JP2007506067A - 沸騰レベルを制御する方法 - Google Patents

Abstract

電気調理装置（２）の沸騰レベルを制御する方法を提供する。電気調理装置（２）は、電気加熱エレメント（２）を有する電気ヒータ（１２）と、温度検出素子（３８）を有して調理器具（８）の温度を監視するようにした温度応答装置（３０）とを包含する。電気調理装置は、更に、手動入力選択装置（１０６）を包含し、これにより、複数の所定の沸騰レベルが使用者により選択可能である。各所定の沸騰レベルは温度検出素子（３８）により検出される所定の温度と関連づけられ、この所定の温度は各沸騰レベルのそれぞれの実際の表示温度に関して偏差がある。沸騰レベルは、対応する電力レベルでヒータ（１２）を作動せしめることにより制御される。

Description

本発明は、電気調理装置の沸騰レベルを制御する方法に関する。調理装置は例えばガラス−セラミック材料の調理板を包含し、調理板は電気ヒータに接触してこの電気ヒータを支持している下面と調理器具を受けるようにした上面とを有すると共に、調理器具は電気ヒータの上に横たわる加熱区域上で沸騰にさらされる調理材料を収容する。電気ヒータは、少なくともひとつの電気加熱エレメントを有する。

調理器具において、複数の異なるレベルの沸騰を提供することができるようにすることが望まれている。例えば、パスタ又は米を調理するためには、沸騰過ぎを除去すると共に過剰な急速気化を除去するために、約９７〜９８℃の温度での緩沸騰又はぐつぐつ沸騰を維持することが必要とされるであろう。また、約９８〜１００℃の温度での中間沸騰レベルが一定の野菜を調理するために必要とされるであろう。選択的に、約１００℃の温度での激しくて、高い又は活発に沸騰する沸騰レベルが高バルク液体体積の場合、例えばジャムの製造において高い温度を維持するために必要とされるであろう。

このような沸騰レベルの制御は、９５〜１００℃の温度範囲内の、特に気化作用の潜熱の発生が始まる温度レベルからの正確な温度制御を必要とする。満足する制御は、開ループの電力レベル（デューティサイクル）制御によっては、変数、例えば調理器具の品質、調理材料の質量差及び気化損失から生じる調理材料の熱質量の変化などを含む変数のために、成し遂げることができない。

調理板の上方に配置したセンサ、例えば赤外線センサを用いて調理器具の温度を直接に監視する閉ループ制御システムも知られている。このようなシステムは、複数の異なる沸騰レベルを制御することができない。なぜなら、調理器具内の調理材料が沸騰点に達すると、より多くの電力がヒータから加えられても、調理器具の表面温度は変化することができないからである。

このようなシステムにおいて、調理板の下面に実質的に接触して配置され、調理板を通して調理器具の温度を監視するようにした温度応答装置を使用することがなされている。この温度応答装置は温度の関数として変化する電気パラメータを有する温度検出素子を包含し、この温度検出素子は電源からの電気ヒータの作動を制御するために閉ループの方法で作動する制御装置に電気的に接続されている。温度検出素子及びこの温度検出素子の上に横たわる、調理板の下面の対応する区域は、好適には、電気ヒータのひとつ又は複数の加熱エレメントからの直接熱放射から遮蔽されている。

このような構成は、所定の温度範囲でのまた種々の型式の調理器具のための一定の調理温度制御を提供し、また、調理装置が加熱上昇、冷却又は再加熱モードで作動するときには、迅速な熱応答を提供する。

しかしながら、このような構成は、気化作用の潜熱の偏差のために、およそ沸騰点の温度でよく機能しないことがわかっている。

したがって、本発明の目的は、気化の潜熱から生じる作用に関する問題を除去する沸騰レベル制御方法を提供することにある。

本発明によれば、電気調理装置の沸騰レベルを制御する方法であって、前記電気調理装置が調理板と、電気ヒータと、温度応答装置と、手動入力選択装置とを包含し、
前記調理板が前記電気ヒータに接触してこの電気ヒータを支持している下面と調理器具を受けるようにした上面とを有すると共に、前記調理器具が前記電気ヒータの上に横たわる加熱区域上で沸騰にさらされる調理材料を収容し、
前記電気ヒータが少なくともひとつの電気加熱エレメントと温度応答装置とを有し、前記温度応答装置が前記調理板の下面に隣接して配設されて、前記調理器具の温度を監視するようにし、
前記温度応答装置が温度の関数として変化する電気パラメータを有する温度検出素子を有し、この温度検出素子が電源からの前記電気ヒータの作動を制御する制御装置に電気的に接続され、
前記手動入力選択装置が前記制御装置と関連し、これにより複数の所定の沸騰レベルが前記調理器具内の調理材料のために使用者により選択可能であるものにおいて、
前記所定の沸騰レベルの各々を、前記温度検出素子により検出されて各所定の沸騰レベルのそれぞれの実際の表示温度に関して偏差がある所定の検出温度と関連づける段階と、
前記電気ヒータを前記沸騰レベルに対応する電力レベルで作動させることにより前記調理器具の調理材料の沸騰レベルを制御する段階と、
を包含することを特徴とする方法、が提供される。

前記所定の検出温度は、各沸騰レベルのそれぞれの実際の温度に関して異なる量で偏差があるようにすることができる。

前記温度応答装置は、前記調理板の下面に実質的に接触して配置することができる。

前記調理板は、ガラス−セラミック材料から成ることができる。

前記温度検出素子は、前記電源からの前記電気ヒータの作動を制御するために、前記制御装置と閉ループの方法で作動することができる。

前記温度検出素子及びこの温度検出素子の上に横たわる、前記調理板の下面の対応する区域を、前記少なくともひとつの電気加熱エレメントからの直接熱放射から遮蔽する装置を設けることができる。前記遮蔽装置は、熱絶縁材料から成ることができる。

前記温度応答装置は、前記加熱区域の周囲領域で前記調理板の下面に実質的に接触して配置することができる。

前記温度検出素子は、温度の関数として電気抵抗が変化する材料、例えば白金から成ることができると共に、前記材料は支持基板上にフィルムの形で設けられていることができる。

前記制御装置は、マイクロプロセッサーベースド電気回路から成ることができる。

前記複数の所定の沸騰レベルは、低い又はぐつぐつ沸騰する沸騰レベル、中間沸騰レベル及び高い又は活発に沸騰する沸騰レベルから成ることができる。

前記低い又はぐつぐつ沸騰する沸騰レベルは、前記温度検出素子により検出される約１４０℃〜約１９０℃の範囲内の温度と関連づけることができる。特に、前記低い又はぐつぐつ沸騰する沸騰レベルは前記温度検出素子により検出される約１７０℃の温度と関連づけることができる。

前記中間沸騰レベルは、前記温度検出素子により検出される約１６０℃〜約２１０℃の範囲内の温度と関連づけることができる。特に、前記中間沸騰レベルは前記温度検出素子により検出される約１９０℃の温度と関連づけることができる。

前記高い又は活発に沸騰する沸騰レベルは、前記温度検出素子により検出される約２１０℃以上の温度と関連づけることができる。特に、前記高い又は活発に沸騰する沸騰レベルは前記温度検出素子により検出される約２２０℃の温度と関連づけることができる。

前記高い又は活発に沸騰する沸騰レベルの選択は、実質的に全電力での前記電気ヒータの作動を生じせしめることができる。

前記手動入力選択装置は、ひとつ又はそれ以上のスイッチ装置から成ることができる。

本発明を良く理解し、また本発明が実際にどのようにして実施されるかを一層明確に示すために、以下添付図面を参照して本発明の実施例について詳述する。

図１及び図２を参照するに、電気調理装置２は周知の形のガラス−セラミック製調理板４を包含し、この調理板４は沸騰にさらされる調理材料を収容する、例えば平なべのような調理器具８を受ける上面６を有する。調理板４の下面１０は、この下面１０に接触して支持されている電気ヒータ１２を有する。電気ヒータ１２は例えば金属の皿様支持体１４を包含し、この支持体１４の中には、例えば微孔性熱及び電気絶縁材料のような熱及び電気絶縁材料の基層１６が設けられている。そして、熱及び電気絶縁材料の周囲壁１８が調理板４の下面１０に接触するように配設されている。

少なくともひとつの放射電気抵抗式加熱エレメント２０は、基層１６に関して支持されている。ひとつ又は複数の加熱エレメントは、周知の形の任意の加熱エレメント、例えばワイヤ、リボン、フォイル又はランプの形の加熱エレメント、若しくはこれらの形の組み合わせから成ることができる。特に、この又はこれらの加熱エレメント２０は縁に沿って絶縁材料の基層１６上に支持されている波形リボンの形とすることができる。

端子ブロック２２は、ひとつ又は複数の加熱エレメント２０を電源２４にリード線２６及び制御装置２８を介して接続するために、ヒータ１２の縁区域に設けられている。制御装置２８は、マイクロプロセッサ−ベースド制御装置とすることができる。

調理器具８はひとつ又は複数の加熱エレメント２０により加熱され、その温度は、ヒータ１２の上に横たわっている加熱区域４Ａの周囲領域で、調理板４の下面１０に接触して配置されている温度応答装置３０により監視されている。

温度応答装置３０のひとつの特定の実施例の構成が、図３Ａ及び図３Ｂに示されている。

図３Ａ及び図３Ｂを参照するに、温度応答装置３０は実質的に平らな薄くて細長いセラミック製基板３２を包含する。この基板３２は上面３４を有し、この上面の第１の端区域３６には、フィルムの形で適当には白金から成る温度感知性電気抵抗素子３８が設けられている。この抵抗素子３８は、基板３２の上面３４に薄膜印刷技術により付着することができる。

電気接続リード線４０，４２も、またフィルムの形であって、基板３２の上面３４に設けられ、温度感知性電気抵抗素子３８に電気的に接続されている。これらの電気接続リード線４０，４２は、好適には、電気抵抗素子３８と同じ又は類似の材料から成り、基板３２の第２の端区域４８に設けられている端子パッド４４，４６にまで延びている。これらの端子パッド４４，４６は、実質的に、電気接続リード線４０，４２と同じ又は類似の材料から成り、若しくは例えば金のような異なる材料から成ることもできる。そして、穴５０，５２が端子パッド４４，４６及び基板３２をそれぞれ貫通して設けられている。

ビームとして配設されている細長い支持部材５４は、ヒータ２０の周囲壁１８の穴又はくぼみ及び皿様支持体１４のリムを横切って、ヒータ１２の周囲区域からヒータ１２を少なくとも部分的に横切って延びており、この支持部材５４の第１の端５６がヒータ１２の周囲区域でこのヒータの外部に固定されると共に、この支持部材５４の第２の端５８がヒータ１２内に配置されている。支持部材５４は、適当には、例えばステアタイト、コーディュライト又はアルミナのようなセラミック材料から成り、細長いくぼみ６０が設けられている。このくぼみ６０内には、基板３２が受け入れられ、これにより、温度感知性電気抵抗素子３８は、ヒータ１２内の支持部材５４の第２の端５８に又はこの第２の端の近くに配置され、また、端子パッド４４，４６は支持部材５４の第１の端５６で、ヒータ１２の外部に配置されており、この場所でこれらの端子パッド４４，４６は比較的低い温度にさらされる。

熱絶縁装置６２は、支持部材５４のくぼみ６０内に配置され、支持部材５４と基板３２の下面６４及び側縁６６，６８との間に介在している。この熱絶縁装置６２は、好適には、微孔性熱絶縁材料の薄い層から成る。この薄い層は、適当には、１ｍｍと４ｍｍとの間、好適には２ｍｍと３ｍｍとの間の厚さである。選択的に、この熱絶縁装置６２は例えばバーミキュライト又はケイ酸カルシウムのような粉状熱絶縁材料から成ることができる。

基板３２及び熱絶縁装置６２は支持部材５４のくぼみ６０内にプレス成形することができ、これにより、基板３２の上面３４は支持部材５４の上面と実質的に平らにされる。

熱絶縁装置６２は、温度感知性電気抵抗素子３８及びこの温度感知性電気抵抗素子の上に横たわる、調理板４の下面１０の対応する区域を、ひとつ又は複数の加熱エレメント２０からの直接熱放射から遮蔽する働きをする。

電気絶縁又はパシベーション層７０をセラミック基板３２の上面３４に設けることができ、このパシベーション層７０は少なくとも温度感知性電気抵抗素子３８の上に横たわる。

穴７２，７４が、支持部材５４の第１の端５６で、この支持部材を貫通して設けられている。これらの穴７２，７４は、セラミック基板３２の穴５０，５２と整合させられ、端子パッド４４，４６を端子タブ又はピン８０，８２に電気的に接続するために、またセラミック基板３２を支持板５４に機械的に固定するために、適当にはボルト、ピン又はリベットから成る電気接続部材７６，７８を受け入れるように配設されている。端子タブ又はピン８０，８２は、温度感知性電気抵抗素子３８を制御装置２８にリード線８４，８６の手段により電気的に接続するために配設されている。電気接続部材７６，７８がボルトから成るときには、これらのボルトは適当には銀又はニッケルでメッキした黄銅から成る。電気接続部材７６，７８がリベットから成るときには、これらのリベットは適当には金でメッキした銅から成る。

端子タブ又はピン８０，８２は、支持部材５４の第１の端５６で、この支持部材５４の下面から横に延びるように配設され、これにより、適当な電気的隙間が端子タブ又はピン８０，８２と調理板４の下面との間に形成される。

金属製の取付けブラケット９０が、温度応答装置３０のために設けられている。この取付けブラケット９０は、適当には、ステンレス鋼から成り、支持部材５４の第１の端５６の一部分９６にしっかりと係合するクリップ装置９４を設けられている第１の部分９２を有する。この係合部分９６は、支持部材５４のくぼみ又はリベートとして設けられている。取付けブラケット９０は第２の部分９８を有し、この第２の部分９８は取付けブラケット９０の第２の部分９８の穴１０２を通過するねじ切り固定具１００の手段によりヒータ１２の皿様支持体１４のリムに固定される。取付けブラケット９０は、金属の単一のベントシート又はストリップから片持ちばりの形に形成され、これにより、支持部材５４の第２の端５８は調理板４の下面１０に向かってばね偏倚され、これにより、温度応答装置３０の上面は調理板４の下面１０に実質的に接触して維持される。

支持部材５４の外側下面８８には、ひとつ又は複数の加熱エレメント２０からの投射熱放射を反射せしめるための熱放射反射材料の層１０４を設けることができる。

温度応答装置３０は、前述した如く、温度感知性電気抵抗素子３８を有し、この温度感知性電気抵抗素子３８は、電源２４からの電気ヒータ１２の作動を制御するために、制御装置２８に閉ループの方法で電気的に接続されている。

温度応答装置３０は調理器具８の温度を監視し、検出された温度データは温度応答装置３０から制御装置２８に送られる。

例えばひとつ又はそれ以上のスイッチ手段を包含する手動操作式コントローラ１０６は、制御装置２８と関連して設けられ、使用者が調理器具８及びその調理材料の所望する加熱状態を人為的に入力して選択するのに役立つ。所定の温度範囲でのまた種々の型式の調理器具のための一定の調理温度制御が調理装置に備えられ、調理装置が加熱上昇、冷却又は再加熱のモードで作動するときには、迅速な熱応答が提供される。

沸騰するのに近い温度では、ヒータ１２に加えられる電力の割合は、熱エネルギーが調理器具８内の調理材料の成分、例えば水の気化の潜熱と関連して吸収されるにつれて、調理器８内で加熱される特定量の調理材料のために、予期に反して、増大させられることがわかっている。調理器具及びその調理材料の実際の温度と、温度応答装置３０の温度感知性電気抵抗素子３８により実際に検出された温度との間には、偏差が生じる。この偏差は、高いヒータ電力レベルで、少量の熱エネルギーが温度応答装置３０の熱絶縁装置６２を通して温度感知性電気抵抗素子３８に伝導される結果として、生じる。この偏差は、また、調理器具８の温度が一定のレベルに達すると、熱が調理板４を通して電気抵抗素子３８に伝導されている結果としても、生じる。

温度偏差の一例が図４に示されており、この図４はコントローラ１０６の温度設定に対しての温度のグラフ表示である。コントローラは、実際には、ひとつの特定の温度設定を有してないが、しかし、選択的に、１から９までの範囲又は他の適当な範囲の温度設定を有することができる。曲線１０８は、温度感知性電気抵抗素子３８により検出された温度を表す。曲線１１０は、調理器具（平なべ）８の実際の温度を表す。曲線１１２は、調理器具８内の水の実際の温度を表す。調理器具８の実際の温度と温度感知性電気抵抗素子３８により検出された温度との間に生じる偏差Ａは、実際には、工場実験により決定され、調理器具８内の沸騰レベルが増大するにつれて増大する。本発明において、これは使用者がコントローラ１０６を操作することにより選択される複数の異なる所定の沸騰レベルとそれぞれ調和するヒータ１２の制御電力レベルを提供するために用いられる。

一例として、図４に設定１１４，１１６及び１１８により示されているように、３つの沸騰レベルが選択可能とされている。設定１１４は、低い又はぐつぐつ沸騰する緩沸騰レベルを提供する。この設定が選択されたときは、制御装置２８は温度感知性電気抵抗素子３８により検出される温度を約１４０℃と約１９０℃との間に、適当には約１７０℃に維持するようにヒータ１２を制御するようプログラム化されている。

設定１１６は、中間沸騰レベルを提供する、この設定が選択されたときには、制御装置２８は温度感知性電気抵抗素子３８により検出される温度を約１６０℃と約２１０℃との間に、適当には約１９０℃に維持するようにヒータ１２を制御するようにヒータ１２を制御するようプログラム化されている。

設定１１８は、高い又は活発に沸騰する最大沸騰を提供する。この設定が選択されたときには、制御装置２８は温度感知性電気抵抗素子３８により検出される温度を約２１０℃以上に、適当には約２２０℃に維持するようにヒータ１２を制御するようプログラム化されている。高い又は活発に沸騰する最大沸騰を提供するこの設定１１８の選択は、適当には、制御装置２８がヒータ１２を実質的に全電力で作動せしめることを生じせしめる。

追加の温度応答装置１２０をヒータ１２に設けることができ、この追加の温度応答装置１２０はヒータ１２の周囲区域からヒータ１２を少なくとも部分的に横切って延びるように配置されているロッド様又はビーム様の検出部分１２２を有する。この追加の温度応答装置１２０は、適当には、接続リード線１２４の手段により制御装置２８に電気的に接続されて、調理板４の温度を所定の制限内に制御し、例えば調理板４を熱損傷から防止する働きをする。この温度応答装置１２０は、公知の形で電気−機械装置又は温度感知性電気抵抗素子を組み入れている電子プローブとすることができる。

以上述べた説明から明らかなように、本発明は、沸騰に近い温度では、ヒータに加えられる電力の割合が、予期に反して、調理器具内の調理材料の気化作用の潜熱の開始の結果として、この特定量の調理材料のために増大させられるという認識に基づいてる。したがって、調理器具の実際の温度と温度応答装置の温度検出素子により検出される温度との間には、偏差が生じる。この温度偏差は、沸騰レベルが増大するにつれて増大する。そして、この温度偏差は監視して、複数の異なる沸騰レベルと調和する複数の制御ヒータ電力レベルを提供するように処理することができることがわかっている。

本発明による沸騰レベル制御装置の一実施例が設けられている電気調理装置の一実施例の平面図である。 図１の調理装置の断面図である。 図１及び図２の調理装置に使用するための温度応答装置の一実施例の斜視図である。 図３Ａの温度応答装置の分解図である。 使用者が人為的に選択可能な沸騰レベル制御装置の種々の入力制御温度設定において、図１及び図２の調理装置の温度応答装置の温度検出素子（センサ）により検出された温度を、調理器具（平なべ）の温度及び加熱される調理材料（水）の温度と比較して示すグラフである。

Claims (21)

1. 電気調理装置（２）の沸騰レベルを制御する方法であって、前記電気調理装置（２）が調理板（４）と、電気ヒータ（１２）と、温度応答装置（３０）と、手動入力選択装置（１０６）とを包含し、
   前記調理板（４）が前記電気ヒータ（１２）に接触してこの電気ヒータを支持している下面（１０）と調理器具（８）を受けるようにした上面（６）とを有すると共に、前記調理器具（８）が前記電気ヒータ（１２）の上に横たわる加熱区域（４Ａ）上で沸騰にさらされる調理材料を収容し、
   前記電気ヒータ（１２）が少なくともひとつの電気加熱エレメント（２０）と温度応答装置（３０）とを有し、前記温度応答装置（３０）が前記調理板（４）の下面（１０）に隣接して配設されて、前記調理器具（８）の温度を監視するようにし、
   前記温度応答装置（３０）が温度の関数として変化する電気パラメータを有する温度検出素子（３８）を有し、この温度検出素子（３８）が電源（２４）からの前記電気ヒータ（１２）の作動を制御する制御装置（２８）に電気的に接続され、
   前記手動入力選択装置（１０６）が前記制御装置（２８）と関連し、これにより複数の所定の沸騰レベルが前記調理器具（８）内の調理材料のために使用者により選択可能であるものにおいて、
   前記所定の沸騰レベルの各々を、前記温度検出素子（３８）により検出されて各所定の沸騰レベルのそれぞれの実際の表示温度に関して偏差がある所定の検出温度と関連づける段階と、
   前記電気ヒータ（１２）を前記沸騰レベルに対応する電力レベルで作動させることにより前記調理器具（８）内の調理材料の沸騰レベルを制御する段階と、
   を包含することを特徴とする方法。
2. 請求項１記載の方法において、前記所定の検出温度が各沸騰レベルのそれぞれの実際の温度に関して異なる量で偏差があるようにされていることを特徴とする方法。
3. 請求項１又は２記載の方法において、前記温度応答装置（３０）が前記調理板（４）の下面（１０）に実質的に接触して配置されていることを特徴とする方法。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法において、前記調理板（４）がガラス−セラミック材料から成ることを特徴とする方法。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法において、前記温度検出素子（３８）が、前記電源（２４）からの前記電気ヒータ（１２）の作動を制御するために、前記制御装置（２８）と閉ループの方法で作動することを特徴とする方法。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法において、前記温度検出素子（３８）及びこの温度検出素子の上に横たわる、前記調理板（４）の下面（１０）の対応する区域を、前記少なくともひとつの電気加熱エレメント（２０）からの直接熱放射から遮蔽する装置（６２）が設けられていることを特徴とする方法。
7. 請求項６記載の方法において、前記遮蔽装置（６２）が熱絶縁材料から成ることを特徴とする方法。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法において、前記温度応答装置（３０）が前記加熱区域（４Ａ）の周囲領域で前記調理板（４）の下面（１０）に隣接して配置されていることを特徴とする方法。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法において、前記温度検出素子（３８）が温度の関数として電気抵抗が変化する材料から成ることを特徴とする方法。
10. 請求項９記載の方法において、前記材料が支持基板（３２）上にフィルムの形で設けられていることを特徴とする方法。
11. 請求項９又は１０記載の方法において、前記材料が白金から成ることを特徴とする方法。
12. 請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法において、前記制御装置（２８）がマイクロプロセッサーベースド電気回路から成ることを特徴とする方法。
13. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法において、前記複数の所定の沸騰レベルが低い又はぐつぐつ沸騰する沸騰レベル、中間沸騰レベル及び高い又は活発に沸騰する沸騰レベルから成ることを特徴とする方法。
14. 請求項１３記載の方法において、前記低い又はぐつぐつ沸騰する沸騰レベルが前記温度検出素子（３８）により検出される約１４０℃〜約１９０℃の範囲内の温度と関連づけられていることを特徴とする方法。
15. 請求項１４記載の方法において、前記低い又はぐつぐつ沸騰する沸騰レベルが前記温度検出素子（３８）により検出される約１７０℃の温度と関連づけられていることを特徴とする方法。
16. 請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の方法において、前記中間沸騰レベルが前記温度検出素子（３８）により検出される約１６０℃〜約２１０℃の範囲内の温度と関連づけられていることを特徴とする方法。
17. 請求項１６記載の方法において、前記中間沸騰レベルが前記温度検出素子（３８）により検出される約１９０℃の温度と関連づけられていることを特徴とする方法。
18. 請求項１３〜１７のいずれか一項に記載の方法において、前記高い又は活発に沸騰する沸騰レベルが前記温度検出素子（３８）により検出される約２１０℃以上の温度と関連づけられていることを特徴とする方法。
19. 請求項１８記載の方法において、前記高い又は活発に沸騰する沸騰レベルが前記温度検出素子（３８）により検出される約２２０℃の温度と関連づけられていることを特徴とする方法。
20. 請求項１３〜１９のいずれか一項に記載の方法において、前記高い又は活発に沸騰する沸騰レベルが実質的に全電力での前記電気ヒータ（１２）の作動を生じせしめることを特徴とする方法。
21. 請求項１〜２０のいずれか一項に記載の方法において、前記手動入力選択装置（１０６）がひとつ又はそれ以上のスイッチ装置から成ることを特徴とする方法。

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