JP2007018299A - Voltage generation circuit and display device - Google Patents
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Abstract
【課題】LCD等のゲート線駆動用シフトレジスタに於ける非晶質シリコン薄膜トランジスタで生じる閾値電圧のシフト分に応じた高い電源電圧を生成できる回路を提供する。
【解決手段】制御信号SETがLレベルにあるとき、a−SiTFTである第1トランジスタQMのゲートは電源電圧VDDAでバイアスされる。ノードN5の電圧が電圧VDDAを維持出来る周期で制御信号SETがHレベルに立ち上がり、第1トランジスタQMはダイオード接続され、ノードN2の電圧は第1トランジスタQMの閾値電圧Vthになり、電源電圧VDDAはVth+Vc(Vcは定電圧)となる。即ち、a−SiTFTの閾値電圧Vthが検知される。その後、第1トランジスタQMが電源電圧VDDAでバイアスされ続けられる結果、閾値電圧Vthが増大すると、制御信号SETのHレベルへの立ち上がりにより、電源電圧VDDAは閾値電圧Vthの当該増大分だけ増大する。
【選択図】図7
A circuit capable of generating a high power supply voltage corresponding to a shift amount of a threshold voltage generated in an amorphous silicon thin film transistor in a gate line driving shift register such as an LCD is provided.
When a control signal SET is at an L level, the gate of a first transistor QM, which is an a-Si TFT, is biased with a power supply voltage VDDA. The control signal SET rises to H level in a period in which the voltage of the node N5 can maintain the voltage VDDA, the first transistor QM is diode-connected, the voltage of the node N2 becomes the threshold voltage Vth of the first transistor QM, and the power supply voltage VDDA is Vth + Vc (Vc is a constant voltage). That is, the threshold voltage Vth of the a-Si TFT is detected. Thereafter, when the threshold voltage Vth increases as a result of the first transistor QM being continuously biased by the power supply voltage VDDA, the power supply voltage VDDA increases by the increase of the threshold voltage Vth due to the rising of the control signal SET to the H level.
[Selection] Figure 7
Description
本発明は表示装置の駆動回路を成すシフトレジスタの電源電圧を発生させる電圧発生回路に関しており、特に非晶質シリコン薄膜トランジスタ(a−SiTFT;以下、特に断らない限り、単にトランジスタとも称す)で構成されたシフトレジスタの電源回路に関わる。 The present invention relates to a voltage generating circuit for generating a power supply voltage of a shift register that constitutes a driving circuit of a display device, and is particularly composed of an amorphous silicon thin film transistor (a-Si TFT; hereinafter, also simply referred to as a transistor unless otherwise specified). Related to the power circuit of the shift register.
シフトレジスタ及びその電源回路に関する従来技術としては、特許文献1に記載されたものがある。N型の非晶質シリコン薄膜トランジスタでは、ゲート・ソース間に正の電圧を継続的にバイアスすると、そのしきい値電圧(Vth)がシフト(増大)する。特許文献1においては、その図2に於けるトランジスタ17と19が継続的に正バイアスされてしきい値電圧Vthのシフトが起こるので、その対策として、図4に示される回路が提案されている。
As a prior art regarding the shift register and its power supply circuit, there is one described in
特許文献1の図4においては、トランジスタ199が非晶質シリコンの薄膜トランジスタであり、トランジスタ199以外のトランジスタは単結晶シリコンのトランジスタである。トランジスタ199は、特許文献1の図2に於ける両トランジスタ17,19のしきい値電圧Vthのシフトを検知して、シフト分だけ電源電圧VDDをシフトさせる働きをすると、記載されている。ところが、特許文献1の図2におけるトランジスタ17,19のゲート・ソース間のバイアスは電圧VDDであるが、特許文献1の図4に於けるトランジスタ199はダイオード接続されており、そのゲート・ソース間電圧(V199)はほぼしきい値電圧Vthとなる。
In FIG. 4 of
即ち、特許文献1では、上記トランジスタ199のゲート・ソース間のバイアスが上記トランジスタ17,19のゲート・ソース間のバイアスVDDよりも小さいので、トランジスタ17,19と同じしきい値電圧Vthのシフトが起らず、その結果、しきい値電圧Vthのシフトに応じた高い電圧VDDを生成することができず、シフトレジスタが誤動作するという問題点がある。
That is, in
本発明は上記の問題点を解決するためになされたものであり、しきい値電圧Vthのシフトに応じた高い電源電圧VDDAを生成可能なシフトレジスタ用の電圧発生回路、及び、当該電圧発生回路を有する表示装置の提供を、その目的としている。 The present invention has been made to solve the above problems, and a voltage generation circuit for a shift register capable of generating a high power supply voltage VDDA according to the shift of the threshold voltage Vth, and the voltage generation circuit The object is to provide a display device having
本発明の主題は、そのしきい値電圧が電源電圧に基づいたバイアス電圧の継続的な印加に伴いシフトし得ると共に非選択状態のときに出力を非選択レベルに設定する出力プルダウントランジスタを有する単位シフトレジスタに於ける前記電源電圧を発生させるための電圧発生回路であって、前記出力プルダウントランジスタと同様にシフトし得るしきい値電圧を有する第1トランジスタを備えており、所定の周期で前記第1トランジスタの前記しきい値電圧を検知して、検知した当該しきい値電圧に応じた出力電圧を前記電源電圧として出力ノードより出力すると共に、前記所定の周期中、前記第1トランジスタの前記しきい値電圧の非検知時には、前記出力プルダウントランジスタの前記バイアス電圧に略等しい電圧を前記第1トランジスタのバイアスとして継続的に印加することを特徴とする。 The subject of the present invention is a unit having an output pull-down transistor whose threshold voltage can be shifted with the continuous application of a bias voltage based on the supply voltage and which sets the output to a non-selected level when in a non-selected state A voltage generation circuit for generating the power supply voltage in a shift register, comprising a first transistor having a threshold voltage that can be shifted in the same manner as the output pull-down transistor, and the first transistor having a predetermined cycle. The threshold voltage of one transistor is detected, an output voltage corresponding to the detected threshold voltage is output from the output node as the power supply voltage, and the first transistor is output during the predetermined period. When the threshold voltage is not detected, a voltage substantially equal to the bias voltage of the output pull-down transistor is set to the first transistor. Wherein the continuously applied as a bias.
以下、この発明の主題の様々な具体化を、添付図面を基に、その効果・利点と共に、詳述する。 Hereinafter, various embodiments of the subject of the present invention will be described in detail along with the effects and advantages thereof with reference to the accompanying drawings.
本発明の主題によれば、しきい値電圧シフトに応じた単位シフトレジスタの電源電圧を生成出来るので、しきい値電圧がシフトするトランジスタを持つ単位シフトレジスタの動作寿命を長くすることが出来ると言う効果がある。 According to the subject of the present invention, since the power supply voltage of the unit shift register can be generated in accordance with the threshold voltage shift, the operation life of the unit shift register having a transistor whose threshold voltage is shifted can be extended. There is an effect to say.
以下、本発明の実施の各形態を図面に基づき説明する。尚、図中における同一符号は、同一または相当部分を示すものとする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol in a figure shall show the same or an equivalent part.
(実施の形態1)
図1は、表示装置のゲート線駆動信号G1〜G4を生成するシフトレジスタの概略構成図であり、当該シフトレジスタは、本実施の形態に係る電圧発生回路の出力電圧VDDAを、その電源電圧として用いる。図1のシフトレジスタは、単位シフトレジスタSR1〜SR4を4段分縦続接続して成る回路である。図1は、互いに逆相の2相クロック信号(C1,C2)で駆動されるシフトレジスタの例を示す。勿論、3相以上のクロックでシフトレジスタを駆動することも可能である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a shift register that generates gate line drive signals G1 to G4 of a display device. The shift register uses the output voltage VDDA of the voltage generation circuit according to the present embodiment as its power supply voltage. Use. The shift register of FIG. 1 is a circuit formed by cascading unit shift registers SR1 to SR4 for four stages. FIG. 1 shows an example of a shift register driven by two-phase clock signals (C1, C2) having opposite phases. Of course, it is also possible to drive the shift register with three or more phase clocks.
図2は、3相のクロック信号(C1、C2、C3)で駆動されるシフトレジスタの構成例を示す。図4は、図2のシフトレジスタに於ける動作波形を示すタイミングチャートであり、その動作は特許文献1のシフトレジスタと同様である。
FIG. 2 shows a configuration example of a shift register driven by a three-phase clock signal (C1, C2, C3). FIG. 4 is a timing chart showing operation waveforms in the shift register of FIG. 2. The operation is the same as that of the shift register of
図1において、各段の単位シフトレジスタSR1〜SR4には、電源電圧VDD,VDDAと接地電圧VSSとが供給され、奇数段にはクロック信号C1が、偶数段にはクロック信号C2が各々入力される。 In FIG. 1, power supply voltages VDD and VDDA and a ground voltage VSS are supplied to the unit shift registers SR1 to SR4 of each stage, and a clock signal C1 is input to the odd stages and a clock signal C2 is input to the even stages. The
図3は、図1のシフトレジスタに於ける動作波形を示すタイミングチャートである。初段の単位シフトレジスタSR1の出力信号G1が次段の単位シフトレジスタSR2のGn−1入力端に入力され、単位シフトレジスタSR2の出力信号G2は、3段目の単位シフトレジスタSR3のGn−1入力端に入力されると同時に、単位シフトレジスタSR1のGn+1入力端にも入力される。各単位シフトレジスタSR1〜SR4の出力信号G1〜G4は、表示装置側の対応するゲート線の駆動信号である。初段の出力信号G1が出力される前に次段の出力信号G2は出力されないので、実際にはシフトレジスタの最終段まで動作する1回のダミー動作が行われる。初段の単位シフトレジスタSR1のGn−1入力端には、外部より開始信号INが入力される。 FIG. 3 is a timing chart showing operation waveforms in the shift register of FIG. The output signal G1 of the first unit shift register SR1 is input to the Gn-1 input terminal of the next unit shift register SR2, and the output signal G2 of the unit shift register SR2 is Gn-1 of the third unit shift register SR3. At the same time as being input to the input terminal, it is also input to the Gn + 1 input terminal of the unit shift register SR1. Output signals G1 to G4 of the unit shift registers SR1 to SR4 are driving signals for the corresponding gate lines on the display device side. Since the output signal G2 of the next stage is not output before the output signal G1 of the first stage is output, actually, one dummy operation that operates up to the final stage of the shift register is performed. A start signal IN is input from the outside to the Gn-1 input terminal of the first stage unit shift register SR1.
又、最終段での出力信号Gn+1を得るために、N+1段の単位シフトレジスタ(図示せず)がダミー段として設けられる。 Further, in order to obtain the output signal Gn + 1 at the final stage, N + 1 unit shift registers (not shown) are provided as dummy stages.
図5は、N型のトランジスタ(a−SiTFT)を用いた単位シフトレジスタの回路例を示す図である(特許文献1に用いられている回路がベース)。尚、図5を含め本願においては、説明の都合上、低電位側の電源電圧を基準電位(接地電圧)VSSとしているが、実使用においては、画素に書込まれる電圧データの電位が基準となり、図5における高電位側の電源電圧VDDには正電圧(例えば17V)が、低電位側の電源電圧VSSには負電位(例えば−12V)が各々用いられる。 FIG. 5 is a diagram showing a circuit example of a unit shift register using an N-type transistor (a-Si TFT) (based on the circuit used in Patent Document 1). In this application including FIG. 5, for convenience of explanation, the power supply voltage on the low potential side is set to the reference potential (ground voltage) VSS. However, in actual use, the potential of the voltage data written to the pixel is the reference. In FIG. 5, a positive voltage (for example, 17V) is used for the power supply voltage VDD on the high potential side, and a negative potential (for example, −12V) is used for the power supply voltage VSS on the low potential side.
図6は、図5の単位シフトレジスタに於ける動作波形を示すタイミングチャートである。 図6は、図5の回路が非選択状態(Gn=L)から選択状態(Gn=H)になり、再び非選択状態(Gn=L)になることを示している。 FIG. 6 is a timing chart showing operation waveforms in the unit shift register of FIG. FIG. 6 shows that the circuit of FIG. 5 changes from the non-selected state (Gn = L) to the selected state (Gn = H) and again enters the non-selected state (Gn = L).
非選択状態においては、出力ノードN3に接続された表示装置側のゲート線(図示せず)と絶縁膜(図示せず)を挟んで交叉するデータ線(図示せず)との間の寄生容量による容量結合ノイズ等を低減するために、出力ノードN3を、低インピーダンスでLレベルに維持する必要がある。若しゲート線上に正側ノイズが生じた場合には、ゲート線は選択状態に近づき、当該ゲート線で選択する画素に誤ったデータが書込まれる場合がある。 In the non-selected state, the parasitic capacitance between the gate line (not shown) on the display device side connected to the output node N3 and the data line (not shown) crossing the insulating film (not shown). In order to reduce the capacitive coupling noise caused by the above, it is necessary to maintain the output node N3 at the L level with low impedance. If positive side noise is generated on the gate line, the gate line approaches the selected state, and erroneous data may be written in the pixel selected by the gate line.
加えて、非選択状態においては、ノードN9をもLレベルに維持する必要性がある。非選択状態において、クロック信号CLKは繰り返し入力される。トランジスタQ1のドレイン(N4)とゲート(N9)間にはゲート電極部とドレイン電極部の重なりによって生じる比較的大きな寄生容量(図示せず)が存在しており、クロック信号CLKのLレベルからHレベルへのレベル変化時に、この変化分が当該寄生容量を介してゲート(N9)に結合する。若しノードN9のインピーダンスが高いと、ノードN9のレベルが高くなりトランジスタQ1がONする場合がある。非選択状態においてトランジスタQ1がONすると、図5の回路は選択状態に近づき、出力信号(第n行のゲート線の駆動信号)GnのLレベルが一定分上昇する。レベル上昇分が比較的小さくても、1フレーム間にこの動作が繰り返し行われることになるので、画素に書込まれたデータが徐々にデータ線にリークして、そのレベルが低下するという問題が起こる。従って、非選択状態においては、ノードN9をもLレベルに維持しなければならない。 In addition, in the non-selected state, it is necessary to maintain the node N9 at the L level. In the non-selected state, the clock signal CLK is repeatedly input. A relatively large parasitic capacitance (not shown) is generated between the drain (N4) and the gate (N9) of the transistor Q1 due to the overlap of the gate electrode portion and the drain electrode portion. When the level changes to the level, this change is coupled to the gate (N9) via the parasitic capacitance. If the impedance of the node N9 is high, the level of the node N9 becomes high and the transistor Q1 may be turned on. When the transistor Q1 is turned on in the non-selected state, the circuit of FIG. 5 approaches the selected state, and the L level of the output signal (the driving signal for the gate line of the nth row) Gn increases by a certain amount. Even if the level increase is relatively small, this operation is repeatedly performed during one frame, so that the data written in the pixel gradually leaks to the data line and the level decreases. Occur. Therefore, in the non-selected state, the node N9 must also be maintained at the L level.
図5及び図6において、電源電圧VDDAの値としては、両トランジスタQ2,Q4が所定のインピーダンスでONする電圧であれば、任意の電圧で良い。 5 and 6, the value of the power supply voltage VDDA may be any voltage as long as both transistors Q2 and Q4 are turned on with a predetermined impedance.
図5の回路に於いて、初期状態として、ノードN8は電源電圧VDDAに、ノードN9は接地電圧VSSに設定される。 In the circuit of FIG. 5, as an initial state, the node N8 is set to the power supply voltage VDDA, and the node N9 is set to the ground voltage VSS.
時刻t0で前段の単位シフトレジスタのゲート線駆動信号Gn−1がH(VDD)レベルになると、トランジスタQ6がONしてノードN8は接地電圧VSSになり、トランジスタQ4がOFFする。と同時に、ノードN9のレベルは、トランジスタQ3がONして、VDD−Vthになる。 When the gate line drive signal Gn-1 of the previous unit shift register becomes H (VDD) level at time t0, the transistor Q6 is turned on, the node N8 becomes the ground voltage VSS, and the transistor Q4 is turned off. At the same time, the level of the node N9 becomes VDD−Vth when the transistor Q3 is turned ON.
時刻t1で、ゲート線駆動信号Gn−1がLレベル(VSS)となり、トランジスタQ6,Q3はOFFするが、ノードN8,N9のレベルは、それぞれのノードの寄生容量(図示せず)により保持される。 At time t1, the gate line drive signal Gn-1 becomes L level (VSS) and the transistors Q6 and Q3 are turned off, but the levels of the nodes N8 and N9 are held by parasitic capacitances (not shown) of the respective nodes. The
時刻t2で、クロック信号CLKがHレベル(VDD)になると、トランジスタQ1がONしているので、ノードN3(Gn)のレベルが上昇する。トランジスタQ1はONしているので、ゲート(N9)とトランジスタのチャネル間の容量(図示せず)によりクロック信号CLKがノードN9に容量結合して、ノードN9のレベルはクロック信号CLKのレベル上昇と共に上昇する。ノードN9の寄生容量値に比べて、トランジスタQ1のゲートとチャネル間の容量値が充分大きいので、ノードN9のレベルはクロック信号CLKのほぼ変化分(VDD)だけ上昇する。この結果、ノードN9のレベルは、VDD−Vth+VDD=2・VDD−Vthとなる。この電圧はトランジスタQ1を非飽和領域で動作させる条件を満たしているので、しきい値電圧降下は起こらず、ノードN3(Gn)のレベルは、クロック信号CLKのHレベルと同じ電源電圧VDDとなる(選択状態)。 When the clock signal CLK becomes H level (VDD) at time t2, the level of the node N3 (Gn) rises because the transistor Q1 is ON. Since the transistor Q1 is ON, the clock signal CLK is capacitively coupled to the node N9 by the capacitance (not shown) between the gate (N9) and the transistor channel, and the level of the node N9 increases with the level of the clock signal CLK. To rise. Since the capacitance value between the gate and the channel of the transistor Q1 is sufficiently larger than the parasitic capacitance value of the node N9, the level of the node N9 rises by almost the change (VDD) of the clock signal CLK. As a result, the level of the node N9 is VDD−Vth + VDD = 2 · VDD−Vth. Since this voltage satisfies the condition for operating the transistor Q1 in the non-saturated region, no threshold voltage drop occurs, and the level of the node N3 (Gn) becomes the same power supply voltage VDD as the H level of the clock signal CLK. (Selected state).
時刻t3で、クロック信号CLKが基準電位VSSに降下すると、トランジスタQ1はONしているので、ノードN3はクロック信号CLKと同時に降下し、そのレベルは接地電圧VSSになる。ノードN9のレベルは、時刻t2と同じくクロック信号CLKと結合して変化するが、時刻t2の場合と逆の方向に変化し、VDD−Vthとなる。 When the clock signal CLK falls to the reference potential VSS at time t3, the transistor Q1 is turned on, so that the node N3 falls simultaneously with the clock signal CLK, and the level becomes the ground voltage VSS. The level of the node N9 changes in combination with the clock signal CLK similarly to the time t2, but changes in the opposite direction to that at the time t2, and becomes VDD−Vth.
時刻t4で、次段の単位シフトレジスタのゲート線駆動信号Gn+1がHレベル(VDD)になると、トランジスタQ5がONして、ノードN8が電源電圧VDDAとなる。この結果、トランジスタQ4がONしてノードN9が接地電圧VSSになる。同時に、トランジスタ(出力プルダウントランジスタ)Q2もONして、ノードN3のレベルも低インピーダンスのVSSレベルになる。 At time t4, when the gate line drive signal Gn + 1 of the next unit shift register becomes H level (VDD), the transistor Q5 is turned on and the node N8 becomes the power supply voltage VDDA. As a result, the transistor Q4 is turned ON and the node N9 becomes the ground voltage VSS. At the same time, the transistor (output pull-down transistor) Q2 is also turned ON, and the level of the node N3 becomes the VSS level with a low impedance.
時刻t4以降、ゲート線駆動信号Gnの当該シフトレジスタは非選択状態になり、トランジスタQ2,Q4の各ゲートに正バイアス(VDDA)が継続的に加わる状態になり、既述した通り、しきい値電圧Vthのシフトが起こる。 After time t4, the shift register for the gate line drive signal Gn is in a non-selected state, and a positive bias (VDDA) is continuously applied to the gates of the transistors Q2 and Q4. A shift of the voltage Vth occurs.
しきい値電圧Vthのシフト量(ΔVth)とゲートバイアスとの関係は、以下の式(1)で表される。 The relationship between the shift amount (ΔVth) of the threshold voltage Vth and the gate bias is expressed by the following equation (1).
(1)式において、Aは係数を、VGSはトランジスタのゲート・ソース間電圧を、Vthはしきい値電圧を、各々表す。 In the equation (1), A represents a coefficient, VGS represents a gate-source voltage of the transistor, and Vth represents a threshold voltage.
(1)式より、しきい値電圧Vthのシフトはゲートのバイアス電圧が大きい程起こりやすいことが理解される。従って、しきい値電圧Vthのシフト量を少なくするには、バイアス電圧VGSを小さく設定すれば良い。 It can be understood from the equation (1) that the threshold voltage Vth is more easily shifted as the gate bias voltage is larger. Therefore, in order to reduce the shift amount of the threshold voltage Vth, the bias voltage VGS may be set small.
他方、前述の通り、トランジスタQ2はノードN3に接続されたゲート線の非選択時にONとなりゲート線のレベルをLレベル(VSS)にするが、そのON抵抗が高くなると、ゲート線と結合するノイズを低減できなくなり、画素トランジスタがONする程度までゲート線のレベルが上昇して表示不具合が起こる。ゲート線の非選択時、トランジスタQ2は非飽和領域で動作しており、そのON抵抗は以下の式で表される。トランジスタQ2に流れる電流は、以下の式(2)で表される。 On the other hand, as described above, the transistor Q2 is turned on when the gate line connected to the node N3 is not selected, and the level of the gate line is set to the L level (VSS). Can not be reduced, and the level of the gate line rises to the extent that the pixel transistor is turned on, causing a display defect. When the gate line is not selected, the transistor Q2 operates in the non-saturated region, and its ON resistance is expressed by the following equation. The current flowing through the transistor Q2 is expressed by the following equation (2).
ここで、VGSはトランジスタQ2のゲート・ソース間電圧、VDSはトランジスタQ2のドレイン・ソース間電圧(ゲート線電圧)、βはトランジスタQ2の電流増幅係数である。(2)式より、 Here, VGS is a gate-source voltage of the transistor Q2, VDS is a drain-source voltage (gate line voltage) of the transistor Q2, and β is a current amplification coefficient of the transistor Q2. From equation (2)
トランジスタQ2のON抵抗RONは The ON resistance R ON of transistor Q2 is
(3)式より、 From equation (3)
ここで、B=1/βである。 Here, B = 1 / β.
ドレイン・ソース間電圧VDSは、ゲート線に正極性ノイズが加わった場合、トランジスタQ2の導通により制御されたゲート線の電圧に相当する。 The drain-source voltage VDS corresponds to the voltage of the gate line controlled by the conduction of the transistor Q2 when positive noise is applied to the gate line.
通常、VGS−Vth>>VDSなので、(4)式は以下の(5)式の様になる。 Usually, since VGS−Vth >> VDS, the equation (4) becomes the following equation (5).
(5)式より、ON抵抗RONを一定にするためには、VGS−Vthを一定にすれば良いということになる。 From equation (5), in order to make the ON resistance R ON constant, VGS−Vth should be made constant.
(1)式及び(5)式より、ゲート・ソース間電圧VGSの初期値を小さくしておいて、しきい値電圧Vthのシフト分だけゲート・ソース間電圧VGSを大きくしてVGS−Vthを一定にすれば、トランジスタQ2のON抵抗RONを長時間一定に出来るということになる。 From the equations (1) and (5), the initial value of the gate-source voltage VGS is reduced, and the gate-source voltage VGS is increased by the shift amount of the threshold voltage Vth to obtain VGS−Vth. if constant, it comes to be the oN resistance R oN of the transistor Q2 constant for a long time.
本発明では、駆動初期のバイアスをトランジスタのONに必要な最低限程度の値にしておいて、しきい値電圧Vthのシフトが起り難い状態にしておく。この条件でのしきい値電圧Vthのシフト量を検知して、しきい値電圧Vthのシフト量に応じてバイアス量をその分だけ増大させる電圧発生回路を提供することを、その目的としている。 In the present invention, the bias at the initial stage of driving is set to a minimum value necessary for turning on the transistor, and the threshold voltage Vth is hardly shifted. An object of the present invention is to provide a voltage generation circuit that detects the shift amount of the threshold voltage Vth under this condition and increases the bias amount correspondingly to the shift amount of the threshold voltage Vth.
つまり、(1)式におけるVGS−Vthの項を必要最小限の値にしておく。この値をバイアス電圧VBとすると、しきい値電圧Vthがシフトしてもバイアス電圧VBの値が一定となるように制御し、(4)式の括弧内のVGS−Vth(=VB)が一定となる様にして、トランジスタQ2がONしている時間を長くすることを、目的としている。 That is, the term VGS−Vth in the equation (1) is set to the minimum necessary value. When this value is the bias voltage VB, the bias voltage VB is controlled to be constant even when the threshold voltage Vth is shifted, and VGS−Vth (= VB) in the parentheses in the equation (4) is constant. The purpose is to lengthen the time during which the transistor Q2 is ON.
いま、初期のゲート・ソース間電圧VGS、しきい値電圧Vth及びバイアス電圧VBをそれぞれVGS0、Vth0、VB0とすると、 Now, assuming that the initial gate-source voltage VGS, threshold voltage Vth and bias voltage VB are VGS0, Vth0 and VB0, respectively.
しきい値電圧の初期値Vth0がシフトして値Vthになったとすると、その変化分ΔVthは、 If the initial value Vth0 of the threshold voltage is shifted to the value Vth, the change ΔVth is
この時のバイアス電圧をVBとすると、 If the bias voltage at this time is VB,
つまり、バイアス電圧VBが変化分ΔVth分だけ小さくなる。 That is, the bias voltage VB decreases by the change amount ΔVth.
仮に、(8)式においてゲート・ソース間電圧VGSを変化分ΔVth分だけ増加させると、 If the gate-source voltage VGS is increased by the change ΔVth in the equation (8),
つまり、バイアス電圧VBは変化しないことになる。この結果、(5)式も変化しないので、トランジスタQ2のON抵抗も変化しない。 That is, the bias voltage VB does not change. As a result, since the equation (5) does not change, the ON resistance of the transistor Q2 does not change.
図7は、本実施の形態に係るVDDA電圧発生回路を示す。同回路の出力電圧VDDAは、例えば図5に示すシフトレジスタのQ2、Q4のゲートをバイアスする電源電圧VDDAとして用いられる。図7の回路は、しきい値電圧Vthを検知して、当該しきい値電圧Vthのシフト量に応じて出力電圧VDDAを相当分シフトする電圧発生回路である。図7において、(第1)トランジスタQMは、しきい値電圧Vthのシフトを検知するための非晶質シリコン薄膜トランジスタであり、上記シフトレジスタと同一の絶縁基板(例えばガラス)上に形成される。 FIG. 7 shows a VDDA voltage generation circuit according to this embodiment. The output voltage VDDA of the circuit is used as a power supply voltage VDDA for biasing the gates of Q2 and Q4 of the shift register shown in FIG. 5, for example. The circuit of FIG. 7 is a voltage generation circuit that detects the threshold voltage Vth and shifts the output voltage VDDA by a corresponding amount in accordance with the shift amount of the threshold voltage Vth. In FIG. 7, a (first) transistor QM is an amorphous silicon thin film transistor for detecting a shift of the threshold voltage Vth, and is formed on the same insulating substrate (eg, glass) as the shift register.
トランジスタQM以外の抵抗素子(R1,R2)、スイッチ素子(SW1,SW2,SW3)、定電圧回路(Vc)、オペアンプ(OPA)、及び容量素子(Cs)は、例えば単結晶シリコン基板上に形成されたトランジスタあるいはいわゆるディスクリート素子等であり、上記薄膜トランジスタQMとは別に形成される。 The resistor elements (R1, R2), switch elements (SW1, SW2, SW3), constant voltage circuit (Vc), operational amplifier (OPA), and capacitor element (Cs) other than the transistor QM are formed on, for example, a single crystal silicon substrate. Transistors or so-called discrete elements, which are formed separately from the thin film transistor QM.
図7において、第1スイッチSW1は、トランジスタQMをダイオード接続するためにトランジスタQMのドレインとゲートとの間に設けられたスイッチ素子である。第2スイッチSW2は、トランジスタQMがバイアスされている間にトランジスタQMのドレイン・ソース間に流れる電流を遮断するためのスイッチ素子である。当該電流を遮断できるのであれば、スイッチ素子SW2は、ノードN4と定電圧回路Vcとの間、抵抗素子R2とノードN4との間、電源ノードVCCとR2との間のいずれに接続されても良い。第3スイッチSW3は、ノードN4に出力された電圧をオペアンプの非反転入力ノードN5に伝達して保持するためのスイッチ素子である。本例では、スイッチ素子SW1〜SW3は同一の制御信号SETで制御されているが、以下で述べる動作が満足されるならば、各スイッチ素子SW1〜SW3の制御信号は異なったタイミングの信号であっても良い。 In FIG. 7, the first switch SW1 is a switch element provided between the drain and gate of the transistor QM in order to diode-connect the transistor QM. The second switch SW2 is a switch element for cutting off a current flowing between the drain and source of the transistor QM while the transistor QM is biased. If the current can be cut off, the switch element SW2 may be connected between the node N4 and the constant voltage circuit Vc, between the resistance element R2 and the node N4, or between the power supply nodes VCC and R2. good. The third switch SW3 is a switch element for transmitting and holding the voltage output to the node N4 to the non-inverting input node N5 of the operational amplifier. In this example, the switch elements SW1 to SW3 are controlled by the same control signal SET. However, if the operation described below is satisfied, the control signals of the switch elements SW1 to SW3 are signals having different timings. May be.
尚、抵抗素子R2の抵抗値が大きく、抵抗素子R2で消費される電力が小さい場合には、第2スイッチSW2を設けなくても良い。 If the resistance value of the resistance element R2 is large and the power consumed by the resistance element R2 is small, the second switch SW2 may not be provided.
定電圧回路Vcは、ノードN3の電圧よりもノードN4の電圧を一定レベル高くするための定電圧生成回路であり、その詳細は後述する。 The constant voltage circuit Vc is a constant voltage generation circuit for making the voltage of the node N4 higher than the voltage of the node N3 by a certain level, and details thereof will be described later.
オペアンプOPAは、出力ノードと反転入力ノードとが接続された電圧フォロワモードで動作し、ノードN5の電圧と同じ電圧値の電圧VDDAを低インピーダンスで出力ノードN6に出力する。オペアンプOPAは、高インピーダンスの入力ノードN5と低インピーダンスの出力ノードN6との間でインピーダンス変換回路として働いており、この機能を実現できる回路(素子)があれば、オペアンプOPAを用いなくても良い。例えば、後述する様に、ソースフォロワ回路をインピーダンス変換回路として用いても良い。 The operational amplifier OPA operates in a voltage follower mode in which the output node and the inverting input node are connected, and outputs the voltage VDDA having the same voltage value as the voltage of the node N5 to the output node N6 with low impedance. The operational amplifier OPA functions as an impedance conversion circuit between the high impedance input node N5 and the low impedance output node N6. If there is a circuit (element) that can realize this function, the operational amplifier OPA may not be used. . For example, as will be described later, a source follower circuit may be used as the impedance conversion circuit.
容量素子Chは、ノードN5に取り込まれた電圧レベルを所定期間保持するための容量素子である。ノードN5の寄生容量等によりその電圧レベルが保持される場合には、容量素子Chは必ずしも必要ではない。 The capacitive element Ch is a capacitive element for holding the voltage level taken into the node N5 for a predetermined period. In the case where the voltage level is held by the parasitic capacitance of the node N5 or the like, the capacitive element Ch is not always necessary.
容量素子Csは、ノードN6(VDDA)に負荷電流が流れた時、オペアンプOPAの出力インピーダンスに起因する瞬時電圧降下を防止するための電圧安定化容量素子である。但し、負荷電流が小さい時には、容量素子Csは必ずしも必要ではない。 The capacitive element Cs is a voltage stabilizing capacitive element for preventing an instantaneous voltage drop caused by the output impedance of the operational amplifier OPA when a load current flows through the node N6 (VDDA). However, the capacitive element Cs is not always necessary when the load current is small.
抵抗素子R1は、トランジスタQMのゲートに電圧VDDA電圧を伝達すると共に、トランジスタQMがダイオード接続された時にノードN2のレベルをしきい値電圧Vthに設定する。このため、トランジスタQMのON抵抗に比べて、抵抗素子R1は充分大きな抵抗値に設定されている。 Resistive element R1 transmits voltage VDDA to the gate of transistor QM, and sets the level of node N2 to threshold voltage Vth when transistor QM is diode-connected. For this reason, the resistance element R1 is set to a sufficiently large resistance value compared to the ON resistance of the transistor QM.
抵抗素子R2は、抵抗素子R1と同様、トランジスタQMがダイオード接続された時にノードN2のレベルをしきい値電圧Vthに設定する。従って、トランジスタQMのON抵抗に比べて、抵抗素子R2は充分大きな抵抗値に設定されている。抵抗素子R2はノードN4に所定の電圧を生成する電流を流すことができれば良く、抵抗素子R2の代わりに、電流源を用いても良い。 Resistor element R2, like resistor element R1, sets the level of node N2 to threshold voltage Vth when transistor QM is diode-connected. Therefore, the resistance element R2 is set to a sufficiently large resistance value compared to the ON resistance of the transistor QM. The resistor element R2 only needs to be able to pass a current that generates a predetermined voltage to the node N4, and a current source may be used instead of the resistor element R2.
図7の回路は、以下の様に動作する。図8を参照して、その動作を説明する。 The circuit of FIG. 7 operates as follows. The operation will be described with reference to FIG.
制御信号SETがLレベルにある時、スイッチ素子SW1、SW2、SW3は全てOFF状態にある。この時、トランジスタQMのゲート(N1)電圧はVDDA、ドレイン(N2)電圧は0V、ソース(接地)電圧は0Vであり、トランジスタQMは図5のシフトレジスタのトランジスタQ2、Q4と同じバイアス状態に設定され、トランジスタQMのしきい値電圧Vthはシフトする状態にある。電圧VDDAはノードN5に保持された電圧によって設定されるが、ノードN5の電圧はノードN5の保持容量Chに保持された電圧であるので、リーク電流により時間と共に失われそのレベルが低下し、その結果、電圧VDDAのレベルも低下する。これを防止するために、制御信号SETが一定周期TでHレベルに立ち上がる。 When the control signal SET is at L level, the switch elements SW1, SW2, and SW3 are all in the OFF state. At this time, the gate (N1) voltage of the transistor QM is VDDA, the drain (N2) voltage is 0V, and the source (ground) voltage is 0V. The transistor QM is in the same bias state as the transistors Q2 and Q4 of the shift register of FIG. The threshold voltage Vth of the transistor QM is in a state of shifting. The voltage VDDA is set by the voltage held at the node N5. However, since the voltage at the node N5 is the voltage held at the holding capacitor Ch at the node N5, it is lost with time due to the leakage current, and its level is lowered. As a result, the level of the voltage VDDA also decreases. In order to prevent this, the control signal SET rises to the H level at a constant period T.
制御信号SETがHレベルになり、スイッチ素子SW1、SW2がONすると、トランジスタQMはダイオード接続され、抵抗素子R1,R2を介してトランジスタQMに所定周期で電流が流れるが、抵抗素子R1,R2の抵抗値はトランジスタQMのON抵抗に比べて充分高く設定されているので、ノードN2(=N3)のレベルはトランジスタQMのしきい値電圧Vthとなる。このレベルは、定電圧回路の電圧Vc分レベルアップされてノードN4に出力される。つまり、 When the control signal SET becomes H level and the switch elements SW1 and SW2 are turned ON, the transistor QM is diode-connected, and a current flows to the transistor QM through the resistance elements R1 and R2, but the resistance elements R1 and R2 Since the resistance value is set sufficiently higher than the ON resistance of the transistor QM, the level of the node N2 (= N3) becomes the threshold voltage Vth of the transistor QM. This level is raised by the voltage Vc of the constant voltage circuit and output to the node N4. That means
この時スイッチ素子SW3もONしているので、ノードN5のレベルはVth+Vcとなり、オペアンプOPAの出力電圧VDDAはVth+Vcとなる。尚、図8では、トランジスタQMのしきい値電圧Vthの初期値は電圧Vth1にあるものとして、この段階での出力電圧VDDAはVth1+Vcにあるものとして表されている。 At this time, since the switch element SW3 is also ON, the level of the node N5 becomes Vth + Vc, and the output voltage VDDA of the operational amplifier OPA becomes Vth + Vc. In FIG. 8, the initial value of the threshold voltage Vth of the transistor QM is assumed to be at the voltage Vth1, and the output voltage VDDA at this stage is expressed as being at Vth1 + Vc.
制御信号SETがLレベルになると、ノードN5にはVth+Vcのレベルの電圧が保持される。他方、スイッチ素子SW2がOFFとなり、電源ノードVCCからの電流が遮断されるので、ノードN4のレベルはVCCまで上昇する。 When the control signal SET becomes L level, a voltage of Vth + Vc level is held at the node N5. On the other hand, since the switch element SW2 is turned off and the current from the power supply node VCC is cut off, the level of the node N4 rises to VCC.
以下、ノードN5のレベルが殆ど低下しない周期Tで制御信号SETを繰り返しHレベルにすることで、出力電圧VDDAのレベルをVth+Vcに保つことが出来る。 Hereinafter, the level of the output voltage VDDA can be kept at Vth + Vc by repeatedly setting the control signal SET to the H level in the period T in which the level of the node N5 hardly decreases.
以下の動作を続けると、トランジスタQMのゲートバイアスによりしきい値電圧Vthが上昇するが、制御信号SETがHレベルになる時、ノードN5には(10)式で示される電圧が入力されるので、オペアンプOPAの出力(N6)にはしきい値電圧Vthのシフトを反映した電圧が出力される。この点に関して、図8では、しきい値電圧Vthが初期値Vth1から値Vth2(>Vth1)に上昇するものとして、当該しきい値電圧Vthのシフトを反映した出力電圧Vth2+VcがノードN6に出力される状態が示されている。 If the following operation is continued, the threshold voltage Vth rises due to the gate bias of the transistor QM. However, when the control signal SET becomes the H level, the voltage expressed by the equation (10) is input to the node N5. A voltage reflecting the shift of the threshold voltage Vth is output to the output (N6) of the operational amplifier OPA. In this regard, in FIG. 8, the threshold voltage Vth rises from the initial value Vth1 to the value Vth2 (> Vth1), and the output voltage Vth2 + Vc reflecting the shift of the threshold voltage Vth is output to the node N6. The state is shown.
この出力電圧VDDAを図5の単位シフトレジスタの電源電圧として用いることにより、しきい値電圧Vthがシフトしても、トランジスタQ2,Q4を一定バイアスVBでONさせることができるので、単位シフトレジスタを長時間動作させることができる(シフトレジスタの動作の長寿命化)。 By using this output voltage VDDA as the power supply voltage of the unit shift register of FIG. 5, even if the threshold voltage Vth is shifted, the transistors Q2 and Q4 can be turned on with a constant bias VB. It can be operated for a long time (extension of operation of the shift register).
(実施の形態2)
図9は、本実施の形態に係る単位シフトレジスタ用電圧発生回路の構成例を示す回路図である。図9に示す本電圧発生回路は、図7の電圧発生回路に於ける抵抗素子R1の替わりに、第4のスイッチとして、スイッチ素子SW4を用いる点を、その特徴点とする。その他の点は、実施の形態1の場合と同様である。図9の本回路では、図7の抵抗素子R1に流れる電流を無くすことができるので、低消費電力化を図ることが可能である。
(Embodiment 2)
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration example of the unit shift register voltage generating circuit according to the present embodiment. The voltage generation circuit shown in FIG. 9 is characterized in that a switch element SW4 is used as a fourth switch instead of the resistance element R1 in the voltage generation circuit of FIG. Other points are the same as those in the first embodiment. In the circuit of FIG. 9, the current flowing through the resistance element R1 of FIG. 7 can be eliminated, so that the power consumption can be reduced.
加えて、直接に出力電圧VDDAをトランジスタQMのゲートに入力するので、時間遅れなく出力電圧VDDAをトランジスタQMのゲートに入力することができるので、バイアス精度を高めることが出来る。 In addition, since the output voltage VDDA is directly input to the gate of the transistor QM, the output voltage VDDA can be input to the gate of the transistor QM without time delay, so that the bias accuracy can be improved.
但し、図9の回路では、制御信号SETと逆相の制御信号/SETが必要となる。 However, the circuit of FIG. 9 requires a control signal / SET having a phase opposite to that of the control signal SET.
図9の回路では、制御信号/SETがHレベルの期間、スイッチ素子SW4がONし、トランジスタQMのゲートに出力電圧VDDAが入力され、トランジスタQMは出力電圧VDDAにバイアスされる(この時、制御信号SETはLレベルにある)。 In the circuit of FIG. 9, the switch element SW4 is turned ON while the control signal / SET is at the H level, the output voltage VDDA is input to the gate of the transistor QM, and the transistor QM is biased to the output voltage VDDA (at this time, the control The signal SET is at L level).
制御信号/SETがLレベルになると、スイッチ素子SW4がOFF状態となり、トランジスタQMのゲートと出力電圧VDDAとが分離される。この時、ほぼ同時に制御信号SETがHレベルとなり、以下、既述した実施の形態1と同じ動作が行われ、ノードN5に、その時のトランジスタQMのしきい値電圧Vthに定電圧Vcを加えた電圧Vth+VcがノードN5に書き込まれ、出力電圧VDDAとしてノードN6に出力される。 When the control signal / SET becomes L level, the switch element SW4 is turned off, and the gate of the transistor QM and the output voltage VDDA are separated. At this time, the control signal SET becomes H level almost simultaneously, and thereafter, the same operation as in the first embodiment described above is performed, and the constant voltage Vc is added to the threshold voltage Vth of the transistor QM at that time to the node N5. The voltage Vth + Vc is written to the node N5 and output to the node N6 as the output voltage VDDA.
再び制御信号/SETがHレベルになると、スイッチ素子SW4がONして、上記VDDAでトランジスタQMのゲートが再びバイアスされる(制御信号SETはLレベル)。 When the control signal / SET becomes H level again, the switch element SW4 is turned ON, and the gate of the transistor QM is biased again by VDDA (the control signal SET is L level).
(実施の形態3)
本実施の形態は、既述した電圧発生回路に於ける定電圧回路の構成例に関する。即ち、図10は、図7又は図9の定電圧回路の具体例を示す。
(Embodiment 3)
The present embodiment relates to a configuration example of a constant voltage circuit in the voltage generation circuit described above. That is, FIG. 10 shows a specific example of the constant voltage circuit of FIG. 7 or FIG.
図10の(a)は、ツェナーダイオードD1をノードN3とノードN4との間に接続して定電圧回路を構成した例であり、そのブレークダウン電圧が既述した定電圧Vcとなる。 FIG. 10A shows an example in which a constant voltage circuit is configured by connecting a Zener diode D1 between a node N3 and a node N4, and the breakdown voltage is the constant voltage Vc described above.
図10の(b)は、ノードN3とノードN4との間にn個(任意の数)のダイオードを直列接続して定電圧回路を構成した例であり、各ダイオードの順方向電圧降下(Vf)を利用している。Vc≒n・Vfとなる。 FIG. 10B is an example in which a constant voltage circuit is configured by connecting n (arbitrary number) diodes in series between the node N3 and the node N4. The forward voltage drop (Vf) of each diode is shown in FIG. ). Vc≈n · Vf.
図10の(c)は、ノードN3とノードN4との間にダイオード接続されたn個(任意の数)の電界効果トランジスタを直列接続して定電圧回路を構成した例であり、各トランジスタのしきい値電圧をVTとすると、Vc≒n・VTとなる。 (C) of FIG. 10 is an example in which a constant voltage circuit is configured by serially connecting n (arbitrary number) field effect transistors diode-connected between the node N3 and the node N4. Assuming that the threshold voltage is VT, Vc≈n · VT.
(実施の形態4)
図11は、本実施の形態に係る単位シフトレジスタ用電圧発生回路の構成例を示す回路図である。
(Embodiment 4)
FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration example of the unit shift register voltage generating circuit according to the present embodiment.
図11の回路構成は、この発明に係る電圧発生回路が適用される表示装置のコストを低減するために、当該電圧発生回路の素子を表示装置側の表示素子と同じ絶縁基板(ガラス)上に形成する場合の例を示す。図11においては、抵抗素子R1,R2,R3、出力電圧安定化容量Cs以外の回路部品は、全て上記絶縁基板上に、表示素子と同時に形成される。 In the circuit configuration of FIG. 11, in order to reduce the cost of a display device to which the voltage generation circuit according to the present invention is applied, the elements of the voltage generation circuit are placed on the same insulating substrate (glass) as the display elements on the display device side. An example in the case of forming is shown. In FIG. 11, all circuit components other than the resistance elements R1, R2, and R3 and the output voltage stabilization capacitor Cs are formed on the insulating substrate at the same time as the display element.
図11では、図7におけるスイッチ素子SW1〜SW3に対応するものとして、それぞれトランジスタ(a−SiTFT)QS1,QS2,QS3が用いられ、図7の定電圧回路としては、ダイオード接続され且つノードN3とノードN4間で直列接続されたトランジスタ(a−SiTFT)QC1,QC2が用いられ、インピーダンス変換回路としては、ソースフォロワ動作をするトランジスタ(a−SiTFT)Q0が用いられ、保持容量Chとしては、表示素子中の画素の保持容量と同一構造の容量が用いられている。 In FIG. 11, transistors (a-Si TFTs) QS1, QS2, and QS3 are used as the elements corresponding to the switch elements SW1 to SW3 in FIG. 7, respectively. The constant voltage circuit in FIG. Transistors (a-SiTFT) QC1 and QC2 connected in series between the nodes N4 are used, a transistor (a-SiTFT) Q0 that performs a source follower operation is used as an impedance conversion circuit, and a display capacitor Ch A capacitor having the same structure as the storage capacitor of the pixel in the element is used.
図11の回路は以下の様に動作する。図12の波形図を参照して、制御信号SET(周期T)がLレベルの時、トランジスタQS1,QS2,QS3はOFF状態にある。この時、トランジスタQMのゲート(N1)電圧はVDDA、ドレイン(N2)電圧は0V、ソース(接地)電圧は0Vであり、トランジスタQMは図5のシフトレジスタのトランジスタQ2,Q4と同じバイアス状態に設定され、トランジスタQMのしきい値電圧(Vth1とする)がシフトする状態にある。出力電圧VDDAの値はノードN5に保持された電圧によって設定されるが、ノードN5の電圧はノードN5の保持容量Chに保持された電圧であるので、リーク電流により時間と共に失われ、そのレベルが低下する。その結果、出力電圧VDDAのレベルも低下する。これを防止するために、制御信号SETが一定周期TでHレベルとなる。 The circuit of FIG. 11 operates as follows. Referring to the waveform diagram of FIG. 12, when control signal SET (cycle T) is at L level, transistors QS1, QS2 and QS3 are in the OFF state. At this time, the gate (N1) voltage of the transistor QM is VDDA, the drain (N2) voltage is 0V, and the source (ground) voltage is 0V. The transistor QM is in the same bias state as the transistors Q2 and Q4 of the shift register of FIG. It is set and the threshold voltage (Vth1) of transistor QM shifts. Although the value of the output voltage VDDA is set by the voltage held at the node N5, the voltage at the node N5 is the voltage held at the holding capacitor Ch at the node N5. descend. As a result, the level of the output voltage VDDA also decreases. In order to prevent this, the control signal SET becomes H level at a constant period T.
制御信号SETがHレベルとなり、トランジスタQS1,QS2がONすると、抵抗素子R1,R2を介してトランジスタQMに所定周期で電流が流れるが、抵抗素子R1,R2の抵抗値はトランジスタQMのON抵抗に比べて充分高く設定されているので、ノードN2(=N3)のレベルはトランジスタQMのしきい値電圧Vth1となる。このレベルは、トランジスタQC1,QC2で構成される定電圧回路の電圧Vc分だけレベルアップされてノードN4に出力される。定電圧回路のトランジスタQC1,QC2のON抵抗値は抵抗素子R2の抵抗値に比べて十分低く設定されており、ドレイン・ソース間電圧がそれぞれトランジスタQC1,QC2のしきい値電圧となる。つまり、ゲート(ドレイン)・ソース間電圧がしきい値電圧となる。 When the control signal SET becomes H level and the transistors QS1 and QS2 are turned on, a current flows through the transistor QM through the resistance elements R1 and R2, but the resistance values of the resistance elements R1 and R2 are set to the ON resistance of the transistor QM. Since it is set to be sufficiently high, the level of the node N2 (= N3) becomes the threshold voltage Vth1 of the transistor QM. This level is raised by the voltage Vc of the constant voltage circuit composed of the transistors QC1 and QC2 and output to the node N4. The ON resistance values of the transistors QC1 and QC2 of the constant voltage circuit are set sufficiently lower than the resistance value of the resistance element R2, and the drain-source voltage becomes the threshold voltage of the transistors QC1 and QC2, respectively. That is, the gate (drain) -source voltage is the threshold voltage.
その結果、(1)式より、トランジスタQC1,QC2のしきい値電圧シフトは起こらない。従って、トランジスタQC1,QC2のしきい値電圧は初期値(Vth0)から変わらず、ノードN3とノードN4間の電圧は常に2・Vth0となる。この結果、ノードN4の電圧はVth1+2・Vth0となる。
As a result, the threshold voltage shift of the transistors QC1 and QC2 does not occur from the equation (1). Therefore, the threshold voltages of the transistors QC1 and QC2 are not changed from the initial value (Vth0), and the voltage between the node N3 and the node N4 is always 2 · Vth0. As a result, the voltage at the node N4 becomes
トランジスタQ0は、ソースフォロワ動作を行う。ソースフォロワ動作では、直流的な負荷電流が流れない場合、トランジスタQ0のゲート・ソース間電圧はほぼしきい値電圧(Vth0)となるので、トランジスタQ0に於ける、しきい値電圧(Vth0)のシフトは起こらない。抵抗素子R3はトランジスタQ0のON抵抗値に比べて十分に高い抵抗値を有する抵抗素子であって、トランジスタQ0のソース・ドレイン間のリーク電流によるノードN6の電圧上昇を防止するためのものである。なお、抵抗素子R3は、同じ電流値の定電流回路で構成されても良い。 The transistor Q0 performs a source follower operation. In the source follower operation, when a DC load current does not flow, the gate-source voltage of the transistor Q0 is substantially the threshold voltage (Vth0). Therefore, the threshold voltage (Vth0) of the transistor Q0 There is no shift. The resistance element R3 is a resistance element having a resistance value sufficiently higher than the ON resistance value of the transistor Q0, and is for preventing a voltage increase at the node N6 due to a leakage current between the source and drain of the transistor Q0. . Note that the resistance element R3 may be configured by a constant current circuit having the same current value.
図11の回路では、抵抗素子R3の電流を除き、直流的な負荷電流は流れない。 In the circuit of FIG. 11, a DC load current does not flow except for the current of the resistance element R3.
制御信号SETがLレベルになると、ノードN5にはノードN4のレベルが保持される。 When the control signal SET becomes L level, the node N5 holds the level of the node N4.
ノードN5の電圧はノードN4の電圧と等しくなるので、出力電圧VDDAは以下の式で表される。 Since the voltage at the node N5 is equal to the voltage at the node N4, the output voltage VDDA is expressed by the following equation.
以下の動作を続けると、トランジスタQMのゲートバイアスにより、トランジスタQMのしきい値電圧が上昇するが、制御信号SETがHレベルになる時、ノードN5には(11)式で示される電圧が入力されるので、出力(N6)にはしきい値電圧のシフトを反映した電圧Vth2+Vth0が出力される。 If the following operation is continued, the threshold voltage of the transistor QM rises due to the gate bias of the transistor QM, but when the control signal SET becomes H level, the voltage expressed by the equation (11) is input to the node N5. Therefore, the voltage Vth2 + Vth0 reflecting the shift of the threshold voltage is output to the output (N6).
(実施の形態5)
しきい値電圧のシフトはゲートバイアスの印加と停止とを繰り返すことで緩和されることが、非特許文献1の論文で報告されている。
(Embodiment 5)
It has been reported in
つまり、図5の出力プルダウントランジスタQ2に代えて、図13に示す様に出力プルダウントランジスタを2個(Q2L、Q2R)並列に設け、それらのトランジスタQ2L、Q2Rのゲート電圧を図14に示す様に時間T1で交互にバイアス有り(VDDA)とバイアス無し(VSS)の状態にすることにより(このときの図13のゲート線は接地電圧VSSに維持されている)、出力プルダウントランジスタのしきい値電圧のシフトが緩和される(トランジスタQ4についても同じ)。 That is, instead of the output pull-down transistor Q2 in FIG. 5, two output pull-down transistors (Q2L, Q2R) are provided in parallel as shown in FIG. 13, and the gate voltages of these transistors Q2L, Q2R are as shown in FIG. By alternately setting a biased (VDDA) and no-biased (VSS) state at time T1 (at this time, the gate line in FIG. 13 is maintained at the ground voltage VSS), the threshold voltage of the output pull-down transistor (The same applies to the transistor Q4).
図15は、上記の動作を行うシフトレジスタのブロック図を示す。同じタイミングの制御信号CNTがシフトレジスタに入力される。 FIG. 15 is a block diagram of a shift register that performs the above operation. A control signal CNT having the same timing is input to the shift register.
図16は、トランジスタQMのゲートが上記の様にバイアスされる場合の、本実施の形態に係る電圧発生回路の構成例を示す図である。図16では、図9におけるノードN1が出力電圧VDDAでバイアスされる替わりに、制御信号CNTのレベルシフトを行い、スイッチ素子SW4の制御信号/SETがHレベルにある期間において、制御信号CNTのレベルがHレベルの場合に出力電圧VDDAをトランジスタQMのゲートに印加してトランジスタQMを正バイアスし、他方、制御信号CNTのレベルがLレベルの場合には接地電圧VSSの信号をトランジスタQMのゲートに与えている。これにより、トランジスタQMのゲートが、図13のトランジスタQ2L、Q2Rと同じバイアス状態になる。もし、制御信号CNTのHレベルとLレベルとがトランジスタQ2L,Q2Rのゲートバイアスと同じレベルであれば(図14参照)、図16においてレベルシフタは不要となり、制御信号CNTを、スイッチ素子SW4を介して、トランジスタQMのゲートに直接に入力する様にしても良い。トランジスタQMのしきい値電圧の検知方法及び出力電圧VDDAの生成は実施の形態1で既述した通りであり、その動作説明を割愛する。 FIG. 16 is a diagram illustrating a configuration example of the voltage generation circuit according to the present embodiment when the gate of the transistor QM is biased as described above. In FIG. 16, instead of biasing the node N1 in FIG. 9 with the output voltage VDDA, the level of the control signal CNT is shifted, and the level of the control signal CNT during the period when the control signal / SET of the switch element SW4 is at the H level. Is applied to the gate of the transistor QM to positively bias the transistor QM. On the other hand, when the level of the control signal CNT is L level, the signal of the ground voltage VSS is applied to the gate of the transistor QM. Giving. As a result, the gate of the transistor QM becomes the same bias state as the transistors Q2L and Q2R in FIG. If the H level and L level of the control signal CNT are the same level as the gate bias of the transistors Q2L and Q2R (see FIG. 14), the level shifter is not required in FIG. 16, and the control signal CNT is sent via the switch element SW4. Thus, the signal may be input directly to the gate of the transistor QM. The method for detecting the threshold voltage of the transistor QM and the generation of the output voltage VDDA are as described in the first embodiment, and the description of the operation is omitted.
(実施の形態6)
図17は、他の単位シフトレジスタ(公知)の構成例を示す図である。図17の単位シフトレジスタの動作については、後述する。
(Embodiment 6)
FIG. 17 is a diagram illustrating a configuration example of another unit shift register (known). The operation of the unit shift register in FIG. 17 will be described later.
図17の単位シフトレジスタでは、出力プルダウン用トランジスタQ2のゲート電圧(ノードN8の電圧)は、電圧VDDAからトランジスタQ5のしきい値電圧Vth0分だけ低下した電圧VDDA−Vth0となる。 In the unit shift register of FIG. 17, the gate voltage of the output pull-down transistor Q2 (the voltage at the node N8) is a voltage VDDA−Vth0 that is lowered from the voltage VDDA by the threshold voltage Vth0 of the transistor Q5.
図18は、図17の単位シフトレジスタに対応した電圧発生回路の構成例を示す図である。図18の回路が図7の回路と相違する点は、本電圧発生回路の出力(ノード6)と抵抗素子R1との間にダイオード接続されたトランジスタQ8が接続されている点にある。ノードN10と接地電圧VSSとの間に接続された高抵抗値の抵抗素子R4は、トランジスタQ8のドレイン・ソース間のリーク電流によるノードN10の電圧上昇を低下させるためのものである。抵抗素子R4はトランジスタQ8のON抵抗に比べて十分に高い抵抗値を有するので、ノードN10のレベルはほぼVDDA−Vth0となる。 FIG. 18 is a diagram illustrating a configuration example of a voltage generation circuit corresponding to the unit shift register of FIG. The circuit of FIG. 18 differs from the circuit of FIG. 7 in that a diode-connected transistor Q8 is connected between the output (node 6) of the voltage generation circuit and the resistance element R1. The high-resistance resistance element R4 connected between the node N10 and the ground voltage VSS is for reducing the voltage increase at the node N10 due to the leakage current between the drain and source of the transistor Q8. Since resistance element R4 has a sufficiently high resistance value compared to the ON resistance of transistor Q8, the level of node N10 is approximately VDDA-Vth0.
この結果、トランジスタQMのゲートに、図17のトランジスタQ2のゲート電圧に略等しいVDDA−Vth0の電圧が与えられることとなり、図17の回路に図18の回路を適用する場合には、実施の形態1と同様な動作を実現出来る。 As a result, a voltage of VDDA-Vth0 substantially equal to the gate voltage of the transistor Q2 in FIG. 17 is applied to the gate of the transistor QM. When the circuit in FIG. 18 is applied to the circuit in FIG. 1 can be realized.
参考として、図17の単位シフトレジスタの動作を簡潔に記載すれば、次の通りとなる。 For reference, the operation of the unit shift register of FIG. 17 can be briefly described as follows.
ある時刻t0で信号Gn+1のレベルが0VからVDDになると、トランジスタQ7がONしてノードN9のレベルが下がる。すると、トランジスタQ6がOFFするため、ノードN8はVDDA−Vth0のレベルになり、それによりトランジスタQ4がONしてノードN9はVSSになる。その結果、トランジスタQ1がOFF、トランジスタQ2がONの状態になるので出力端子N3はVSSとなり、ゲート線は低インピーダンスの非活性状態(非選択状態)になる。 When the level of the signal Gn + 1 changes from 0V to VDD at a certain time t0, the transistor Q7 is turned on and the level of the node N9 is lowered. Then, since the transistor Q6 is turned off, the node N8 is at the level of VDDA-Vth0, whereby the transistor Q4 is turned on and the node N9 becomes VSS. As a result, the transistor Q1 is turned off and the transistor Q2 is turned on, so that the output terminal N3 is VSS, and the gate line is in a low impedance inactive state (non-selected state).
次の時刻t1で信号Gn+1がVSSに戻ると、トランジスタQ7はOFFになるが、トランジスタQ4はON、トランジスタQ6はOFFのままなので、ノードN9はVSS、ノードN8はVDDA−Vth0のレベルから変わらない。 When the signal Gn + 1 returns to VSS at the next time t1, the transistor Q7 turns off, but the transistor Q4 remains on and the transistor Q6 remains off, so that the node N9 remains at VSS and the node N8 remains unchanged from the level of VDDA-Vth0. .
次の時刻t2で、入力端子N5に信号Gn−1が入力され、当該入力端子N5のレベルがVDDになると、トランジスタQ3がONとなりノードN9のレベルが上昇する。すると、トランジスタQ6がONしてノードN8はVSSになり、それによりトランジスタQ2,Q4はOFFするので、ノードN9はVDD−Vthのレベルになる。 At the next time t2, when the signal Gn-1 is input to the input terminal N5 and the level of the input terminal N5 becomes VDD, the transistor Q3 is turned on and the level of the node N9 is increased. Then, the transistor Q6 is turned on and the node N8 is set at VSS, whereby the transistors Q2 and Q4 are turned off, so that the node N9 is at the level of VDD-Vth.
次の時刻t3で入力端子N5がVSSに戻ると、トランジスタQ3はOFFになるが、トランジスタQ4,Q7もOFFであるので、ノードN9はフローティングになる。ノードN9にリーク電流は殆ど生じず、ノードN9のレベルは確実にVDD−Vthのまま保持される。 When the input terminal N5 returns to VSS at the next time t3, the transistor Q3 is turned off. However, since the transistors Q4 and Q7 are also turned off, the node N9 becomes floating. A leak current hardly occurs at the node N9, and the level of the node N9 is reliably maintained at VDD-Vth.
次の時刻t4で、端子N4のクロック信号CLKがVSSからVDDになると、トランジスタQ1のゲート・チャネル間容量による容量結合により、当該ゲートのレベルはクロック信号CLKの上昇に伴って上昇し、ノードN9は2×VDD−Vthのレベルにまで昇圧される。出力端子N3はクロック信号CLKの立ち上がりに追随してVDDのレベルになり、それによりゲート線が活性化される。 When the clock signal CLK at the terminal N4 changes from VSS to VDD at the next time t4, the level of the gate rises as the clock signal CLK rises due to capacitive coupling due to the gate-channel capacitance of the transistor Q1, and the node N9 Is boosted to a level of 2 × VDD−Vth. The output terminal N3 follows the rise of the clock signal CLK and goes to the VDD level, whereby the gate line is activated.
次の時刻t5でクロック信号CLKがVSSになると、ノードN9のリーク電流は殆ど生じていないため、このときまでノードN9のレベルは2×VDD−Vthに保たれており、出力端子N3のレベルはクロック信号CLKに追随して下降しVSSになる。それ以降は上記の動作を繰り返す。 When the clock signal CLK becomes VSS at the next time t5, almost no leakage current is generated at the node N9. Therefore, the level of the node N9 is kept at 2 × VDD−Vth until this time, and the level of the output terminal N3 is Following the clock signal CLK, it falls and becomes VSS. Thereafter, the above operation is repeated.
(まとめ)
上記の各実施の形態の記載より、本発明に係る電圧発生回路は、そのしきい値電圧Vthが電源電圧VDDAに基づいたバイアス電圧の継続的な印加に伴いシフトし得ると共に非選択状態のときに単位シフトレジスタの出力N3を非選択レベルに設定する出力プルダウントランジスタQ2を有する単位シフトレジスタに於ける上記電源電圧VDDAを発生させるための回路である。そして、本発明に係る電圧発生回路は、出力プルダウントランジスタQ2と同様にシフトし得るしきい値電圧Vthを有する第1トランジスタQMを備えており、所定の周期T(即ち、周期T中、制御信号SETがHレベルにある期間)で第1トランジスタQMのしきい値電圧Vthを検知して、検知した当該しきい値電圧Vthに応じた出力電圧を上記電源電圧VDDAとして出力ノードN6より出力する。しかも、本発明に係る電圧発生回路は、所定の周期T中、第1トランジスタQMのしきい値電圧Vthの非検知時(即ち、制御信号SETがLレベルにある期間)には、出力プルダウントランジスタQ2のバイアス電圧(VDDA又はVDDA−Vth0)に略等しい電圧を第1トランジスタQMのバイアスとして継続的に印加する。ここで、「継続的に」とは、期間中に常にバイアスされている状態のみならず、期間中にバイアス有りの状態とバイアス無しの状態とが引き続く場合(例えば実施の形態5の場合)をも含む概念である。又、「電流制限素子」には、抵抗素子R2の他に、それに代わる定電流トランジスタも含まれる。
(Summary)
From the description of each of the embodiments described above, the voltage generation circuit according to the present invention can be shifted when the threshold voltage Vth is continuously applied with a bias voltage based on the power supply voltage VDDA and is in a non-selected state. This is a circuit for generating the power supply voltage VDDA in the unit shift register having an output pull-down transistor Q2 for setting the output N3 of the unit shift register to a non-selection level. The voltage generation circuit according to the present invention includes a first transistor QM having a threshold voltage Vth that can be shifted in the same manner as the output pull-down transistor Q2. The control signal is output during a predetermined period T (that is, during the period T). The threshold voltage Vth of the first transistor QM is detected during a period when SET is at the H level, and an output voltage corresponding to the detected threshold voltage Vth is output from the output node N6 as the power supply voltage VDDA. In addition, the voltage generation circuit according to the present invention outputs the output pull-down transistor during a predetermined period T when the threshold voltage Vth of the first transistor QM is not detected (that is, during the period when the control signal SET is at L level). A voltage substantially equal to the bias voltage (VDDA or VDDA−Vth0) of Q2 is continuously applied as the bias of the first transistor QM. Here, “continuously” means not only a state in which a bias is always applied during a period, but also a case in which a state with a bias and a state without a bias continue during the period (for example, in the case of Embodiment 5). It is a concept that also includes In addition to the resistance element R2, the “current limiting element” includes a constant current transistor instead.
(付記)
尚、既述した各実施の形態では電圧VDDAが正の場合について説明したが、電圧VDDAが負の場合でももちろん本発明を適用可能である。この場合、トランジスタの極性は逆になる。
(Appendix)
In each of the above-described embodiments, the case where the voltage VDDA is positive has been described. However, the present invention can be applied even when the voltage VDDA is negative. In this case, the polarity of the transistor is reversed.
以上、本発明の実施の形態を詳細に開示し記述したが、以上の記述は本発明の適用可能な局面を例示したものであって、本発明はこれに限定されるものではない。即ち、記述した局面に対する様々な修正や変形例を、この発明の範囲から逸脱することの無い範囲内で考えることが可能である。 While the embodiments of the present invention have been disclosed and described in detail above, the above description exemplifies aspects to which the present invention can be applied, and the present invention is not limited thereto. In other words, various modifications and variations to the described aspects can be considered without departing from the scope of the present invention.
本発明に係る電圧発生回路は、液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置に於けるゲート線駆動用のシフトレジスタの電源回路として利用可能である。 The voltage generation circuit according to the present invention can be used as a power supply circuit for a shift register for driving a gate line in a display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device.
QM 第1トランジスタ(非晶質シリコン薄膜トランジスタ)、SET 制御信号、SW1,SW2,SW3 スイッチ、Vc 定電圧、OPA オペアンプ、VDDA 電源電圧、Vth,Vth1,Vth2 閾値電圧、Q1〜Q7 トランジスタ(非晶質シリコン薄膜トランジスタ)、SR1〜SR4 単位シフトレジスタ。
QM first transistor (amorphous silicon thin film transistor), SET control signal, SW1, SW2, SW3 switch, Vc constant voltage, OPA operational amplifier, VDDA power supply voltage, Vth, Vth1, Vth2 threshold voltage, Q1-Q7 transistor (amorphous) Silicon thin film transistor), SR1 to SR4 unit shift register.
Claims (6)
前記出力プルダウントランジスタと同様にシフトし得るしきい値電圧を有する第1トランジスタを備えており、
所定の周期で前記第1トランジスタの前記しきい値電圧を検知して、検知した当該しきい値電圧に応じた出力電圧を前記電源電圧として出力ノードより出力すると共に、
前記所定の周期中、前記第1トランジスタの前記しきい値電圧の非検知時には、前記出力プルダウントランジスタの前記バイアス電圧に略等しい電圧を前記第1トランジスタのバイアスとして継続的に印加することを特徴とする、
電圧発生回路。 The unit shift register having an output pull-down transistor whose threshold voltage can be shifted with continuous application of a bias voltage based on a power supply voltage and which sets an output to a non-selected level when in a non-selected state. A voltage generation circuit for generating a power supply voltage,
A first transistor having a threshold voltage that can be shifted in the same manner as the output pull-down transistor;
Detecting the threshold voltage of the first transistor at a predetermined period, and outputting an output voltage corresponding to the detected threshold voltage from the output node as the power supply voltage;
During the predetermined period, when the threshold voltage of the first transistor is not detected, a voltage substantially equal to the bias voltage of the output pull-down transistor is continuously applied as a bias of the first transistor. To
Voltage generation circuit.
前記しきい値電圧の前記非検知時に前記第1トランジスタに印加される前記バイアス電圧の値は、前記出力ノードより出力する前記出力電圧に略等しい電圧であることを特徴とする、
電圧発生回路。 The voltage generation circuit according to claim 1,
A value of the bias voltage applied to the first transistor when the threshold voltage is not detected is a voltage substantially equal to the output voltage output from the output node.
Voltage generation circuit.
前記しきい値電圧の前記非検知時に前記第1トランジスタに印加される前記バイアス電圧の値は、前記出力ノードより出力する前記出力電圧よりも小さい電圧に略等しい電圧であることを特徴とする、
電圧発生回路。 The voltage generation circuit according to claim 1,
A value of the bias voltage applied to the first transistor when the threshold voltage is not detected is a voltage substantially equal to a voltage smaller than the output voltage output from the output node.
Voltage generation circuit.
低電圧源と高電圧源との間に、前記しきい値電圧の検知時にはダイオード接続される前記第1トランジスタと、定電圧回路と、電流制限素子とが、この順序で直列に接続されており、
前記電流制限素子と前記定電圧回路との接続ノードのインピーダンス変換を行い、その出力信号を前記出力ノードに出力するインピーダンス変換回路を更に備えており、
前記第1トランジスタ、前記定電圧回路を構成するトランジスタ及び前記インピーダンス変換回路を構成するトランジスタの全ては、非晶質シリコン薄膜トランジスタであって、且つ、表示素子と同じ絶縁基板上に形成されていることを特徴とする、
電圧発生回路。 The voltage generation circuit according to claim 1,
The first transistor, the constant voltage circuit, and the current limiting element that are diode-connected when detecting the threshold voltage are connected in series in this order between the low voltage source and the high voltage source. ,
It further includes an impedance conversion circuit that performs impedance conversion of a connection node between the current limiting element and the constant voltage circuit and outputs an output signal to the output node;
All of the first transistor, the transistor constituting the constant voltage circuit, and the transistor constituting the impedance conversion circuit are amorphous silicon thin film transistors and are formed on the same insulating substrate as the display element. Characterized by
Voltage generation circuit.
前記出力プルダウントランジスタが、互いに並列接続され且つ当該単位シフトレジスタの前記非選択状態においてある周期で交互にバイアス有り状態とバイアス無し状態とに制御される2個のトランジスタによって構成される場合には、
前記第1トランジスタは、前記しきい値電圧の前記非検知の期間中、前記出力プルダウントランジスタの前記バイアス電圧に略等しい前記電圧がバイアスされる状態と、当該電圧がバイアスされない状態とを有することを特徴とする、
電圧発生回路。 The voltage generation circuit according to claim 1,
When the output pull-down transistor is constituted by two transistors connected in parallel to each other and controlled alternately in a biased state and a biasless state in a certain period in the non-selected state of the unit shift register,
The first transistor has a state in which the voltage substantially equal to the bias voltage of the output pull-down transistor is biased and a state in which the voltage is not biased during the non-detection period of the threshold voltage. Features
Voltage generation circuit.
請求項1記載の前記電圧発生回路と、
請求項1記載の前記単位シフトレジスタを複数個有し、前記表示素子の行を選択する行選択回路とを備えることを特徴とする、
表示装置。
A plurality of pixels including display elements arranged in a matrix;
The voltage generation circuit according to claim 1,
A plurality of the unit shift registers according to claim 1, further comprising a row selection circuit that selects a row of the display element.
Display device.
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