JP2006522990A

JP2006522990A - 光学走査装置

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Publication number: JP2006522990A
Application number: JP2006506816A
Authority: JP
Inventors: イェーハーベーシュライペンヨハネス
Original assignee: Koninklijke Philips Electronics NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 2003-04-14
Filing date: 2004-04-05
Publication date: 2006-10-05
Also published as: US20060209643A1; WO2004090881A2; KR20060002974A; EP1616326A2; WO2004090881A3; CN1774750A

Abstract

本発明は、情報層を具えている光ディスクのような光記録担体を走査するための光学走査装置、及びそれに使用する光波面変更器に関する。走査装置は、入射放射ビームを放つ放射源（９）と；情報層から反射された放射ビームを受けて、該ビームにおける情報信号を検出すべく配置した情報信号検出器（２５）を具えている検出系と；入射放射ビームを記録担体上のスポットに集束させ、且つ反射放射ビームを情報信号検出器に向ける光学系（１４，１２）と；入射放射ビーム及び反射放射ビームの光路内に配置した光波面変更器（１０）とを具えている。入射放射ビームは、該ビームが光波面変更器に入射する前の所定位置（Ｌ）にて第１の波面形状を有し、且つ反射放射ビームは、光波面変更器を通過した後の前記所定位置にて第２の波面形状を有する。本発明の実施例では、前記第２の波面形状が前記第１の波面形状とは大幅に異なるように、入射放射ビーム及び反射放射ビームを波面変更すべく光波面変更器を配置する。第２の波面形状は、反射放射ビームの光路が入射放射ビームの光路よりも短くなる形状として、光学走査装置をさらに小型化し得るようにする。

Description

本発明は、情報層を具えている光ディスクのような記録担体を走査するための光学走査装置、及びそれに使用する光波面変更器に関する。走査装置は、入射放射ビームを放つ放射源と；情報層から反射された放射ビームを受け取って、該放射ビームの情報信号を検出すべく配置した情報信号検出器を具えている検出系と；入射放射ビームを記録担体上のスポットに合焦させると共に、反射放射ビームを情報信号検出器上に向ける光学系とを具えている。

光ディスク技術の分野では、光学走査装置に関連して、性能の向上、小型化、単純化、信頼性の促進、及びコストの低減化がいずれも重要な切望事項である。

小型化の問題に対処する場合に、企業は、極めて小さなスペースでかなりの量の機能性を発揮することの能力で知られている半導体技術の分野に期待を寄せていた。例えば、デジタルビデオディスクの再生用光源として、企業は、低雑音の赤色半導体レーザダイオードを開発し；また単一チップ上に集積化した本来２つのレーザである二波長のＣＤレーザカプラーを開発して、二波長放射源に関連するスペースの問題を解決していた。これら双方の開発は、光学走査装置の小型化及びコスト低減化にとって飛躍的な前進に役立ち、それ以来、多くの企業はこうした半導体デバイスに取って代わるものや、改善したものを開発している。しかしながら、光学走査装置の小型化は、究極的にはディスクを走査するのに用いられる放射ビームと、光ディスク上の特定の位置に放射を向けるのに必要とされるコンポーネント（即ち、放射ビームの光路）との特性によって制約される。例えば、コリメータレンズの焦点距離及び開口数は主として、容易に変えることができない対物レンズの瞳径及び周辺強度のような固定のシステム選択対象によって決定される。その結果、放射源とコリメータレンズとの間の距離も固定される。従って、放射源を小さくしても、光ピックアップデバイスの寸法は光路要件によって制約される。

このようなことからして、より少ないスペースを占めるように光路を変更し得るようにするのが望ましいことになる。

本発明の第１の態様によれば、情報層を具えている光記録担体を走査するための光学走査装置であって、
入射放射ビームを放つ放射源と；
情報層から反射された放射ビームを受けて、該反射放射ビームの情報信号を検出すべく配置した情報信号検出器を具えている検出系と；
入射放射ビームを記録担体上にスポットとして合焦させる第１光学手段及び反射放射ビームを情報信号検出器上に向ける第２光学手段を有し、第１光学手段及び第２光学手段は、入射放射ビーム及び反射放射ビームをこれら両手段間にてコリメートするように配置される光学系と；
コリメートされた入射放射ビームの光路内及びコリメートされた反射放射ビームの光路内に配置した光波面変更器と；
を具えており、入射放射ビームは、該ビームが光波面変更器に入射する前の所定位置にて第１の波面形状を有し、且つ反射放射ビームは、光波面変更器を通過した後の前記所定位置にて第２の波面形状を有する、光学走査装置において、
前記光波面変更器は、前記第２の波面形状が前記第１の波面形状とは大幅に異なるように前記コリメートされた反射放射ビームを屈折させるべく配置されるようにしたことを特徴とする光学走査装置が提供される。

本発明の好適例では、情報層と情報信号検出器との間の光路長が放射源と情報層との間の光路長よりも短くなるように波面変更を行なう。好ましくは、検出器とビームスプリッタコンポーネントとの間の距離が、放射源とビームスプリッタコンポーネントとの間の距離の１/２以下とする。従って、好適実施例において、信号検出目的のための反射された放射波面の形状は、それが従来の装置におけるよりも早めに変更され、このことは、光学走査装置が従来の装置によって必要とされたスペースよりも少ないスペースを占めることを意味する。

好ましくは、光波面変更器は、検出系にフォーカスサーボ信号を生成するように、フォーカスサーボ波面変更を行なうべく配置する。その一例では、光波面変更器は、好ましくは円柱レンズによって非点収差波面変更を与えるべく配置する。第二例では、光波面変更器は、反射された放射ビームを２つのサブビームに分割して、ビーム分割波面変更を与えるべく配置する。好ましくは、このような波面変更は二重のウェッジ構体か、格子のいずれかによって与える。

光波面変更器は、反射放射ビームを検出系上に少なくとも部分的に集束させるように、合焦波面変更を与えるべく配置する。反射放射ビームを２つのサブビームに分割すべく光波面変更器を配置する場合に、合焦波面変更は光波面変更器の表面の少なくとも一部に沿う湾曲面によって与えることができる。

光波面変更器は、そこを通過する放射の偏光に応じて屈折率が変化する複屈折構体で構成するのが有利である。このようにすれば、光波面変更器は入来ビームの偏光に応じて、その入来ビームの光路を変化させる。本発明の好適例では、入射放射ビームに対してはゼロ変更するように光波面変更器を配置して、入射放射ビームが光波面変更器によって影響されないようにする。好ましくは、光波面変更器を入射放射ビームのコリメートされた部分に位置させる。

本発明のさらなる目的、利点及び特徴を、以下添付図面を参照して特に本発明の好適実施例についての説明により明らかにする。

図１ａ及び１ｂは、光記録担体２を走査するための光ヘッドを含む、本発明の実施例に従って配置した光学走査装置１の要素を示す。先ず図１ａを参照するに、記録担体は透明層３を具えている光ディスク状のものであり、透明層の片側には情報層４が配置されている。情報層の透明層とは反対側は、保護層５によって周囲の影響から保護される。透明層の走査装置に面する側を入射面６と称する。透明層３は、情報層に対する保護及び/又は機械的な支持をすることにより、記録担体用の基板として作用する。情報は、記録担体の情報層４に、図１ａには示してないが、ほぼ平行で、同心的又は螺旋のトラック状に配置される光学的に検出可能なマークの形態で記憶させることができる。マークは、光学的に読み取り可能な任意の形態、例えば周りのものとは異なる反射係数又は磁化方向を有するピット又は領域状のもの、或いはこれらを組み合わせたものとすることができる。

走査装置１は、放射ビーム７を放つ半導体レーザ形態の放射源９を具えている。放射ビームは光記録担体２の情報層４を走査するのに用いられる。ビームスプリッタ１３、本例ではＰ‐タイプ偏光を通す偏光ビームスプリッタは、光路１’上の発散放射ビーム８をコリメータレンズ１４の方へと通し、このレンズ１４は発散ビーム８をほぼコリメート（視準）されたビーム１５に変換する。走査装置１は光波面変更器１０及び偏光回転素子１４Ａも具えており、これらはビームスプリッタ１３と光記録担体２との間に位置付けられている。入射ビームが光波面変更器１０に入射する前の所定の位置Ｌにおける入射放射ビームの波面はほぼ平坦である（これは、入射放射ビームが位置Ｌではコリメートされているからである）。光波面変更器については以下詳細に説明する。

コリメートされたビーム１５の光路には対物レンズ１２が位置付けられており、これはコリメートされた放射ビーム１５を収束ビーム１６に変換し、このビーム１６は走査される情報層４上にスポットとして合焦される。１/４波長のリターダ板とすることができる偏光回転素子１４Ａは、コリメータレンズ１４と対物レンズ１２との間に置かれ、これは反射ビームと入射ビームとの間に９０°の回転偏光をもたらす。

図１ｂを参照するに、収束ビーム１６は、情報層４により反射されて、順方向収束ビーム１６の光路１’に沿って戻る発散反射ビーム２０を形成する。対物レンズ１２は、反射ビーム２０をほぼコリメートされた反射ビーム２１に変換して、これを光波面変更器１０に通す。光波面変更器１０は、反射ビームの波面の形状を変更して、コリメートされた反射ビーム２１を収束ビーム２３に変換する。所定位置Ｌにおいては、反射放射ビームは収束しているから、この際、反射放射ビームの波面の形状は、湾曲し、且つこの例では非点収差のフォーカスサーボ波面変更と、この例では球面収差の合焦（フォーカシング）波面変更とを含む。従って、所定位置Ｌにおける反射ビームの波面の形状は、入射ビームの波面の形状とは異なったものとなる。

収束ビーム２３はコリメータレンズ１４を通過してビームスプリッタ１３に入り、このビームスプリッタはコリメータレンズ１４を通過した収束ビーム２４の少なくとも一部を検出系２５の方へと伝達することにより順方向ビームと反射ビームとを分離する。検出系２５は反射ビームを捕らえて、これを信号処理回路（図示せず）によって処理される電気出力信号２６に変換し、これから取り出されるフォーカスエラー信号は対物レンズ１２の位置を調整するのに用いられる。

図２は、光波面変更器１０及び偏光回転素子１４Ａを具えていない従来の光学走査装置を示す。このような従来配置では、光学走査装置のフォーカスサーボレンズ２７を入射ビーム光路１’から離している。所定位置Ｌにおける入射ビームと反射ビームの波面の形状は、この位置では双方の放射ビームがコリメートされているから、同じ（平坦）になることは明らかである。検出系２５の位置は、反射ビームの光学特性（これは通常、対物レンズ１２、コリメータレンズ１４及びフォーカスサーボレンズ２７によって決定付けられる）に依存するから、検出系２５は入射ビームの光路１’から本発明の実施例で可能とされる距離よりも遥かに離れて位置付けられる。

図３ａ及び３ｂは、光波面変更器１０の第１実施例の線Ｘ−Ｘ及びＹ−Ｙを通る断面図をそれぞれ示す。光波面変更器１０は液晶（ＬＣ）ポリマーのような複屈折材料を含んでいる。従来既知のように、複屈折材料は、それを通過する放射の偏光に依存する屈折率を有する。この例では、複屈折材料の光軸はＳ−方向に配置されている。入来放射ビームの偏光が液晶の光軸に対して平行である（Ｓ−タイプ）場合には、複屈折材料の屈折率はｎ_ｅであり（異常モード）、光軸に対して垂直である（Ｐ−タイプ）場合には、複屈折材料の屈折率はｎ_０である（正常モード）。この例では、光波面変更器１０は、非点収差フォーカスサーボ系にて使用する非点収差合焦ビームを発生し、この光波面変更器１０は、複屈折材料３０３中に埋め込まれ、上側のガラス基板３０５と下側のガラス基板３０７との間に位置付けられる凸−凸の球‐円柱ガラスレンズ３０１を具えている。このレンズ３０１は、凸球面３０９と凸円柱面３１１を有している。球‐円柱ガラスレンズ３０１は非−複屈折であり、ｎ_０の屈折率を有し、従って、Ｐ−タイプの偏光を有する光が光波面変更器１０を経て通過する際に、その光が複屈折材料３０３と球‐円柱ガラスレンズ３０１との間の界面を経て通過するので、屈折率に変化がない。その結果、Ｐ−タイプ偏光の入来光は、それが第１実施例の光波面変更器１０を通過するので、屈折されなくなる。

発散入射ビーム７は、先ずＰ−タイプ偏光を通す偏光ビームスピリッタ１３を通過し、光波面変更器１０は入射ビームにゼロの波面変更を与えるから、Ｐ−タイプ変更を有するコリメートされたビーム１５に対応する経路は、図４ａに示すように光波面変更器１０によって影響されることがない。

図１ａ及び１ｂに戻るに、光波面変更器１０を出たコリメートされたビーム１５は１/４波長板１４Ａを通過し、この１/４波長板は入射ビームの偏光を右回りの円偏光に変更する。次いで、コリメートされたビーム１５は対物レンズ１２によって収束され、且つ情報層４により反射されて、この反射ビームの偏光を左回りの円偏光に変更させる。反射ビーム２１は、１/４波長板１４Ａを通過するときに、Ｓ−タイプの偏光に変更される。

このようにして、Ｓ−タイプの偏光を有する反射ビーム２１が光波面変更器１０に入るときに、複屈折材料３０３の屈折率はｎ_ｅであり；球‐円柱ガラスレンズ３０１の屈折率はｎ_０であり、且つ複屈折材料３０３と球‐円柱ガラスレンズ３０１との間の界面は平坦ではないから、光波面変更器は、反射された放射ビームに非ゼロの波面変更を与えて、位置Ｌに非点収差波面変更及び球状の波面変更を含む湾曲波面形状を生成する。その後、収束ビーム２３はコリメータレンズ１４を通過し、このレンズは図１ｂに示すように、収束ビームを検出系２５上に屈折する。

検出系２５の位置は反射ビームの光路１’’によって決定されるので、信号検出に好適な形態への先のコリメートビーム（ここでは、収束非点収差ビーム）２１の屈折は、検出器２５を入射ビームの光路１’に近づけて動かすことができることを意味し、これにより光学走査装置の大きさを小さくすることができる。

次に、第２実施例を図５ａ及び５ｂにつき説明するに、第１実施例と第２実施例とに共通の特徴部には、第１実施例にて用いた参照番号を援用して、詳細な説明は省略する。

図５ａ及び５ｂを参照するに、光波面変更器５１０は、ビーム分割波面変更を行なって、フォーカルト（Focault）合焦法に従って２つのサブビームを発生すべく配置する。この特定配置の光波面変更器は、複屈折材料５０３内に埋め込まれたダブルウェッジプレート（又は格子）５０１を内蔵する。ダブルウェッジプレート５０１は平坦面５０５と一組のウェッジ面５０７とを具えている。複屈折材料５０３は上側のガラス基板３０５と下側のガラス基板３０７との間に位置付けられ、且つ第１実施例の場合と同様に、その光軸はＳ−方向に配置されるものとする。ウェッジプレート５０１は非複屈折性であり、その屈折率はｎ_０であり；従って、Ｐ−タイプ偏光の光が光波面変更器５１０を通過するときには、その光は複屈折材料５０３から出て、ウェッジプレート５０１に入るので屈折率に変更はない。従って、第１実施例と同様に、Ｐ−タイプ偏光の入射放射は、それが光波面変更器５１０を通過する際には屈折されない（図６参照）。しかし、この放射が一旦情報層４によって反射されると、その反射ビーム２１はＳ−タイプの偏光となり、このビームは図６ｂに示すように、光波面変更器５１０を通過するときに屈折される。その結果、所定位置Ｌにおける反射放射ビームの波面形状は２つのサブビームを含み；第１実施例と同様に、反射放射ビームの波面形状は入射放射ビームの位置Ｌにおける波面形状とは異なったものとなる。

なお、図５ａ及び５ｂに示した実施例では、背面プレート３０７及び隣接する複屈折層は省くことができる。

変形例では、光波面変更器５１０にさらに、検出器２５上にビーム２３を焦点合わせさせる手段を含める。図７ａ及び７ｂを参照するに、ウェッジ構体５０１は、図７ａに示すようにウェッジ面上に一組の湾曲面、又は格子７０１及び/又は図７ｂに示すように反対面上に球面７０２を具えて、合焦機能をするように変更することができる。

上述した非点収差の実施例では、レンズ３０１を凸−凸の球‐円柱ガラスレンズとしたが、それは図８ａ及び８ｂに示すように凹−凹の球‐円柱ガラスレンズとすることもできる（なお、図８ｂでは、反射ビームを（先の図面とは逆に）左から右に進むように示してある）。第１実施例の場合のように、放射ビームの偏光が液晶の光軸に対して平行である場合には、複屈折材料の屈折率はｎ_ｅとし、光軸に対して垂直である場合には、屈折率はｎ_０とする。従って、図８ａに転ずるに、光軸に対して垂直の偏光を有する光が光波面変更器１０を経て通過するときには、屈折率に変更はなく、光は光波面変更器１０を通り抜けるので、その光はコリメートされたまま（８１１）であり：図８ｂに示した配置では、複屈折構体８０３の屈折率は集束レンズ３０１のそれよりも大きく（ｎ_ｅ＞ｎ_０）、且つ反射されたビーム波面の形状は、そのビームが複屈折構体８０３と集束レンズ８０１との間の界面を通過する際に変更される。所定位置Ｌにおいても、入射ビームの波面形状と比較するに、反射されたビーム波面は湾曲し、非点収差の波面変更及び球状の波面変更を含む。

好適実施例では、光波面変更器が合成フォーカスサーボレンズの機能と合焦機能とを果たすようにする。変形例として、光波面変更器は合焦機能を果たすだけとして、フォーカスサーボ機能は、検出系２５とビームスプリッタ１３との間に位置させた適当なフォーカスサーボレンズコンポーネントによって提供することもできる。これは、斯様なフォーカスサーボコンポーネントがビームスプリッタと検出器との間のスペースを占めるために好ましい配置ではないが、それでも斯様な配置によれば、従来の検出系に比べて必要とするスペースは低減する。その理由は、反射ビームの合焦は従来の光走査システムで現在可能とされるよりも強力で、検出器２５をビームスプリッタ１３に近づけることができ、例えば光源９からビームスプリッタ１３までの距離の半分以下に近づけることができるからである。

さらに他の変形例として、放射源９をビームスプリッタに十分近づけて位置させ、コリメータレンズ１４だけが反射ビームを同じく近づけて位置させた検出系２５上に集束させることができるようにする場合には、光波面変更器１０の合焦機能を省いて、フォーカスサーボレンズ機能を含むだけとすることができる。

上述したそれぞれの実施例では、コリメータレンズ１４をビームスプリッタ１３と光波面変更器との間に位置させて、このコリメータレンズが入射ビームと反射ビームとの双方に作用するようにしたが、コリメータレンズ１４は放射源９とビームスプリッタ１３との間に位置させて、入射ビームの光路にのみ作用させることもできる。この場合、光波面変更器はビームスプリッタ１３と相俟ってコリメートされた反射ビーム２１を検出器２５に向けるようにのみ応答し；第１実施例の場合に、このことは、光波面変更器の球面収差特性が、前述した配置にて用いた合焦特性よりも強い合焦特性を有するようにすべきであることを意味する。

上記実施例は本発明の模範的な例と理解されるべきものである。本発明のさらなる実施例が想定される。例えば、上述した例では光波面変更器をビームのコリメートされた部分に位置させたが、変更器は、例えば、入射ビームの所定位置における前述した波面形状が例えば球状となるような、ビームのコリメートされていない部分に位置させることができる。なお、波面形状について云う場合の「異なる」と云う用語は、例えば曲率半径が異なる２つの球状波面を含むものとする。また、上述した実施例では、光波面変更器が単一の複屈折素子にて２つの機能、即ちフォーカスサーボ波面変更及び合焦波面変更の機能を含むとしたが、これら２つの機能は２つの別個の複屈折素子にて行わせることもできる。１つの実施例につき述べた特徴は別の実施例で用いることもできると理解すべきである。さらに、本発明は請求の範囲を逸脱することなく幾多の変更を加え得ること勿論である。

本発明の第１実施例による走査装置によって発生される入射光の経路を示す概略図である。本発明の第１実施例による走査装置によって発生される反射光の経路を示す概略図である。従来の装置による入射及び反射光の経路を示す概略図である。図１ａ及び１ｂに示した実施例による、液晶構体を含む光波面変更器の線Ｘ−Ｘを通る断面を示す図である。図１ａ及び１ｂに示した実施例による、液晶構体を含む光波面変更器の線Ｙ−Ｙを通る断面を示す図である。図３ａ及び３ｂに示した液晶構体の光軸に対して垂直の軸線に沿って偏光されるビームが、図３ａ及び３ｂの光波面変更器を通過する光学経路を示す概略図である。図３ａ及び３ｂに示した液晶構体の光軸に対して平行な軸線に沿って偏光されるビームが、図３ａ及び３ｂの複屈折光波面変更器を通過する光学経路を示す概略図である。本発明の第２実施例による、液晶構体を含む光波面変更器の線Ｘ−Ｘを通る断面を示す図である。本発明の第２実施例による、液晶構体を含む光波面変更器の線Ｙ−Ｙを通る断面を示す図である。本発明の第２実施例による走査装置によって発生される入射光の経路を示す概略図である。本発明の第２実施例による走査装置によって発生される反射光の経路を示す概略図である。第２実施例による光波面変更器の別の態様を示す図である。第２実施例による光波面変更器のさらに他の態様を示す図である。第１実施例による光波面変更器の別の構成を、ビーム偏光の関数としてその光波面変更器を通る光学経路と一緒に示す概略図である。第１実施例による光波面変更器のさらに別の構成を、異なるビーム偏光の関数としてその光波面変更器を通る光学経路と一緒に示す概略図である。

Claims

情報層を具えている光記録担体を走査するための光学走査装置であって、
入射放射ビームを放つ放射源と；
情報層から反射された放射ビームを受けとって、該反射放射ビームの情報信号を検出すべく配置した情報信号検出器を具えている検出系と；
入射放射ビームを記録担体上にスポットとして合焦させる第１光学手段及び反射放射ビームを情報信号検出器上に向ける第２光学手段を有し、第１光学手段及び第２光学手段は、入射放射ビーム及び反射放射ビームをこれら両手段間にてコリメートするように配置される光学系と；
コリメートされた入射放射ビームの光路内及びコリメートされた反射放射ビームの光路内に配置した光波面変更器と；
を具えており、入射放射ビームは、該ビームが光波面変更器に入射する前の所定位置にて第１の波面形状を有し、且つ反射放射ビームは、光波面変更器を通過した後の前記所定位置にて第２の波面形状を有する、光学走査装置において、
前記光波面変更器は、前記第２の波面形状が前記第１の波面形状とは大幅に異なるように前記コリメートされた反射放射ビームを屈折させるべく配置されるようにしたことを特徴とする光学走査装置。
情報層と検出系との間の光路長は、放射源と情報層との間の光路長よりも短い、請求項１記載の光学走査装置。
光波面変更器は、検出系にフォーカスサーボ信号を生成するようにフォーカスサーボ波面変更を与えるべく配置される、請求項１又は２記載の光学走査装置。
光波面変更器は、非点収差波面変更を与えるべく配置される、請求項１又は２記載の光学走査装置。
光波面変更器は、反射された放射ビームを２つのサブビームに分割して、ビーム分割波面変更を与えるべく配置される、請求項３記載の光学走査装置。
光波面変更器は、反射放射ビームを検出系上に少なくとも部分的に集束させるように、合焦波面変更を与えるべく配置される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学走査装置。
光波面変更器は、その表面の少なくとも一部に沿う輪郭を有する二重ウェッジ構体を含む、請求項５に従属する請求項６記載の光学走査装置。
光波面変更器は、入射放射ビームの偏光に応じて入来放射ビームの光路を変えるべく配置した複屈折部を具えている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学走査装置。
複屈折部の屈折率は、該複屈折部を通過する放射の偏光に従って変化し、且つ光波面変更器が入射放射ビームに対してはゼロ変更を与えるようにした、請求項８記載の光学走査装置。
複屈折部は、光学的に均質のプレート間に包囲された液晶材料から成る、請求項８又は９記載の光学走査装置。
光波面変更器は、入射放射ビームの実質上コリメートされた部分に位置付けられる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学走査装置。
光波面変更器と光記録担体との間で、入射放射ビーム及び反射放射ビームの光路内に位置付けられる偏光-変更素子も具えている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学走査装置。
情報層を具えている光記録担体を走査するための光学走査装置に使用する光波面変更器であって、前記光学走査装置が：
入射放射ビームを放つ放射源と；
情報層から反射された放射ビームを受けて、該反射放射ビーム内の情報信号を検出すべく配置した情報信号検出器を具えている検出系と；
入射放射ビームを記録担体上にスポットとして合焦させると共に、反射放射ビームを情報信号検出器上に向ける光学系と；
を具え、前記光波面変更器は、入射放射ビームと反射放射ビームの光路内に、入射放射ビームは、該ビームが光波面変更器に入射する前の所定位置にて第１の波面形状を有し、且つ反射放射ビームは、光波面変更器を通過した後の前記所定位置にて第２の波面形状を有するように位置付けられる、光波面変更器において、
前記光波面変更器は、前記第２の波面形状が前記第１の波面形状とは大幅に異なるように入射放射ビーム及び反射放射ビームを波面変更すべく配置されるようにしたことを特徴とする光学走査装置。