JP2007039447A - 亜リン酸エステル類の結晶 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明者らは、n−デカンを用いて冷却晶析を試みたところ、収率及び純度は満足すべき結晶を含む湿潤結晶(ウエットケーキ)が得られたものの、晶析により得られた湿潤結晶中の残留n−デカンを除去すべく、乾燥機本体が静置した状態で乾燥すると、乾燥後も前記n−デカンが残存し、倉庫等に保管している際にブロッキングしてしまうことが明らかになった。さらに、n−デカンを含む湿潤結晶を時間をかけて十分に乾燥を実施して得られた結晶について、熱可塑性樹脂に配合すると熱可塑性樹脂の着色が引き起こされることが明らかになった。
本発明の目的は、収率及び純度が十分であり、保管時においてブロッキングすることがなく、熱可塑性樹脂に配合しても熱可塑性樹脂の着色を引き起こさない亜リン酸エステル類の結晶を提供することである。
すなわち、本発明は、沸点が150℃以下である脂肪族炭化水素及び沸点が150℃以下である脂環式炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素を含有する下記式(I)で示される亜リン酸エステル類の結晶であって、該結晶100重量部に対する炭化水素の含有量が0.005〜0.3重量部である下記式(I)で示される亜リン酸エステル類の結晶である。
本発明における亜リン酸エステル類(I)において、置換基R1、R2、R4及びR5はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基又はフェニル基を表す。
R1、R2、R4は、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基であることが好ましく、R5は、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基であることが好ましい。
ここで、炭素数1〜8のアルキル基の代表例としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、i−オクチル、t−オクチル、2−エチルヘキシル等が挙げられる。
また炭素数5〜8のシクロアルキル基の代表例としては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基の代表例としては、例えば1−メチルシクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル、1−メチル−4−i−プロピルシクロヘキシル等が挙げられる。炭素数7〜12のアラルキル基の代表例としては、例えばベンジル、α−メチルベンジル、α,α−ジメチルベンジル等が挙げられる。
R5は、水素原子、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、t−ペンチル等の炭素数1〜5のアルキル基であることが好ましい。
ここで、メチレン基に置換している炭素数1〜8のアルキル、炭素数5〜8のシクロアルキルとしては、それぞれ前記と同様のアルキル基、シクロアルキル基が挙げられる。
Xは、単なる結合、メチレン基又はメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル等が置換したメチレン基であることが好ましい。
ここで、炭素数2〜8のアルキレン基の代表例としては、例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン等が挙げられる。プロピレンが好ましく用いられる。
また*−COR7−基における*は、カルボニルがホスファイトの酸素と結合していることを示す。R7における、炭素数1〜8のアルキレン基の代表例としては、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン等が挙げられる。R7としては、単なる結合、エチレンなどが好ましく用いられる。
ここで、炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば前記と同様のアルキル基が挙げられ、炭素数1〜8のアルコキシ基としては、例えばアルキル部分が前記の炭素数1〜8のアルキルと同様のアルキルであるアルコキシ基が挙げられる。又炭素数7〜12のアラルキルオキシ基としては、例えばアラルキル部分が前記炭素数7〜12のアラルキルと同様のアラルキルであるアラルキルオキシ基が挙げられる。
(式中、R1、R2、R3及びXは前記と同じ意味を表す。)
で示されるビスフェノール類と、三ハロゲン化リンと下式(III)
(式中、R4、R5、A、Y及びZは前記と同じ意味を表す。)
で示されるヒドロキシ化合物とを芳香族炭化水中にて反応させ、得られた粗生成物に脂肪族炭化水素及び/又は脂環式炭化水素を加えて冷却晶析することにより得ることができる。
ここで、アミン類としては、一級アミン、二級アミン、三級アミンいずれでもよく、例えばt−ブチルアミン、t−ペンチルアミン、t−ヘキシルアミン、t−オクチルアミン、ジ−t−ブチルアミン、ジ−t−ペンチルアミン、ジ−t−ヘキシルアミン、ジ−t−オクチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン等が挙げられるが、好ましくはトリエチルアミンである。
ピリジン類としては、例えばピリジン、ピコリン等が挙げられるが、好ましくはピリジンである。ピロリジン類としては、例えば1−メチル−2−ピロリジン等が挙げられる。
またアミド類としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げられるが、N,N−ジメチルホルムアミドが好ましく使用される。
アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等が挙げられるが、好ましくは水酸化ナトリウムである。
芳香族炭化水素としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等が、脂肪族炭化水素としては、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等が、脂環式炭化水素としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等が、含酸素系炭化水素としては、例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等が、ハロゲン化炭化水素としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素、モノクロルベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。
これらの中でも、反応時に原料及び生成物が溶解する観点から、芳香族炭化水素が好ましく、とりわけ、トルエン、キシレンが好ましく使用される。
この方法の場合、三ハロゲン化リンは、ビスフェノール類(II)に対して1〜1.1モル倍程度用いるのが好ましく、より好ましくは1〜1.05モル倍程度用いる。また脱ハロゲン化水素剤を用いる場合は、三ハロゲン化リンに対して0.05〜2.4モル倍程度用いるのが好ましく、より好ましくは2〜2.1モル倍程度である。
ビスフェノール類(II)と三ハロゲン化リンとの反応は、通常0〜200℃程度で実施される。この反応により、中間体ハロゲノホスファイトが生成すると考えられ、これを単離してから次の反応に供してもよいが、通常は反応混合物のままヒドロキシ化合物(III)との反応に供される。
この反応においても、脱ハロゲン化水素剤を用いることができ、その場合の脱ハロゲン化水素剤の量は、ヒドロキシ化合物(III)に対して0.05〜1.2モル倍程度が好ましい。この追加する脱ハロゲン化水素剤の量は、最初の反応で脱ハロゲン化水素剤を過剰に用いた場合は、残存する脱ハロゲン化水素剤を含めて計算するのが通常である。
反応は、通常0〜200℃程度の温度で実施される。
ここで、還元剤としては、例えばアルミニウムリチウムハイドライド、アルミニウムナトリウムハイドライド、リチウムボロハイドライド、ナトリウムボロハイドライド、カルシウムボロハイドライド、アルミニウムナトリウムトリエトキシハイドライド、ナトリウムトリアセトキシボロハイドライド、トリブチルスズハイドライド、9−BBN−ピリジン、三水素化ホウ素、ナトリウム、アルコール共存下にてナトリウム/アンモニア、アルコール共存下にてリチウム/アンモニア、ジ−iso−ブチルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
R7が単なる結合である場合は、例えば対応するヒドロキシ安息香酸、アルコキシ安息香酸、アラルキルオキシ安息香酸等を塩化アルミニウムや塩化亜鉛等の触媒を用いて、フリーデルクラフト反応させることにより製造することができる。また、Zがヒドロキシ基、アルコキシ基又はアラルキルオキシ基である場合は、対応するフェノール類と水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物と二酸化炭素とを用いて、コルベ・シュミット反応させることにより製造することができる(特開昭62−61949号公報や特開昭63−165341号公報を参照)。
またR7が、炭素数1〜8のアルキレンである場合は、対応するフェノールを、塩化アルミニウムや塩化亜鉛等のフリーデル・クラフツ触媒、カルボアルコキシアルカノイルハロゲノイドを用いてアシル化した後、パラジウム炭、白金炭等の水素化触媒により、ベンジル位のカルボニル基を還元してアルキレンにし、次いで酸又はアルカリによりエステルを加水分解することにより製造することができる(ラバー ケミストリー アンド テクノロジー 46,96(1973)を参照)。
Aが*−COR7−基であるときのヒドロキシ化合物(III)としては、例えば3−t−ブチル−2−ヒドロキシ安息香酸、3−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、5−t−ブチル−2−ヒドロキシ安息香酸、3−t−ペンチル−4−ヒドロキシ安息香酸、3−t−オクチル−4−ヒドロキシ安息香酸、3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ安息香酸、3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−ヒドロキシ安息香酸、3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチル安息香酸、3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル安息香酸、5−t−ブチル−2−ヒドロキシ−3−メチル安息香酸、3−t−ペンチル−4−ヒドロキシ−5−メチル安息香酸、3−t−オクチル−4−ヒドロキシ−5−メチル安息香酸、3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−5−メチル安息香酸、3−(1−メチルシクロヘキシル)−4−ヒドロキシ−5−メチル安息香酸、3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−エチル安息香酸、3−t−ペンチル−4−ヒドロキシ−5−エチル安息香酸、3−t−オクチル−4−ヒドロキシ−5−エチル安息香酸、3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−5−エチル安息香酸、
T3<T1<T2 (1)
ここで、T1は上記第一工程における液温の最低値(℃)を表し、T2は第二工程における液温の最高値(℃)を表し、T3は第三工程における液温の最低値(℃)を表す。
沸点が150℃以下の脂肪族炭化水素としては、例えば、n−ペンタン(沸点36℃)、n−ヘキサン(沸点69℃)、n−ヘプタン(沸点98℃)、n−オクタン(沸点126℃)等が挙げられ、沸点が150℃以下の脂環式炭化水素としては、例えば、シクロペンタン(沸点49℃)、シクロヘキサン(沸点81℃)、シクロヘプタン(沸点117℃)等が挙げられる。
含有炭化水素類としては異なる複数種の含有炭化水素類であってもよい。
含有炭化水素類を晶析溶媒として用いることにより、高純度で高収率の亜リン酸エステル類(I)の結晶を得ることができる。
含有炭化水素類の沸点が150℃以下であると、乾燥時及び/又は保管時にブロッキングを抑制したり、熱可塑性樹脂に本発明の結晶を配合しても熱可塑性樹脂の色相の変化が低減される傾向にある。
これらの中でも、n−ヘキサン又はn−ヘプタンが好ましい。
第一工程における冷却操作では、必要に応じて、亜リン酸エステル類(I)の種晶を添加してもよい。第一工程では、温度T1以下で、30分〜3時間保冷することが好ましい。
第三工程における最低温度(液温の最低値(℃))がT3である。T3は、通常、晶析溶媒の融点以上、T1未満であり、具体的には、−20〜10℃である。T2からT3への冷却速度は、毎時20℃以下の速度であることが好ましく、毎時15℃以下の速度であることがより好ましく、毎時10℃以下の速度であることが特に好ましい。晶析時の冷却速度が毎時20℃以下であると、亜リン酸エステル類(I)の結晶が大きくなり、流動性が向上する傾向がある。第三工程では、温度T3で、3〜20時間保持することが好ましい。
乾燥圧力を5〜20kPaの真空下にて実施すると、結晶を高温に加熱したり時間をかけて乾燥することがなく、得られた乾燥結晶を熱可塑性樹脂に配合しても熱可塑性樹脂の着色が低減される傾向があることから好ましい。
さらに、乾燥温度は、40〜60℃の熱媒を用いて実施すると、得られた乾燥結晶を熱可塑性樹脂に配合しても熱可塑性樹脂の着色が低減される傾向があることから好ましい。
もちろん、乾燥圧力を5kPa以上であると、特殊な真空設備が不要であり工業生産性、経済性の観点から好ましい。乾燥圧力が、20kPa以下であると、乾燥が十分となり乾燥中や保管中にブロッキングの発生が抑制される傾向がある。一方、乾燥温度が40℃以上であると、乾燥が十分となり、乾燥中や保管中にブロッキングの発生が抑制される傾向がある。さらに、乾燥温度が60℃以下であると、熱可塑性樹脂に配合した場合に熱可塑性樹脂の色相が変化が抑制される傾向がある。
また、本発明の乾燥条件は、乾燥圧力を5〜20kPa、かつ乾燥温度を40〜60℃で実施することができるが、この際、室温下で、まず乾燥圧力を5〜20kPaまで真空下に設定したあと、40〜60℃に昇温し加熱する方法が好ましい。この方法により、乾燥中にブロッキングや熱可塑性樹脂に該結晶を適用した場合、熱可塑性樹脂の色相の変化を低減させる傾向がある。さらに、本発明は、静置状態で乾燥しても、乾燥機を回転させながら乾燥しても構わないが、回転させながら乾燥させるのが、乾燥時の固結を抑制できる観点から好ましい。回転乾燥機の具体例としては、コニカル乾燥機、ナウター乾燥機などが挙げられる。静置型乾燥機の具体例としては、オーブンや振動流動乾燥機などが挙げられる。
0.005重量部以上であると、熱可塑性樹脂に配合しても熱可塑性樹脂の着色を低減する傾向があることから好ましく、0.3重量部以下であると乾燥時又は保管時においてブロッキングを抑制する傾向があることから好ましい。
3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチルビフェニル−2,2’−ジオールのキシレン溶液6130重量部に三塩化リン620重量部を加え、攪拌下に50〜65℃の温度を保ちながら、ジイソプロピルエチルアミンの1880重量部を3時間要して加えた。その後、同温度で1時間保温した。
次に、50〜65℃の温度を保ちながら、3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパノール1040重量部を加え、その後、60〜80℃で1時間保温して、2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパノール1040重量部を加え、その後、60〜80℃で1時間保温して、2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−[3−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロポキシ]ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン(以下、単にジオキサホスフェピンという)を含む反応液を得た。得られた反応液を水洗後、さらに3重量%の水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。
洗浄後の有機層を、加熱下に減圧蒸留して、水とキシレンを留去した。(反応液中、キシレン含量は、5重量%以下であった。)
留去後の残液にn−ヘプタンの2100重量部を加え、次いで、上記のジオキサホスフェピンの種晶を少量加えた。その後、冷却して結晶を析出させた。析出した結晶を加圧濾過機で濾別して濾上物に湿潤結晶を得た。
湿潤結晶中のn−ヘプタン含有量をガスクロマトグラフィーにより測定した(以下の実施例、比較例で残溶媒の定量は、全てガスクロマトグラフィーにより実施)ところ13重量%であった。
上記、湿潤結晶をn−ヘプタンで洗浄して湿潤結晶を得た。次いで、容量2m3のステンレス製のジャケット付減圧乾燥機を用いて、圧力6.6kPaの真空下で、ジャケット入口温度50℃で15時間乾燥した。乾燥後におけるジオキサホスフェピン結晶中のn−ヘプタン(沸点98℃)の含量は、0.12重量%であった。
得られたジオキサホスフェピン結晶を23℃×50%RHの条件下で3ヶ月保管しても固結(ブロッキング)は発生しなかった。
n−ヘプタンの代わりにn−デカン(沸点174℃)を晶析時および洗浄時の溶媒として使用した以外は、実施例1と同様に操作した。結果を実施例1とともに表1に記載した。
n−ヘプタンの代わりにn−デカンを晶析時および洗浄時の溶媒として使用し、圧力1.3kPaの真空下で、ジャケット入り口温度80℃で3時間乾燥した以外は、実施例1と同様に操作した。結果を表1にまとめた。
湿潤結晶をロータリーエバポレーターにて、圧力19kPaの真空下で、バス温を50℃に設定し、45分間乾燥した以外は、実施例1と同様に操作した。結果を表1にまとめた。
得られたジオキサホスフェピン結晶を50℃×80%RHの条件下で4日間保管しても固結(ブロッキング)は発生しなかった。
実施例1と同様にして粗湿潤結晶を得た。次いで、n−ヘプタンの代わりにn−ヘキサンを用いて洗浄する以外は実施例1と同様にして湿潤結晶を得、次いで、ロータリーエバポレーターにて、圧力19kPaの真空下で、バス温を40℃に設定し、30分間乾燥してジオキサホスフェピン結晶を得た。結果を実施例2とともに表2にまとめた。
圧力91kPaの真空下で、バス温を98℃に設定し、45分間乾燥した以外は、実施例2と同様に操作した。結果を表2にまとめた。
実施例1と同様にして得られた湿潤結晶を大気圧下、バス温105℃で乾燥した。結果を表2にまとめた。
実施例1、比較例3、比較例4で得られたジオキサホスフェピンの50mgと低密度ポリエチレンの50gをラボプラストミルに投入し、200℃で50回転/分の条件で30分間混練した。30分間混練後、プレスし、プレスシートの色相をカラーコンピューターでイエローネス インデックス(YI)を測定して、樹脂加工時における耐着色性を評価した。さらに、混練時のトルクを追跡し、トルク上昇開始時間を測定した。トルク上昇開始時間が長いほど、加工安定化効果に優れることを意味する。結果を表3にまとめた。
Claims (5)
- 沸点が150℃以下である脂肪族炭化水素及び沸点が150℃以下である脂環式炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素を含有する下記式(I)で示される亜リン酸エステル類の結晶であって、該結晶100重量部に対する炭化水素の含有量が0.005〜0.3重量部である下記式(I)で示される亜リン酸エステル類の結晶。
[式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基又はフェニル基を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表し、Xは単結合、硫黄原子又は−CHR6−基を表す。ここでR6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数5〜8のシクロアルキル基を表し、Aは炭素数2〜8のアルキレン基又は*−COR7−基を表し、ここでR7は単結合又は炭素数1〜8のアルキレン基を表し、*は酸素原子側に結合していることを表す。Y及びZは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキシ基又は炭素数7〜12のアラルキルオキシ基を表し、他方が水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。] - 炭化水素が、n−へキサン又はn−ヘプタンである請求項2に記載の式(I)で示される亜リン酸エステル類の結晶。
- 上記式(I)で示される亜リン酸エステルを主成分とする湿潤結晶を乾燥して亜リン酸エステル類の結晶を製造する方法において、湿潤結晶には沸点が150℃以下である脂肪族炭化水素及び沸点が150℃以下である脂環式炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素が3〜10重量%の範囲で含まれ、圧力が5〜10kPaの範囲の真空下で熱媒を40〜60℃に調整して前記湿潤結晶を乾燥し、得られる亜リン酸エステル類の結晶100重量部中の該炭化水素の含有量を0.005〜0.3重量部に調整することを特徴とする亜リン酸エステル類の結晶を製造する方法。
- 沸点が150℃以下である脂肪族炭化水素及び沸点が150℃以下である脂環式炭化水素からなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素を3〜20重量%含有する下記式(I)
[式中、R1、R2、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアルキルシクロアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基又はフェニル基を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表し、Xは単結合、硫黄原子又は−CHR6−基を表す。ここでR6は水素原子、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数5〜8のシクロアルキル基を表し、Aは炭素数2〜8のアルキレン基又は*−COR7−基を表し、ここでR7は単結合又は炭素数1〜8のアルキレン基を表し、*は酸素原子側に結合していることを表す。Y及びZは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数1〜8のアルコキシ基又は炭素数7〜12のアラルキルオキシ基を表し、他方が水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を表す。]
で示される亜リン酸エステル類の結晶を、圧力5〜20kPa、温度40〜60℃で乾燥する、該結晶100重量部に対する炭化水素の含有量が0.005〜0.3重量部である亜リン酸エステル類の結晶の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の亜リン酸エステル類の結晶を熱可塑性樹脂に配合することを特徴とする熱可塑性樹脂の安定化方法。
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