribution curve can be obtained by measuring the particle size distribution of the phosphor by a laser diffraction / scattering method. Is. Specifically, in an environment where the temperature is 25 ° C. and the humidity is 70%, the phosphor is dispersed in an aqueous solution of sodium hexametaphosphate having a concentration of 0.05%, and a laser diffraction particle size distribution analyzer (SALD-2000A) It was obtained by measuring in a particle size range of 0.03 μm to 700 μm.

以下、本発明に係る実施例について詳述する。なお、本発明は以下に示す実施例のみに限定されないことは言うまでもない。   Examples according to the present invention will be described in detail below. Needless to say, the present invention is not limited to the following examples.

図1は、本実施例における発光装置100の模式的な断面図である。本実施例の発光装置100は、窒化ガリウム系半導体を材料として形成された発光素子107と、イットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体を含む蛍光体層102と、その蛍光体層102を被覆する透光性部材113と、備えた発光装置である。図2から図7は、本実施例の発光装置の製造方法における各工程を示す模式的な断面図である。以下、本実施例の発光装置の形成方法について説明する。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device 100 according to this embodiment. The light-emitting device 100 of this embodiment includes a light-emitting element 107 formed using a gallium nitride-based semiconductor, a phosphor layer 102 containing an yttrium / aluminum / garnet-based phosphor, and a light-transmitting material that covers the phosphor layer 102. And a light emitting device provided with the conductive member 113. 2 to 7 are schematic cross-sectional views showing each step in the method for manufacturing the light emitting device of this example. Hereinafter, a method for forming the light emitting device of this example will be described.

本実施例の発光素子は、絶縁性の透光性基板112であるサファイア基板に窒化ガリウム系半導体を積層させて形成されたLEDチップ107である。まず、図2に示されるように、LEDチップ107をサブマウント103にフリップチップ実装する。すなわち、サブマウント103に施された導体配線104に発光素子107の正電極109および負電極110を、それぞれAuバンプ106で接合する。本実施例のLEDチップ107は、同一のサブマウントの基板に複数のLEDチップが実装される。また、発光素子と支持体との間に生じた隙間にはシリコーン樹脂を充填させる。このように、発光素子と支持体との間に生じた隙間を埋めることにより、後述の導電膜から絶縁させておくこともできる。   The light emitting element of this embodiment is an LED chip 107 formed by stacking a gallium nitride based semiconductor on a sapphire substrate which is an insulating translucent substrate 112. First, as shown in FIG. 2, the LED chip 107 is flip-chip mounted on the submount 103. That is, the positive electrode 109 and the negative electrode 110 of the light emitting element 107 are joined to the conductor wiring 104 provided on the submount 103 by Au bumps 106, respectively. In the LED chip 107 of this embodiment, a plurality of LED chips are mounted on the same submount substrate. A gap formed between the light emitting element and the support is filled with a silicone resin. In this manner, it is possible to insulate from a conductive film described later by filling a gap generated between the light emitting element and the support.

図4に示されるように、LEDチップ107を被覆する導電部材108を形成させるため、アルミニウムを材料とするスパッタリングを行う。本実施例では、膜厚が500〜2000ÅのAl導電膜をLEDチップ107のサファイア基板112の表面および半導体の側面側露出部分を被覆するように形成する。なお、この導電膜は、サブマウント103の上にも形成されており、サブマウント103の上の導電膜は、LEDチップ107を被覆する導電膜に電気的に接続させてある。   As shown in FIG. 4, in order to form the conductive member 108 that covers the LED chip 107, sputtering using aluminum as a material is performed. In this embodiment, an Al conductive film having a thickness of 500 to 2000 mm is formed so as to cover the surface of the sapphire substrate 112 of the LED chip 107 and the exposed portion on the side surface of the semiconductor. The conductive film is also formed on the submount 103, and the conductive film on the submount 103 is electrically connected to the conductive film that covers the LED chip 107.

本実施例の第一の電解液101aは、アルミニウムアルコレートを材料とするアルミナゾル(1重量%)に、有機溶剤としてイソプロピルアルコール(93重量%)と、帯電剤として硝酸マグネシウム(1重量%)と、蛍光物質としてイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(5重量%)と、を含有させたものである。本実施例におけるイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体は、平均粒径が3μmであり、屈折率が1.8である。   The first electrolytic solution 101a of this example is composed of alumina sol (1% by weight) made of aluminum alcoholate, isopropyl alcohol (93% by weight) as an organic solvent, and magnesium nitrate (1% by weight) as a charging agent. And yttrium / aluminum / garnet phosphor (5% by weight) as a fluorescent substance. The yttrium / aluminum / garnet phosphor in this example has an average particle diameter of 3 μm and a refractive index of 1.8.

図5に示されるように、第一の電解液101a中に、LEDチップが実装されたサブマウントの基板を配置して、導電部材108に電圧を印加することにより、LEDチップ107上に蛍光体を電気泳動沈着させる。印加する電圧は、100Vとし、電気泳動の時間は、1分間とする。これにより、発光素子の上に膜厚が約20μmの蛍光体層が得られる。   As shown in FIG. 5, a phosphor substrate is mounted on the LED chip 107 by disposing a submount substrate on which the LED chip is mounted in the first electrolyte solution 101 a and applying a voltage to the conductive member 108. Is electrophoretically deposited. The applied voltage is 100 V, and the electrophoresis time is 1 minute. As a result, a phosphor layer having a thickness of about 20 μm is obtained on the light emitting element.

本実施例の第二の電解液101bは、アルミニウムアルコレートを材料とするアルミナゾル(3重量%)に、有機溶剤としてイソプロピルアルコール(96重量%)と、帯電剤として硝酸マグネシウム(1重量%)と、を含有させたものである。本実施例におけるアルミナゾルは、平均粒径が2〜20nmであり、屈折率が1.8である。   The second electrolytic solution 101b of this example is composed of alumina sol (3% by weight) made of aluminum alcoholate, isopropyl alcohol (96% by weight) as an organic solvent, and magnesium nitrate (1% by weight) as a charging agent. , Is contained. The alumina sol in this example has an average particle diameter of 2 to 20 nm and a refractive index of 1.8.

図6に示されるように、第二の電解液101b中に、LEDチップ107に蛍光体が堆積されたサブマウントを配置して、導電部材108に電圧を印加することにより、アルミナゾルを電気泳動沈着させる。印加する電圧は、100Vとし、電気泳動の時間は、1分間とする。これにより、蛍光体層内にアルミナゾルが含浸され、蛍光体層内の隙間が埋められる。   As shown in FIG. 6, an alumina sol is electrophoretically deposited by disposing a submount in which a phosphor is deposited on the LED chip 107 and applying a voltage to the conductive member 108 in the second electrolyte solution 101b. Let The applied voltage is 100 V, and the electrophoresis time is 1 minute. Thereby, the phosphor layer is impregnated with the alumina sol, and the gap in the phosphor layer is filled.

サブマウントの基板を第二の電解液101bから取りだし、高温の水蒸気下にてAl導電膜を透光性化する。すなわち、反応炉内の120℃、湿度85%の条件下にて、Al導電膜を12時間放置することにより、非透光性であるAl導電膜のアルミニウムを、透光性酸化物である酸化アルミニウムに変換する。   The substrate of the submount is taken out from the second electrolytic solution 101b, and the Al conductive film is made translucent under high temperature water vapor. That is, by leaving the Al conductive film for 12 hours under the conditions of 120 ° C. and 85% humidity in the reaction furnace, the aluminum of the non-light-transmitting Al conductive film is oxidized as a light-transmitting oxide. Convert to aluminum.

図7に示されるように、蛍光体層102を、シリコーン樹脂(屈折率1.5)を材料とする透光性部材113にて被覆する。なお、蛍光体層102の上にシリコーン樹脂を配置したとき、シリコーン樹脂の一部が蛍光体層102の一部に含浸することがある。ここで、シリコーン樹脂と、アルミナゾルの屈折率を比較すると、イットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体に対する屈折率差が、アルミナゾルの方がシリコーン樹脂よりも小さい。そのため、本実施例の発光装置は、アルミナゾルの代わりにシリコーン樹脂を蛍光体層内に含浸させて形成させた発光装置よりも、光取りだし効率が高い発光装置とすることができる。   As shown in FIG. 7, the phosphor layer 102 is covered with a translucent member 113 made of a silicone resin (refractive index 1.5). Note that when a silicone resin is disposed on the phosphor layer 102, a part of the silicone resin may be impregnated into a part of the phosphor layer 102. Here, comparing the refractive indexes of the silicone resin and the alumina sol, the refractive index difference with respect to the yttrium / aluminum / garnet phosphor is smaller in the alumina sol than in the silicone resin. Therefore, the light emitting device of this embodiment can be a light emitting device with higher light extraction efficiency than the light emitting device formed by impregnating the phosphor layer with a silicone resin instead of alumina sol.

最後に、所望の大きさにサブマウントの基板を分割して個片化することにより、図1に示される発光装置100を得ることができる。同一のサブマウントの基板に複数の発光素子を実装して分割することにより、略同じ蛍光体層を有する発光装置を一度に大量に形成させることができる。   Finally, the substrate of the submount is divided into a desired size and separated into individual pieces, whereby the light emitting device 100 shown in FIG. 1 can be obtained. By mounting and dividing a plurality of light emitting elements on the same submount substrate, a large number of light emitting devices having substantially the same phosphor layer can be formed at a time.

本実施例により、光取り出し効率の低下を招くことなく、電気泳動沈着を利用して発光装置を形成することができる。   According to this embodiment, a light emitting device can be formed using electrophoretic deposition without causing a decrease in light extraction efficiency.

本発明に係る形成方法は、信号、照明、ディスプレイ、インジケータ、携帯電話のバックライトなどの各種光源の形成方法として利用することができる。   The formation method according to the present invention can be used as a formation method of various light sources such as a signal, illumination, a display, an indicator, and a backlight of a mobile phone.

図1は、本発明の一実施例にかかる発光装置の模式的な断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明の一実施例にかかる発光装置の形成方法を説明する模式的な断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a method for forming a light emitting device according to an embodiment of the present invention. 図3は、本発明の一実施例にかかる発光装置の形成方法を説明する模式的な断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a method for forming a light emitting device according to an embodiment of the present invention. 図4は、本発明の一実施例にかかる発光装置の形成方法を説明する模式的な断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating a method for forming a light emitting device according to an embodiment of the present invention. 図5は、本発明の一実施例にかかる発光装置の形成方法を説明する模式的な断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating a method for forming a light emitting device according to an embodiment of the present invention. 図6は、本発明の一実施例にかかる発光装置の形成方法を説明する模式的な断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a method for forming a light emitting device according to an embodiment of the present invention. 図7は、本発明の一実施例にかかる発光装置の形成方法を説明する模式的な断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view illustrating a method for forming a light emitting device according to an embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

100・・・発光装置
101a・・・第一の電解液
101b・・・第二の電解液
102・・・蛍光体層
103・・・支持体
104・・・導体配線
105・・・絶縁部材
106・・・バンプ
107・・・発光素子
108・・・導電部材
109・・・正電極
110・・・負電極
112・・・透光性基板
113・・・透光性部材
114・・・電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Light-emitting device 101a ... 1st electrolyte solution 101b ... 2nd electrolyte solution 102 ... Phosphor layer 103 ... Support body 104 ... Conductor wiring 105 ... Insulating member 106 ... Bump 107 ... Light emitting element 108 ... Conductive member 109 ... Positive electrode 110 ... Negative electrode 112 ... Translucent substrate 113 ... Translucent member 114 ... Electrode

Claims (5)

発光素子と、蛍光物質と、を備えた発光装置の形成方法であって、
前記蛍光物質と透光性材料とを含む第一の溶液中における電気泳動により、前記蛍光物質を前記発光素子に堆積させる第一の工程と、
透光性材料を主材料として含む第二の溶液中における電気泳動により、前記蛍光物質の堆積物に、前記第二の溶液に含まれる透光性材料を含浸させる第二の工程と、を有することを特徴とする発光装置の形成方法。
A method for forming a light emitting device comprising a light emitting element and a fluorescent material,
A first step of depositing the fluorescent substance on the light emitting element by electrophoresis in a first solution containing the fluorescent substance and a translucent material;
A second step of impregnating the fluorescent material deposit with the translucent material contained in the second solution by electrophoresis in the second solution containing the translucent material as a main material. A method for forming a light-emitting device.
前記第一の溶液または前記第二の溶液に含まれる透光性材料は、Al、Sn、Si、Ti、YあるいはPbから選択される少なくとも一種の元素を含む金属アルコキシドを含む請求項1に記載の発光装置の形成方法。   The translucent material contained in said 1st solution or said 2nd solution contains the metal alkoxide containing at least 1 type of element selected from Al, Sn, Si, Ti, Y, or Pb. Method for forming the light emitting device. 前記第一の溶液および前記第二の溶液に含まれる透光性材料の屈折率は、略同一である請求項1または2に記載の発光装置の形成方法。   3. The method for forming a light emitting device according to claim 1, wherein refractive indexes of the translucent materials contained in the first solution and the second solution are substantially the same. 前記蛍光物質の平均粒径が1μmから10μmであり、前記透光性材料の平均粒径が1nmから200nmである請求項1から3のいずれか一項に記載の発光装置の形成方法。   4. The method for forming a light emitting device according to claim 1, wherein the fluorescent substance has an average particle diameter of 1 μm to 10 μm, and the translucent material has an average particle diameter of 1 nm to 200 nm. 前記蛍光物質の屈折率と、前記透光性材料の屈折率とが略同一である請求項1から4のいずれか一項に記載の発光装置の形成方法。   The method for forming a light-emitting device according to claim 1, wherein a refractive index of the fluorescent material and a refractive index of the light-transmitting material are substantially the same.
JP2006239914A 2006-09-05 2006-09-05 Method for forming light emitting device Active JP4835333B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006239914A JP4835333B2 (en) 2006-09-05 2006-09-05 Method for forming light emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006239914A JP4835333B2 (en) 2006-09-05 2006-09-05 Method for forming light emitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008066365A true JP2008066365A (en) 2008-03-21
JP4835333B2 JP4835333B2 (en) 2011-12-14

Family

ID=39288828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006239914A Active JP4835333B2 (en) 2006-09-05 2006-09-05 Method for forming light emitting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4835333B2 (en)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008539566A (en) * 2005-04-26 2008-11-13 パテント−トロイハント−ゲゼルシヤフト フユール エレクトリツシエ グリユーラムペン ミツト ベシユレンクテル ハフツング Light emission conversion LED
JP2010226070A (en) * 2009-02-27 2010-10-07 Nichia Corp Light emitting device and method for manufacturing light emitting device
JP2012156443A (en) * 2011-01-28 2012-08-16 Nichia Chem Ind Ltd Method of manufacturing light-emitting device
EP2105976A3 (en) * 2008-03-26 2012-10-31 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Method and apparatus for coating phosphor, and light emitting diode comprising phosphor coating layer
JP2013516074A (en) * 2009-12-26 2013-05-09 アクロラックス インコーポレイテッド Uniform film layer structure for converting emission wavelength and method for forming the same
WO2013092894A1 (en) * 2011-12-21 2013-06-27 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing a light-emitting diode
US8780438B2 (en) 2012-05-22 2014-07-15 Panasonic Corporation Wavelength conversion element including phosphor particles, and LED element and semiconductor laser light emitting device using wavelength conversion element
US8854725B2 (en) 2012-05-16 2014-10-07 Panasonic Corporation Wavelength conversion element, method of manufacturing the same, and LED element and semiconductor laser light emitting device using wavelength conversion element
KR20140145741A (en) * 2013-06-14 2014-12-24 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, and lighting system
JP2016127144A (en) * 2014-12-26 2016-07-11 日亜化学工業株式会社 Light emitting device
JP2016532295A (en) * 2013-08-21 2016-10-13 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Optoelectronic semiconductor chip manufacturing method
WO2016180897A1 (en) * 2015-05-13 2016-11-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing optoelectronic components, and surface-mountable optoelectronic component
JP2017069378A (en) * 2015-09-30 2017-04-06 日亜化学工業株式会社 Light emitting device
JP2017108024A (en) * 2015-12-10 2017-06-15 日亜化学工業株式会社 Method of manufacturing light-emitting device
JP2017120802A (en) * 2015-12-28 2017-07-06 日亜化学工業株式会社 Light-emitting device and manufacturing method thereof
JP2018515920A (en) * 2015-05-13 2018-06-14 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Method for manufacturing optoelectronic components and optoelectronic components for surface mounting
US10115877B2 (en) 2016-03-23 2018-10-30 Nichia Corporation Method for manufacturing semiconductor device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06305866A (en) * 1993-04-19 1994-11-01 Nippon Alum Co Ltd Sealing of flame spray coated film and composite film
JP2004088013A (en) * 2002-08-29 2004-03-18 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and manufacturing method thereof
JP2006210491A (en) * 2005-01-26 2006-08-10 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and manufacturing method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06305866A (en) * 1993-04-19 1994-11-01 Nippon Alum Co Ltd Sealing of flame spray coated film and composite film
JP2004088013A (en) * 2002-08-29 2004-03-18 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and manufacturing method thereof
JP2006210491A (en) * 2005-01-26 2006-08-10 Nichia Chem Ind Ltd Light emitting device and manufacturing method thereof

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008539566A (en) * 2005-04-26 2008-11-13 パテント−トロイハント−ゲゼルシヤフト フユール エレクトリツシエ グリユーラムペン ミツト ベシユレンクテル ハフツング Light emission conversion LED
US8394654B2 (en) 2008-03-26 2013-03-12 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Method for coating phosphor, apparatus to perform the method, and light emitting diode comprising phosphor coating layer
EP2105976A3 (en) * 2008-03-26 2012-10-31 Seoul Semiconductor Co., Ltd. Method and apparatus for coating phosphor, and light emitting diode comprising phosphor coating layer
JP2010226070A (en) * 2009-02-27 2010-10-07 Nichia Corp Light emitting device and method for manufacturing light emitting device
JP2013516074A (en) * 2009-12-26 2013-05-09 アクロラックス インコーポレイテッド Uniform film layer structure for converting emission wavelength and method for forming the same
JP2012156443A (en) * 2011-01-28 2012-08-16 Nichia Chem Ind Ltd Method of manufacturing light-emitting device
WO2013092894A1 (en) * 2011-12-21 2013-06-27 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing a light-emitting diode
US8854725B2 (en) 2012-05-16 2014-10-07 Panasonic Corporation Wavelength conversion element, method of manufacturing the same, and LED element and semiconductor laser light emitting device using wavelength conversion element
DE112013002508B4 (en) * 2012-05-16 2020-09-24 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Wavelength converting element, method of manufacturing the same, and LED element and laser light-emitting semiconductor device using the wavelength converting element
US8780438B2 (en) 2012-05-22 2014-07-15 Panasonic Corporation Wavelength conversion element including phosphor particles, and LED element and semiconductor laser light emitting device using wavelength conversion element
KR20140145741A (en) * 2013-06-14 2014-12-24 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, and lighting system
KR102075585B1 (en) * 2013-06-14 2020-02-11 엘지이노텍 주식회사 Light emitting device, and lighting system
JP2016532295A (en) * 2013-08-21 2016-10-13 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Optoelectronic semiconductor chip manufacturing method
US9876001B2 (en) 2013-08-21 2018-01-23 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing an optoelectronic semiconductor chip
US9985011B2 (en) 2013-08-21 2018-05-29 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing an optoelectronic semiconductor chip
JP2016127144A (en) * 2014-12-26 2016-07-11 日亜化学工業株式会社 Light emitting device
WO2016180897A1 (en) * 2015-05-13 2016-11-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing optoelectronic components, and surface-mountable optoelectronic component
JP2018514950A (en) * 2015-05-13 2018-06-07 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Method for creating optoelectronic component and surface mountable optoelectronic component
JP2018515920A (en) * 2015-05-13 2018-06-14 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Method for manufacturing optoelectronic components and optoelectronic components for surface mounting
US10243117B2 (en) 2015-05-13 2019-03-26 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing optoelectronic devices and surface-mountable optoelectronic device
JP2017069378A (en) * 2015-09-30 2017-04-06 日亜化学工業株式会社 Light emitting device
JP2017108024A (en) * 2015-12-10 2017-06-15 日亜化学工業株式会社 Method of manufacturing light-emitting device
JP2017120802A (en) * 2015-12-28 2017-07-06 日亜化学工業株式会社 Light-emitting device and manufacturing method thereof
US10038125B2 (en) 2015-12-28 2018-07-31 Nichia Corporation Light-emitting device and method for manufacturing the same
US10115877B2 (en) 2016-03-23 2018-10-30 Nichia Corporation Method for manufacturing semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP4835333B2 (en) 2011-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5141077B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP4835333B2 (en) Method for forming light emitting device
JP5747527B2 (en) Method for manufacturing light emitting device
JP5582048B2 (en) Light emitting device
US8294160B2 (en) Light emitting device including a sealing portion, and method of making the same
JP2008300580A (en) Light emitting element and light emitting device
US8026533B2 (en) Light emitting device and method of manufacturing the same
CN101878540B (en) Light-emitting device and its manufacturing method
RU2525325C2 (en) Light-emitting device and method to manufacture light-emitting device
JP5521325B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP2017054894A (en) Light emitting device
JP4810977B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND METHOD FOR FORMING THE SAME
US9853191B2 (en) Light emitting device manufacturing method
JP2015026871A (en) Light emitting device
JP2014082525A (en) Light emitting device and method for manufacturing the same
JP6102116B2 (en) Method for manufacturing light emitting device
JP5308618B2 (en) Semiconductor light emitting device
JP4961827B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
CN106784258B (en) Wafer-level packaging LED
US9368703B2 (en) Method of manufacturing light emitting device
JP6508368B2 (en) Light emitting device
JP2018088554A (en) Light emitting device
JP6349973B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP2000036626A (en) Manufacturing method of light emitting diode device
CN102136540A (en) White light-emitting diode packaging structure capable of increasing luminous efficiency and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090904

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110824

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110830

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110912

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4835333

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141007

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250